JPH11217662A - ガスワイピング装置 - Google Patents
ガスワイピング装置Info
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- JPH11217662A JPH11217662A JP1994498A JP1994498A JPH11217662A JP H11217662 A JPH11217662 A JP H11217662A JP 1994498 A JP1994498 A JP 1994498A JP 1994498 A JP1994498 A JP 1994498A JP H11217662 A JPH11217662 A JP H11217662A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】溶融金属めっき浴から垂直上方に導出される金
属薄帯の表面にガスを噴射するワイピング装置におい
て、金属薄帯の左右のエッジ部外側空間に設けられたバ
ッフルプレートに衝突したガス流を溶融金属浴表面方向
に流れないようにするとともに、金属薄帯周辺より排除
する。 【解決手段】ガス誘導路１３は、バッフルプレート９の
下端からバッフルプレートの板を二股に分けて延長し、
それぞれうず巻き状に約１円周以上の周面をバッフルプ
レートの面の外側上方へ巻込んだ形状に形成されてい
る。
属薄帯の表面にガスを噴射するワイピング装置におい
て、金属薄帯の左右のエッジ部外側空間に設けられたバ
ッフルプレートに衝突したガス流を溶融金属浴表面方向
に流れないようにするとともに、金属薄帯周辺より排除
する。 【解決手段】ガス誘導路１３は、バッフルプレート９の
下端からバッフルプレートの板を二股に分けて延長し、
それぞれうず巻き状に約１円周以上の周面をバッフルプ
レートの面の外側上方へ巻込んだ形状に形成されてい
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、連続溶融亜鉛メッ
キラインの溶融めっき浴から導出される金属薄帯の表面
にガス噴射流を吹き付けて金属薄帯の表面のめっき付着
量を制御するガスワイピング装置に関し、さらに詳しく
は、金属薄帯の左右のエッジ部外側に設けられているバ
ッフルプレートに衝突するガスを適正に処理する手段を
備えたガスワイピング装置に関する。
キラインの溶融めっき浴から導出される金属薄帯の表面
にガス噴射流を吹き付けて金属薄帯の表面のめっき付着
量を制御するガスワイピング装置に関し、さらに詳しく
は、金属薄帯の左右のエッジ部外側に設けられているバ
ッフルプレートに衝突するガスを適正に処理する手段を
備えたガスワイピング装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】金属薄帯の連続溶融めっきラインでは、
図４に示すように、溶融金属めっき浴１に導入された金
属薄帯２は、浴中ロール３を介して鉛直上方に浴中から
導出される。めっき浴１の直上には、導出された金属薄
帯２のめっき付着量を制御する装置が配置されている。
図４に示すように、溶融金属めっき浴１に導入された金
属薄帯２は、浴中ロール３を介して鉛直上方に浴中から
導出される。めっき浴１の直上には、導出された金属薄
帯２のめっき付着量を制御する装置が配置されている。
【０００３】その代表的な装置として、金属薄帯２を挟
んで金属薄帯の前後面にワイピングノズル４を対向配置
して金属薄帯表面にガスの噴射流５を吹き付けて、めっ
き付着量を制御するガスワイピング装置が使用されてい
る。このガスワイピング装置の平面図を図５に示した。
ワイピングノズル４から噴出された噴射ガス流５は、図
５に示すように、金属薄帯２の左右エッジ部７の外側の
空間領域８で向流衝突する。このため、ガス流の乱れが
生じて金属薄帯２のエッジ部７の表面のワイピング量を
弱め、エッジ部７近傍のめっき付着量が過剰となるほ
か、著しい騒音が発生する。
んで金属薄帯の前後面にワイピングノズル４を対向配置
して金属薄帯表面にガスの噴射流５を吹き付けて、めっ
き付着量を制御するガスワイピング装置が使用されてい
る。このガスワイピング装置の平面図を図５に示した。
ワイピングノズル４から噴出された噴射ガス流５は、図
５に示すように、金属薄帯２の左右エッジ部７の外側の
空間領域８で向流衝突する。このため、ガス流の乱れが
生じて金属薄帯２のエッジ部７の表面のワイピング量を
弱め、エッジ部７近傍のめっき付着量が過剰となるほ
か、著しい騒音が発生する。
【０００４】その対策として、図６に斜視図で示すよう
に、金属薄帯２の左右エッジ部７の外側に、金属薄帯２
を含む平面と面を一致させるようにバッフルプレート９
を配置し、噴射ガス流同士の衝突を遮断するようにして
いる。また、金属薄帯２は板幅が変化するので、バッフ
ルプレート９は金属薄帯２の板幅に応じて移動できるよ
うに進退移動装置に取り付けられ、エッジ部７の位置に
追従して位置決めするように構成されている。
に、金属薄帯２の左右エッジ部７の外側に、金属薄帯２
を含む平面と面を一致させるようにバッフルプレート９
を配置し、噴射ガス流同士の衝突を遮断するようにして
いる。また、金属薄帯２は板幅が変化するので、バッフ
ルプレート９は金属薄帯２の板幅に応じて移動できるよ
うに進退移動装置に取り付けられ、エッジ部７の位置に
追従して位置決めするように構成されている。
【０００５】さらに最近では、バッフルプレート９の垂
直面に衝突したガス流のうち下向ガス流６が溶融金属浴
の表面に衝突して浴面から溶融金属が飛散するのを防ぐ
ため、図７に示すようにバッフルプレート９の下端にブ
ロック１０又はプレート１１からなる突起物を設けて下
向ガス流６の向きを変える提案がなされているが、ガス
流は金属薄帯周辺で循環して留まることが多く、効果は
完全とは言い難いものであった。
直面に衝突したガス流のうち下向ガス流６が溶融金属浴
の表面に衝突して浴面から溶融金属が飛散するのを防ぐ
ため、図７に示すようにバッフルプレート９の下端にブ
ロック１０又はプレート１１からなる突起物を設けて下
向ガス流６の向きを変える提案がなされているが、ガス
流は金属薄帯周辺で循環して留まることが多く、効果は
完全とは言い難いものであった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】バッフルプレートの垂
直面に衝突した噴射ガス流のうち下向ガス流は溶融金属
浴表面に衝突すると、浴面からの溶融金属の飛散を生じ
たり、浴面揺動による溶融金属の酸化消耗を生じたりす
る。また、ガス流の一部は金属薄帯表面付近のガス流の
乱れを発生させ、ワイピングノズルの詰まりや、金属薄
帯エッジからの溶融金属の飛散を生じ、ノズルと金属薄
帯表面との距離の接近を妨げ、操業に支障を生ずる問題
があった。
直面に衝突した噴射ガス流のうち下向ガス流は溶融金属
浴表面に衝突すると、浴面からの溶融金属の飛散を生じ
たり、浴面揺動による溶融金属の酸化消耗を生じたりす
る。また、ガス流の一部は金属薄帯表面付近のガス流の
乱れを発生させ、ワイピングノズルの詰まりや、金属薄
帯エッジからの溶融金属の飛散を生じ、ノズルと金属薄
帯表面との距離の接近を妨げ、操業に支障を生ずる問題
があった。
【０００７】本発明は、このような問題を解決するため
に、バッフルプレートに衝突したガス流を溶融金属浴表
面方向に流れないようにするとともに、金属薄帯周辺よ
り排除することを目的とする。
に、バッフルプレートに衝突したガス流を溶融金属浴表
面方向に流れないようにするとともに、金属薄帯周辺よ
り排除することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するためになされたもので、その技術手段は、溶融金
属めっき浴から垂直上方に導出される金属薄帯の表面に
ガスを噴射するワイピング装置において、金属薄帯の左
右のエッジ部外側空間に設けられたバッフルプレートの
下端又は下端及び上端に、バッフルプレートに噴射され
たガスを金属薄帯から離隔する横方向へ誘導する手段を
備えたことを特徴とするガスワイピング装置を提供する
ものである。
成するためになされたもので、その技術手段は、溶融金
属めっき浴から垂直上方に導出される金属薄帯の表面に
ガスを噴射するワイピング装置において、金属薄帯の左
右のエッジ部外側空間に設けられたバッフルプレートの
下端又は下端及び上端に、バッフルプレートに噴射され
たガスを金属薄帯から離隔する横方向へ誘導する手段を
備えたことを特徴とするガスワイピング装置を提供する
ものである。
【０００９】前記誘導する手段としては、種々の方策を
用いることができるが、簡易で好適な手段としては、バ
ッフルプレート面から滑らかな１円周以上の周面を有す
るうず巻き面を形成してバッフルプレートから突出した
曲板からなり、金属薄帯側の端部を閉止した横行きガス
誘導路をバッフルプレートの下端又は下端及び上端に設
けることである。このように形成すると、ガス流れが旋
回流となって円滑に側方に排除され、金属薄帯側に流れ
るガスを完全になくすることができ確実にガスを金属薄
帯周辺から排除することができ、好適である。さらに、
前記横行きガス誘導路は、金属薄帯側から外側にラッパ
状に断面拡大した形状とすると一層好適である。
用いることができるが、簡易で好適な手段としては、バ
ッフルプレート面から滑らかな１円周以上の周面を有す
るうず巻き面を形成してバッフルプレートから突出した
曲板からなり、金属薄帯側の端部を閉止した横行きガス
誘導路をバッフルプレートの下端又は下端及び上端に設
けることである。このように形成すると、ガス流れが旋
回流となって円滑に側方に排除され、金属薄帯側に流れ
るガスを完全になくすることができ確実にガスを金属薄
帯周辺から排除することができ、好適である。さらに、
前記横行きガス誘導路は、金属薄帯側から外側にラッパ
状に断面拡大した形状とすると一層好適である。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態を図面を
参照して説明する。図１は実施例のバッフルプレートの
側面図、図２は、そのＡ−Ａ断面図である。溶融金属め
っき浴１から垂直上方に導出される金属薄帯２の表面に
ガス流５を噴射するワイピングノズル４が、金属薄帯２
を挟んで前後に対向して配置されている。金属薄帯２の
左右のエッジ部７の外側空間８に噴射ガス流同士の衝突
を遮断するバッフルプレート９が移動装置に取り付けら
れている。バッフルプレート９は、金属薄帯２を含む平
面内で水平方向に進退移動可能なように配置されてい
る。
参照して説明する。図１は実施例のバッフルプレートの
側面図、図２は、そのＡ−Ａ断面図である。溶融金属め
っき浴１から垂直上方に導出される金属薄帯２の表面に
ガス流５を噴射するワイピングノズル４が、金属薄帯２
を挟んで前後に対向して配置されている。金属薄帯２の
左右のエッジ部７の外側空間８に噴射ガス流同士の衝突
を遮断するバッフルプレート９が移動装置に取り付けら
れている。バッフルプレート９は、金属薄帯２を含む平
面内で水平方向に進退移動可能なように配置されてい
る。
【００１１】本発明は、このようなガスワイピング装置
において、噴射ガス流が衝突するバッフルプレート９の
下端に、下向ガス流６を捕捉して金属薄帯２から離隔す
る方向へ導くうず巻き状の横行きガス誘導路１３を形成
している。図２ではこのガス誘導路１３は、バッフルプ
レート９の下端からバッフルプレート９の板を二股に分
けて延長し、それぞれうず巻き状に約１円周以上の周面
をバッフルプレートの面の外側上方へ巻込んだ形状を示
している。このガス誘導路１３には金属薄帯側端部を塞
ぐ蓋２０が設けられている。
において、噴射ガス流が衝突するバッフルプレート９の
下端に、下向ガス流６を捕捉して金属薄帯２から離隔す
る方向へ導くうず巻き状の横行きガス誘導路１３を形成
している。図２ではこのガス誘導路１３は、バッフルプ
レート９の下端からバッフルプレート９の板を二股に分
けて延長し、それぞれうず巻き状に約１円周以上の周面
をバッフルプレートの面の外側上方へ巻込んだ形状を示
している。このガス誘導路１３には金属薄帯側端部を塞
ぐ蓋２０が設けられている。
【００１２】上方からバッフルプレート９の鉛直面に沿
って流下してきた下向ガス流６は、このガス誘導路１３
内に流入し、旋回しつつバッフルプレート９の側方に流
れ、溶融金属浴面及び金属薄帯周辺から完全に排除され
る。うず巻きを１円周（１回り）以上としたのは、ガス
誘導路１３内の旋回流が下向ガス流６の流入を妨げない
ようにするためである。ガス誘導路１３は、バッフルプ
レートの下端に設けるが、上端にも同様のガス排出路を
設ければ、金属薄帯付近のガス流の乱れはさらに改善さ
れるので好ましい。
って流下してきた下向ガス流６は、このガス誘導路１３
内に流入し、旋回しつつバッフルプレート９の側方に流
れ、溶融金属浴面及び金属薄帯周辺から完全に排除され
る。うず巻きを１円周（１回り）以上としたのは、ガス
誘導路１３内の旋回流が下向ガス流６の流入を妨げない
ようにするためである。ガス誘導路１３は、バッフルプ
レートの下端に設けるが、上端にも同様のガス排出路を
設ければ、金属薄帯付近のガス流の乱れはさらに改善さ
れるので好ましい。
【００１３】図３は、実施例のバッフルプレートまわり
の設備構成を示す図である。図３に示すように、バッフ
ルプレート９は支持ビーム１４から吊下され、支持ビー
ム１４はワイピング装置搭載フレーム１６からリニアガ
イド１７を介して吊下されている。エッジセンサ１５は
金属薄帯２のエッジ７を検出する。このエッジセンサ１
５からの信号に従ってサーボモータ１８は、ボールねじ
１９を回転させてリニアガイド１７を前進後退させ、バ
ッフルプレート９の位置をエッジ７の近傍の適正位置に
保持する。このバッフルプレート９の下端にガス誘導路
１３を設けている。
の設備構成を示す図である。図３に示すように、バッフ
ルプレート９は支持ビーム１４から吊下され、支持ビー
ム１４はワイピング装置搭載フレーム１６からリニアガ
イド１７を介して吊下されている。エッジセンサ１５は
金属薄帯２のエッジ７を検出する。このエッジセンサ１
５からの信号に従ってサーボモータ１８は、ボールねじ
１９を回転させてリニアガイド１７を前進後退させ、バ
ッフルプレート９の位置をエッジ７の近傍の適正位置に
保持する。このバッフルプレート９の下端にガス誘導路
１３を設けている。
【００１４】
【実施例】本発明のガスワイピング装置のバッフルプレ
ートは、図１、図２に示すようにバッフルプレート９の
鉛直面板１２と、その下端部を表裏二股に延長し、それ
ぞれうず巻き状に１円周（１回り）以上外側上方へ巻き
込み、金属薄帯側の開口を塞いだガス誘導路１３で構成
される。
ートは、図１、図２に示すようにバッフルプレート９の
鉛直面板１２と、その下端部を表裏二股に延長し、それ
ぞれうず巻き状に１円周（１回り）以上外側上方へ巻き
込み、金属薄帯側の開口を塞いだガス誘導路１３で構成
される。
【００１５】ガス誘導路１３の大きさはワイピングノズ
ル４や浴面との接近等の物理的制約があるが、ガス流速
が５０ｍ／ｓ程度になるように選ぶことが望ましい。実
施例では、浴面からノズルまでの高さによる制約がある
ので、ガス誘導路の直径を約１００ｍｍφとし、誘導路
のうず巻きの入口の隙間は１０ｍｍとした。図３は、バ
ッフルプレートと移動装置等の周辺設備との関係を示し
たものである。バッフルプレート１３を支持する支持ビ
ーム１４は、先端に金属薄帯２のエッジ７の位置を検出
するエッジセンサ１５を備えている。バッフルプレート
１３はワイピングノズル装置搭載フレーム１６からリニ
アガイド１７を介して前進後退自在に支持されている。
そして、サーボモータ１８によって駆動されるボールね
じ１９により、バッフルプレート９の先端が金属薄帯の
エッジ７から所定の隙間を保って追従するように、位置
制御される。
ル４や浴面との接近等の物理的制約があるが、ガス流速
が５０ｍ／ｓ程度になるように選ぶことが望ましい。実
施例では、浴面からノズルまでの高さによる制約がある
ので、ガス誘導路の直径を約１００ｍｍφとし、誘導路
のうず巻きの入口の隙間は１０ｍｍとした。図３は、バ
ッフルプレートと移動装置等の周辺設備との関係を示し
たものである。バッフルプレート１３を支持する支持ビ
ーム１４は、先端に金属薄帯２のエッジ７の位置を検出
するエッジセンサ１５を備えている。バッフルプレート
１３はワイピングノズル装置搭載フレーム１６からリニ
アガイド１７を介して前進後退自在に支持されている。
そして、サーボモータ１８によって駆動されるボールね
じ１９により、バッフルプレート９の先端が金属薄帯の
エッジ７から所定の隙間を保って追従するように、位置
制御される。
【００１６】
【発明の効果】本発明によれば、連続溶融めっきライン
において、ガス噴射による騒音を抑制し、溶融金属浴の
表面からの飛散を防止し、ワイピング装置を高圧力、最
短ノズル距離の条件で操業することができ、めっきの厚
さの不均一を効果的に抑止して、薄目付でかつ欠陥のな
い溶融めっき金属薄帯製品を製造することができる。
において、ガス噴射による騒音を抑制し、溶融金属浴の
表面からの飛散を防止し、ワイピング装置を高圧力、最
短ノズル距離の条件で操業することができ、めっきの厚
さの不均一を効果的に抑止して、薄目付でかつ欠陥のな
い溶融めっき金属薄帯製品を製造することができる。
【図１】本発明のバッフルプレート側面図である。
【図２】本発明のバッフルプレート断面図である。
【図３】本発明のバッフルプレートまわりの設備構成を
示す図である。
示す図である。
【図４】連続溶融めっき設備のめっき浴付近の説明図で
ある。
ある。
【図５】連続溶融めっき設備のガスワイピング装置付近
の水平断面図である。
の水平断面図である。
【図６】ガスワイピング装置におけるバッフルプレート
の配置を示す斜視図である。
の配置を示す斜視図である。
【図７】ガス流制御ブロックのイメージ図である。
１ 溶融金属めっき浴 ２ 金属薄帯 ３ 浴中ロール ４ ガスワイピングノズル ５ 噴射ガス流 ６ 下向ガス流 ７ エッジ ８ エッジ外側空間 ９ バッフルプレート １２ 鉛直面板 １３ ガス誘導路 １４ 支持ビーム １５ エッジセンサ １６ ワイピング装置搭載フレーム １７ リニアガイド １８ サーボモータ １９ ボールネジ
Claims (3)
- 【請求項１】 溶融金属めっき浴から垂直上方に導出さ
れる金属薄帯の表面にガスを噴射するワイピング装置に
おいて、金属薄帯の左右のエッジ部外側空間に設けられ
たバッフルプレートの下端又は下端及び上端に、バッフ
ルプレートに噴射されたガスを金属薄帯から離隔する横
方向へ誘導する手段を備えたことを特徴とするガスワイ
ピング装置。 - 【請求項２】 前記誘導する手段は、滑らかな１円周以
上の周面を有するうず巻き面を形成してバッフルプレー
ト面から突出した曲板からなり、金属薄帯側の端部を閉
止した横行きガス誘導路であることを特徴とする請求項
１記載のガスワイピング装置。 - 【請求項３】 前記横行きガス誘導路は、金属薄帯側か
ら外側にラッパ状に断面拡大した形状であることを特徴
とする請求項２に記載のガスワイピング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1994498A JPH11217662A (ja) | 1998-01-30 | 1998-01-30 | ガスワイピング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1994498A JPH11217662A (ja) | 1998-01-30 | 1998-01-30 | ガスワイピング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11217662A true JPH11217662A (ja) | 1999-08-10 |
Family
ID=12013327
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1994498A Withdrawn JPH11217662A (ja) | 1998-01-30 | 1998-01-30 | ガスワイピング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11217662A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006291282A (ja) * | 2005-04-11 | 2006-10-26 | Nippon Steel Corp | ガスワイピング装置 |
| KR100723125B1 (ko) | 2005-07-05 | 2007-05-30 | 주식회사 포스코 | 에어나이프 주변의 가스 포위장치 및 이를 이용한 강판의아연도금 방법 |
| KR101449148B1 (ko) * | 2012-11-23 | 2014-10-08 | 주식회사 포스코 | 가스 와이핑 설비용 배플 장치 |
| EP2634283A4 (en) * | 2010-10-26 | 2016-04-27 | Nisshin Steel Co Ltd | GAS WIPING DEVICE |
-
1998
- 1998-01-30 JP JP1994498A patent/JPH11217662A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006291282A (ja) * | 2005-04-11 | 2006-10-26 | Nippon Steel Corp | ガスワイピング装置 |
| JP4580267B2 (ja) * | 2005-04-11 | 2010-11-10 | 新日本製鐵株式会社 | ガスワイピング装置 |
| KR100723125B1 (ko) | 2005-07-05 | 2007-05-30 | 주식회사 포스코 | 에어나이프 주변의 가스 포위장치 및 이를 이용한 강판의아연도금 방법 |
| EP2634283A4 (en) * | 2010-10-26 | 2016-04-27 | Nisshin Steel Co Ltd | GAS WIPING DEVICE |
| KR101449148B1 (ko) * | 2012-11-23 | 2014-10-08 | 주식회사 포스코 | 가스 와이핑 설비용 배플 장치 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20050405 |