JP2923060B2 - 連続溶融メッキにおけるエッジワイピング装置 - Google Patents
連続溶融メッキにおけるエッジワイピング装置Info
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- JP2923060B2 JP2923060B2 JP41230290A JP41230290A JP2923060B2 JP 2923060 B2 JP2923060 B2 JP 2923060B2 JP 41230290 A JP41230290 A JP 41230290A JP 41230290 A JP41230290 A JP 41230290A JP 2923060 B2 JP2923060 B2 JP 2923060B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、溶融亜鉛メッキ鋼帯等
の溶融金属メッキの溶融金属付着量制御装置の一部を構
成するエッジワイピング装置に関するものである。
の溶融金属メッキの溶融金属付着量制御装置の一部を構
成するエッジワイピング装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般的なガスワイピング法による溶融金
属付着量制御装置は、図３に示すように、溶融メッキ浴
槽７内の溶融金属９中に導入された鋼帯Ｓを、メッキ浴
槽７中の誘導ローラ８で導いて垂直に上方に引き上げ、
相対して設置された一対のガスワイピングノズル６の間
を通し、このガスワイピングノズル６から噴出されるガ
スＧにより、鋼帯Ｓの表裏両面に付着した過剰メッキ金
属9aの所定量をかき落とすものとなっている。
属付着量制御装置は、図３に示すように、溶融メッキ浴
槽７内の溶融金属９中に導入された鋼帯Ｓを、メッキ浴
槽７中の誘導ローラ８で導いて垂直に上方に引き上げ、
相対して設置された一対のガスワイピングノズル６の間
を通し、このガスワイピングノズル６から噴出されるガ
スＧにより、鋼帯Ｓの表裏両面に付着した過剰メッキ金
属9aの所定量をかき落とすものとなっている。
【０００３】この図３に示したガスワイピング法にあっ
ては、ガスワイピング部の鋼帯Ｓ両エッジ部で、噴出
ガス運動量が鋼帯Ｓ中央部に比べて小さくなり、両エッ
ジ部の付着量が多くなる（エッジオーバコート）。生
産性向上のためにラインスピードを増加させる場合に、
或いは付着量を小さく（薄目付け）する場合、ガスワイ
ピング部でのかき落とすべき過剰メッキ金属9a量が増加
するので、(a) 鋼帯Ｓとガスワイピングノズル６との間
の距離の近接化を図る、(b) ガスワイピングのガス圧力
を上昇させる、等の手段を講じているが、この手段を講
じると、図５に示すように、ガスワイピングノズル６か
らのガスＧが鋼帯Ｓの両エッジ部側に強く流れるため、
鋼帯Ｓのエッジ部の過剰メッキ金属9aは、このガスＧに
より鋼帯Ｓの幅方向に吹き飛ばされて飛散し、図４に示
すように、スプラッシュ9b（メッキ金属の飛散）とな
り、またエッジオーバーコートとなる。鋼帯Ｓ両エッジ
部から発生するスプラッシュ9bが多くなると、ガスワイ
ピングノズル６の目詰まりを起こし、連続操業が困難に
なる。と云う不都合があった。
ては、ガスワイピング部の鋼帯Ｓ両エッジ部で、噴出
ガス運動量が鋼帯Ｓ中央部に比べて小さくなり、両エッ
ジ部の付着量が多くなる（エッジオーバコート）。生
産性向上のためにラインスピードを増加させる場合に、
或いは付着量を小さく（薄目付け）する場合、ガスワイ
ピング部でのかき落とすべき過剰メッキ金属9a量が増加
するので、(a) 鋼帯Ｓとガスワイピングノズル６との間
の距離の近接化を図る、(b) ガスワイピングのガス圧力
を上昇させる、等の手段を講じているが、この手段を講
じると、図５に示すように、ガスワイピングノズル６か
らのガスＧが鋼帯Ｓの両エッジ部側に強く流れるため、
鋼帯Ｓのエッジ部の過剰メッキ金属9aは、このガスＧに
より鋼帯Ｓの幅方向に吹き飛ばされて飛散し、図４に示
すように、スプラッシュ9b（メッキ金属の飛散）とな
り、またエッジオーバーコートとなる。鋼帯Ｓ両エッジ
部から発生するスプラッシュ9bが多くなると、ガスワイ
ピングノズル６の目詰まりを起こし、連続操業が困難に
なる。と云う不都合があった。
【０００４】この不都合を解消する従来技術としては、
特開昭５７−１６９０７６号公報に示された、溶融金属
９の液面にて、一対の回転体を、鋼帯Ｓに対向した周面
が鋼帯Ｓと逆方向に移動するよう回転させ、この一対の
回転体により鋼帯Ｓ表面に付着する過剰メッキ金属9aの
量を規制する手段、特開昭６３−１５３２５４号公報お
よび実開昭６３−９２４２号公報に示された、ガスワイ
ピングノズル６の両側端に補助ノズルを設けて、鋼帯Ｓ
に対するエッジワイピング力を高める手段、特開平１−
２９０７５５号公報に示された、ガスワイピングノズル
６内の構造を工夫して、鋼帯Ｓに対して両エッジ部から
中央に向かうガス流を生じさせる手段、特開平１−２０
８４４１号公報に示された、鋼帯Ｓの両エッジに対向し
て、鋼帯Ｓに対して上流側に向けてガスを噴出するノズ
ルを設ける手段、さらには特開昭５７−２１０９６６号
公報に示された、鋼帯Ｓの両エッジ部に対して、鋼帯Ｓ
の幅方向に沿って中央に向けてガスを噴出する手段等が
ある。
特開昭５７−１６９０７６号公報に示された、溶融金属
９の液面にて、一対の回転体を、鋼帯Ｓに対向した周面
が鋼帯Ｓと逆方向に移動するよう回転させ、この一対の
回転体により鋼帯Ｓ表面に付着する過剰メッキ金属9aの
量を規制する手段、特開昭６３−１５３２５４号公報お
よび実開昭６３−９２４２号公報に示された、ガスワイ
ピングノズル６の両側端に補助ノズルを設けて、鋼帯Ｓ
に対するエッジワイピング力を高める手段、特開平１−
２９０７５５号公報に示された、ガスワイピングノズル
６内の構造を工夫して、鋼帯Ｓに対して両エッジ部から
中央に向かうガス流を生じさせる手段、特開平１−２０
８４４１号公報に示された、鋼帯Ｓの両エッジに対向し
て、鋼帯Ｓに対して上流側に向けてガスを噴出するノズ
ルを設ける手段、さらには特開昭５７−２１０９６６号
公報に示された、鋼帯Ｓの両エッジ部に対して、鋼帯Ｓ
の幅方向に沿って中央に向けてガスを噴出する手段等が
ある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開昭
５７−１６９０７６号公報に示された手段にあっては、
浴中、浴面のドロス（溶融金属９成分の酸化物、その
他）を回転体が巻き込んでしまい、成形される鋼帯Ｓの
表面品質を劣化させると云う問題がある。
５７−１６９０７６号公報に示された手段にあっては、
浴中、浴面のドロス（溶融金属９成分の酸化物、その
他）を回転体が巻き込んでしまい、成形される鋼帯Ｓの
表面品質を劣化させると云う問題がある。
【０００６】特開昭６３−１５３２５４号公報および実
開昭６３−９２４２号公報に示された手段にあっては、
鋼帯Ｓの速度変化やメッキ金属の目付量の変更に柔軟に
対応することができないと云う問題がある。
開昭６３−９２４２号公報に示された手段にあっては、
鋼帯Ｓの速度変化やメッキ金属の目付量の変更に柔軟に
対応することができないと云う問題がある。
【０００７】特開平１−２９０７５５号公報に示された
手段にあっては、過剰メッキ金属9aの付着量を制御でき
る範囲が狭く、かつスプラッシュ9bの発生を抑える効果
が小さいと云う問題がある。
手段にあっては、過剰メッキ金属9aの付着量を制御でき
る範囲が狭く、かつスプラッシュ9bの発生を抑える効果
が小さいと云う問題がある。
【０００８】特開平１−２０８４４１号公報に示された
手段にあっては、過剰メッキ金属9aの付着量制御の効果
は、鋼帯Ｓのエッジに局限され、鋼帯Ｓの両側端部の全
範囲にわたって付着量を調整制御することができないと
云う問題がある。
手段にあっては、過剰メッキ金属9aの付着量制御の効果
は、鋼帯Ｓのエッジに局限され、鋼帯Ｓの両側端部の全
範囲にわたって付着量を調整制御することができないと
云う問題がある。
【０００９】そして、特開昭５７−２１０９６６号公報
に示された手段にあっては、上流向きのガス流が殆ど無
いので、鋼帯Ｓ速度変化に対応することができず、また
鋼帯Ｓの波打ち変動に対して敏感に感応するため、鋼帯
Ｓのエッジ部に対するガス流の効果が大きく変動するた
め、例えこの鋼帯Ｓの波打ち変動に追従させたとしても
安定した動作を得ることができず、さらにガス流を鋼帯
Ｓのエッジ部に鋼帯Ｓの幅方向から吹付けるので、鋼帯
Ｓのエッジ部における過剰メッキ金属9aの付着量分布
を、幅方向に沿って微調整することができないと云う問
題がある。
に示された手段にあっては、上流向きのガス流が殆ど無
いので、鋼帯Ｓ速度変化に対応することができず、また
鋼帯Ｓの波打ち変動に対して敏感に感応するため、鋼帯
Ｓのエッジ部に対するガス流の効果が大きく変動するた
め、例えこの鋼帯Ｓの波打ち変動に追従させたとしても
安定した動作を得ることができず、さらにガス流を鋼帯
Ｓのエッジ部に鋼帯Ｓの幅方向から吹付けるので、鋼帯
Ｓのエッジ部における過剰メッキ金属9aの付着量分布
を、幅方向に沿って微調整することができないと云う問
題がある。
【００１０】そこで、本発明は、上記した従来技術にお
ける問題点を解消すべく創案されたもので、スプラッシ
ュを生じることなしに鋼帯のエッジ部における過剰メッ
キ金属の付着量を調整制御することを技術的課題とし、
もってガスワイピンドノズルに目詰まりを生じさせるこ
となしに、鋼帯エッジ部のメッキ金属付着量を良好にか
つ安定して微調整することを目的とする。
ける問題点を解消すべく創案されたもので、スプラッシ
ュを生じることなしに鋼帯のエッジ部における過剰メッ
キ金属の付着量を調整制御することを技術的課題とし、
もってガスワイピンドノズルに目詰まりを生じさせるこ
となしに、鋼帯エッジ部のメッキ金属付着量を良好にか
つ安定して微調整することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記技術的課題を解決す
る本発明の手段は、メッキ浴槽内の溶融金属液面と溶融
金属付着量制御装置のガスワイピングノズルとの間に、
鋼帯面と平行な仮想される平面上で、ノズル口を鋼帯表
裏両面の両エッジ部分に向けたまま旋回可能に配置され
た少なくとも一組のエッジワイピングノズルを有するこ
と、このエッジワイピングノズルを、鋼帯の進行方向に
直角な方向を基準として、エッジワイピングノズルの鋼
帯のエッジ側の端部が中央側の端部に対して鋼帯の進行
方向の上流側となる方向に、０°〜９０°の角度範囲内
で旋回させて保持する旋回機構を有すること、にある。
る本発明の手段は、メッキ浴槽内の溶融金属液面と溶融
金属付着量制御装置のガスワイピングノズルとの間に、
鋼帯面と平行な仮想される平面上で、ノズル口を鋼帯表
裏両面の両エッジ部分に向けたまま旋回可能に配置され
た少なくとも一組のエッジワイピングノズルを有するこ
と、このエッジワイピングノズルを、鋼帯の進行方向に
直角な方向を基準として、エッジワイピングノズルの鋼
帯のエッジ側の端部が中央側の端部に対して鋼帯の進行
方向の上流側となる方向に、０°〜９０°の角度範囲内
で旋回させて保持する旋回機構を有すること、にある。
【００１２】
【作用】鋼帯の進行方向に沿ったガスワイピングノズル
の直上流側に設置されたエッジワイピングノズルは、鋼
帯の過剰メッキ金属部分がガスワイピングノズルに対向
する以前に、鋼帯エッジ部の過剰メッキ金属を、スプラ
ッシュの発生を防止できる厚み以下にワイピングしてお
く。
の直上流側に設置されたエッジワイピングノズルは、鋼
帯の過剰メッキ金属部分がガスワイピングノズルに対向
する以前に、鋼帯エッジ部の過剰メッキ金属を、スプラ
ッシュの発生を防止できる厚み以下にワイピングしてお
く。
【００１３】このエッジワイピングノズルによる鋼帯エ
ッジ部の過剰メッキ金属のワイピングは、エッジワイピ
ングノズルを旋回機構により、鋼帯の進行方向に対して
０°〜９０°の範囲内の予め実験により決定された角度
に制御されるが、このエッジワイピングノズルの鋼帯進
行方向に対する傾斜角度を０°〜９０°の角度範囲に規
制したのは、この角度範囲以外では、鋼帯エッジ部のエ
ッジオーバーコートの発生を防止すると云う効果を得る
ことはできても、この鋼帯エッジ部でのスプラッシュ発
生を防止することができなくなるからである。
ッジ部の過剰メッキ金属のワイピングは、エッジワイピ
ングノズルを旋回機構により、鋼帯の進行方向に対して
０°〜９０°の範囲内の予め実験により決定された角度
に制御されるが、このエッジワイピングノズルの鋼帯進
行方向に対する傾斜角度を０°〜９０°の角度範囲に規
制したのは、この角度範囲以外では、鋼帯エッジ部のエ
ッジオーバーコートの発生を防止すると云う効果を得る
ことはできても、この鋼帯エッジ部でのスプラッシュ発
生を防止することができなくなるからである。
【００１４】すなわち、エッジワイピングノズルに、鋼
帯進行方向に対する傾斜角度であるエッジワイピング角
度を与えることにより、このエッジワイピングノズルか
ら鋼帯エッジ部に吹き付けられるガスに、鋼帯の中央方
向に向かう方向性を与え、もってスプラッシュを発生さ
せることなしに、エッジオーバコートの発生を防止する
のである。
帯進行方向に対する傾斜角度であるエッジワイピング角
度を与えることにより、このエッジワイピングノズルか
ら鋼帯エッジ部に吹き付けられるガスに、鋼帯の中央方
向に向かう方向性を与え、もってスプラッシュを発生さ
せることなしに、エッジオーバコートの発生を防止する
のである。
【００１５】
【実施例】以下、本発明装置の一実施例を図１および図
２を参照しながら説明する。図示実施例の場合、本発明
によるエッジワイピング装置１のエッジワイピングノズ
ル２は、鋼帯Ｓの表裏両面の両エッジ部にそれぞれ一つ
づつ、合計四個対向配置されており、各エッジワイピン
グノズル２は、旋回自在および鋼帯Ｓの幅方向に移動可
能に取付けられている。
２を参照しながら説明する。図示実施例の場合、本発明
によるエッジワイピング装置１のエッジワイピングノズ
ル２は、鋼帯Ｓの表裏両面の両エッジ部にそれぞれ一つ
づつ、合計四個対向配置されており、各エッジワイピン
グノズル２は、旋回自在および鋼帯Ｓの幅方向に移動可
能に取付けられている。
【００１６】エッジワイピングノズル２には、エッジワ
イピングノズル２を０°〜９０°の角度範囲で旋回変位
させると共に、その旋回角度に保持する旋回機構３が連
結されていると共に、ガスワイピングノズル６の直下流
に配置され、ガスワイピング後の鋼帯Ｓのエッジ部位置
を検出する鋼帯位置検出器５からの検出信号に従い、エ
ッジワイピングノズル２を鋼帯Ｓのエッジ部に正確に対
向させるべく、このエッジワイピングノズル２を鋼帯Ｓ
の幅方向に移動させる追従機構４が連結されている。
イピングノズル２を０°〜９０°の角度範囲で旋回変位
させると共に、その旋回角度に保持する旋回機構３が連
結されていると共に、ガスワイピングノズル６の直下流
に配置され、ガスワイピング後の鋼帯Ｓのエッジ部位置
を検出する鋼帯位置検出器５からの検出信号に従い、エ
ッジワイピングノズル２を鋼帯Ｓのエッジ部に正確に対
向させるべく、このエッジワイピングノズル２を鋼帯Ｓ
の幅方向に移動させる追従機構４が連結されている。
【００１７】この追従機構４により、走行中の鋼帯Ｓに
蛇行が発生したとしても、この鋼帯Ｓの蛇行を鋼帯位置
検出器５で検出し、この鋼帯位置検出器５の検出信号に
従って追従機構４がエッジワイピングノズル２の位置
を、鋼帯Ｓの蛇行による鋼帯エッジ部の変位に追従させ
て鋼帯幅方向に変位させるので、エッジワイピングノズ
ル２は鋼帯Ｓの蛇行に関わらず、常に鋼帯エッジ部に正
確に対応することができる。
蛇行が発生したとしても、この鋼帯Ｓの蛇行を鋼帯位置
検出器５で検出し、この鋼帯位置検出器５の検出信号に
従って追従機構４がエッジワイピングノズル２の位置
を、鋼帯Ｓの蛇行による鋼帯エッジ部の変位に追従させ
て鋼帯幅方向に変位させるので、エッジワイピングノズ
ル２は鋼帯Ｓの蛇行に関わらず、常に鋼帯エッジ部に正
確に対応することができる。
【００１８】各エッジワイピングノズル２は、その鋼帯
Ｓのエッジ部に対するワイピング動作の結果が、ガスワ
イピングノズル６によるワイピング動作に有効に生かさ
れるように、ガスワイピングノズル６の直前の上流側に
配置されている。
Ｓのエッジ部に対するワイピング動作の結果が、ガスワ
イピングノズル６によるワイピング動作に有効に生かさ
れるように、ガスワイピングノズル６の直前の上流側に
配置されている。
【００１９】各エッジワイピングノズル２は、その噴出
ガスＧが、図２に示すように鋼帯Ｓの進行方向の上流側
に向かうように、予めノズル口を上流側に傾けて取付け
ておいても良いが、実際の運転の際には、エッジワイピ
ングノズル２から噴出したガスＧは、近接した下流側の
ガスワイピングノズル６からのガスＧ流の作用を受けて
上流側に押されるので、エッジワイピングノズル２の鋼
帯Ｓ表面に対する対向角度の傾斜程度は８０°〜９０°
程度としておくのが良い。
ガスＧが、図２に示すように鋼帯Ｓの進行方向の上流側
に向かうように、予めノズル口を上流側に傾けて取付け
ておいても良いが、実際の運転の際には、エッジワイピ
ングノズル２から噴出したガスＧは、近接した下流側の
ガスワイピングノズル６からのガスＧ流の作用を受けて
上流側に押されるので、エッジワイピングノズル２の鋼
帯Ｓ表面に対する対向角度の傾斜程度は８０°〜９０°
程度としておくのが良い。
【００２０】エッジワイピングノズル２による鋼帯Ｓの
エッジ部に対するワイピング作用の効果程度は、このエ
ッジワイピングノズル２の鋼帯Ｓ進行方向に対する旋回
角度すなわちエッジワイピング角度Θによって変化する
が、鋼帯Ｓ進行方向に対するエッジワイピングノズル２
のエッジワイピング角度Θの違いによるスプラッシュ9b
発生程度の変化の実験例を表１に示す。表１ なお、実験条件は、ライン速度１５０ｍ／min 、鋼
帯厚０．７mm、鋼帯幅１２００mm、ガスワイピングノズ
ル圧０．７Kgf ／cm2G、エッジワイピングノズル圧０．
７Kgf ／cm2Gである。この表１に示した実験例から明ら
かなように、Θ＝−４５°の場合には、鋼帯Ｓのエッジ
部の過剰メッキ金属9aをエッジ部から外側に吹き飛ばす
結果となり、却ってスプラッシュ9bの発生が激しくな
る。Θ＝０°の場合には、鋼帯Ｓのエッジ部方向に流れ
るガスＧの流れが弱まり、スプラッシュ9bの発生程度が
従来に比べて少し良くなる程度であるが、Θ＝４５°の
場合には、エッジワイピングノズル２からのガスＧによ
り、鋼帯Ｓのエッジ部の過剰メッキ金属9aが鋼帯Ｓの中
央部に押し寄せられ、ガスワイピングノズル６部でのス
プラッシュ9b発生は大幅に抑制されている。Θ＝９０°
程度となると、エッジワイピングノズル２の効果は殆ど
無く、ガスワイピングノズル６部でのスプラッシュ9b発
生程度は殆ど改善されず、Θ＝９０°以上ではスプラッ
シュ9b発生程度は却って悪化する。
エッジ部に対するワイピング作用の効果程度は、このエ
ッジワイピングノズル２の鋼帯Ｓ進行方向に対する旋回
角度すなわちエッジワイピング角度Θによって変化する
が、鋼帯Ｓ進行方向に対するエッジワイピングノズル２
のエッジワイピング角度Θの違いによるスプラッシュ9b
発生程度の変化の実験例を表１に示す。表１ なお、実験条件は、ライン速度１５０ｍ／min 、鋼
帯厚０．７mm、鋼帯幅１２００mm、ガスワイピングノズ
ル圧０．７Kgf ／cm2G、エッジワイピングノズル圧０．
７Kgf ／cm2Gである。この表１に示した実験例から明ら
かなように、Θ＝−４５°の場合には、鋼帯Ｓのエッジ
部の過剰メッキ金属9aをエッジ部から外側に吹き飛ばす
結果となり、却ってスプラッシュ9bの発生が激しくな
る。Θ＝０°の場合には、鋼帯Ｓのエッジ部方向に流れ
るガスＧの流れが弱まり、スプラッシュ9bの発生程度が
従来に比べて少し良くなる程度であるが、Θ＝４５°の
場合には、エッジワイピングノズル２からのガスＧによ
り、鋼帯Ｓのエッジ部の過剰メッキ金属9aが鋼帯Ｓの中
央部に押し寄せられ、ガスワイピングノズル６部でのス
プラッシュ9b発生は大幅に抑制されている。Θ＝９０°
程度となると、エッジワイピングノズル２の効果は殆ど
無く、ガスワイピングノズル６部でのスプラッシュ9b発
生程度は殆ど改善されず、Θ＝９０°以上ではスプラッ
シュ9b発生程度は却って悪化する。
【００２１】次に、エッジワイピング角度Θを、Θ＝３
５°に固定して、鋼帯厚０．７mm、鋼帯幅９１７mm、ガ
スワイピングノズル間隔１４mm、エッジワイピングノズ
ル間隔１４mm、目標亜鉛付着量４５ｇ／m2の条件で、ス
プラッシュ発生程度および鋼帯エッジ部付着量／鋼帯セ
ンター付着量の実験例を表２に示す。表２ この表２に示した実験結果から明らかなように、本発
明によるエッジワイピング装置１を設けることにより、
スプラッシュ9bの発生は、問題とならない程度のレベル
に防止することができ、またメッキ金属の付着量の均一
化も高いレベルで達成することができる。
５°に固定して、鋼帯厚０．７mm、鋼帯幅９１７mm、ガ
スワイピングノズル間隔１４mm、エッジワイピングノズ
ル間隔１４mm、目標亜鉛付着量４５ｇ／m2の条件で、ス
プラッシュ発生程度および鋼帯エッジ部付着量／鋼帯セ
ンター付着量の実験例を表２に示す。表２ この表２に示した実験結果から明らかなように、本発
明によるエッジワイピング装置１を設けることにより、
スプラッシュ9bの発生は、問題とならない程度のレベル
に防止することができ、またメッキ金属の付着量の均一
化も高いレベルで達成することができる。
【００２２】
【発明の効果】本発明は、上記した構成となっているの
で、以下に示す効果を奏する。ガスワイピングに先立っ
て、鋼帯エッジ部の過剰メッキ金属を適正に鋼帯中央部
に押し込むので、ライン速度増加によるスプラッシュ増
加を効果的に抑止することができ、もって生産性を向上
させることができると共に、安定した連続運転を得るこ
とができる。
で、以下に示す効果を奏する。ガスワイピングに先立っ
て、鋼帯エッジ部の過剰メッキ金属を適正に鋼帯中央部
に押し込むので、ライン速度増加によるスプラッシュ増
加を効果的に抑止することができ、もって生産性を向上
させることができると共に、安定した連続運転を得るこ
とができる。
【００２３】鋼帯の幅方向、特にエッジ部のメッキ金属
の付着量の均一化を安定して、かつ精度良く達成でき、
もって品質の向上を得ることができる。
の付着量の均一化を安定して、かつ精度良く達成でき、
もって品質の向上を得ることができる。
【００２４】エッジワイピング効果を、エッジワイピン
グノズルの旋回角度を調整することにより、任意に制御
することができるので、ライン速度、鋼帯寸法、目標メ
ッキ金属付着量等に適合させてエッジワイピング効果を
設定することができ、もって適正なスプラッシュ発生防
止動作と付着量均一化とを達成できる。
グノズルの旋回角度を調整することにより、任意に制御
することができるので、ライン速度、鋼帯寸法、目標メ
ッキ金属付着量等に適合させてエッジワイピング効果を
設定することができ、もって適正なスプラッシュ発生防
止動作と付着量均一化とを達成できる。
【００２５】追従機構によりエッジワイピングノズルを
鋼帯のエッジ部に常に正確に対応させるので、エッジワ
イピングノズルの鋼帯エッジ部に対するエッジワイピン
グ作用が常に安定し、もって安定したスプラッシュ発生
防止動作と付着量均一化とを達成できる。
鋼帯のエッジ部に常に正確に対応させるので、エッジワ
イピングノズルの鋼帯エッジ部に対するエッジワイピン
グ作用が常に安定し、もって安定したスプラッシュ発生
防止動作と付着量均一化とを達成できる。
【００２６】
【図１】本発明装置の一実施例を示す全体配置構成図。
【図２】図１に示した実施例におけるエッジワイピング
ノズルの鋼帯に対する旋回姿勢例を示す正面図。
ノズルの鋼帯に対する旋回姿勢例を示す正面図。
【図３】従来のガスワイピング装置の基本的な構成を示
す説明図。
す説明図。
【図４】スプラッシュの発生の説明に供する部分斜視
図。
図。
【図５】ガスワイピングノズルから鋼帯に吹き付けられ
るガスの流動変化形態を示す説明図。
るガスの流動変化形態を示す説明図。
【００２７】
１；エッジワイピング装置 ２；エッジワイピングノズル ３；旋回機構 ４；追従機構 ５；鋼帯位置検出器 ６；ガスワイピングノズル ７；メッキ浴槽 ８；誘導ローラ ９；溶融金属 9a；過剰メッキ金属 9b；スプラッシュ Ｓ；鋼帯 Ｇ；ガス
Claims (1)
- 【請求項１】 メッキ浴槽(7) 内の溶融金属(9) 液面と
溶融金属付着量制御装置のガスワイピングノズル(6) と
の間に、鋼帯(S)面と平行な仮想される平面上で、ノズ
ル口を前記鋼帯(S) 表裏面の両エッジ部分に向けたまま
旋回可能に配置された少なくとも一組のエッジワイピン
グノズル(2) と、該エッジワイピングノズル(2) を、前
記鋼帯(S) の進行方向に直角な方向を基準として、前記
エッジワイピングノズル(2) の前記鋼帯(S) のエッジ側
の端部が中央側の端部に対して前記鋼帯(S) の進行方向
の上流側となる方向に、０°〜９０°の角度範囲内で旋
回させて保持する旋回機構(3) と、から成る連続溶融メ
ッキにおけるエッジワイピング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP41230290A JP2923060B2 (ja) | 1990-12-20 | 1990-12-20 | 連続溶融メッキにおけるエッジワイピング装置 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP41230290A JP2923060B2 (ja) | 1990-12-20 | 1990-12-20 | 連続溶融メッキにおけるエッジワイピング装置 |
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Family Applications (1)
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1990
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