JP3460009B2 - 連続溶融めっき用ガスワイピング装置 - Google Patents
連続溶融めっき用ガスワイピング装置Info
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- JP3460009B2 JP3460009B2 JP01259196A JP1259196A JP3460009B2 JP 3460009 B2 JP3460009 B2 JP 3460009B2 JP 01259196 A JP01259196 A JP 01259196A JP 1259196 A JP1259196 A JP 1259196A JP 3460009 B2 JP3460009 B2 JP 3460009B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、連続溶融めっきラ
インの溶融めっき浴から導出される金属帯の表面にガス
噴射流を吹き付け、その吹拭作用により金属帯表面のめ
っき付着量を制御するガスワイピング装置に関する。
インの溶融めっき浴から導出される金属帯の表面にガス
噴射流を吹き付け、その吹拭作用により金属帯表面のめ
っき付着量を制御するガスワイピング装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】連続溶融めっきラインでは、図６に示す
ように、溶融金属めっき浴（Ｍ）に導入された金属帯
（Ｓ）は、浴中ロール（Ｒ）を介して垂直上方に浴中か
ら導出される。めっき浴の直上には、導出された金属帯
（Ｓ）のめっき付着量を制御する装置が配置されてい
る。その代表的な装置として、金属帯（Ｓ）を挟む前後
両側にワイピングノズル（１０）（１０）を対向配置し
て金属帯表面にガス（不活性ガス，エアー等）の噴射流
（Ｇ）を吹き付け、ガス流の吹拭作用によりめっき付着
量を制御するガスワイピング装置が使用されている。ワ
イピングノズル（１０）（１０）から金属帯（Ｓ）に向
って吹き付けられる噴射ガス流（Ｇ）は、図７に示すよ
うに、金属帯（Ｓ）の左右のエッジ部（Ｅ)の外側の空
間領域（Ａ）で向流衝突する。この噴射ガス流同士の衝
突によりガス流の乱れを生じ、金属帯のエッジ部表面に
対する噴射ガス流の吹拭作用が弱められる。このため、
エッジ部のめっき付着量が過剰となる「エッジオーバー
コート」が発生する。また、噴射ガス流同士の衝突によ
り著しい騒音が発生する。その対策として、図８に示す
ように、バッフルプレート（２０’）を、金属帯（Ｓ）
の左右のエッジ部（Ｅ）の外側に、金属帯（Ｓ）を含む
平面と一致させて配置することにより、噴射ガス流同士
の衝突を遮断するようにしている。また、金属帯（Ｓ）
の板幅の種類は広狭多岐に亘るので、バッフルプレート
（２０）を進退移動装置に取付け、金属帯の板幅変化に
対応して進退移動させることも行われている（特開平6-
158261号公報等) 。
ように、溶融金属めっき浴（Ｍ）に導入された金属帯
（Ｓ）は、浴中ロール（Ｒ）を介して垂直上方に浴中か
ら導出される。めっき浴の直上には、導出された金属帯
（Ｓ）のめっき付着量を制御する装置が配置されてい
る。その代表的な装置として、金属帯（Ｓ）を挟む前後
両側にワイピングノズル（１０）（１０）を対向配置し
て金属帯表面にガス（不活性ガス，エアー等）の噴射流
（Ｇ）を吹き付け、ガス流の吹拭作用によりめっき付着
量を制御するガスワイピング装置が使用されている。ワ
イピングノズル（１０）（１０）から金属帯（Ｓ）に向
って吹き付けられる噴射ガス流（Ｇ）は、図７に示すよ
うに、金属帯（Ｓ）の左右のエッジ部（Ｅ)の外側の空
間領域（Ａ）で向流衝突する。この噴射ガス流同士の衝
突によりガス流の乱れを生じ、金属帯のエッジ部表面に
対する噴射ガス流の吹拭作用が弱められる。このため、
エッジ部のめっき付着量が過剰となる「エッジオーバー
コート」が発生する。また、噴射ガス流同士の衝突によ
り著しい騒音が発生する。その対策として、図８に示す
ように、バッフルプレート（２０’）を、金属帯（Ｓ）
の左右のエッジ部（Ｅ）の外側に、金属帯（Ｓ）を含む
平面と一致させて配置することにより、噴射ガス流同士
の衝突を遮断するようにしている。また、金属帯（Ｓ）
の板幅の種類は広狭多岐に亘るので、バッフルプレート
（２０）を進退移動装置に取付け、金属帯の板幅変化に
対応して進退移動させることも行われている（特開平6-
158261号公報等) 。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】バッフルプレート（２
０’）の板面に衝突した噴射ガス流（Ｇ）の一部は、プ
レートの板面に沿って垂直下方に向う。ワイピングノズ
ル（１０）は、溶融金属浴（Ｍ）の直上（浴面からの距
離: 約２００〜５００mm〕に配置されているので、図９
に示すように、下方に向うガス流（ＧD ）は浴面に強く
衝突し、このため浴面に揺動・波打ちが生じ、また溶融
金属が飛散することもある。浴面の揺動は溶融金属の酸
化損耗を助長し、溶融金属の飛散は作業環境を著しく悪
化させるほか、ワイピングノズル（１０）の噴射口（ス
リット）に付着して目詰まりを生じる原因ともなる。こ
のトラブルは、めっき層厚の薄いめっき製品の製造を目
的として、ワイピングノズル（１０）のヘッダー圧力を
高め、またはノズル噴射口を金属帯表面に近づける（ノ
ズル間隔を小さくする）程顕著となる。このため、ヘッ
ダー圧力が例えば約０．４kgf ／cm2 以上に設定される
場合や、ノズル間隔が約２０mm以下に設定されるような
場合におけるガスワイピング操業の実施は極めて困難で
ある。本発明は、ガスワイピング装置に関する上記問題
を解決することを目的としてなされたものである。
０’）の板面に衝突した噴射ガス流（Ｇ）の一部は、プ
レートの板面に沿って垂直下方に向う。ワイピングノズ
ル（１０）は、溶融金属浴（Ｍ）の直上（浴面からの距
離: 約２００〜５００mm〕に配置されているので、図９
に示すように、下方に向うガス流（ＧD ）は浴面に強く
衝突し、このため浴面に揺動・波打ちが生じ、また溶融
金属が飛散することもある。浴面の揺動は溶融金属の酸
化損耗を助長し、溶融金属の飛散は作業環境を著しく悪
化させるほか、ワイピングノズル（１０）の噴射口（ス
リット）に付着して目詰まりを生じる原因ともなる。こ
のトラブルは、めっき層厚の薄いめっき製品の製造を目
的として、ワイピングノズル（１０）のヘッダー圧力を
高め、またはノズル噴射口を金属帯表面に近づける（ノ
ズル間隔を小さくする）程顕著となる。このため、ヘッ
ダー圧力が例えば約０．４kgf ／cm2 以上に設定される
場合や、ノズル間隔が約２０mm以下に設定されるような
場合におけるガスワイピング操業の実施は極めて困難で
ある。本発明は、ガスワイピング装置に関する上記問題
を解決することを目的としてなされたものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、溶融金属めっ
き浴から垂直上方に導出される金属帯の表面にガス流を
噴射するワイピングノズル（10）が、金属帯を挟んで前
後両側に対向配置されていると共に、金属帯の左右のエ
ッジ部(Ｅ)の外側空間における噴射ガス流同士の衝突を
遮断するバッフルプレート（20）が、進退移動装置に取
付けられて金属帯を含む平面内で水平方向に進退移動可
能なように配置されているガスワイピング装置におい
て、バッフルプレート（20）は、金属帯と平行な向きを
なす垂直板部（21）の下側縁にガス流を斜降させるため
の傾斜面（22ｓ）を有する傾斜部（22）が設けられてい
ると共に垂直板部（21）に衝突した噴射ガスの金属帯側
への流れを阻止する突起条（23）が金属帯のエッジ部
(Ｅ)に近接する側の縁部に沿って形成されており、バッ
フルプレート進退移動装置は、金属帯を含む平面と平行
な向きに水平設置されたガイドレール（30）、ガイドレ
ール（30）に装架されたキャリア（50）、キャリア（5
0）をガイドレールに沿って進退移動させる駆動装置（5
3）、金属帯のエッジ部を非接触検出するためのキャリ
アー（50）に取付けられた金属帯エッジ位置検出センサ
（54）を主構成部材とし、前記バッフルプレート（20）
は、キャリア（50）に、２つのリンク（63）（64）を有
する平行4リンク機構（60）を介して金属帯を含む平面
内での揺動が可能な懸垂状態に取付けられており、キャ
リア（50）には、金属帯エッジに近付く向きのバッフル
プレート（20）の揺動の大きさを規制するための、前記
平行４リンク機構（60）のリンクに当接して前記揺動を
停止させる揺動規制手段（65）が取付けられていると共
に、バッフルプレート（20）には、金属帯のエッジ部に
向うバッフルプレート（20）の異常接近が生じた際にバ
ッフルプレート（20）より先に金属帯のエッジ端面に当
接してバッフルプレート（20）の接触を阻止するよう
に、バッフルプレート（20）の前端縁より突出させたガ
ードローラ（70）が取付けられており、ガイドレール
（30）上のキャリア（50）は、金属帯エッジ位置検出セ
ンサ（54 ）の検出信号を制御信号として金属帯エッジの
検出位置に停止され、バッフルプレート（20）は、上記
キャリア（50）の位置制御により、ガードローラ（70）
が金属帯エッジ部（Ｅ）から離れた非接触状態を保持す
る位置に近接配置されることを特徴としている。
き浴から垂直上方に導出される金属帯の表面にガス流を
噴射するワイピングノズル（10）が、金属帯を挟んで前
後両側に対向配置されていると共に、金属帯の左右のエ
ッジ部(Ｅ)の外側空間における噴射ガス流同士の衝突を
遮断するバッフルプレート（20）が、進退移動装置に取
付けられて金属帯を含む平面内で水平方向に進退移動可
能なように配置されているガスワイピング装置におい
て、バッフルプレート（20）は、金属帯と平行な向きを
なす垂直板部（21）の下側縁にガス流を斜降させるため
の傾斜面（22ｓ）を有する傾斜部（22）が設けられてい
ると共に垂直板部（21）に衝突した噴射ガスの金属帯側
への流れを阻止する突起条（23）が金属帯のエッジ部
(Ｅ)に近接する側の縁部に沿って形成されており、バッ
フルプレート進退移動装置は、金属帯を含む平面と平行
な向きに水平設置されたガイドレール（30）、ガイドレ
ール（30）に装架されたキャリア（50）、キャリア（5
0）をガイドレールに沿って進退移動させる駆動装置（5
3）、金属帯のエッジ部を非接触検出するためのキャリ
アー（50）に取付けられた金属帯エッジ位置検出センサ
（54）を主構成部材とし、前記バッフルプレート（20）
は、キャリア（50）に、２つのリンク（63）（64）を有
する平行4リンク機構（60）を介して金属帯を含む平面
内での揺動が可能な懸垂状態に取付けられており、キャ
リア（50）には、金属帯エッジに近付く向きのバッフル
プレート（20）の揺動の大きさを規制するための、前記
平行４リンク機構（60）のリンクに当接して前記揺動を
停止させる揺動規制手段（65）が取付けられていると共
に、バッフルプレート（20）には、金属帯のエッジ部に
向うバッフルプレート（20）の異常接近が生じた際にバ
ッフルプレート（20）より先に金属帯のエッジ端面に当
接してバッフルプレート（20）の接触を阻止するよう
に、バッフルプレート（20）の前端縁より突出させたガ
ードローラ（70）が取付けられており、ガイドレール
（30）上のキャリア（50）は、金属帯エッジ位置検出セ
ンサ（54 ）の検出信号を制御信号として金属帯エッジの
検出位置に停止され、バッフルプレート（20）は、上記
キャリア（50）の位置制御により、ガードローラ（70）
が金属帯エッジ部（Ｅ）から離れた非接触状態を保持す
る位置に近接配置されることを特徴としている。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明のガスワイピング装置のバ
ッフルプレート（２０）は、図１および図２に示すよう
に、垂直板部（２１）と、その下側縁に形成された傾斜
部（２２）を有する。そのバッフルプレート（２０）
は、図３のように、垂直板部（２１）が、ワイピングノ
ズル（１０）のスリット状噴射口（１１）に相対向する
高さ位置に設定される。ワイピングノズル（１０）の噴
射ガス流（Ｇ）は、垂直板部（２１）の垂直面（２１
ｓ）に衝突する。衝突の後、下方に向うガス流（ＧD )
は、傾斜部（２２）の斜面（２２ｓ）に沿って斜降す
る。このため、前記図９のように垂直下方に指向する場
合と異なって、めっき浴面に対する衝撃が回避され、浴
面の揺動・飛散が抑制防止される。
ッフルプレート（２０）は、図１および図２に示すよう
に、垂直板部（２１）と、その下側縁に形成された傾斜
部（２２）を有する。そのバッフルプレート（２０）
は、図３のように、垂直板部（２１）が、ワイピングノ
ズル（１０）のスリット状噴射口（１１）に相対向する
高さ位置に設定される。ワイピングノズル（１０）の噴
射ガス流（Ｇ）は、垂直板部（２１）の垂直面（２１
ｓ）に衝突する。衝突の後、下方に向うガス流（ＧD )
は、傾斜部（２２）の斜面（２２ｓ）に沿って斜降す
る。このため、前記図９のように垂直下方に指向する場
合と異なって、めっき浴面に対する衝撃が回避され、浴
面の揺動・飛散が抑制防止される。
【０００６】バッフルプレート（２０）の垂直面（２１
ｓ）に対する斜面（２２ｓ）の傾斜角（θ）は、９０°
より大であることを要する。これは、垂直面（２１ｓ）
に衝突した後のガス流が、ノズル（１０）から金属帯
（Ｓ）に向う噴射ガス流（Ｇ）と干渉するのを回避する
ためである。更に、その傾斜角（θ）は、図４に示すよ
うに、ワイピングノズル（１０）の下顎斜面（１２）の
傾斜角（α）を考慮することを要する。すなわち、プレ
ート斜面（２２ｓ）の傾斜角（θ）が、９０°＋α〔こ
の場合、ノズルの下顎斜面（１２) とプレート斜面（２
２ｓ）は平行である〕より小さ過ぎると、バッフルプレ
ート（２０）の斜面（２２ｓ）に沿って流れるガス流
（ＧD ）〔図３〕が、ノズル下顎斜面（１２）とプレー
ト斜面（２２ｓ）との空間領域内で渦流を生じやすく、
その渦流によりノズル（１０）から金属帯（Ｓ）に向う
噴射ガス流（Ｇ）の吹拭作用が弱められる。これと逆
に、プレート斜面（２２ｓ）の傾斜角（θ）を余り大き
くすると、プレート斜面（２２ｓ）を形成したことの効
果が乏しくなる。これらの点から、プレート斜面（２２
ｓ）の傾斜角（θ）は、９０°＋α°−５°ないし９０
°＋α°＋１５°の範囲内に設定するのが好ましい。ノ
ズルの下顎傾斜角（α）は例えば２５°であり、その場
合のプレート斜面（２２ｓ）の傾斜角（θ）の適正な範
囲は、１１０〜１３０°となる。
ｓ）に対する斜面（２２ｓ）の傾斜角（θ）は、９０°
より大であることを要する。これは、垂直面（２１ｓ）
に衝突した後のガス流が、ノズル（１０）から金属帯
（Ｓ）に向う噴射ガス流（Ｇ）と干渉するのを回避する
ためである。更に、その傾斜角（θ）は、図４に示すよ
うに、ワイピングノズル（１０）の下顎斜面（１２）の
傾斜角（α）を考慮することを要する。すなわち、プレ
ート斜面（２２ｓ）の傾斜角（θ）が、９０°＋α〔こ
の場合、ノズルの下顎斜面（１２) とプレート斜面（２
２ｓ）は平行である〕より小さ過ぎると、バッフルプレ
ート（２０）の斜面（２２ｓ）に沿って流れるガス流
（ＧD ）〔図３〕が、ノズル下顎斜面（１２）とプレー
ト斜面（２２ｓ）との空間領域内で渦流を生じやすく、
その渦流によりノズル（１０）から金属帯（Ｓ）に向う
噴射ガス流（Ｇ）の吹拭作用が弱められる。これと逆
に、プレート斜面（２２ｓ）の傾斜角（θ）を余り大き
くすると、プレート斜面（２２ｓ）を形成したことの効
果が乏しくなる。これらの点から、プレート斜面（２２
ｓ）の傾斜角（θ）は、９０°＋α°−５°ないし９０
°＋α°＋１５°の範囲内に設定するのが好ましい。ノ
ズルの下顎傾斜角（α）は例えば２５°であり、その場
合のプレート斜面（２２ｓ）の傾斜角（θ）の適正な範
囲は、１１０〜１３０°となる。
【０００７】バッフルプレート（２０）は、所望によ
り、図１および図２に示したように、その片側端縁部、
すなわち金属帯（Ｓ）のエッジ部（Ｅ）に近接する側の
端縁部に沿って突起条（２３）が形設される。その突起
条（２３）は、バッフルプレート（２０）の垂直面（２
１ｓ）に衝突した噴射ガス流（Ｇ）の一部が、金属帯
（Ｓ）側へ流れ込むのを抑制防止する役目を有する。バ
ッフルプレート（２０）に衝突して金属帯（Ｓ）側に流
れるガス流は、金属帯（Ｓ）に向う噴射ガス流（Ｇ）と
干渉してその吹拭作用を弱める原因となるので、これを
突起条（２３）により回避するのである。突起条（２
３）の板面からの突出幅（２３ｗ）は、約２〜８mm程度
である。
り、図１および図２に示したように、その片側端縁部、
すなわち金属帯（Ｓ）のエッジ部（Ｅ）に近接する側の
端縁部に沿って突起条（２３）が形設される。その突起
条（２３）は、バッフルプレート（２０）の垂直面（２
１ｓ）に衝突した噴射ガス流（Ｇ）の一部が、金属帯
（Ｓ）側へ流れ込むのを抑制防止する役目を有する。バ
ッフルプレート（２０）に衝突して金属帯（Ｓ）側に流
れるガス流は、金属帯（Ｓ）に向う噴射ガス流（Ｇ）と
干渉してその吹拭作用を弱める原因となるので、これを
突起条（２３）により回避するのである。突起条（２
３）の板面からの突出幅（２３ｗ）は、約２〜８mm程度
である。
【０００８】更に、バッフルプレート（２０）の突起
（２３）が形成された端縁部には、垂直板部（２１）の
下端部分に、エッジから遠ざかる向きに傾斜ないし湾曲
した形状（２４）が与えられる（図２参照）。このよう
な傾斜ないし湾曲形状部（２４）を設けることにより、
垂直面（２１ｓ）から斜面（２２ｓ）を斜降するガス流
を、矢符（ａ）のように、金属帯（Ｓ）から遠ざかる方
向に誘導し、その効果として金属帯（Ｓ）に向う噴射ガ
ス流（Ｇ）に対する干渉をより少なくすることができ
る。
（２３）が形成された端縁部には、垂直板部（２１）の
下端部分に、エッジから遠ざかる向きに傾斜ないし湾曲
した形状（２４）が与えられる（図２参照）。このよう
な傾斜ないし湾曲形状部（２４）を設けることにより、
垂直面（２１ｓ）から斜面（２２ｓ）を斜降するガス流
を、矢符（ａ）のように、金属帯（Ｓ）から遠ざかる方
向に誘導し、その効果として金属帯（Ｓ）に向う噴射ガ
ス流（Ｇ）に対する干渉をより少なくすることができ
る。
【０００９】図５は、本発明のガスワイピング装置にお
ける上記バッフルプレートの設置構造の例を示してい
る。図中、（３０）はガイドレールであり、２つのレー
ル（３１）（３２）からなる。これらは金属帯（Ｓ）の
板面を含む平面と平行な向きをなして水平に設置されて
いる。（５０）はキャリアであり、前記レール（３１）
および（３２）のそれぞれに係装されたスライドブッシ
ュ（５１）および（５２）を介して、ガイドレール（３
０）に装架されている。（５３）は、キャリア（５０）
をガイドレール（３０）に沿って進退移動させる駆動手
段としての油圧シリンダであり、そのピストンロッド
（５３1 ) はキャリア（５０）に連結されている。（５
４）は、金属帯（Ｓ）のエッジ部（Ｅ）の位置を非接触
的に検出するセンサ（代表的には光学的検出センサ）で
ある。該センサ（５４）は、金属帯（Ｓ）と干渉しない
ように、金属帯（Ｓ）を含む平面から適当な距離だけ離
れて、金属帯（Ｓ）と平行な向きをなしてキャリア（５
０）の進行方向の前方に突出してキャリア（５０）に固
定されている。金属帯（Ｓ）に向うキャリア（５０）の
前進移動において、センサ（５４）が金属帯（Ｓ）のエ
ッジ部（Ｅ）を検出すると、その検出信号を制御信号と
してキャリア（５０）の前進運動を、その位置で停止さ
せるようになっている。
ける上記バッフルプレートの設置構造の例を示してい
る。図中、（３０）はガイドレールであり、２つのレー
ル（３１）（３２）からなる。これらは金属帯（Ｓ）の
板面を含む平面と平行な向きをなして水平に設置されて
いる。（５０）はキャリアであり、前記レール（３１）
および（３２）のそれぞれに係装されたスライドブッシ
ュ（５１）および（５２）を介して、ガイドレール（３
０）に装架されている。（５３）は、キャリア（５０）
をガイドレール（３０）に沿って進退移動させる駆動手
段としての油圧シリンダであり、そのピストンロッド
（５３1 ) はキャリア（５０）に連結されている。（５
４）は、金属帯（Ｓ）のエッジ部（Ｅ）の位置を非接触
的に検出するセンサ（代表的には光学的検出センサ）で
ある。該センサ（５４）は、金属帯（Ｓ）と干渉しない
ように、金属帯（Ｓ）を含む平面から適当な距離だけ離
れて、金属帯（Ｓ）と平行な向きをなしてキャリア（５
０）の進行方向の前方に突出してキャリア（５０）に固
定されている。金属帯（Ｓ）に向うキャリア（５０）の
前進移動において、センサ（５４）が金属帯（Ｓ）のエ
ッジ部（Ｅ）を検出すると、その検出信号を制御信号と
してキャリア（５０）の前進運動を、その位置で停止さ
せるようになっている。
【００１０】（６０）は、平行４リンク機構であり、キ
ャリア（５０）側に固定されたリンク（６１）とバッフ
ルプレート側の固定リンク（６２）、および回り対偶を
する２本のリンク（６３）（６４）からなる。バッフル
プレート（２０）は平行４リンク機構（６０）を介して
キャリア（５０）に懸垂状態に取付けられている。（６
５）は、リンク（６３）（６４）の揺動範囲を規制する
手段である。図では、固定リンク（６１）に付設した突
片（６６）に調整ボルト（６７）を進退自在に取付け、
そのボルト先端部をリンク（６３）の側面に当接せしめ
た例を示している。これにより、リンク（６３）（６
４）は、支軸（Ｐ1 ）（Ｐ2 ）を支点として金属帯のエ
ッジ（Ｅ）から遠ざかる向きには揺動するが、図示の位
置より金属帯（Ｓ）に近づく向きの揺動は、調整ボルト
（６７）で阻止された状態となっている。
ャリア（５０）側に固定されたリンク（６１）とバッフ
ルプレート側の固定リンク（６２）、および回り対偶を
する２本のリンク（６３）（６４）からなる。バッフル
プレート（２０）は平行４リンク機構（６０）を介して
キャリア（５０）に懸垂状態に取付けられている。（６
５）は、リンク（６３）（６４）の揺動範囲を規制する
手段である。図では、固定リンク（６１）に付設した突
片（６６）に調整ボルト（６７）を進退自在に取付け、
そのボルト先端部をリンク（６３）の側面に当接せしめ
た例を示している。これにより、リンク（６３）（６
４）は、支軸（Ｐ1 ）（Ｐ2 ）を支点として金属帯のエ
ッジ（Ｅ）から遠ざかる向きには揺動するが、図示の位
置より金属帯（Ｓ）に近づく向きの揺動は、調整ボルト
（６７）で阻止された状態となっている。
【００１１】（７０）は、金属帯エッジ部（Ｅ）の端面
にバッフルプレート（２０）の前端縁が接触するのを防
止するガードローラである。該ガードローラ（７０）
は、バッフルプレート（２０）の前方に突出してバッフ
ルプレート（２０）に取付けられている。ガードローラ
（７０）の先端部と、バッフルプレート（２０）の先端
縁部とは水平方向に、適当な間隔（ｄ1 ) （例えば２〜
５mm程度）が与えられている。これにより、めっき操業
中に何らかの原因でバッフルプレート（２０）が金属帯
エッジ（Ｅ）に異常接近するような場合にも、ガードロ
ーラ（７０）が金属帯エッジ（Ｅ）の端面に接触（転
接）して、バッフルプレート（２０）の金属帯エッジ
（Ｅ）に対する接触（擦り接触）を防止する。
にバッフルプレート（２０）の前端縁が接触するのを防
止するガードローラである。該ガードローラ（７０）
は、バッフルプレート（２０）の前方に突出してバッフ
ルプレート（２０）に取付けられている。ガードローラ
（７０）の先端部と、バッフルプレート（２０）の先端
縁部とは水平方向に、適当な間隔（ｄ1 ) （例えば２〜
５mm程度）が与えられている。これにより、めっき操業
中に何らかの原因でバッフルプレート（２０）が金属帯
エッジ（Ｅ）に異常接近するような場合にも、ガードロ
ーラ（７０）が金属帯エッジ（Ｅ）の端面に接触（転
接）して、バッフルプレート（２０）の金属帯エッジ
（Ｅ）に対する接触（擦り接触）を防止する。
【００１２】金属帯エッジ（Ｅ）に対するガードローラ
（７０）の接触は転接であるので、バッフルプレート
（２０）が擦り接触する場合のような損傷を、金属帯エ
ッジ（Ｅ）に与えることはないが、エッジ部のめっき品
質への影響を可及的に回避するために、ガードローラ
（７０）は、常態において、金属帯エッジ（Ｅ）に対
し、僅少な離隔距離（ｄ2 ）（例えば、５〜１０mm）を
おいた非接触状態を保つように設定される。前述のよう
に、平行４リンク機構（６０）に揺動規制手段（６５）
を取付けた構造とすることは、めっき操業中に、外部振
動等が加わるような場合にも、リンク（６３）（６４）
の金属帯エッジ（Ｅ）側に向う揺動を阻止し、ガードロ
ーラ（７０）の金属帯エッジ（Ｅ）に対する接触頻度を
低減し、非接触状態をより安定に保持するのに有効であ
る。
（７０）の接触は転接であるので、バッフルプレート
（２０）が擦り接触する場合のような損傷を、金属帯エ
ッジ（Ｅ）に与えることはないが、エッジ部のめっき品
質への影響を可及的に回避するために、ガードローラ
（７０）は、常態において、金属帯エッジ（Ｅ）に対
し、僅少な離隔距離（ｄ2 ）（例えば、５〜１０mm）を
おいた非接触状態を保つように設定される。前述のよう
に、平行４リンク機構（６０）に揺動規制手段（６５）
を取付けた構造とすることは、めっき操業中に、外部振
動等が加わるような場合にも、リンク（６３）（６４）
の金属帯エッジ（Ｅ）側に向う揺動を阻止し、ガードロ
ーラ（７０）の金属帯エッジ（Ｅ）に対する接触頻度を
低減し、非接触状態をより安定に保持するのに有効であ
る。
【００１３】上記バッフルプレートを備えたガスワイピ
ング装置を使用して行う連続溶融めっき操業の開始に際
して、バッフルプレート（２０）を金属帯（Ｓ）のエッ
ジ部（Ｅ）の近傍に設置するために、キャリア（５０）
を駆動装置（５３）により金属帯（Ｓ）に向って前進さ
せる。その前進移動において、金属帯エッジ位置検出セ
ンサ（５３）がエッジ位置を検出すると、キャリア（５
０）はその位置で停止し、バッフルプレート（２０）が
金属帯（Ｓ）の側部に近接配置された状態となる。この
ときのバッフルプレート（２０）と金属帯エッジ（Ｅ）
との離隔距離ｄは、ｄ1 ＋ｄ2 に等しい。このようにバ
ッフルプレート（２０）を設置したうえ、ワイピングノ
ズル（１０）の噴射ガス流（Ｇ）による金属帯表面のワ
イピングを実施する。そのワイピング操業において、金
属帯（Ｓ）のエッジ部（Ｅ）の外側空間における噴射ガ
ス流（Ｇ）同士の衝突およびそれに伴うトラブルは、前
述したバッフルプレート（２０）の形状効果により抑制
防止され、ヘッダ圧の高い吹拭操業も効率よく遂行する
ことができる。
ング装置を使用して行う連続溶融めっき操業の開始に際
して、バッフルプレート（２０）を金属帯（Ｓ）のエッ
ジ部（Ｅ）の近傍に設置するために、キャリア（５０）
を駆動装置（５３）により金属帯（Ｓ）に向って前進さ
せる。その前進移動において、金属帯エッジ位置検出セ
ンサ（５３）がエッジ位置を検出すると、キャリア（５
０）はその位置で停止し、バッフルプレート（２０）が
金属帯（Ｓ）の側部に近接配置された状態となる。この
ときのバッフルプレート（２０）と金属帯エッジ（Ｅ）
との離隔距離ｄは、ｄ1 ＋ｄ2 に等しい。このようにバ
ッフルプレート（２０）を設置したうえ、ワイピングノ
ズル（１０）の噴射ガス流（Ｇ）による金属帯表面のワ
イピングを実施する。そのワイピング操業において、金
属帯（Ｓ）のエッジ部（Ｅ）の外側空間における噴射ガ
ス流（Ｇ）同士の衝突およびそれに伴うトラブルは、前
述したバッフルプレート（２０）の形状効果により抑制
防止され、ヘッダ圧の高い吹拭操業も効率よく遂行する
ことができる。
【００１４】図１０（１）（２）は、金属帯表面のガス
ワイピングによるめっき付着量の制御を行った溶融亜鉛
めっき鋼板について、本発明のガスワイピング装置を使
用した場合〔同図（１）〕と、従来の装置を使用した場
合〔同図（２）〕とにおけるめっき付着量の板幅方向の
分布を示している。ワイピングノズル（１０）のヘッダ
ー圧は０．３９kgf/cm2 , ライン速度は１４０mm／分，
金属帯（鋼板）の板幅９１５mm，板厚０．５mmである。
なお、本発明のガスワイピング装置におけるバッフルプ
レート（２０）は、傾斜部（２２）の傾斜角（θ）: １
１０°、端縁部の突起条の幅（２３ｗ）: ６mm（垂直板
部板厚は２mm）である。図１０の（１）と（２）との比
較により、本発明のガスワイピング装置の使用により、
金属帯（Ｓ）の左右エッジ部領域のオーバコートが抑制
されていることがわかる。
ワイピングによるめっき付着量の制御を行った溶融亜鉛
めっき鋼板について、本発明のガスワイピング装置を使
用した場合〔同図（１）〕と、従来の装置を使用した場
合〔同図（２）〕とにおけるめっき付着量の板幅方向の
分布を示している。ワイピングノズル（１０）のヘッダ
ー圧は０．３９kgf/cm2 , ライン速度は１４０mm／分，
金属帯（鋼板）の板幅９１５mm，板厚０．５mmである。
なお、本発明のガスワイピング装置におけるバッフルプ
レート（２０）は、傾斜部（２２）の傾斜角（θ）: １
１０°、端縁部の突起条の幅（２３ｗ）: ６mm（垂直板
部板厚は２mm）である。図１０の（１）と（２）との比
較により、本発明のガスワイピング装置の使用により、
金属帯（Ｓ）の左右エッジ部領域のオーバコートが抑制
されていることがわかる。
【００１５】
【発明の効果】本発明によれば、連続溶融めっきライン
の金属帯表面のめっき付着量を噴射ガス流で制御するガ
スワイピング操業において、ガス噴射による騒音を抑制
しつつ、噴射ガス流による溶融金属めっき浴面の揺動や
めっき浴の飛散を効果的に抑制防止し、ワイピングノズ
ルのヘッダ圧を高く設定してめっき付着量の少ないめっ
き製品の製造する場合のガスワイピング操業も効率よく
実施することができ、また噴射ガス流の吹拭作用をより
高めることができる。
の金属帯表面のめっき付着量を噴射ガス流で制御するガ
スワイピング操業において、ガス噴射による騒音を抑制
しつつ、噴射ガス流による溶融金属めっき浴面の揺動や
めっき浴の飛散を効果的に抑制防止し、ワイピングノズ
ルのヘッダ圧を高く設定してめっき付着量の少ないめっ
き製品の製造する場合のガスワイピング操業も効率よく
実施することができ、また噴射ガス流の吹拭作用をより
高めることができる。
【図１】本発明におけるバッフルプレートの形状を示す
外観斜視図である。
外観斜視図である。
【図２】図１のバッフルプレートの側面図である。
【図３】本発明におけるバッフルプレートに衝突した噴
射ガスの流れを模式的に示す側面図である。
射ガスの流れを模式的に示す側面図である。
【図４】本発明におけるバッフルプレートの傾斜部の傾
斜角の説明図である。
斜角の説明図である。
【図５】本発明のバッフルプレートの配設構造の例を示
す図である。
す図である。
【図６】連続溶融めっきラインの溶融めっき浴付近を示
す図である。
す図である。
【図７】連続溶融めっきラインのガスワイピング装置部
分の水平断面図である。
分の水平断面図である。
【図８】ガスワイピング装置におけるバッフルプレート
の配置を示す斜視図である。
の配置を示す斜視図である。
【図９】ガスワイピング装置のバッフルプレートに衝突
した噴射ガスの流れの模式的説明図である。
した噴射ガスの流れの模式的説明図である。
【図１０】金属帯の板幅方向におけるめっき付着量の分
布を示すグラフである。
布を示すグラフである。
１０: ワイピングノズル
１１: 噴射口（スリット）
１２: 下顎斜面
２０，２０’: バッフルプレート
２１: 垂直板部
２２: 傾斜部
２３: 突起条
２４: テーパ部
３０（３１，３２）: ガイドレール
５０: キャリア
５１，５２: スライドブッシュ
５３: キャリア進退駆動装置
５４: 金属帯エッジ位置検出センサ
６０: 平行４リンク機構
６１，６２，６３，６４: リンク
６５: 揺動規制手段
６７: 調整ボルト
７０: ガードローラ
Ｇ: 噴射ガス流
Ｍ: 溶融金属めっき浴
Ｒ: 浴中ロール
Ｓ: 金属帯
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 三輪 嘉一
大阪府堺市石津西町５番地 日新製鋼株
式会社 堺製造所内
(56)参考文献 特開 昭63−145760（ＪＰ，Ａ)
特開 平７−173596（ＪＰ，Ａ)
特開 平２−107752（ＪＰ，Ａ)
実開 平３−106352（ＪＰ，Ｕ)
特表 平２−502169（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C23C 2/00 - 2/40
Claims (3)
- 【請求項１】 溶融金属めっき浴から垂直上方に導出さ
れる金属帯の表面にガス流を噴射するワイピングノズル
（10）が、金属帯を挟んで前後両側に対向配置されてい
ると共に、金属帯の左右のエッジ部(Ｅ)の外側空間にお
ける噴射ガス流同士の衝突を遮断するバッフルプレート
（20）が、進退移動装置に取付けられて金属帯を含む平
面内で水平方向に進退移動可能なように配置されている
ガスワイピング装置において、 バッフルプレート（20）は、金属帯と平行な向きをなす
垂直板部（21）の下側縁にガス流を斜降させるための傾
斜面（22ｓ）を有する傾斜部（22）が設けられていると
共に垂直板部（21）に衝突した噴射ガスの金属帯側への
流れを阻止する突起条（23）が金属帯のエッジ部(Ｅ)に
近接する側の縁部に沿って形成されており、 バッフルプレート進退移動装置は、金属帯を含む平面と
平行な向きに水平設置されたガイドレール（30）、ガイ
ドレール（30）に装架されたキャリア（50）、キャリア
（50）をガイドレールに沿って進退移動させる駆動装置
（53）、金属帯のエッジ部を非接触検出するためのキャ
リアー（50）に取付けられた金属帯エッジ位置検出セン
サ（54）を主構成部材とし、 前記バッフルプレート（20）は、キャリア（50）に、２
つのリンク（63）（64）を有する平行4リンク機構（6
0）を介して金属帯を含む平面内での揺動が可能な懸垂
状態に取付けられており、 キャリア（50）には、金属帯エッジに近付く向きのバッ
フルプレート（20）の揺動の大きさを規制するための、
前記平行４リンク機構（60）のリンクに当接して前記揺
動を停止させる揺動規制手段（65）が取付けられている
と共に、バッフルプレート（20）には、金属帯のエッジ
部に向うバッフルプレート（20）の異常接近が生じた際
にバッフルプレート（20）より先に金属帯のエッジ端面
に当接してバッフルプレート（20）の接触を阻止するよ
うに、バッフルプレート（20）の前端縁より突出させた
ガードローラ（70）が取付けられており、 ガイドレール（30）上のキャリア（50）は、金属帯エッ
ジ位置検出センサ（54）の検出信号を制御信号として金
属帯エッジの検出位置に停止され、バッフルプ レート
（20）は、上記キャリア（50）の位置制御により、ガー
ドローラ（70）が金属帯エッジ部（Ｅ）から離れた非接
触状態を保持する位置に近接配置されることを特徴とす
る連続溶融めっき用ガスワイピング装置。 - 【請求項２】 バッフルプレート（20）の垂直板部（2
1）は、突起（23）が形成されている側の下端部分に、
金属帯エッジから遠ざかる向きに傾斜ないし湾曲した形
状を有することを特徴とする請求項１に記載の連続溶融
めっき用ガスワイピング装置。 - 【請求項３】 揺動規制手段(65)は、平行４リンク機構
（60）の固定リンクに取付けられた進退自在の調整ボル
ト(67)を有し、バッフルプレート（20）が金属帯エッジ
に近付く向きに揺動するときのリンクの側面に、前記調
整ボルトの先端が当接することによりその位置で揺動が
停止される請求項１又は２に記載の連続溶融めっき用ガ
スワイピング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01259196A JP3460009B2 (ja) | 1996-01-29 | 1996-01-29 | 連続溶融めっき用ガスワイピング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01259196A JP3460009B2 (ja) | 1996-01-29 | 1996-01-29 | 連続溶融めっき用ガスワイピング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09202954A JPH09202954A (ja) | 1997-08-05 |
| JP3460009B2 true JP3460009B2 (ja) | 2003-10-27 |
Family
ID=11809602
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP01259196A Expired - Fee Related JP3460009B2 (ja) | 1996-01-29 | 1996-01-29 | 連続溶融めっき用ガスワイピング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3460009B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100807665B1 (ko) * | 2001-12-15 | 2008-02-28 | 주식회사 포스코 | 연속 용융도금라인의 소음 제거장치 |
| JP4580267B2 (ja) * | 2005-04-11 | 2010-11-10 | 新日本製鐵株式会社 | ガスワイピング装置 |
| JP5556286B2 (ja) * | 2010-03-24 | 2014-07-23 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 溶融金属めっき鋼帯のガスワイピング装置 |
| JP5812581B2 (ja) | 2010-07-13 | 2015-11-17 | スチールプランテック株式会社 | バッフルプレートユニットおよびそれを用いたガスワイピング装置 |
| KR101449148B1 (ko) * | 2012-11-23 | 2014-10-08 | 주식회사 포스코 | 가스 와이핑 설비용 배플 장치 |
| KR101696734B1 (ko) * | 2015-11-09 | 2017-01-17 | 주식회사 포스코 | 가스 와이핑 설비용 배플장치 |
| KR102280305B1 (ko) * | 2020-03-04 | 2021-07-20 | 최경철 | 가변형 윈드브레이크 |
-
1996
- 1996-01-29 JP JP01259196A patent/JP3460009B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09202954A (ja) | 1997-08-05 |
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