JP2021042413A - バッフルプレートユニット、およびバッフルプレートの位置調整方法 - Google Patents

Abstract

【課題】エッジオーバーコートの発生を好適に抑制することが可能なバッフルプレートユニットおよびバッフルプレートの位置調整方法を提供する。【解決手段】溶融金属めっき浴から引き上げられた金属帯１０を挟んで配置されるワイピングノズルを金属帯１０のパスラインに応じて該金属帯１０の面と略直交する法線方向に移動させることが可能なワイピング装置２０に用いられるバッフルプレートユニット３０は、金属帯１０の幅方向端部の外側に設けられたバッフルプレート３２と、該法線方向に該バッフルプレート３２を移動させることが可能なプレート駆動機構３６と、該プレート駆動機構３６を駆動させて、該法線方向におけるバッフルプレート３２の位置を制御するプレート位置制御手段と、を備える。該プレート位置制御手段は、法線方向へのワイピングノズルの移動状況に基づいて該バッフルプレート３２を移動させることが可能に構成される。【選択図】図２

Description

本発明は、例えば、溶融金属めっき浴から引き上げられた金属帯の表裏面にガスを吹き付けるワイピング装置に用いられるバッフルプレートユニットおよびバッフルプレートの位置調整方法に関する。

溶融金属めっき浴から引き上げられた金属帯の表裏面には、溶融金属が余剰に付着しており、この余剰金属は、例えば、該金属帯を挟んで対向配置される一対のワイピングノズルから吹き付けられるガスによって除去される。

ところが、金属帯の表裏面にガスを吹き付ける際、金属帯の幅方向の端部において、該一対のワイピングノズルから吹き出されたガスが互いに干渉し、エッジオーバーコート（金属帯のエッジ部のめっき厚がセンター部のめっき厚に比べて厚くなる現象）が発生することがある。

このような問題を解決するために、例えば特許文献１には、金属帯の幅方向端部の外側にバッフルプレートを配置し、このバッフルプレートを金属帯の幅方向端部に近接させてバッフルプレートと金属帯の端部との間に隙間が生じないようにして、エッジオーバーコートの発生を抑制するようにした技術が開示されている。

国際公開第２０１２／００８４００号

しかし、バッフルプレートを金属帯の幅方向端部に近接させたとしてもそれだけでは事足りず、依然としてエッジオーバーコートの発生を抑制するためには十分であるとは言い難い。なぜなら、溶融金属めっき浴から引き上げられた金属帯のパスラインが必ずしも一定であるとは限らず、金属帯とバッフルプレートとが略同一平面でなければ、バッフルプレートと金属帯の幅方向端部との間に隙間が生じてしまうからである。

なお、金属帯の位置等を計測し、その計測値に基づいてバッフルプレートと金属帯とが略同一平面をなすようにバッフルプレートの位置を制御することも可能ではあるものの、種々の要因により、金属帯の位置等を計測することは困難を伴い、現実的でない。

本発明は、そのような点に鑑みてなされたものであり、エッジオーバーコートの発生を好適に抑制することが可能なバッフルプレートユニットおよびバッフルプレートの位置調整方法を提供することを目的とする。

（１）本発明のバッフルプレートユニットは、
溶融金属めっき浴から引き上げられた金属帯を挟んで配置されるワイピングノズルを、前記金属帯のパスラインに応じて該金属帯の面と略直交する法線方向に移動させることが可能なワイピング装置に用いられるバッフルプレートユニットであって、
前記金属帯の幅方向端部の外側に設けられたバッフルプレートと、
前記バッフルプレートを前記法線方向に移動させることが可能なプレート駆動機構と、
前記プレート駆動機構を駆動させて、前記法線方向における前記バッフルプレートの位置を制御するプレート位置制御手段と、
を備え、
前記プレート位置制御手段は、
前記法線方向への前記ワイピングノズルの移動状況に基づいて前記バッフルプレートを移動させることが可能に構成される
ことを特徴とする。

上記（１）によれば、エッジオーバーコートの発生を好適に抑制することが可能なバッフルプレートユニットを提供することができる。

（２）上記（１）のバッフルプレートユニットにおいて、
前記プレート位置制御手段は、
前記法線方向において、前記金属帯の表面と対向して配置される表面側ワイピングノズルと、前記金属帯の裏面と対向して配置される裏面側ワイピングノズルとが互いに反対方向に移動する場合には前記バッフルプレートを移動させる制御を実行せず、
前記法線方向において、前記表面側ワイピングノズルと前記裏面側ワイピングノズルとのうちいずれか一方のみが移動する場合、または、前記表面側ワイピングノズルと前記裏面側ワイピングノズルとの両方が同じ方向に移動する場合には、該移動するワイピングノズルに追従する態様で前記バッフルプレートを移動させる制御を実行する
ことを特徴とする。

上記（２）によれば、バッフルプレートの位置制御をより柔軟に実行することが可能なバッフルプレートユニットを提供することができる。

（３）本発明のバッフルプレートの位置調整方法は、
溶融金属めっき浴から引き上げられた金属帯を挟んで配置されるワイピングノズルを、前記金属帯のパスラインに応じて該金属帯の面と略直交する法線方向に移動させる第１工程と、
前記金属帯の幅方向端部の外側に設けられたバッフルプレートを前記法線方向に移動させる第２工程と、
を備えるバッフルプレートの位置調整方法であって、
前記第２工程は、
前記法線方向への前記ワイピングノズルの移動状況に基づいて前記バッフルプレートを移動させる工程である
ことを特徴とする。

上記（３）によれば、エッジオーバーコートの発生を好適に抑制することが可能なバッフルプレートの位置調整方法を提供することができる。

（４）上記（３）のバッフルプレートの位置調整方法において、
前記第１工程は、
前記金属帯の表面と対向して配置される表面側ワイピングノズルと、前記金属帯の裏面と対向して配置される裏面側ワイピングノズルとを互いに反対方向に移動させる第１態様、
前記表面側ワイピングノズルと前記裏面側ワイピングノズルとのうちいずれか一方のみを移動させる第２態様、および
前記表面側ワイピングノズルと前記裏面側ワイピングノズルとを同じ方向に移動させる第３態様のうちのいずれかの態様で前記表面側ワイピングノズルまたは／および前記裏面側ワイピングノズルを移動させる工程であり、
前記第２工程は、
前記第１工程が前記第１態様であった場合には行われず、
前記第１工程が前記第２態様または前記第３態様であった場合には、移動するワイピングノズルに追従する態様で行われる
ことを特徴とする。

上記（４）によれば、バッフルプレートの位置制御をより柔軟に実行することが可能なバッフルプレートの位置調整方法を提供することができる。

本発明によれば、エッジオーバーコートの発生の抑制を可能ならしめるバッフルプレートユニットおよびバッフルプレートの位置調整方法を提供することができる。

溶融金属めっき浴から引き上げられた金属帯がガスワイピングされる態様を示す概要図の一例である。 バッフルプレートおよび表側ガスワイピングノズルの周辺の概要を示す外観斜視図の一例である。 溶融金属めっき浴から引き上げられた金属帯と、ガスワイピングノズルと、バッフルプレートとの位置関係を示す平面模式図の一例であって、（Ａ）金属帯とバッフルプレートとの間にＸ方向の隙間が生じている状態を示す図、（Ｂ）金属帯とバッフルプレートとの間にＹ方向の隙間が生じている状態を示す図、（Ｃ）金属帯とバッフルプレートとの間に隙間がほぼ存在しない状態を示す図、である。 表側ガスワイピングノズルまたは／および裏側ガスワイピングノズルの移動方向と、バッフルプレートの移動方向との関係性を示すタイムチャートの一例であって、（Ａ）表側ガスワイピングノズルと裏側ガスワイピングノズルとの両方が閉方向に向けて移動を開始した場合におけるバッフルプレートの移動方向を説明するための図、（Ｂ）表側ガスワイピングノズルと裏側ガスワイピングノズルとの両方が開方向に向けて移動を開始した場合におけるバッフルプレートの移動方向を説明するための図、（Ｃ）閉方向に向けた表側ガスワイピングノズルの移動と開方向に向けた裏側ガスワイピングノズルの移動とが同時に開始された場合におけるバッフルプレートの移動方向を説明するための図、（Ｄ）開方向に向けた表側ガスワイピングノズルの移動と閉方向に向けた裏側ガスワイピングノズルの移動とが同時に開始された場合におけるバッフルプレートの移動方向を説明するための図、である。 金属帯とバッフルプレートとの位置関係を示す平面模式図の一例である。

本発明の一実施形態としてのバッフルプレートユニットおよびバッフルプレートの位置調整方法を説明する前に、先ず、バッフルプレートが用いられるガスワイピング装置の周辺設備の概要について、図１を参照して簡単に説明する。

図１は、溶融金属めっき浴から引き上げられた金属帯１０がガスワイピングされる態様を示す概要図の一例である。

なお、この明細書において、説明の便宜上、溶融金属めっき設備の操作側（ワークサイド（以下、単に「ＷＳ」と称する））から駆動側（ドライブサイド（以下、単に「ＤＳ」と称する））に向かう方向をＸ方向の正方向（＋Ｘ方向）と定義し、溶融金属めっき設備の入側（図１の右側）から出側（図１の左側）に向かう方向をＹ方向の正方向（＋Ｙ方向）と定義し、鉛直方向の下方から上方に向かう方向をＺ方向の正方向（＋Ｚ方向）と定義する。

また、この明細書において、Ｙ方向の正方向側（図１の左側）を金属帯１０の表面（おもて面）とし、Ｙ方向の負方向側（図１の右側）を金属帯１０の裏面と定義する。ただし、いずれが表面でいずれが裏面であるかは設備によって異なるためこれに限定されない。

図１に示されるように、例えば冷間圧延された鋼板等に代表される金属帯１０は、非酸化雰囲気に保たれたスナウト２の内部をとおって、溶融金属ポット４に貯留された溶融金属に浸漬される。なお、溶融金属は、例えばＺｎ（亜鉛）を主成分とするものであってもよいし、Ａｌ（アルミニウム）を主成分とするものであってもよく、特定の金属に限定される必要はない。

そして、溶融金属に浸漬された金属帯１０は、シンクロール６によって方向を変えられ、浴中サポートロール８に支持されつつ上方に引き上げられる。

溶融金属が貯留された溶融金属ポット４から引き上げられた金属帯１０の表裏面には余剰金属が付着しており、次述のガスワイピング装置２０によってこの余剰金属が除去される。

ガスワイピング装置２０は、溶融金属めっき浴から引き上げられた金属帯１０の表面にガスを吹き付ける表側ガスワイピングノズル２２と、金属帯１０の裏面にガスを吹き付ける裏側ガスワイピングノズル２４とを備える。なお、表側ガスワイピングノズル２２は、表面側ワイピングノズルとも称され、裏側ガスワイピングノズル２４は、裏面側ワイピングノズルとも称される。

表側ガスワイピングノズル２２および裏側ガスワイピングノズル２４は、溶融金属めっき浴から引き上げられた金属帯１０を挟むようにして、金属帯１０の面と略直交する法線方向における金属帯１０の両側に対向配置されている。詳細には、表側ガスワイピングノズル２２は、金属帯１０の表面側において該金属帯１０の表面と対向して配置されており、裏側ガスワイピングノズル２４は、金属帯１０の裏面側において該金属帯１０の裏面と対向して配置されている。なお、この実施形態では、Ｙ方向が、金属帯１０の面と略直交する法線方向に相当する。

次に、ガスワイピング装置２０および本発明の一実施形態としてのバッフルプレートユニット３０がそれぞれ備える構成の概要について、図２を参照して簡単に説明する。

図２は、バッフルプレート３２および表側ガスワイピングノズル２２の周辺の概要を示す外観斜視図の一例である。なお、裏側ガスワイピングノズル２４の周辺の概要は、表側ガスワイピングノズル２２の周辺の概要と同様である。

表側ガスワイピングノズル２２および裏側ガスワイピングノズル２４は、それぞれ、金属帯１０の幅方向（ここでは、Ｘ方向）に伸延する長尺状に形成されている。表側ガスワイピングノズル２２および裏側ガスワイピングノズル２４には、スリット状の噴射口（ノズル口）がそれぞれ設けられている。

表側ガスワイピングノズル２２と裏側ガスワイピングノズル２４とのＸ方向長さは、それぞれ、この溶融金属めっき設備で処理可能な最大板幅の金属帯１０の幅方向全域にわたってガスを吹き付けることができる長さとなっている。

表側ガスワイピングノズル２２および裏側ガスワイピングノズル２４は、それぞれ、溶融金属めっき浴から引き上げられた金属帯１０のパスライン（金属帯１０の面の位置）に応じてＹ方向に移動可能に構成されている。

なお、Ｙ方向への表側ガスワイピングノズル２２または／および裏側ガスワイピングノズル２４の移動は、金属帯１０への溶融金属の付着量をコントロールするためや、溶融金属めっき浴から引き上げられた金属帯１０のパスラインの移動に対応するために行われるものである。そのため、表側ガスワイピングノズル２２から金属帯１０の表面までの距離と、裏側ガスワイピングノズル２４から金属帯１０の裏面までの距離とがほぼ等しくなるように、Ｙ方向への表側ガスワイピングノズル２２または／および裏側ガスワイピングノズル２４の移動が行われる。

バッフルプレートユニット３０は、バッフルプレート３２と、バッフルプレート３２を金属帯１０の厚み方向（ここではＹ方向）に移動させることが可能な厚み方向駆動機構（厚み方向プレート駆動機構とも称される）３６と、バッフルプレート３２を金属帯１０の幅方向（ここではＸ方向）に移動させることが可能な幅方向駆動機構（幅方向プレート駆動機構とも称される）３４と、溶融金属めっき浴から引き上げられた金属帯１０の幅方向の端部（エッジ）の位置を検出可能な金属帯エッジ検出装置３８とを備える。

バッフルプレート３２は、表側ガスワイピングノズル２２と裏側ガスワイピングノズル２４との間において、金属帯１０の幅方向端部の両外側にそれぞれ設けられている。詳細には、バッフルプレート３２は、溶融金属めっき浴から引き上げられた金属帯１０のＤＳに配置されたＤＳ側バッフルプレート３２１と、この金属帯１０のＷＳに配置されたＷＳ側バッフルプレート３２２とを備える。

厚み方向駆動機構３６は、ＤＳ側バッフルプレート３２１およびＷＳ側バッフルプレート３２２を同時にＹ方向に移動させることもできるし、ＤＳ側バッフルプレート３２１を単独でＹ方向に移動させることもできるし、ＷＳ側バッフルプレート３２２を単独でＹ方向に移動させることもできる。なお、上記のＹ方向には、Ｙ方向の正方向および負方向のいずれも含まれる。

厚み方向駆動機構３６は、たとえば、モータと、チェーン等によって互いに連結された一対のプーリと、回転シャフトと、バッフルプレート３２を支持する支持部材とを備えて構成される。該回転シャフトには、ねじが形成されているとともに、該支持部材には、回転シャフトのねじと螺合するねじが形成された貫通孔が設けられており、この貫通孔を回転シャフトが貫通している。

このような構成において、モータが回転すると、モータの回転力が一対のプーリを介して回転シャフトに伝達されて、回転シャフトがＹ方向を回転中心として回転する。そして、回転シャフトの回転に応じて、支持部材がＹ方向に移動する。これにより、バッフルプレート３２をＹ方向に移動させることができる。なお、バッフルプレート３２をＹ方向の正方向と負方向とのいずれに移動させるかは、モータの回転方向によって制御される。

幅方向駆動機構３４は、ＤＳ側バッフルプレート３２１およびＷＳ側バッフルプレート３２２を同時に、Ｘ方向の正方向および負方向の何れにも移動させることができる。なお、ここでは、幅方向駆動機構３４が、金属帯エッジ検出装置３８の動作用装置としても機能している。ただし、これに限定されず、幅方向駆動機構３４と金属帯エッジ検出装置３８の動作用装置とが別個のものであってもよい。

なお、バッフルプレート３２を、表側ガスワイピングノズル２２および裏側ガスワイピングノズル２４の移動にともなってＺ方向に移動させる機構を備えていてもよい。

また、バッフルプレートユニット３０は、バッフルプレート３２の位置を調整する制御を実行する制御装置（不図示）を備える。該制御装置が、厚み方向駆動機構３６を駆動させてＹ方向におけるバッフルプレート３２の位置を制御するプレート位置制御手段として機能する。

次に、溶融金属めっき浴から引き上げられた金属帯１０と、ガスワイピングノズル２２，２４と、バッフルプレート３２との好ましい位置関係について、図３を参照して説明する。

図３は、溶融金属めっき浴から引き上げられた金属帯１０と、ガスワイピングノズル２２，２４と、バッフルプレート３２との位置関係を示す平面模式図の一例であって、（Ａ）金属帯１０とバッフルプレート３２との間にＸ方向の隙間が生じている状態を示す図、（Ｂ）金属帯１０とバッフルプレート３２との間にＹ方向の隙間が生じている状態を示す図、（Ｃ）金属帯１０とバッフルプレート３２との間に隙間がほぼ存在しない状態を示す図、である。

図３（Ａ）に示されるように、金属帯１０とバッフルプレート３２との間にＸ方向の隙間が生じている場合、表側ガスワイピングノズル２２から金属帯１０の表面に向けて吹き付けられたガスと、裏側ガスワイピングノズル２４から金属帯１０の裏面に向けて吹き付けられたガスとが衝突して乱流が発生するおそれがある。このような乱流が発生すると、溶融金属がスプラッシュ（飛散）し、例えば、スプラッシュした溶融金属がガスワイピングノズル２２，２４の幅方向端部付近のノズル口に付着するとノズル詰まりの原因となる。そして、ガスワイピングノズル２２，２４の幅方向端部付近のノズル口にノズル詰まりが発生すると、金属帯１０の幅方向の端部近傍には中央近傍と比べて十分なガスが吹き付けられず、エッジオーバーコート（金属帯のエッジ部のめっき厚がセンター部のめっき厚に比べて厚くなる現象）が発生するおそれがある。

また、図３（Ｂ）に示されるように、金属帯１０とバッフルプレート３２との間にＹ方向の隙間が生じている場合も、図３（Ａ）と同様に、表側ガスワイピングノズル２２から金属帯１０の表面に向けて吹き付けられたガスと、裏側ガスワイピングノズル２４から金属帯１０の裏面に向けて吹き付けられたガスとが衝突することにより、エッジオーバーコートが発生するおそれがある。

したがって、エッジオーバーコートの発生を抑制するためには、例えば図３（Ｃ）に示されるように、金属帯１０とバッフルプレート３２とが略同一平面上に存在し、金属帯１０とバッフルプレート３２との間に隙間がほぼ存在しない状態とすることが好ましい。

なお、本願において、「略同一平面上」には、図５の（イ）〜（ハ）に示されるようにＹ方向においてバッフルプレート３２の＋Ｙ側の面と−Ｙ側の面との間に金属帯１０が存在する態様のみならず、金属帯１０の−Ｙ側の面とバッフルプレート３２の＋Ｙ側の面とが略一致する態様（図５の（ニ）を参照）、および金属帯１０の＋Ｙ側の面とバッフルプレート３２の−Ｙ側の面とが略一致する態様（図５の（ホ）を参照）も含まれる。このように、金属帯１０とバッフルプレート３２とが「略同一平面上」となる状態は、金属帯１０の厚み方向（Ｙ方向）において金属帯１０の少なくとも一部がバッフルプレート３２と重なる状態である。すなわち、Ｙ方向において金属帯１０とバッフルプレート３２との間に隙間がほぼ存在しない状態が、金属帯１０とバッフルプレート３２とが「略同一平面上」となる状態に相当する。

ところで、金属帯１０とバッフルプレート３２との間にＸ方向の隙間が発生している場合、バッフルプレート３２を、金属帯エッジ検出装置３８（図２）による検出結果に基づいて、金属帯１０の幅方向の端部に近接させるように金属帯１０に追従してＸ方向に移動させることによって、Ｘ方向の隙間を極力小さくすることができる。

しかし、例えば反射式や渦流式の距離計を用いたとしても、表側ガスワイピングノズル２２から金属帯１０の表面までの距離や裏側ガスワイピングノズル２４から金属帯１０の裏面までの距離を測定することは困難であるため、バッフルプレート３２を金属帯１０に追従してＹ方向に移動させることは現実的でない。

そこで、本実施形態では、金属帯１０のパスラインが変化すると表側ガスワイピングノズル２２または／および裏側ガスワイピングノズル２４がＹ方向に移動することを前提として、制御装置により以下の制御が行われるようにしている。すなわち、Ｙ方向への表側ガスワイピングノズル２２または／および裏側ガスワイピングノズル２４の移動状況に基づいて、制御装置により厚み方向駆動機構３６を駆動させることにより、バッフルプレート３２をＹ方向に移動させる制御が行われるようにしている。

以下に、本発明の一実施形態としてのバッフルプレートユニット３０およびバッフルプレート３２の位置調整方法、すなわちバッフルプレート３２をＹ方向に移動させる制御について、図４を参照して説明する。

図４は、表側ガスワイピングノズル２２または／および裏側ガスワイピングノズル２４の移動方向と、バッフルプレート３２の移動方向との関係性を示すタイムチャートの一例であって、（Ａ）表側ガスワイピングノズル２２と裏側ガスワイピングノズル２４との両方が閉方向に向けて移動を開始した場合におけるバッフルプレート３２の移動方向を説明するための図、（Ｂ）表側ガスワイピングノズル２２と裏側ガスワイピングノズル２４との両方が開方向に向けて移動を開始した場合におけるバッフルプレート３２の移動方向を説明するための図、（Ｃ）閉方向に向けた表側ガスワイピングノズル２２の移動と開方向に向けた裏側ガスワイピングノズル２４の移動とが同時に開始された場合におけるバッフルプレート３２の移動方向を説明するための図、（Ｄ）開方向に向けた表側ガスワイピングノズル２２の移動と閉方向に向けた裏側ガスワイピングノズル２４の移動とが同時に開始された場合におけるバッフルプレート３２の移動方向を説明するための図、である。

なお、図４に示される「正方向」はＹ方向の正方向（＋Ｙ方向）に相当し、「負方向」はＹ方向の負方向（−Ｙ方向）に相当する。また、図４に示される「閉」は、Ｙ方向においてガスワイピングノズル２２，２４を金属帯１０に近接させる方向に相当し、「開」は、Ｙ方向においてガスワイピングノズル２２，２４を金属帯１０から離間させる方向に相当する。

先ず、図４（Ａ）を参照して、表側ガスワイピングノズル２２と裏側ガスワイピングノズル２４との両ノズル２２，２４が閉方向に向けて移動を開始した場合におけるバッフルプレート３２の移動制御について説明する。

両ノズル２２，２４が閉方向に向けて移動を開始した場合（図４（Ａ）のａ１を参照）、バッフルプレート３２をＹ方向に移動させる制御（バッフルプレート３２の位置調整制御）は開始されない。

詳細には、表側ガスワイピングノズル２２が−Ｙ方向に向けて移動し且つ裏側ガスワイピングノズル２４が＋Ｙ方向に向けて移動する場合、言い換えれば、両ノズル２２，２４が互いに反対方向（互いに離間する方向）に向けて移動する場合には、バッフルプレート３２をＹ方向に移動させる制御は実行されない。すなわち、表側ガスワイピングノズル２２と裏側ガスワイピングノズル２４との間の略中央位置（略センターライン）が変化しない場合には、バッフルプレート３２をＹ方向に移動させる制御は実行されず、バッフルプレート３２の位置が現在の位置のまま維持される。なお、ここでは、表側ガスワイピングノズル２２の移動距離と裏側ガスワイピングノズル２４の移動距離とは、互いに同じであるものとする。

これに対して、両ノズル２２，２４が閉方向に向けて移動を開始したものの（図４（Ａ）のｃ１を参照）、その後に両ノズル２２，２４のうち表側ガスワイピングノズル２２のみが停止した場合には（図４（Ａ）のｄ１を参照）、移動する裏側ガスワイピングノズル２４に追従（同調）する態様でバッフルプレート３２をＹ方向に移動させる制御が開始される。詳細には、両ノズル２２，２４のうち表側ガスワイピングノズル２２が停止し且つ裏側ガスワイピングノズル２４が＋Ｙ方向に向けて移動する場合、これに基づいて、バッフルプレート３２を＋Ｙ方向（移動する裏側ガスワイピングノズル２４に追従する方向）に向けて移動させる制御が実行される。その後、裏側ガスワイピングノズル２４が停止すると、＋Ｙ方向に向けたバッフルプレート３２の移動も停止される（図４（Ａ）のｅ１を参照）。このとき、金属帯１０とバッフルプレート３２とが略同一平面上となる。

また、両ノズル２２，２４が閉方向に向けて移動を開始したものの（図４（Ａ）のｆ１を参照）、その後に両ノズル２２，２４のうち裏側ガスワイピングノズル２４のみが停止した場合（図４（Ａ）のｇ１を参照）、移動する表側ガスワイピングノズル２２に追従する態様でバッフルプレート３２をＹ方向に移動させる制御が開始される。詳細には、両ノズル２２，２４のうち表側ガスワイピングノズル２２が−Ｙ方向に向けて移動し且つ裏側ガスワイピングノズル２４が停止する場合、これに基づいて、バッフルプレート３２を−Ｙ方向（移動する表側ガスワイピングノズル２２に追従する方向）に向けて移動させる制御が実行される。その後、表側ガスワイピングノズル２２が停止すると、−Ｙ方向に向けたバッフルプレート３２の移動も停止される（図４（Ａ）のｈ１を参照）。このとき、金属帯１０とバッフルプレート３２とが略同一平面上となる。

このように、表側ガスワイピングノズル２２と裏側ガスワイピングノズル２４との間の略センターラインが変化する場合には、移動するガスワイピングノズルに追従する態様でバッフルプレート３２をＹ方向に移動させる制御が実行される。

次に、図４（Ｂ）を参照して、表側ガスワイピングノズル２２と裏側ガスワイピングノズル２４との両ノズル２２，２４が開方向に向けて移動を開始した場合におけるバッフルプレート３２の移動制御について説明する。

両ノズル２２，２４が開方向に向けて移動を開始した場合（図４（Ｂ）のａ２を参照）、バッフルプレート３２をＹ方向に向けて移動させる制御は開始されない。詳細には、表側ガスワイピングノズル２２が＋Ｙ方向に向けて移動し且つ裏側ガスワイピングノズル２４が−Ｙ方向に向けて移動する場合、すなわち、両ノズル２２，２４が互いに反対方向に向けて移動する場合には、バッフルプレート３２をＹ方向に移動させる制御は実行されない。

これに対して、両ノズル２２，２４が開方向に向けて移動を開始したものの（図４（Ｂ）のｃ２を参照）、その後に両ノズル２２，２４のうち表側ガスワイピングノズル２２のみが停止した場合（図４（Ｂ）のｄ２を参照）、移動する裏側ガスワイピングノズル２４に追従する態様でバッフルプレート３２をＹ方向に移動させる制御が開始される。詳細には、両ノズル２２，２４のうち表側ガスワイピングノズル２２が停止し且つ裏側ガスワイピングノズル２４が−Ｙ方向に移動する場合、これに基づいて、バッフルプレート３２を−Ｙ方向に向けて移動させる制御が実行される。その後、裏側ガスワイピングノズル２４が停止すると、Ｙ方向の負方向に向けたバッフルプレート３２の移動も停止される（図４（Ｂ）のｅ２を参照）。このとき、金属帯１０とバッフルプレート３２とが略同一平面上となる。

また、両ノズル２２，２４が開方向に向けて移動を開始したものの（図４（Ｂ）のｆ２を参照）、両ノズル２２，２４のうち裏側ガスワイピングノズル２４のみが停止した場合（図４（Ｂ）のｇ２を参照）も、移動する表側ガスワイピングノズル２２に追従する態様でバッフルプレート３２をＹ方向に移動させる制御が実行される。詳細には、両ノズル２２，２４のうち表側ガスワイピングノズル２２が＋Ｙ方向に移動し且つ裏側ガスワイピングノズル２４が停止する場合、これに基づいて、バッフルプレート３２を＋Ｙ方向に向けて移動させる制御が開始される。その後、表側ガスワイピングノズル２２が停止すると、Ｙ方向の負方向に向けたバッフルプレート３２の移動も停止される（図４（Ｂ）のｈ２を参照）。このとき、金属帯１０とバッフルプレート３２とが略同一平面上となる。

次に、図４（Ｃ）を参照して、閉方向に向けた表側ガスワイピングノズル２２の移動と開方向に向けた裏側ガスワイピングノズル２４の移動とが同時に開始された場合におけるバッフルプレート３２の移動制御について説明する。

閉方向に向けた表側ガスワイピングノズル２２の移動と開方向に向けた裏側ガスワイピングノズル２４の移動とが同時に開始された場合（図４（Ｃ）のａ３を参照）、これに基づいて、バッフルプレート３２を−Ｙ方向に向けて移動させる制御が開始される。その後、閉方向に向けて移動する表側ガスワイピングノズル２２と開方向に向けて移動する裏側ガスワイピングノズル２４とのいずれもが停止すると（図４（Ｃ）のｂ３を参照）、−Ｙ方向に向けたバッフルプレート３２の移動も停止される。このとき、金属帯１０とバッフルプレート３２とが略同一平面上となる。

また、閉方向に向けた表側ガスワイピングノズル２２の移動と開方向に向けた裏側ガスワイピングノズル２４の移動とが同時に開始されたものの（図４（Ｃ）のｃ３を参照）、両ノズル２２，２４のうち表側ガスワイピングノズル２２のみが停止したとしても（図４（Ｃ）のｄ３を参照）、−Ｙ方向（移動する裏側ガスワイピングノズル２４に追従する方向）に向けたバッフルプレート３２の移動は継続される。その後、裏側ガスワイピングノズル２４の停止に基づいて、−Ｙ方向に向けたバッフルプレート３２の移動も停止される（図４（Ｃ）のｅ３を参照）。このとき、金属帯１０とバッフルプレート３２とが略同一平面上となる。

また、閉方向に向けた表側ガスワイピングノズル２２の移動と開方向に向けた裏側ガスワイピングノズル２４の移動とが同時に開始されたものの（図４（Ｃ）のｆ３を参照）、両ノズル２２，２４のうち裏側ガスワイピングノズル２４のみが停止したとしても（図４（Ｃ）のｇ３を参照）、−Ｙ方向（移動する表側ガスワイピングノズル２２に追従する方向）に向けたバッフルプレート３２の移動は継続される。その後、表側ガスワイピングノズル２２の停止に基づいて、−Ｙ方向に向けたバッフルプレート３２の移動も停止される（図４（Ｃ）のｈ３を参照）。このとき、金属帯１０とバッフルプレート３２とが略同一平面上となる。

次に、図４（Ｄ）を参照して、開方向に向けた表側ガスワイピングノズル２２の移動と閉方向に向けた裏側ガスワイピングノズル２４の移動とが同時に開始された場合におけるバッフルプレート３２の移動制御について説明する。

開方向に向けた表側ガスワイピングノズル２２の移動と閉方向に向けた裏側ガスワイピングノズル２４の移動とが同時に開始された場合（図４（Ｄ）のａ４を参照）、これに基づいて、バッフルプレート３２を＋Ｙ方向に向けて移動させる制御が開始される。その後、開方向に向けて移動する表側ガスワイピングノズル２２と閉方向に向けて移動する裏側ガスワイピングノズル２４とのいずれもが停止すると（図４（Ｄ）のｂ４を参照）、＋Ｙ方向に向けたバッフルプレート３２の移動も停止される。このとき、金属帯１０とバッフルプレート３２とが略同一平面上となる。

また、開方向に向けた表側ガスワイピングノズル２２の移動と閉方向に向けた裏側ガスワイピングノズル２４の移動とが同時に開始されたものの（図４（Ｄ）のｃ４を参照）、両ノズル２２，２４のうち表側ガスワイピングノズル２２のみが停止したとしても（図４（Ｄ）のｄ４を参照）、＋Ｙ方向に向けたバッフルプレート３２の移動は継続される。その後、裏側ガスワイピングノズル２４の停止に基づいて、＋Ｙ方向に向けたバッフルプレート３２の移動も停止される（図４（Ｄ）のｅ４を参照）。このとき、金属帯１０とバッフルプレート３２とが略同一平面上となる。

また、開方向に向けた表側ガスワイピングノズル２２の移動と閉方向に向けた裏側ガスワイピングノズル２４の移動とが同時に開始されたものの（図４（Ｄ）のｆ４を参照）、両ノズル２２，２４のうち裏側ガスワイピングノズル２４のみが停止したとしても（図４（Ｄ）のｇ４を参照）、＋Ｙ方向に向けたバッフルプレート３２の移動は継続される。その後、表側ガスワイピングノズル２２の停止に基づいて、＋Ｙ方向に向けたバッフルプレート３２の移動も停止される（図４（Ｄ）のｈ４を参照）。このとき、金属帯１０とバッフルプレート３２とが略同一平面上となる。

以上説明した本発明の一実施形態によれば、移動する表側ガスワイピングノズル２２または／および裏側ガスワイピングノズル２４に追従する態様でバッフルプレート３２をＹ方向に移動させることにより、表側ガスワイピングノズル２２または／および裏側ガスワイピングノズル２４が金属帯１０のパスラインに追従してＹ方向に移動する限り、金属帯１０のパスラインが変化したとしても、バッフルプレート３２を金属帯１０のパスラインに追従してＹ方向に移動させることが可能となる。そして、金属帯１０とバッフルプレート３２とが略同一平面上となるようにバッフルプレート３２をＹ方向に移動させることにより、表側ガスワイピングノズル２２から吹き付けられたガスと裏側ガスワイピングノズル２４から吹き付けられたガスとの衝突を極力回避することが可能となり、ひいてはエッジオーバーコートの発生を好適に抑制することが可能となる。

また、移動するガスワイピングノズルに追従する態様でバッフルプレート３２を移動させる移動制御が常に実行されるのではなく、両ノズル２２，２４が互いに反対方向に移動する場合には、該移動制御が実行されない（例えば、図４（Ａ）のａ１を参照）。すなわち、両ノズル２２，２４がＹ方向に移動する場合であっても、金属帯１０のパスラインが変化しないことに起因して表側ガスワイピングノズル２２と裏側ガスワイピングノズル２４との間の略センターラインが変化しないときには、バッフルプレート３２をＹ方向に移動させる制御は実行されない。したがって、バッフルプレート３２の位置制御（移動制御）をより柔軟に実行することが可能である。

以上説明した実施形態によれば、以下のような発明を提供することができる。

先ず、本発明の第１のバッフルプレートユニットは、
溶融金属めっき浴から引き上げられた金属帯（例えば、金属帯１０）を挟んで配置されるワイピングノズルを、前記金属帯のパスラインに応じて該金属帯の面と略直交する法線方向（例えば、Ｙ方向）に移動させることが可能なワイピング装置に用いられるバッフルプレートユニット（例えば、バッフルプレートユニット３０）であって、
前記金属帯の幅方向端部の外側に設けられたバッフルプレート（例えば、バッフルプレート３２）と、
前記バッフルプレートを、前記法線方向に移動させることが可能なプレート駆動機構（例えば、厚み方向駆動機構３６）と、
前記プレート駆動機構を駆動させて、前記法線方向における前記バッフルプレートの位置を制御するプレート位置制御手段と、
を備え、
前記プレート位置制御手段は、
前記法線方向への前記ワイピングノズルの移動状況に基づいて、前記バッフルプレートを移動させることが可能に構成される
ことを特徴とするものである。

第２のバッフルプレートユニットは、第１のバッフルプレートユニットにおいて、
前記プレート位置制御手段は、
前記法線方向において、前記金属帯の表面と対向して配置される表面側ワイピングノズル（例えば、表側ガスワイピングノズル２２）と、前記金属帯の裏面と対向して配置される裏面側ワイピングノズル（例えば、裏側ガスワイピングノズル２４）とが互いに反対方向に移動する場合には前記バッフルプレートを移動させる制御を実行せず、
前記法線方向において、前記表面側ワイピングノズルと前記裏面側ワイピングノズルとのうちいずれか一方のみが移動する場合、または、前記表面側ワイピングノズルと前記裏面側ワイピングノズルとの両方が同じ方向に移動する場合には、該移動するワイピングノズルに追従する態様で前記バッフルプレートを移動させる制御を実行する
ことを特徴とするものである。

なお、本発明は、上記の好ましい実施形態に記載されているが、本発明はそれだけに制限されない。本発明の精神と範囲から逸脱することのない様々な実施形態が可能である。

１０ 金属帯
２２ 表側ガスワイピングノズル
２４ 裏側ガスワイピングノズル
３０ バッフルプレートユニット
３２ バッフルプレート

Claims (4)

1. 溶融金属めっき浴から引き上げられた金属帯を挟んで配置されるワイピングノズルを、前記金属帯のパスラインに応じて該金属帯の面と略直交する法線方向に移動させることが可能なワイピング装置に用いられるバッフルプレートユニットであって、
   前記金属帯の幅方向端部の外側に設けられたバッフルプレートと、
   前記バッフルプレートを前記法線方向に移動させることが可能なプレート駆動機構と、
   前記プレート駆動機構を駆動させて、前記法線方向における前記バッフルプレートの位置を制御するプレート位置制御手段と、
   を備え、
   前記プレート位置制御手段は、
   前記法線方向への前記ワイピングノズルの移動状況に基づいて前記バッフルプレートを移動させることが可能に構成される
   ことを特徴とするバッフルプレートユニット。
2. 前記プレート位置制御手段は、
   前記法線方向において、前記金属帯の表面と対向して配置される表面側ワイピングノズルと、前記金属帯の裏面と対向して配置される裏面側ワイピングノズルとが互いに反対方向に移動する場合には前記バッフルプレートを移動させる制御を実行せず、
   前記法線方向において、前記表面側ワイピングノズルと前記裏面側ワイピングノズルとのうちいずれか一方のみが移動する場合、または、前記表面側ワイピングノズルと前記裏面側ワイピングノズルとの両方が同じ方向に移動する場合には、該移動するワイピングノズルに追従する態様で前記バッフルプレートを移動させる制御を実行する
   ことを特徴とする請求項１に記載のバッフルプレートユニット。
3. 溶融金属めっき浴から引き上げられた金属帯を挟んで配置されるワイピングノズルを、前記金属帯のパスラインに応じて該金属帯の面と略直交する法線方向に移動させる第１工程と、
   前記金属帯の幅方向端部の外側に設けられたバッフルプレートを前記法線方向に移動させる第２工程と、
   を備えるバッフルプレートの位置調整方法であって、
   前記第２工程は、
   前記法線方向への前記ワイピングノズルの移動状況に基づいて前記バッフルプレートを移動させる工程である
   ことを特徴とするバッフルプレートの位置調整方法。
4. 前記第１工程は、
   前記金属帯の表面と対向して配置される表面側ワイピングノズルと、前記金属帯の裏面と対向して配置される裏面側ワイピングノズルとを互いに反対方向に移動させる第１態様、
   前記表面側ワイピングノズルと前記裏面側ワイピングノズルとのうちいずれか一方のみを移動させる第２態様、および
   前記表面側ワイピングノズルと前記裏面側ワイピングノズルとを同じ方向に移動させる第３態様のうちのいずれかの態様で前記表面側ワイピングノズルまたは／および前記裏面側ワイピングノズルを移動させる工程であり、
   前記第２工程は、
   前記第１工程が前記第１態様であった場合には行われず、
   前記第１工程が前記第２態様または前記第３態様であった場合には、移動するワイピングノズルに追従する態様で行われる
   ことを特徴とする請求項３に記載のバッフルプレートの位置調整方法。

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