KR101277165B1 - 화상 기입 장치 및 이를 이용한 화상 기록 장치 - Google Patents

화상 기입 장치 및 이를 이용한 화상 기록 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 주로 1차 모드 변형에 따른 진동에 기인하는 화상 기입 유닛의 화상 기입 불량을 억제하는 것을 과제로 한다.
이러한 과제를 해결하기 위한 수단으로서, 상 유지체(11)에 대한 위치 결정 위치와 퇴피 위치에 화상 기입 유닛(1)을 이동시키는 이동 기구(2)와, 상 유지체(11)에 대한 위치 결정 위치에 화상 기입 유닛(1)을 위치 결정하는 위치 결정 기구(3)를 구비하고, 위치 결정 기구(3)는, 상 유지체(11)와 상기 화상 기입 유닛(1) 사이의 거리를 규제하는 제 1 위치 규제 기구(4)와, 상 유지체(11)의 이동 방향에 대한 상기 화상 기입 유닛(1)의 위치를 규제하는 제 2 위치 규제 기구(5)와, 상 유지체(11)의 상 이동 방향에 교차하는 폭 방향에 대한 상기 화상 기입 유닛(1)의 위치를 규제하는 제 3 위치 규제 기구(6)와, 제 1 내지 제 3 위치 규제 기구(4~6)에 의해 상 유지체(11)에 대한 위치 결정 위치에 화상 기입 유닛(1)을 위치 결정한 후에, 제 3 위치 규제 기구(6)에 의한 위치 규제를 해제하는 위치 규제 해제 기구(7)를 가진다.
진동, 화상 기입 유닛, 화상 기입 불량, 상 유지체

Description

화상 기입 장치 및 이를 이용한 화상 기록 장치{IMAGE WRITING APPARATUS AND IMAGE RECORDING APPARATUS}
본 발명은 화상 기입 장치 및 이를 이용한 화상 기록 장치에 관한 것이다.
종래에서의 화상 기입 장치로서는, 이하의 특허문헌 1~3에 기재된 것이 있다.
특허문헌 1은, 노광 장치를 상 유지체에 대해 양호한 정밀도로 위치 결정하기 위해, 감광체 드럼의 회전축 방향 및 이것에 직교하는 두 방향에서의 복수의 방향에 관해서, LED 프린트 헤드(LPH)로부터 돌출한 제 2 돌출 부재를 복수 개소에서 접촉시킴으로써 감광체 드럼에 대한 LPH의 위치를 정하는 지지 부재를 설치한 기술이다.
특허문헌 2는, 주사선의 위치 어긋남을 보정했을 때에 생기는 초점 어긋남을 작게 하기 위해, 감광체 드럼에 대해 코일 스프링에 의해 LED 프린트 헤드(LPH)를 가압하고, 감광체 드럼의 표면에 접촉 로드(rod)를 항상 접촉시켜, LPH와 감광체 드럼 사이의 거리를 일정하게 유지하는 기술이다.
특허문헌 3은, 감광체 드럼에 LED 프린트 헤드(LPH)를 조립할 때에 용이하게 포커스 맞춤을 행하기 위해, LPH의 일 단부를 중심으로 타 단부 위치를 눈금 부착 나사식 변위 조정 기구에 의해 LPH의 얼라인먼트 조정을 행하는 기술이다.
[선행 기술문헌]
[특허문헌]
[특허문헌 1] 일본국 특허 공개 제2008-143010호 공보(발명을 실시하기 위한 최선의 형태, 도 5)
[특허문헌 2] 일본국 특허 공개 제2001-130047호 공보(발명의 실시형태, 도 2)
[특허문헌 3] 일본국 특허 공개 평7-195734호 공보(발명의 실시예, 도 1)
본 발명의 기술적 과제는, 화상 기입 유닛의 주로 1차 모드 변형에 따른 진동에 기인하는 화상 기입 불량을 억제하는 화상 기입 장치 및 이를 이용한 화상 기록 장치를 제공하는 것에 있다.
청구항 1에 따른 발명은, 상 유지체 또는 기록 매체를 지지하는 지지 부재에 대향하여 배치되고, 또한 상 유지체 또는 기록 매체에 대해 화상을 기입하는 화상 기입 유닛과, 상기 상 유지체 또는 지지 부재에 대한 위치 결정 위치와 이 위치 결정 위치로부터 이간한 퇴피(退避) 위치에 상기 화상 기입 유닛을 이동시키는 이동 기구와, 상기 상 유지체 또는 지지 부재에 대한 위치 결정 위치에 화상 기입 유닛을 위치 결정하는 위치 결정 기구를 구비하고, 상기 위치 결정 기구는, 상기 상 유지체 또는 지지 부재로부터 상기 화상 기입 유닛을 향하는 제 1 방향에 따른 제 1 움직임을 규제하는 제 1 위치 규제 기구와, 상기 상 유지체 또는 지지 부재의 회전축 방향과 상기 제 1 방향과 직행하는 제 2 방향에 따른 제 2 움직임을 규제하는 제 2 위치 규제 기구와, 상기 상 유지체 또는 지지 부재의 회전축 방향에 평행한 제 3 방향에 따른 제 3 움직임을 규제하는 제 3 위치 규제 기구와, 제 1 내지 제 3 위치 규제 기구에 의해 상기 상 유지체 또는 지지 부재에 대한 위치 결정 위치에 상기 화상 기입 유닛을 위치 결정한 후에 상기 제 3 움직임의 규제를 해제하는 위치 규제 해제 기구를 가지는 것을 특징으로 하는 화상 기입 장치이다.
청구항 2에 따른 발명은, 상 유지체 또는 기록 매체를 지지하는 지지 부재에 대향하여 배치되고, 또한 상 유지체 또는 기록 매체에 대해 화상을 기입하는 화상 기입 유닛과, 상기 상 유지체 또는 지지 부재에 대한 위치 결정 위치에 화상 기입 유닛을 이동시키는 이동 기구와, 상기 상 유지체 또는 지지 부재에 대한 위치 결정 위치에 화상 기입 유닛을 위치 결정하는 위치 결정 기구를 구비하고, 상기 위치 결정 기구는, 상기 상 유지체 또는 지지 부재로부터 상기 화상 기입 유닛을 향하는 제 1 방향에 따른 제 1 움직임을 규제하는 제 1 위치 규제 기구와, 상기 상 유지체 또는 지지 부재의 회전축 방향과 상기 제 1 방향과 직행하는 제 2 방향에 따른 제 2 움직임을 규제하는 제 2 위치 규제 기구와, 상기 상 유지체 또는 지지 부재의 회전축 방향에 평행한 제 3 방향에 따른 제 3 움직임을 규제한 후, 제 1 위치 규제 기구 및 제 2 위치 규제 기구에 의한 위치 규제가 유지되면서 상기 제 3 움직임의 규제가 해제되는 제 3 위치 규제 기구를 가지는 것을 특징으로 하는 화상 기입 장치이다.
청구항 3에 따른 발명은, 청구항 1 또는 2에 따른 화상 기입 장치에서, 상기 이동 기구는, 제 2 위치 규제 기구 및 제 3 위치 규제 기구에 의한 상기 제 3 움직임의 규제 후에, 제 1 위치 규제 기구에 의한 상기 제 1 움직임의 규제를 가능하게 하도록, 화상 기입 유닛을 이동시키는 것인 것을 특징으로 하는 화상 기입 장치이다.
청구항 4에 따른 발명은, 청구항 1 또는 2에 따른 화상 기입 장치에서, 제 1 위치 규제 기구는, 화상 기입 유닛측에 피위치 규제 부재를 가지고, 화상 기입 유 닛이 위치 결정 위치에 위치 결정될 때에 상 유지체 또는 지지 부재가 배설(配設)되는 기록 장치 본체측에 상기 피위치 규제 부재가 접촉하는 위치 규제 부재를 가지는 것을 특징으로 하는 화상 기입 장치이다.
청구항 5에 따른 발명은, 청구항 4에 따른 화상 기입 장치에서, 제 1 위치 규제 기구는 위치 규제 부재에 대해 피위치 규제 부재가 가압되는 가압 부재를 가지는 것을 특징으로 하는 화상 기입 장치이다.
청구항 6에 따른 발명은, 청구항 1 또는 2에 따른 화상 기입 장치에서, 제 1 내지 제 3 위치 규제 기구는 피위치 규제 부재가 위치 규제 부재에 접촉하는 부위를 곡면부로서 형성한 것을 특징으로 하는 화상 기입 장치이다.
청구항 7에 따른 발명은, 청구항 1 또는 2에 따른 화상 기입 장치에서, 제 3 위치 규제 기구는, 화상 기입 유닛측에 피위치 규제 부재를 가지고, 상 유지체 또는 지지 부재가 배설되는 기록 장치 본체측에 상기 피위치 규제 부재가 접촉하고, 또한 탄성 변형에 의한 변위에 따라 피위치 규제 부재로부터 이간하는 위치 규제 부재를 가지는 것인 것을 특징으로 하는 화상 기입 장치이다.
청구항 8에 따른 발명은, 청구항 1 또는 2에 따른 화상 기입 장치에서, 제 3 위치 규제 기구는, 상기 이동 기구에 의한 화상 기입 유닛의 이동 동작에 따라, 화상 기입 유닛의 위치 규제 동작 및 그 해제 동작을 실시하는 것인 것을 특징으로 하는 화상 기입 장치이다.
청구항 9에 따른 발명은, 청구항 8에 따른 화상 기입 장치에서, 제 1 내지 제 3 위치 규제 기구에 의해, 상기 상 유지체 또는 지지 부재에 대한 위치 결정 위 치에 상기 화상 기입 유닛을 위치 결정한 후에 상기 제 3 위치 규제 기구에 의한 위치 규제를 해제하는 위치 규제 해제 기구를 더 구비하고, 위치 규제 해제 기구는 이동 기구와 함께 이동하는 해제 부재를 가지고, 이 해제 부재에 의해 상기 제 3 위치 규제 기구에 의한 화상 기입 유닛의 위치 규제 해제 동작을 실시하는 것인 것을 특징으로 하는 화상 기입 장치이다.
청구항 10에 따른 발명은, 기록 장치 본체에 배설되는 상 유지체 또는 기록 매체를 지지하는 지지 부재와, 이 상 유지체에 화상을 기입하는 청구항 1 또는 2에 기재된 화상 기입 장치를 구비한 것을 특징으로 하는 화상 기록 장치이다.
청구항 1, 2에 따른 발명에 의하면, 주로 1차 모드 변형에 따른 진동에 기인하는 화상 기입 유닛의 화상 기입 불량을 억제할 수 있다.
청구항 3에 따른 발명에 의하면, 본 구성을 가지지 않는 경우와 비교하여, 화상 기입 유닛에 의한 화상 도트의 크기를 균일하게 할 수 있다.
청구항 4에 따른 발명에 의하면, 본 구성을 가지지 않는 경우와 비교하여, 각 위치 규제 기구를 간단하게 구축할 수 있다.
청구항 5에 따른 발명에 의하면, 본 구성을 가지지 않는 경우와 비교하여, 각 위치 규제 기구에 의한 화상 기입 유닛의 위치 규제를 안정시킬 수 있다.
청구항 6에 따른 발명에 의하면, 본 구성을 가지지 않는 경우와 비교하여, 각 위치 규제 기구에 의한 화상 기입 유닛의 위치 규제 정밀도를 향상시킬 수 있다.
청구항 7에 따른 발명에 의하면, 본 구성을 가지지 않는 경우와 비교하여, 제 3 위치 규제 기구에 의한 위치 규제 해제를 간단하게 실현할 수 있다.
청구항 8에 따른 발명에 의하면, 이동 기구에 의한 화상 기입 유닛의 이동 동작만으로, 제 3 위치 규제 기구에 의한 위치 규제 동작 및 그 규제 해제를 간단하게 실현할 수 있다.
청구항 9에 따른 발명에 의하면, 이동 기구에 의한 화상 기입 유닛의 이동 동작만으로, 위치 규제 해제 기구에 의한 위치 규제 해제를 간단하게 실현할 수 있다.
청구항 10에 따른 발명에 의하면, 주로 1차 모드 변형에 따른 진동에 기인하는 화상 기입 유닛의 화상 기입 불량을 억제하는 것이 가능한 화상 기록 장치를 용이하게 구축할 수 있다.
◎ 실시형태의 개요
도 1의 (a)는 본 발명이 적용된 화상 기록 장치의 실시형태의 개요를 나타내는 설명도이다.
동일 도면에서, 화상 기록 장치는 기록 장치 본체에 배설(配設)되는 상 유지체(11)와, 이 상 유지체(11)에 화상을 기입하는 화상 기입 장치(10)를 구비한 것이다.
본 실시형태에서, 화상 기입 장치(10)는, 기록 장치 본체측에 배설되는 상 유지체(11)에 대향해서 배치되고, 또한 상 유지체(11)에 대해 화상을 기입하는 화 상 기입 유닛(1)과, 상기 상 유지체(11)에 대한 위치 결정 위치와 이 위치 결정 위치로부터 이간한 퇴피 위치에 상기 화상 기입 유닛(1)을 이동시키는 이동 기구(2)와, 상기 상 유지체(11)에 대한 위치 결정 위치에 화상 기입 유닛(1)을 위치 결정하는 위치 결정 기구(3)를 구비하고, 상기 위치 결정 기구(3)는, 상기 상 유지체(11)와 상기 화상 기입 유닛(1) 사이의 거리를 규제하는 제 1 위치 규제 기구(4)와, 상기 상 유지체(11)의 상 이동 방향에 대한 상기 화상 기입 유닛(1)의 위치를 규제하는 제 2 위치 규제 기구(5)와, 상기 상 유지체(11)의 상 이동 방향에 교차하는 폭 방향에 대한 상기 화상 기입 유닛(1)의 위치를 규제하는 제 3 위치 규제 기구(6)와, 제 1 내지 제 3 위치 규제 기구(4~6)에 의해 상기 상 유지체(11)에 대한 위치 결정 위치에 상기 화상 기입 유닛(1)을 위치 결정한 후에 상기 제 3 위치 규제 기구(6)에 의한 위치 규제를 해제하는 위치 규제 해제 기구(7)를 가지는 것이다.
이러한 기술적 수단에서, 화상 기입 유닛(1)으로서는, 예를 들면 전자 사진 방식의 화상 형성 장치에서 사용되는 LED 프린터 헤드(상 유지체의 폭 방향을 따라 화상 단위마다 발광 소자(LED)가 배열되는 광 조사 화상 기입 유닛)가 대표적이지만, 이것에 한정되는 것이 아니고, 예를 들면 잉크젯 방식의 인자(印字) 헤드도 포함된다.
여기에서, 상 유지체(11)란, 예를 들면 화상 기입 유닛(1)이 LED 프린터 헤드인 양태에서는 감광체를 의미하고, 또한, 화상 기입 유닛(1)이 잉크젯 방식의 인자 헤드인 양태에서는, 기록 매체(용지 또는 중간 전사 매체)를 지지하는 지지 부 재를 의미한다.
또한, 이동 기구(2)로서는, 상 유지체(11)에 대한 위치 결정 위치와 퇴피 위치에 화상 기입 유닛(1)을 이동시키는 것이면 되고, 이들 두 위치 사이에서 왕복하는 양태에 한정되지 않고, 이들 이외의 위치에 화상 기입 유닛(1)을 이동시키는 것이어도 지장이 없다.
또한, 화상 기입 유닛(1)의 위치 결정 기구(3)로서는, 상 유지체(11)와의 사이의 거리, 상 유지체(11)의 상 이동 방향(상 유지체(11)가 감광체인 경우에는 감광체의 회전 방향에 상당)에 대한 위치, 상 유지체(11)의 폭 방향(상 유지체(11)가 드럼 형상 감광체인 경우에는 감광체의 축 방향에 상당)에 대한 위치에 대해서 위치 규제하는 기구(4~6)를 구비하고 있을 것을 요한다.
그리고, 위치 규제 해제 기구(7)로서는, 제 3 위치 규제 기구(6)의 위치 규제 요소(예를 들면, 피(被)위치 규제 부재, 위치 규제 부재)를 위치 규제 위치로부터 이동시키고, 위치 규제 요소에 의한 위치 규제 상태를 해제하는 것이면 적당하게 선정해도 지장이 없다.
또한, 본 실시형태에서, 이동 기구(2)의 바람직한 양태로서는, 제 2 위치 규제 기구(5) 및 제 3 위치 규제 기구(6)에 의한 화상 기입 유닛(1)의 위치 규제 후에, 제 1 위치 규제 기구(4)에 의한 화상 기입 유닛(1)의 위치 규제를 가능하게 하도록, 화상 기입 유닛(1)을 이동시키는 것을 들 수 있다. 제 1 내지 제 3 위치 규제 기구(4~6)에 의한 위치 규제의 순서는 적당하게 선정해도, 무리가 없지만, 본 양태에 의하면, 제 1 위치 규제인 상 유지체(11)와 화상 기입 유닛(1) 사이의 거리 가 정확하게 위치 규제된다.
또한, 각 위치 규제 기구(4~6)의 대표적 양태로서는, 화상 기입 유닛(1)측에 피위치 규제 부재(8)를 가지고, 상유지체(11)가 배설되는 기록 장치 본체측에 상기 피위치 규제 부재(8)가 접촉하는 위치 규제 부재(9)를 가지는 양태를 들 수 있다. 여기에서, 피위치 규제 부재(8)로서는 피위치 규제 돌기가 대표적이고, 위치 규제 부재(9)로서는 위치 규제벽(위치 규제 구멍의 가장자리부도 포함)이 대표적이다.
또한, 각 위치 규제 기구(4~6)로서는, 위치 규제 부재(9)에 대해 피위치 규제 부재(8)가 가압되는 가압 부재(도시 생략)를 가지는 양태가 바람직하다. 본 양태에서는, 가압 부재에 의한 가압력에 의해 위치 규제 부재(9)에 대해 피위치 규제 부재(8)가 눌리므로, 각 위치 규제 기구(4~6)에 의해 각 위치 규제 위치에 정확하게 위치 규제된다.
또한, 각 위치 규제 기구(4~6)의 바람직한 양태로서는, 피위치 규제 부재의 위치 규제 부재에 접촉하는 부위를 곡면부로서 형성한 것을 들 수 있다. 본 양태에서는, 피위치 규제 부재(8)의 접촉 부위가 곡면부인 것은, 위치 규제 부재(9)와의 접촉면이 적고, 그 만큼, 위치 규제 부재(9)의 표면성(表面性)이 위치 규제에 영향을 주기 어려운 점에서 바람직하다.
또한, 제 3 위치 규제 기구(6)의 대표적 양태로서는, 화상 기입 유닛(1)측에 피위치 규제 부재(8)를 가지고, 상 유지체(11)가 배설되는 기록 장치 본체 측에 상기 피위치 규제 부재(8)가 접촉하고, 또한, 탄성 변형에 의한 변위에 따라 피위치 규제 부재(8)가 이간하는 위치 규제 부재(9)를 가지는 것을 들 수 있다. 본 양태 는, 위치 규제 부재(9)가 위치 규제하는 기능 부재인 것에 더하여, 위치 규제 해제를 가능하게 하는 기능으로서, 탄성 변형에 의한 변위에 따라 피위치 규제 부재(8)가 이간하는 기능을 구비하고 있는 것이다.
또한, 제 3 위치 규제 기구(6)의 바람직한 양태로서는, 이동 기구(2)에 의한 화상 기입 유닛(1)의 이동 동작에 따라, 화상 기입 유닛(1)의 위치 규제 동작 및 그 해제 동작을 실시하는 것을 들 수 있다. 이 경우, 제 3 위치 규제 기구(6)가 이동 기구(2)에 의한 화상 기입 유닛(1)의 이동 동작에 따라, 일련의 동작을 실시하는 양태이면, 위치 규제 해제 동작을 할 때, 이동 기구(2)에 의한 이동 조작과 별도의 조작을 할 필요가 없다.
또한, 상술한 제 3 위치 규제 기구(6)에 의한 위치 규제 동작 및 위치 규제 해제 동작을 구현화하는 위치 규제 해제 기구(7)로서는, 이동 기구(2)와 함께 이동하는 해제 부재(도시 생략)를 가지고, 이 해제 부재에 의해 제 3 위치 규제 기구(6)에 의한 화상 기입 유닛(1)의 위치 규제 해제 동작을 실시하는 것을 들 수 있다. 이 경우, 이동 기구(2)와 함께 이동하는 해제 부재를 설치하는 양태이면, 이동 기구(2)의 이동 동작에 따라 위치 규제 해제 기구(7)가 움직이게 되어, 위치 규제 해제 동작을 할 때, 이동 기구(2)에 의한 이동 조작과 별도의 조작을 할 필요가 없다.
또한, 본 실시형태에 따른 화상 기입 장치(10)를 위치 결정 기구(3)에 의한 작용면에서 파악하면, 아래와 같다.
즉, 본 실시형태에 따른 화상 기입 장치(10)는, 기록 장치 본체측에 배설되 는 상 유지체(11)에 대향하여 배치되고, 또한 상 유지체(11)에 대해 화상을 기입하는 화상 기입 유닛(1)과, 상기 상 유지체(11)에 대한 위치 결정 위치에 화상 기입 유닛(1)을 이동시키는 이동 기구(2)와, 상기 상 유지체(11)에 대한 위치 결정 위치에 화상 기입 유닛(1)을 위치 결정하는 위치 결정 기구(3)를 구비하고, 상기 위치 결정 기구(3)는, 상기 상 유지체(11)와 상기 화상 기입 유닛(1) 사이의 거리를 규제하는 제 1 위치 규제 기구(4)와, 상기 상 유지체(11)의 이동 방향에 대한 상기 화상 기입 유닛(1)의 위치를 규제하는 제 2 위치 규제 기구(5)와, 상기 상 유지체(11)의 상 이동 방향에 교차하는 폭 방향에 대한 상기 화상 기입 유닛(1)의 위치를 규제한 후, 제 1 위치 규제 기구(4) 및 제 2 위치 규제 기구(5)에 의한 위치 규제가 유지되어 있는 조건에서 상기 상 유지체(11)의 폭 방향에 대한 상기 화상 기입 유닛(1)의 위치 규제가 해제되는 제 3 위치 규제 기구(6)를 가지는 것으로서 파악하는 것도 가능하다.
본 양태에서는, 화상 기입 유닛(1)은, 도 1의 (b)에 나타낸 바와 같이, 제 1 위치 규제 기구(4), 제 2 위치 규제 기구(5)에 의해 위치 규제된 상태(도면 중 M으로 나타냄)임과 동시에, 제 3 위치 규제 기구(6)에 의해 위치 규제된 후에 위치 규제가 해제된 상태(도면 중 N으로 나타냄)에서 소정의 위치 결정 위치에 위치 결정되어 있다.
이러한 위치 결정 방식을 채용하면, 비교형태에 따른 화상 기입 장치에서 생기는 화상 기입 유닛(1')의 주로 1차 모드에 따른 진동에 기인하는 화상 기입 불량이 억제된다.
여기에서, 본 실시형태에 따른 화상 기입 장치(10)의 성능을 평가하기 위해, 비교형태에 따른 화상 기입 장치(위치 규제 해제 기구(7)를 구비하고 있지 않은 양태)에 대해 화상 기입 불량이 생기는 요인에 대하여 설명한다.
도 2의 (a)에 나타낸 바와 같이, 비교형태에 따른 화상 기입 장치는, 도시하지 않은 위치 결정 기구에 의해 상 유지체(11)에 대한 위치 결정 위치에 화상 기입 유닛(1')(본 예에서는 LED 프린터 헤드)을 서로 직교하는 세 방향에서 위치 규제한 상태에서 위치 결정한 것이다.
이때, 도 2의 (b), (c)에 나타낸 바와 같이, 긴 화상 기입 유닛(1')에는 기어 등의 구동 전달계로부터의 진동이 전달되고, 이에 의해, 화상 기입 유닛(1')이 공진하면, 화상 기입 유닛(1')에는 주로 1차 모드 변형을 따른 진동(m)이 생긴다. 이 상태에서 상 유지체(11) 상에 화상을 기입하면, 도 2의 (d)에 나타낸 바와 같이, 소위 밴딩(banding)이라 불리는 농도 불균일(W)이 현저하고 화상 기입 불량이 생기는 요인으로 되고 있다.
본 실시형태에서는, 이러한 불량을 개선하기 위해서, 위치 결정 기구(3)의 구성을 개선하고, 화상 기입 유닛(1)에서 공진하는 사태를 회피하는 것을 기도한 것이다.
이하, 첨부 도면에 나타낸 실시예에 의거해서 본 발명을 보다 상세하게 설명한다.
◎ 실시형태 1
- 화상 기록 장치의 전체 구성 -
도 3은 본 발명이 적용된 화상 기록 장치의 실시형태 1의 전체 구성을 나타내는 설명도이다.
동일 도면에서, 화상 기록 장치(20)는, 장치 하우징(21) 내에 4가지의 색(본 실시형태에서는 옐로우, 마젠타, 시안, 블랙)의 화상 형성부(22)(구체적으로는, 22Y~22K)를 대략 수평한 횡 방향으로 배열하고, 그 상방에 각 화상 형성부(22)의 배열 방향을 따라 순환 반송되는 중간 전사 벨트(23)를 배설하는 한편, 장치 하우징(21)의 하방에는 기록재가 공급 가능하게 수용되는 기록재 공급 장치(24)를 배설하는 동시에, 장치 하우징(21)의 상부에는 화상 형성 완료된 기록재(S)가 배출 수용되는 기록재 배출 수용부(26)를 설치하고, 상기 기록재 공급 장치(24)로부터의 기록재(S)를 대략 연직 방향을 따라 연장되는 기록재 반송로(25)를 통해 상기 기록재 배출 수용부(26)에 배출하도록 한 것이다.
본 실시형태에서, 각 화상 형성부(22)(22Y~22K)는, 도 3에 나타낸 바와 같이, 중간 전사 벨트(23)의 순환 방향 상류측으로부터 차례로, 예를 들면 옐로우용, 마젠타용, 시안용, 블랙용(배열은 반드시 이 순번으로 한정되지 않음)의 토너 상을 형성하는 것이고, 예를 들면 드럼 형상으로 형성된 감광체(31)와, 이 감광체(31)를 미리 대전하는 대전기(32)와, 이 대전기(32)에 의해 대전된 감광체(31)에 정전 잠상을 기입하는 화상 기입 헤드(33)와, 감광체(31) 상의 정전 잠상을 각 색 토너에 의해 가시상화하는 현상기(34)와, 감광체(31) 상의 잔류 토너를 청소하는 청소기(35)를 구비하고 있다.
또한, 본 예에서는, 감광체(31)는 대전기(32), 현상기(34) 및 청소기(35)와 일체화된 화상 형성 조립체(프로세스 카트리지)로서 구성되어 있다.
또한, 중간 전사 벨트(23)는 인장 롤(231~235)에 걸쳐져 있고, 예를 들면 인장 롤(231)을 구동 롤로 해서 순환 이동하도록 되어 있다. 그리고, 각 감광체(31)에 대응한 중간 전사 벨트(23)의 이면에는 1차 전사기(51)(예를 들면, 1차 전사 롤)가 배설되고, 이 1차 전사기(51)에 토너의 대전 극성과 역극성의 전압을 인가함으로써, 감광체(31) 상의 토너 상을 중간 전사 벨트(23)측에 정전적으로 전사하도록 되어 있다.
또한, 중간 전사 벨트(23)의 이동 방향 최하류에 위치하는 화상 형성부(22K)의 하류측의 인장 롤(233)에 대응한 부위에는 2차 전사기(52)(예를 들면, 2차 전사 롤)가 배설되어 있고, 중간 전사 벨트(23) 상의 1차 전사 상을 기록재에 2차 전사(일괄 전사)하도록 되어 있다.
또한, 중간 전사 벨트(23)의 2차 전사 부위의 하류측의 인장 롤(231)에 대응한 부위에는 중간 전사 벨트(23) 상의 잔류 토너를 청소하는 중간 청소기(53)가 설치되어 있다.
또한, 본 실시형태에서는, 기록재 공급 장치(24)의 필드(61)에서 송출된 기록재(S)는, 기록재 반송로(25) 중의 적당한 수의 반송 롤(62)에 의해 반송되고, 위치 맞춤 롤(63)에 의해 위치 맞춰진 후에 2차 전사기(52)의 2차 전사 부위를 통과하고, 정착기(66)에 의해 미정착 토너 상을, 예를 들면 가열 가압 정착한 후, 배출 롤(67)을 통해 기록재 배출 수용부(26)에 배출 수용되도록 되어 있다.
- 화상 기입 헤드 ―
또한, 본 실시형태에서, 화상 기입 헤드(33)는, 도 4에 나타낸 바와 같이 감광체(31)의 축 방향을 따라 연장하는 베이스 부재(71)를 가지고, 이 베이스 부재(71)에 홀더 부재(72)를 부착하고, 이 홀더 부재(72)에는 LED(73)가 소정 피치 간격으로 배열된 기판(74)을 유지하는 동시에, 상기 홀더 부재(72) 중 기판(74)의 각 LED(73)와 감광체(31) 사이에 수속(收束) 렌즈(셀폭 렌즈(Selfoc lens))(75)를 유지하고, 기판(74)의 각 LED(73)로부터의 광을 감광체(31)를 향하여 집광 수속하도록 한 것이다. 또한, 도면 중, 부호 76은 홀더 부재(72)측에 베이스 부재(71)를 가압하는 가압 스프링이고, 베이스 부재(71)와 홀더 부재(72)는 헤드 본체(70)로서 일체화되어 있다.
또한, 화상 기입 헤드(33)는, 도 5에 나타낸 바와 같이, 예를 들면 장치 본체에 고정된 지지 브래킷(80)에 가압 스프링(81)을 통해 탄성 지지되어 있다.
- 리트랙트 기구(retracting mechanism) -
본 실시형태에서는, 화상 기입 헤드(33)는, 도 6에 나타낸 바와 같이, 감광체(31)에 대한 위치 결정 위치와 이 위치 결정 위치로부터 퇴피한 퇴피 위치 사이에서 진퇴 가능하게 이동하게 되는 리트랙트 기구(이동 기구)(100)에 의해 지지되어 있다.
이 리트랙트 기구(100)는, 화상 기입 헤드(33)의 길이 방향(감광체(31)의 축 방향에 상당)으로 연장되는 이동용 로드(101)를 가지고, 이 이동용 로드(101)에는 탄성 스프링(103)을 통해 이동용 로드(101)의 축 방향을 따라 진퇴시키는 조작 레버(102)를 연결하고, 또한, 지지 브래킷(80) 중 이동용 로드(101)의 길이 방향 양 측 부근에 대응한 부위에는 한 쌍의 회전 지지축(106)을 고정적으로 설치하는 동시에, 각 회전 지지축(106)에는 대략 타원 형상의 한 쌍의 편심 캠(eccentric cam)(104)을 긴 구멍(105)을 통해 회전 가능하게 끼워넣고, 이 편심 캠(104)에 의해 화상 기입 헤드(33)의 헤드 본체(70)를 지지하고, 또한, 상기 이동용 로드(101)에 대해 편심 캠(104)의 일부를 핀(107) 결합한 것이다.
본 실시형태에서는, 리트랙트 기구(100)는, 도 6에 나타낸 바와 같이, 조작 레버(102)를 화살표 A방향으로 잡아당기면, 탄성 스프링(103)을 통해 이동용 로드(101)가 화살표 A방향으로 잡아당겨지고, 이 상태에서, 편심 캠(104)을 장경(長徑)이 비스듬하게 경사지도록 경사 배치한다.
이때, 화상 기입 헤드(33)는, 감광체(31)에 대한 위치 결정 위치로부터 퇴피한 퇴피 위치에 배치되게 되어 있다.
- 위치 결정 기구 -
또한, 본 실시형태에서, 도 5 및 도 6에 나타낸 바와 같이, 감광체(31)에 대한 위치 결정 위치에 화상 기입 헤드(33)를 위치 결정하기 위한 위치 결정 기구(120)가 설치되어 있다.
이 위치 결정 기구(120)는, 감광체(31)와 화상 기입 헤드(33) 사이의 거리를 규제하는 제 1 위치 규제 기구(121)와, 감광체(31)의 회전 방향에 대한 화상 기입 헤드(33)의 위치를 규제하는 제 2 위치 규제 기구(122)와, 감광체(31)의 축 방향에 대한 화상 기입 헤드(33)의 위치를 규제하는 제 3 위치 규제 기구(123)를 구비하고 있다.
여기에서, 제 1 위치 규제 기구(121)는, 화상 기입 헤드(33)의 헤드 본체(70)의 길이 방향 양측부 근방에 감광체(31)측을 향해 돌출하는 피위치 규제핀(131)을 가지고, 감광체(31)측에는 감광체(31) 표면이 회전 지지되는 베어링 부재(베어링)(31a)의 외주면을 위치 규제벽(132)으로 하고, 이 위치 규제벽(132)에 대해 상기 피위치 규제핀(131)을 접촉시킴으로써 제 1 방향의 위치 규제를 실시하는 것이다.
또한, 본 예에서는, 피위치 규제핀(131)의 선단은 곡면부로서 형성되어 있어, 위치 규제벽(132)과의 접촉 면적을 적게하도록 되어 있다. 또한, 가압 스프링(81)은 위치 규제벽(132)에 피위치 규제핀(131)을 눌러 가압하는 움직임을 하도록 되어 있다.
또한, 제 2 위치 규제 기구(122)는, 화상 기입 헤드(33)의 헤드 본체(70)의 길이 방향 양측부 근방에 감광체(70) 측을 향해 돌출하는 피위치 규제핀(141, 143)을 가지는 동시에, 헤드 본체(70)의 피위치 규제핀(141)과는 반대측에도 감광체(31)로부터 멀어지는 방향을 향해 돌출하는 피위치 규제핀(142)을 가지고, 이들 피위치 규제핀(141~143)에 대응한 감광체(31)측의 프로세스 카트리지에는, 예를 들면 도 8의 (a), (b)에 나타낸 바와 같이, 각 피위치 규제핀(141~143)을 끼워넣는 위치 규제 홀더(144)를 각각 설치하고, 이 위치 규제 홀더(144)에 의해 각 피위치 규제핀(141~143)을 위치 규제하도록 되어 있다.
여기에서, 위치 규제 홀더(144)는 예를 들면 각 피위치 규제핀(141~143)을 끼워넣는 U자 형상 홈(145)을 가지고, 이 U자 형상 홈(145) 중, 예를 들면 한 쪽의 내벽을 위치 규제벽(146)으로 하는 동시에 이 위치 규제벽(146)에 대향하는 다른 쪽의 내벽에 예를 들면 판 스프링(leaf spring)(147)을 장착하고, 위치 규제벽(146)과 판 스프링(147) 사이에 각 피위치 규제핀(141~143)을 끼워둠으로써 위치 규제벽(146)에 대해 피위치 규제핀(141~143)을 3지점에서 위치 규제하도록 되어 있다.
그리고, 피위치 규제핀(141~143)은 단면이 원 형상으로서 형성되어 있어, 위치 규제벽(132)과의 접촉 면적을 적게 하도록 되어 있다.
또한, 본 실시형태에서는, 피위치 규제핀(141, 142)은 헤드 본체(70)에 1개의 핀 부재를 관통 배치함으로써 구성되어 있다. 또한, 피위치 규제핀(143)은 헤드 본체(70)에 대해 단독으로 설치하도록 해도 되지만, 본 실시형태에서는, 후술하는 제 3 위치 규제 기구(123)의 피위치 규제핀(151)과 함께 헤드 본체(70)에 1개의 핀 부재를 관통 배치함으로써 구성되어 있다.
또한, 제 3 위치 규제 기구(123)는, 화상 기입 헤드(33)의 헤드 본체(70)의 길이 방향 일 측부 근방에 감광체(31)로부터 멀어지는 방향을 향해 돌출하는 피위치 규제핀(151)을 가지고, 이 피위치 규제핀(151)에 대응한 감광체(31)측의 프로세스 카트리지에는, 탄성 변형 가능한 판 스프링으로 이루어지는 위치 규제판(152)(도 7 참조)을 설치한 것이다.
여기에서, 위치 규제판(152)은, 예를 들면 도 9의 (a), (b)에 나타낸 바와 같이, 단면이 대략 L자 형상의 탄성 판재(153)의 선단에 접힘부(154)를 형성하고, 탄성 판재(153)의 기단(基端)을 소정의 고정 부위에 고정하고, 상기 피위치 규제 핀(151)에 대향하는 개소에 탄성 변형 가능한 탄성 절곡편(折曲片)(155)을 배치하고, 이 탄성 절곡편(155)에는 리트랙트 기구(100)의 이동용 로드(101)의 이동 방향으로 연장되는 긴 구멍 형상의 위치 규제 구멍(156)을 개방 설치하고, 이 위치 규제 구멍(156)에 상기 피위치 규제핀(151)의 선단부를 삽입 배치한 것이다. 또한, 본 예에서는, 피위치 규제핀(151)은 단면이 원 형상으로, 또한 선단부가 곡면부로서 형성되어 있다.
그리고, 본 예에서는, 도 6에 나타낸 바와 같이, 리트랙트 기구(100)의 조작 레버(102)를 화살표 A방향으로 잡아당기면, 화상 기입 헤드(33)는 위치 결정 위치로부터 퇴피 위치로 퇴피되지만, 이때, 제 3 위치 규제 기구(123)는, 위치 규제판(152)의 위치 규제 구멍(156)의 일단에 피위치 규제핀(151)을 접촉 배치하도록 되어 있어, 감광체(31)의 축 방향에 대한 위치를 규제하도록 되어 있다.
또한, 본 실시형태에서는, 위치 결정 기구(120)는, 제 1 내지 제 3 위치 규제 기구(131~123)에 의해 감광체(31)에 대한 위치 결정 위치에 화상 기입 헤드(33)를 위치 결정한 후에 제 3 위치 규제 기구(123)에 의한 위치 규제를 해제하는 위치 규제 해제 기구(124)를 구비하고 있다.
이 위치 규제 해제 기구(124)는, 도 9의 (a), (b)에 나타낸 바와 같이, 리트랙트 기구(100)의 조작 레버(102)에 대략 L자 형상의 해제 레버(160)를 일체적으로 설치하는 동시에, 이 해제 레버(160)의 탄성 절곡편(155)에 대향하는 부위에는 대략 반구 형상의 볼록부(161)를 설치하고, 제 3 위치 규제 기구(123)의 탄성 절곡편(155) 중 접힘부(154) 근방에는 상기 대략 반구 형상의 볼록부(161)를 접촉시키 도록 하고, 도 7에 나타낸 바와 같이, 조작 레버(102)를 화살표 B방향으로 이동시키면, 상기 해제 레버(160)의 이동에 따라 해제 레버(160)가 볼록부(161)를 통해 탄성 절곡편(155)을 하방으로 탄성 변형시키고, 이에 따라, 탄성 절곡편(155)의 위치 규제 구멍(156)으로부터 상기 피위치 규제핀(151)을 이탈(이간)시키도록 되어 있다.
또한, 탄성 절곡편(155)의 접힘부(154)는 강성이 높기 때문에, 해제 레버(160), 볼록부(161)에 의해 탄성 절곡편(155)은 일체적으로 하방으로 밀어 내려지고, 그 만큼, 피위치 규제핀(151)의 위치 규제 구멍(156)으로부터의 이탈 동작은 안정적으로 된다. 또한, 볼록부(161)는 해제 레버(160)측에 설치되어 있지만, 이것에 한정되는 것은 아니고, 해제 레버(160)측이 아니라 탄성 절곡편(155)측에 설치되도 되고, 또는 양자에 각각 설치되도록 해도 된다.
이어서, 본 실시형태에 따른 화상 기입 헤드의 위치 결정 동작 과정에 대하여 설명한다.
이제, 도 6에 나타낸 바와 같이, 리트랙트 기구(100)의 조작 레버(102)를 화살표 A방향으로 이동시키면, 화상 기입 헤드(33)는 감광체(31)에 대한 위치 결정 위치로부터 이간한 퇴피 위치에 설정되어 있다.
이때, 위치 결정 기구(120) 중, 제 1 위치 규제 기구(121)에 의한 위치 규제는 되어 있지 않지만, 제 2 위치 규제 기구(122)에 의한 위치 규제, 및 제 3 위치 규제 기구(123)에 의한 위치 규제가 되어 있다. 이 때문에, 화상 기입 헤드(33)는, 위치 결정 기구(120) 중 제 2, 제 3 위치 규제 기구(122, 123)에 의한 위치 규 제가 되어 있지만, 감광체(31)에 대한 위치 결정 위치에는 위치 결정되어 있지 않다.
이 후, 감광체(31)에 대한 위치 결정 위치에 화상 기입 헤드(33)를 위치 결정하기 위해서는, 도 7의 (a), (b)에 나타낸 바와 같이, 리트랙트 기구(100)의 조작 레버(102)를 화살표 B방향으로 이동시키면 된다.
이때, 리트랙트 기구(100)는, 도 7의 (a)에 나타낸 바와 같이, 조작 레버(102)의 움직임에 추종해서 이동용 로드(101)가 화살표 B방향으로 이동한다. 그러면, 경사 배치되어 있던 편심 캠(104)이 점차적으로 기립 자세로 변화해서, 화상 기입 헤드(33)가 감광체(31)측에 접근해 간다. 그리고, 제 1 위치 규제 기구(121)의 피위치 규제핀(131)이 베어링 부재(31a)의 위치 규제벽(132)에 접촉하고, 또한, 가압 스프링(81)의 가압력에 의해 위치 규제벽(132)에 피위치 규제핀(131)이 눌려지고, 이 상태에서, 제 1 위치 규제 기구(121)에 의한 위치 규제가 이루어지고, 감광체(31)와 화상 기입 헤드(33)의 거리가 일정하게 유지되고, 화상 기입 헤드(33)의 초점 위치 맞춤이 이루어진다.
이 상태에서, 화상 기입 헤드(33)는 감광체(31)측에 접근하도록 이동해 가지만, 제 2 위치 규제 기구(122)에 의한 위치 규제는 계속해서 실시되고, 또한 제 3 위치 규제 기구(123)는, 화상 기입 헤드(33)가 감광체(31)측에 접근 이동함에 따라, 도 7의 (a) 및 도 9의 (a)에 나타낸 바와 같이, 피위치 규제핀(151)이 상방으로 이동하지만, 위치 규제 구멍(156)으로부터 이탈하지는 않고, 제 3 위치 규제 기구(123)에 의한 위치 규제도 계속해서 실시된다.
이 때문에, 도 7의 (a)에 나타낸 상태에서는, 화상 기입 헤드(33)는, 위치 결정 기구(120)인 각 위치 규제 기구(121~123)에 의해 위치 규제되어, 감광체(31)에 대한 위치 결정 위치에 위치 결정된다.
이 후, 도 7의 (b)에 나타낸 바와 같이, 리트랙트 기구(100)의 조작 레버(102)를 더 화살표 B방향으로 이동시키면, 제 1 위치 규제 기구(121)에 의한 위치 규제는 이미 완료해 있기 때문에, 이동용 로드(101)가 이동될 일은 없고, 조작 레버(102)의 이동에 따라 탄성 스프링(103)이 압축 변형한다.
한편, 조작 레버(102)의 화살표 B방향으로의 이동에 따라, 위치 규제 해제 기구(124)의 해제 레버(160)도 화살표 B방향으로 이동하고, 도 9의 (b)에 나타낸 바와 같이, 위치 규제판(152)의 탄성 절곡편(155)을 탄성 변위시켜 하방으로 밀어내린다. 이 밀어내림 양은, 탄성 절곡편(155)의 위치 규제 구멍(156)으로부터 피위치 규제핀(151)이 이탈할 경우에 필요한 탄성 변위량을 확보하도록 미리 선정되어 있으면 된다. 이 결과, 제 3 위치 규제 기구(123)에 의한 위치 규제가 해제되게 되고, 최종적으로는, 위치 결정 기구(120)는, 제 3 위치 규제 기구(123)에 의한 위치 규제는 해제되고, 제 1, 제 2 위치 규제 기구(121, 122)에 의한 위치 규제가 이루어진 상태가 된다.
이 상태에서는, 제 1 위치 규제 기구(121)에 의한 위치 규제가 이루어져 있기 때문에, 피위치 규제핀(131)과 베어링 부재(31a)의 위치 규제벽(132) 사이에는 접촉 마찰력이 작용하고 있고, 이 접촉 마찰력은 화상 기입 헤드(33)의 축방향에도 규제가 걸려 있다. 이 때문에, 제 3 위치 규제 기구(123)에 의한 위치 규제가 해 제되었다고 해도, 화상 기입 헤드(33)가 감광체(31)의 축방향을 따라 이동할 염려는 거의 없다.
또한, 본 실시형태에서는, 화상 기입 헤드(33)는, 제 3 위치 규제 기구(123)에 의한 위치 규제가 해제된 상태에서, 제 1, 제 2 위치 규제 기구(121, 122)에 의한 위치 규제가 이루어진 상태에서, 감광체(31)에 대한 위치 결정 위치에 위치 결정되어 있기 때문에, 화상 기입 헤드(33)에 기어 등으로부터 발생된 진동이 작용했다고 해도, 당해 진동 성분은 제 3 위치 규제 기구(123)에 의한 위치 규제 해제에 따라, 1차 모드 변형에 따른 진동은 적게 억제되는 것이 확인되었다.
이것은 후술하는 실시예에 의해 뒷받침된다.
[실시예]
◎ 실시예 1
실시형태 1에 따른 화상 기입 헤드의 위치 결정 구조가 채용된 양태를 실시예 1로 해서, 화상 형성 상태에 지지 구속된 화상 기입 헤드 중앙부를 기지(旣知)의 힘에 의해 진동시키고, 화상 기입 헤드 중앙부에 부착한 가속도 센서의 응답을 평가하는 타격 시험에 의해 고유주파수의 편차를 조사한 바, 도 10에 나타낸 결과가 얻어졌다.
또한, 실시예 1의 성능을 평가할 때, 비교예 1(제 3 위치 규제 기구에 대한 위치 규제 해제 기구를 구비하고 있지 않은 양태)에 대해서도 동일한 고유주파수의 편차를 조사했다.
동일 도면에 의하면, 실시예 1쪽이 비교예 1에 비해 고유주파수의 편차가 억 제되는 것이 이해된다.
또한, 비교예 1에 대해서, 공간 주파수와 속도 변동률의 특성 그래프에서, 고유주파수의 편차를 조사한 바, 도 10의 (b)에 나타낸 결과가 얻어졌다.
동일 도면에 따르면, 도면 중 화살표 W에 의해 나타낸 영역이 고유 주파수의 편차 폭을 나타낸 것이지만, 고유주파수의 편차가 큰 것이 이해된다.
도 1의 (a)는 본 발명이 적용된 화상 기록 장치의 실시형태의 개요의 위치 결정 동작 과정을 나타내는 설명도이고, 도 1의 (b)는 동일 실시형태의 개요의 위치 결정 시의 상태를 나타낸 설명도.
도 2의 (a)는 비교형태에 따른 화상 기록 장치에서 사용되는 화상 기입 장치의 단점을 나타낸 설명도이고, 도 2의 (b)는 도 2의 (a) 중 B방향에서 본 구성도이고, 도 2의 (c)는 도 2의 (a) 중 C방향에서 본 구성도이고, 도 2의 (d)는 동일 화상 기입 장치에서 기입된 화상 기입 불량의 일례를 나타내는 설명도.
도 3은 실시형태 1에 따른 화상 기록 장치의 전체 구성을 나타낸 설명도.
도 4는 실시형태 1에서 사용되는 화상 기입 장치의 일례를 나타내는 설명도.
도 5는 실시형태 1에서 사용되는 화상 기입 장치의 화상 기입 유닛과 감광체의 관계를 나타낸 설명도.
도 6은 실시형태 1에서 이용되는 화상 기입 장치의 이동 기구 및 위치 결정 기구의 일례를 나타내는 설명도.
도 7의 (a)는 실시형태의 1에 따른 화상 기입 장치의 위치 결정 동작 과정을 나타내는 설명도이고, 도 7의 (b)는 동일 화상 기립 장치의 위치 결정 시의 상태를 나타내는 설명도.
도 8의 (a)는 제 1 위치 규제 기구의 구성예를 나타내는 설명도이고, 도 8의 (b)는 도 8의 (a)의 평면 설명도.
도 9의 (a)는 제 3 위치 규제 기구의 구성예를 나타내는 설명도이고, 도 9의 (b)는 화상 기입 유닛의 제 3 위치 규제 상태로부터 규제 해제에 이르는 동작 예를 나타내는 설명도,
도 10의 (a)는 실시예 1 및 비교예 1에 따른 화상 기입 장치의 고유주파수의 편차를 나타내는 설명도이고, 도 10의 (b)는 비교예 1에 따른 화상 기입 장치의 공간 주파수 특성을 나타내는 설명도.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
1 : 화상 기입 유닛 2 : 이동 기구
3 : 위치 결정 기구 4 : 제 1 위치 규제 기구
5 : 제 2 위치 규제 기구 6 : 제 3 위치 규제 기구
7 : 위치 규제 해제 기구 8 : 피위치 규제 부재
9 : 위치 규제 부재 10 : 화상 기입 장치
11 : 상 유지체 M : 위치 규제 상태
N : 위치 규제 해제 상태

Claims (10)

  1. 상 유지체 또는 기록 매체를 지지하는 지지 부재에 대향하여 배치되고, 또한 상 유지체 또는 기록 매체에 대해 화상을 기입하는 화상 기입 유닛과,
    상기 상 유지체 또는 지지 부재에 대한 위치 결정 위치와 이 위치 결정 위치로부터 이간한 퇴피(退避) 위치에 상기 화상 기입 유닛을 이동시키는 이동 기구와,
    상기 상 유지체 또는 지지 부재에 대한 위치 결정 위치에 화상 기입 유닛을 위치 결정하는 위치 결정 기구를 구비하고,
    상기 위치 결정 기구는, 상기 상 유지체 또는 지지 부재로부터 상기 화상 기입 유닛을 향하는 제 1 방향에 따른 제 1 움직임을 규제하는 제 1 위치 규제 기구와,
    상기 상 유지체 또는 지지 부재의 회전축 방향과 상기 제 1 방향과 직행하는 제 2 방향에 따른 제 2 움직임을 규제하는 제 2 위치 규제 기구와,
    상기 상 유지체 또는 지지 부재의 회전축 방향에 평행한 제 3 방향에 따른 제 3 움직임을 규제하는 제 3 위치 규제 기구와,
    제 1 내지 제 3 위치 규제 기구에 의해 상기 상 유지체 또는 지지 부재에 대한 위치 결정 위치에 상기 화상 기입 유닛을 위치 결정한 후에 상기 제 3 움직임의 규제를 해제하는 위치 규제 해제 기구를 가지는 것을 특징으로 하는 화상 기입 장치.
  2. 상 유지체 또는 기록 매체를 지지하는 지지 부재에 대향하여 배치되고, 또한 상 유지체 또는 기록 매체에 대해 화상을 기입하는 화상 기입 유닛과,
    상기 상 유지체 또는 지지 부재에 대한 위치 결정 위치에 화상 기입 유닛을 이동시키는 이동 기구와,
    상기 상 유지체 또는 지지 부재에 대한 위치 결정 위치에 화상 기입 유닛을 위치 결정하는 위치 결정 기구를 구비하고,
    상기 위치 결정 기구는, 상기 상 유지체 또는 지지 부재로부터 상기 화상 기입 유닛을 향하는 제 1 방향에 따른 제 1 움직임을 규제하는 제 1 위치 규제 기구와,
    상기 상 유지체 또는 지지 부재의 회전축 방향과 상기 제 1 방향과 직행하는 제 2 방향에 따른 제 2 움직임을 규제하는 제 2 위치 규제 기구와,
    상기 상 유지체 또는 지지 부재의 회전축 방향에 평행한 제 3 방향에 따른 제 3 움직임을 규제한 후, 제 1 위치 규제 기구 및 제 2 위치 규제 기구에 의한 위치 규제가 유지되면서 상기 제 3 움직임의 규제가 해제되는 제 3 위치 규제 기구를 가지는 것을 특징으로 하는 화상 기입 장치.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 이동 기구는, 제 2 위치 규제 기구 및 제 3 위치 규제 기구에 의한 상기 제 3 움직임의 규제 후에, 제 1 위치 규제 기구에 의한 상기 제 1 움직임의 규제를 가능하게 하도록, 화상 기입 유닛을 이동시키는 것인 것을 특징으로 하는 화 상 기입 장치.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    제 1 위치 규제 기구는, 화상 기입 유닛측에 피위치 규제 부재를 가지고, 화상 기입 유닛이 위치 결정 위치에 위치 결정될 때에 상 유지체 또는 지지 부재가 배설(配設)되는 기록 장치 본체측에 상기 피위치 규제 부재가 접촉하는 위치 규제 부재를 가지는 것을 특징으로 하는 화상 기입 장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    제 1 위치 규제 기구는 위치 규제 부재에 대해 피위치 규제 부재가 가압되는 가압 부재를 가지는 것을 특징으로 하는 화상 기입 장치.
  6. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    제 1 내지 제 3 위치 규제 기구는 피위치 규제 부재의 위치 규제 부재에 접촉하는 부위를 곡면부로서 형성한 것을 특징으로 하는 화상 기입 장치.
  7. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    제 3 위치 규제 기구는, 화상 기입 유닛측에 피위치 규제 부재를 가지고, 상 유지체 또는 지지 부재가 배설되는 기록 장치 본체측에 상기 피위치 규제 부재가 접촉하고, 또한 탄성 변형에 의한 변위에 따라 피위치 규제 부재로부터 이간하는 위치 규제 부재를 가지는 것인 것을 특징으로 하는 화상 기입 장치.
  8. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    제 3 위치 규제 기구는, 상기 이동 기구에 의한 화상 기입 유닛의 이동 동작에 따라, 화상 기입 유닛의 위치 규제 동작 및 그 해제 동작을 실시하는 것인 것을 특징으로 하는 화상 기입 장치.
  9. 제 8 항에 있어서,
    제 1 내지 제 3 위치 규제 기구에 의해, 상기 상 유지체 또는 지지 부재에 대한 위치 결정 위치에 상기 화상 기입 유닛을 위치 결정한 후에 상기 제 3 위치 규제 기구에 의한 위치 규제를 해제하는 위치 규제 해제 기구를 더 구비하고,
    위치 규제 해제 기구는 이동 기구와 함께 이동하는 해제 부재를 가지고, 이 해제 부재에 의해 상기 제 3 위치 규제 기구에 의한 화상 기입 유닛의 위치 규제 해제 동작을 실시하는 것인 것을 특징으로 하는 화상 기입 장치.
  10. 기록 장치 본체에 배설되는 상 유지체 또는 기록 매체를 지지하는 지지 부재와,
    이 상 유지체에 화상을 기입하는 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 화상 기입 장치를 구비한 것을 특징으로 하는 화상 기록 장치.
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