KR101249107B1 - Cu-ni-si alloy to be used in electrically conductive spring material - Google Patents

Cu-ni-si alloy to be used in electrically conductive spring material Download PDF

Info

Publication number
KR101249107B1
KR101249107B1 KR1020107016770A KR20107016770A KR101249107B1 KR 101249107 B1 KR101249107 B1 KR 101249107B1 KR 1020107016770 A KR1020107016770 A KR 1020107016770A KR 20107016770 A KR20107016770 A KR 20107016770A KR 101249107 B1 KR101249107 B1 KR 101249107B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
boundary
alloy
bending
mass
twin
Prior art date
Application number
KR1020107016770A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20100095476A (en
Inventor
나오후미 마에다
Original Assignee
제이엑스 닛코 닛세키 킨조쿠 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 제이엑스 닛코 닛세키 킨조쿠 가부시키가이샤 filed Critical 제이엑스 닛코 닛세키 킨조쿠 가부시키가이샤
Publication of KR20100095476A publication Critical patent/KR20100095476A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101249107B1 publication Critical patent/KR101249107B1/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C9/00Alloys based on copper
    • C22C9/06Alloys based on copper with nickel or cobalt as the next major constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/02Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of metals or alloys
    • H01B1/026Alloys based on copper

Abstract

Ni 1.0 ∼ 4.0 질량%, Ni 에 대하여 1/6 ∼ 1/4 농도의 Si 를 함유하는 Cu-Ni-Si 계 기 합금으로서, 전체 결정립계 중의 쌍정 경계 (Σ3 경계) 의 빈도가 15 ∼ 60 % 인 기 합금. 상기 기 합금은, 추가로 Mg 0.2 % 이하, Sn 0.2 ∼ 1 %, Zn 0.2 ∼ 1 %, Co 1 ∼ 1.5 %, Cr 0.05 ∼ 0.2 % 함유해도 된다.Cu-Ni-Si-based alloy containing 1.0 to 4.0 mass% of Ni and Si at a concentration of 1/6 to 1/4 with respect to Ni, wherein the frequency of the twin crystal boundary (Σ3 boundary) in all grain boundaries is 15 to 60%. Group alloy. The base alloy may further contain Mg 0.2% or less, Sn 0.2-1%, Zn 0.2-1%, Co 1-1.5%, and Cr 0.05-0.2%.

Description

도전성 스프링재에 사용되는 Cu-Ni-Si 계 합금{CU-NI-SI ALLOY TO BE USED IN ELECTRICALLY CONDUCTIVE SPRING MATERIAL}Cu-Ni-Si-based alloy used in conductive spring materials {CU-NI-SI ALLOY TO BE USED IN ELECTRICALLY CONDUCTIVE SPRING MATERIAL}

본 발명은, 전자 부품용 도전성 스프링재에 사용되는 Cu-Ni-Si 계 합금에 관한 것으로서, 특히 커넥터, 단자, 릴레이, 스위치 등의 전자 부품에 사용되며, 강도, 굽힘 가공성 및 도전율의 밸런스가 우수한 Cu-Ni-Si 계 합금에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to Cu-Ni-Si based alloys used in conductive spring materials for electronic components, and is particularly used for electronic components such as connectors, terminals, relays, and switches, and has excellent balance of strength, bending workability, and conductivity. It relates to a Cu-Ni-Si-based alloy.

최근 전자 기기의 경박단소화에 수반하여, 단자, 커넥터 등도 소형화, 박육화가 진행되고, 강도와 굽힘 가공성이 요구되어, 종래의 인청동이나 황동과 같은 고용 강화형 구리 합금 대신에, 코르손 (corson)(Cu-Ni-Si 계) 합금, 베릴륨 구리 및 티탄 구리와 같은 석출 강화형 구리 합금의 수요가 증가하고 있다. 그 중에서도, 코르손 합금은 강도와 도전율의 밸런스가 우수하여, 커넥터 등의 전자 부품에 사용되는 빈도가 높아지고 있다.In recent years, with light and short size reduction of electronic devices, miniaturization and thinning of terminals, connectors, and the like also progress, strength and bending workability are required, and instead of conventional solid solution copper alloys such as phosphor bronze and brass, corson There is an increasing demand for precipitation-reinforced copper alloys such as (Cu-Ni-Si) alloys, beryllium copper and titanium copper. Among them, Corson alloy is excellent in balance between strength and electrical conductivity, and is frequently used for electronic parts such as connectors.

일반적으로 강도와 굽힘 가공성은 상반되는 성질이어서, 코르손 합금에 있어서도 높은 강도를 유지하면서 굽힘 가공성을 개선하는 것이 종래부터 연구되고 있으며, 제조 공정을 조정하여, 결정 입경, 석출물의 개수 및 형상, 집합 조직을 개개로 혹은 상호간에 제어함으로써 굽힘 가공성을 개선하려는 대처가 널리 행해져 왔다.In general, strength and bending workability are incompatible with each other. Therefore, it has been studied to improve bending workability while maintaining high strength even in a Corson alloy, and the manufacturing process is adjusted to adjust the crystal grain size, the number, shape, and collection of precipitates. The measures to improve the bending workability by controlling the tissues individually or mutually have been widely practiced.

특허문헌 1 에서는, 추가로 Co, Zn, Mn, Cr, Al 을 첨가한 코르손 합금에 있어서, 용체화시의 결정립 성장을 억제하여 굽힘 가공성을 개선하고 있다. 특허문헌 2 에서는, 코르손 합금에 적당량의 Ti, Zr, Hf 또는 Th 를 함유시키고, 바람직하게는 결정 입경을 미세화함으로써 타발(打拔) 가공성 및 굽힘 가공성을 개선하고 있다. 특허문헌 3 에서는, 코르손 합금 중의 S, O 함유량을 0.005 % 미만으로 제한하고, Sn 및 Mg, 임의로 Zn 의 함유량을 최적화하고, 또한 결정 입경을 제어함으로써 굽힘 가공성을 개선하고 있다.In patent document 1, in the Corson alloy which Co, Zn, Mn, Cr, and Al were further added, grain growth at the time of solution formation is suppressed and bending workability is improved. In patent document 2, punching workability and bending workability are improved by containing a suitable amount of Ti, Zr, Hf, or Th in a Corson alloy, and refine | miniaturizing the crystal grain size preferably. In patent document 3, bending workability is improved by restricting S and O content in a Corson alloy to less than 0.005%, optimizing content of Sn and Mg, Zn arbitrarily, and also controlling a crystal grain size.

특허문헌 4 및 5 에서는, 코르손 합금 중의 S 함유량을 제한하고, Mg, Sn, Zn 의 함유량을 최적화하고, 결정 입경 및 결정립의 어스펙트비를 제어함으로써, 굽힘 가공성 및 응력 완화성 등을 개선하고 있다. 특허문헌 6 에서는, 코르손 합금의 집합 조직을 제어하고,{123}<412> 방위의 극밀도를 규정 범위로 제어함으로써 굽힘 가공성을 개선하고 있다.In Patent Literatures 4 and 5, bending workability, stress relaxation property, and the like are improved by limiting the S content in the Corson alloy, optimizing the content of Mg, Sn, and Zn, and controlling the aspect ratio of the crystal grain size and the crystal grain. have. In patent document 6, bending workability is improved by controlling the texture of corson alloy and controlling the pole density of # 123 '<412> orientation to a prescribed range.

특허문헌 7 에서는, 코르손 합금의 집합 조직을 제어하고, (I(111) + I(311))/I(220) > 2.0 을 만족하도록 집합 조직을 제어하여, 굽힘 가공성을 개선하고 있다. 특허문헌 8 에서는, 코르손 합금 중의 열간 압연 및 용체화 처리 조건을 조정하고, 인장 강도 시험에서 항복점 효과가 발현되지 않도록 하여, 굽힘 가공성을 개선하고 있다.In Patent Literature 7, the texture of the corson alloy is controlled, the texture of the aggregate is controlled so as to satisfy (I (111) + I (311) ) / I (220) > 2.0, thereby improving bending workability. In patent document 8, the conditions of the hot rolling and solution treatment process in a Corson alloy are adjusted, and the bending workability is improved so that a yield point effect may not be expressed by a tensile strength test.

일본 공개특허공보 평5-179377호Japanese Patent Laid-Open No. 5-179377 일본 공개특허공보 평6-184681호Japanese Patent Laid-Open No. 6-184681 일본 공개특허공보 평11-222641호Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-222641 일본 공개특허공보 2002-38228호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2002-38228 일본 공개특허공보 2002-180161호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2002-180161 일본 공개특허공보 2007-92135호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2007-92135 일본 공개특허공보 2006-16629호Japanese Laid-Open Patent Publication 2006-16629 일본 공개특허공보 2007-169781호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2007-169781

최근 전자 부품의 미세화에 수반하여, 굽힘 가공성 평가에 있어서 균열 (크랙) 의 유무에 추가하여, 굽힘부에 발생하는 주름의 크기도 문제가 되었다. 이것은, 굽힘부를 전기 접점으로 하는 경우, 주름이 크면 접촉 저항이 불안정해져 전기 접속의 신뢰성이 손상되기 때문이다.In recent years, with the miniaturization of electronic components, in addition to the presence or absence of cracks (cracks) in the evaluation of bending workability, the size of wrinkles occurring in the bends also becomes a problem. This is because, in the case where the bent portion is an electrical contact, a large wrinkle causes contact resistance to be unstable and the reliability of the electrical connection is impaired.

그러나, 종래 기술에서 평가되고 있는 굽힘 가공성은 내굽힘 균열성이며 굽힘 주름에 대해서는 거의 고려되고 있지 않아, 내굽힘 주름성이 우수한 Cu-Ni-Si 계 합금은 얻어지지 않았다. 특허문헌 3 에서는 굽힘 가공성 평가에 있어서 주름의 기재는 있지만 굽힘 주름의 크기에 대한 정량 평가는 행해지지 않았고, 주름이 없는 발명예는 얻어지지 않았다. 특허문헌 6 에서는 굽힘 주름 평가를 실시했는데, 강도와 굽힘 가공성이 우수한 Cu-Ni-Si 계 합금을 얻기 위해서{111}정극점도(正極点圖) 상에서의{123}<412> 방위에 주목하여 (특허문헌 6 「0016」), 용체화 처리 전의 냉간 압연 및 용체화 처리의 조건을 조정하고 있다 (특허문헌 6 「0019」). 특허문헌 8 에서도 굽힘 주름 평가를 실시했는데, 강도와 굽힘 가공성이 우수한 Cu-Ni-Si 계 합금을 얻기 위해서 잔류 Ni-Si 입자에 주목하여 (특허문헌 8 「0009」), Ni, Si 양이나 열간 압연, 용체화 처리 조건을 조정하고 있다 (특허문헌 8 「0019」).However, the bending workability evaluated in the prior art is hardly considered for bending cracking resistance and bending wrinkles, and a Cu-Ni-Si-based alloy excellent in bending wrinkle resistance has not been obtained. In patent document 3, although the description of wrinkles exists in bending workability evaluation, the quantitative evaluation about the magnitude | size of bending wrinkles was not performed, and the invention example without wrinkles was not obtained. In Patent Literature 6, bending wrinkle evaluation was performed. In order to obtain a Cu-Ni-Si-based alloy having excellent strength and bending workability, attention was paid to the direction of 123 123 <412> on a 111 111 positive electrode viscosity ( Patent document 6 "0016") and the conditions of the cold rolling and solution treatment before a solution treatment are adjusted (patent document 6 "0019"). Bending wrinkle evaluation was also performed in patent document 8, but in order to obtain the Cu-Ni-Si type alloy excellent in strength and bending workability, it paid attention to residual Ni-Si particle | grains (patent document 8 "0009"), and the amount of Ni, Si, and hot Rolling and solution treatment conditions are adjusted (patent document 8 "0019").

본 발명자들은 상기 목적을 달성하기 위해서, 종래 기술과는 상이하게 다결정 금속의 입계 제어의 관점에서 굽힘 가공성에 대하여 연구를 거듭한 결과, Cu-Ni-Si 계 합금의 가공 열처리시에 발생하는 소둔 쌍정의 발생 빈도를 제어함으로써 고강도이고, 굽힘 주름 평가에 있어서도 양호한 굽힘 가공성을 갖는 Cu-Ni-Si 계 합금을 얻었다.In order to achieve the above object, the present inventors have conducted studies on bending workability from the viewpoint of grain boundary control of polycrystalline metals differently from the prior art, and as a result, annealing twins generated during work heat treatment of Cu-Ni-Si alloys By controlling the frequency of occurrence of Cu-Ni-Si-based alloys having high strength and having good bending workability even in bending wrinkle evaluation.

본 발명의 Cu-Ni-Si 계 합금은, 고강도를 유지하면서 굽힘 가공성이 양호하고 굽힘 주름이 저감된 구리 합금으로서 단자, 커넥터 등의 용도에 바람직하다.The Cu-Ni-Si-based alloy of the present invention is a copper alloy having good bending workability and reduced bending wrinkles while maintaining high strength, and is suitable for use in terminals, connectors, and the like.

발명을 실시하기 위한 최선의 형태Best Mode for Carrying Out the Invention

다음으로, 본 발명의 요건을 그 작용과 함께 설명한다.Next, the requirements of the present invention will be described together with the operation thereof.

[Ni, Si][Ni, Si]

Ni 및 Si 는, 적절한 열처리를 실시함으로써, Ni2Si 를 주로 하는 금속간 화합물의 미세한 입자를 형성한다. 그 결과, 합금의 강도가 현저하게 증가하고, 동시에 전기 전도성도 상승한다. Ni and Si is, by carrying out a suitable heat treatment, to form fine particles of the intermetallic compound to the Ni 2 Si mainly. As a result, the strength of the alloy is significantly increased, and at the same time, the electrical conductivity is also increased.

Ni 는 1.0 ∼ 4.0 질량%, 바람직하게는 1.5 ∼ 3 질량% 의 범위에서 첨가한다. Ni 가 1.0 질량% 미만이면 충분한 강도가 얻어지지 않는다. Ni 가 4.0 질량% 를 초과하면, 열간 압연에서 균열이 발생한다.Ni is 1.0-4.0 mass%, Preferably it adds in the range of 1.5-3 mass%. If Ni is less than 1.0 mass%, sufficient strength will not be obtained. When Ni exceeds 4.0 mass%, a crack will generate | occur | produce in hot rolling.

Si 의 첨가 농도 (질량%) 는, Ni 의 첨가 농도 (질량%) 의 1/6 ∼ 1/4 로 한다. Si 첨가 농도가 Ni 첨가 농도의 1/6 보다 적으면 강도가 저하되고, Ni 첨가 농도의 1/4 보다 많으면 강도에 기여하지 않을 뿐만 아니라, 과잉인 Si 에 의해 도전성이 저하된다.The addition concentration (mass%) of Si shall be 1/6-1/4 of the addition concentration (mass%) of Ni. When Si addition concentration is less than 1/6 of Ni addition concentration, intensity | strength falls, and when it is more than 1/4 of Ni addition concentration, not only it does not contribute to strength but electroconductivity falls by excess Si.

[Mg, Sn, Zn, Co, Cr][Mg, Sn, Zn, Co, Cr]

Mg 에는 응력 완화 특성 및 열간 가공성을 개선하는 효과가 있지만, 0.2 질량% 를 초과하면 주조성 (주조면 품질의 저하), 열간 가공성 및 도금 내열 박리성이 저하된다. 따라서, Mg 의 농도는 0.2 % 이하로 규정하였다.Although Mg has the effect of improving stress relaxation characteristics and hot workability, when it exceeds 0.2% by mass, castability (decrease in cast surface quality), hot workability and plating heat-peelability are deteriorated. Therefore, the density | concentration of Mg was prescribed | regulated to 0.2% or less.

Sn 및 Zn 에는 강도 및 내열성을 개선하는 작용이 있으며, 또한 Sn 에는 내응력 완화 특성의 개선 작용이, Zn 에는 땜납 접합의 내열성을 개선하는 작용이 있다. Sn 은 0.2 ∼ 1 질량%, Zn 은 0.2 ∼ 1 질량% 의 범위에서 첨가한다. 전술한 범위를 하회하면 원하는 효과가 얻어지지 않고, 상회하면 도전성이 저하된다.Sn and Zn have an effect of improving strength and heat resistance, Sn has an effect of improving stress relaxation resistance, and Zn has an effect of improving heat resistance of solder joints. Sn is added in the range of 0.2-1 mass%, and Zn is 0.2-1 mass%. If it is less than the above-mentioned range, a desired effect will not be obtained, and if it exceeds, electroconductivity will fall.

Co 및 Cr 에는 Si 와 화합물을 생성하고, 석출에 의해 강도를 개선하는 작용이 있다. 또한 Co 에는 열처리시에 결정립의 조대화를 방지하는 작용이, Cr 에는 내열성의 개선 작용이 있다.Co and Cr have the effect | action which produces | generates a compound with Si, and improves strength by precipitation. Co has an effect of preventing coarsening of crystal grains during heat treatment, and Cr has an effect of improving heat resistance.

Co 는 1 ∼ 1.5 질량%, Cr 은 0.05 ∼ 0.2 질량% 의 범위에서 첨가한다. 전술한 범위를 하회하면 원하는 효과가 얻어지지 않고, 상회하면 도전성이 저하된다.Co is added in the range of 1-1.5 mass% and Cr is 0.05-0.2 mass%. If it is less than the above-mentioned range, a desired effect will not be obtained, and if it exceeds, electroconductivity will fall.

[쌍정 경계]Twin boundary

금속 재료는 통상, 여러 가지 결정 방위를 갖는 결정립의 집합체, 즉 다결정체이고, 금속 재료 중에는 원자의 배열 방식의 차이에 의해 경계, 즉 결정립계가 존재한다. 결정립계는 인접 결정립 사이의 방위차에 따라 대각 입계·소각 입계·아 (亞) 입계로 분류되며, 일반적으로 결정립계란 인접 결정립 사이의 방위차가 15 °이상인 대각 입계를 가리킨다. 한편, 결정립계는 인접 결정립 사이의 정합성에 따라 랜덤 입계 및 대응 입계로 분류된다. Cu-Ni-Si 계 합금의 가공 열처리에 의해 발생하는 소둔 쌍정은 Σ3 의 대응 입계이고, 결정립 사이의 정합성이 높다.Metallic materials are usually aggregates of crystal grains having various crystal orientations, that is, polycrystals, and boundaries, that is, grain boundaries exist in the metallic material due to differences in the arrangement of atoms. Grain boundaries are classified into diagonal grain boundaries, incineration grain boundaries, and sub-grain boundaries according to the orientation difference between adjacent grains. Generally, grain boundaries refer to diagonal grain boundaries having an orientation difference of 15 ° or more between adjacent grains. On the other hand, grain boundaries are classified into random grain boundaries and corresponding grain boundaries according to the consistency between adjacent grains. The annealing twins generated by the work heat treatment of the Cu-Ni-Si-based alloy have a corresponding grain boundary of Σ3 and have high compatibility between crystal grains.

Σ 값이란 입계의 정합성을 나타내는 지표로서, 결정립계를 사이에 두는 좌우의 결정 격자를 중첩시켰을 때, 중첩되는 대응 격자점과 격자점의 밀도비가 1/n 일 때, Σ = n 의 대응 관계에 있다고 칭한다. 쌍정 경계는 원자의 정합성이 좋기 때문에, 경계 근방에 있어서 불균일 변형이 잘 일어나지 않고, 굽힘 변형시, 경계 근방을 기점으로 하는 균열이나 주름이 잘 발생하지 않는다. 이 때문에, 결정립계와 쌍정 경계를 합한 전체 경계 (여기서는, 소각 입계 및 아입계를 제외함) 중의 쌍정 경계의 비율을 제어함으로써 굽힘 가공성을 개선할 수 있다.The value of Σ is an index indicating the consistency of grain boundaries, and when the right and left crystal lattices intersecting grain boundaries are superimposed, they have a corresponding relationship of Σ = n when the overlapping lattice points and the density ratio of lattice points are 1 / n. It is called. Since the twin boundary has good atom matching, non-uniform deformation hardly occurs in the vicinity of the boundary, and cracks and wrinkles originating near the boundary do not easily occur during bending deformation. For this reason, bending workability can be improved by controlling the ratio of the twin boundary in the whole boundary which combined the grain boundary and twin boundary (except an incineration grain boundary and a sub grain boundary here).

본 발명의 Cu-Ni-Si 계 합금에서는, 전체 경계 중의 쌍정 경계 (Σ3 경계) 의 빈도 (비율) 를 15 % 이상 60 % 이하, 바람직하게는 30 % 이상 60 % 이하로 제어함으로써 굽힘 가공성이 개선된다. 15 % 미만에서는, 원하는 굽힘 가공성이 얻어지지 않고, 60 % 를 초과하면 용체화시의 결정립이 조대화되어, 강도 저하가 일어난다.In the Cu-Ni-Si-based alloy of the present invention, the bending workability is improved by controlling the frequency (ratio) of the twin boundary (Σ3 boundary) in the entire boundary to 15% or more and 60% or less, preferably 30% or more and 60% or less. do. If it is less than 15%, desired bending workability will not be obtained, and if it exceeds 60%, the crystal grain at the time of solution formation will coarsen and the strength will fall.

쌍정 경계의 비율을 구하는 방법으로는, 예를 들어 FESEM (Field Emission Scanning Electron Microscope) 에 의한 EBSP (Electron Back Scattering Pattern) 법이 있다. 이 방법은, 시료 표면에 비스듬하게 전자선을 쏘았을 때에 발생하는 후방 산란 전자 회절 패턴 (키쿠치 패턴) 에 기초하여 결정 방위를 해석하는 방법이다. 본 방법으로 결정 방위를 해석한 후, 인접 결정 방위 사이의 방위차를 구하여, 랜덤 입계 및 각 대응 입계의 비율 (입계 성격 분포) 을 결정할 수 있다. 쌍정 경계는 Σ3 대응 입계에 상당하기 때문에, 쌍정 경계의 비율은 (대응 입계 Σ3 의 길이의 총합)/(결정립계의 길이의 총합) × 100 으로 계산된다. 또한, 결정립계란 인접 결정립 사이의 방위차가 15 °이상이 되는 경계를 가리키며, 소각 입계나 아입계를 포함하지 않는다.As a method of calculating the ratio of twin boundaries, there is an EBSP (Electron Back Scattering Pattern) method by FESEM (Field Emission Scanning Electron Microscope). This method is a method of analyzing a crystal orientation based on the backscattered electron diffraction pattern (Kikuchi pattern) generated when an electron beam is projected obliquely on a sample surface. After analyzing the crystal orientation by this method, the orientation difference between adjacent crystal orientations can be obtained, and the ratio of the random grain boundary and each corresponding grain boundary (grain boundary distribution) can be determined. Since the twin boundary corresponds to the Σ3 corresponding grain boundary, the ratio of the twin boundary is calculated as (total of the length of the corresponding grain boundary Σ3) / (total of the length of the grain boundary) × 100. In addition, a grain boundary refers to the boundary where the orientation difference between adjacent grains becomes 15 degrees or more, and does not include an incineration grain boundary or a sub grain boundary.

본 발명에 있어서의 쌍정은 소둔 쌍정으로서, 압연 후의 소둔에 의해 발생하는 재결정에 부수되어 생성되는 쌍정이다. 쌍정의 발생 빈도는 재료의 적층 결함 에너지와 상관이 있어, 적층 결함 에너지가 낮으면 소둔시에 발생하는 쌍정 빈도는 상승되고, 높으면 빈도가 저하된다. 한편, 적층 결함 에너지는, 고용 Ni·Si 양을 증가시키는 것 (정확하게는, 고용 Si 양을 증가시키는 것) 에 의해 저하된다. 따라서, 쌍정 경계 빈도를 증가시키려면 최종의 재결정 소둔 (본 발명에서는 용체화 처리에 대응함) 보다 전에 적층 결함 에너지를 낮게 하기 위해서 고용 Ni·Si 양을 증대시키면 된다. The twin in the present invention is an annealing twin, which is a twin twin that is generated by recrystallization generated by annealing after rolling. The frequency of twinning is correlated with the stacking defect energy of the material. If the stacking defect energy is low, the twining frequency generated during annealing is increased, and if it is high, the frequency is decreased. On the other hand, the lamination defect energy is lowered by increasing the amount of solid solution Ni.Si (exactly, by increasing the amount of solid solution Si). Therefore, to increase the twin boundary frequency, the amount of solid solution Ni.Si may be increased in order to lower the stacking defect energy before the final recrystallization annealing (corresponding to the solution treatment in the present invention).

그러나, 종래의 코르손 합금의 제조 방법에서는, Ni 및 Si 의 고용은 용체화 처리시에 실시하는 것이 통례이고, 열간 압연을 불필요하게 고온에서 실시하는 것은, 비용 증가에 추가하여 열간 압연시에 균열의 위험이 증대되기 때문에 실시되지 않았다. 또한, 용체화 처리를 열간 압연에서 겸하는 제조 방법도 있었지만, 용체화 처리에 상당하는 소둔 후, 열간 압연을 실시해도, 주조시에 발생한 Ni-Si 정출물을 완전하게 고용시키기에는 이르지 못하여, 적층 결함 에너지를 충분히 저하시킬 수는 없었다. 이 결과, 종래 방법으로 얻어지는 쌍정 경계 빈도는 12 % 정도였다. 한편, 본 발명에서는 주조시의 냉각 속도를 높임으로써 Ni-Si 정출물의 개수 및 입경을 감소시키고, 또한 열간 압연 공정에서 균열이 발생하지 않는 한도 내에서 고온 장시간의 소둔 조건을 채용하고, 재료를 냉각시킴으로써 고용 Ni·Si 양을 종래 방법에 비해 높여, 원하는 쌍정 경계 빈도를 얻었다.However, in the conventional method for producing a corson alloy, it is customary to carry out solid solution of Ni and Si at the time of solution treatment, and unnecessarily performing hot rolling at a high temperature cracks at the time of hot rolling in addition to the cost increase. It was not carried out because of an increased risk. In addition, there was also a manufacturing method that doubles the solution treatment by hot rolling. However, even after hot rolling after annealing corresponding to the solution treatment, the Ni-Si crystallized substance produced during casting cannot be completely dissolved, resulting in lamination defects. The energy could not be lowered sufficiently. As a result, the twin boundary frequency obtained by the conventional method was about 12%. On the other hand, in the present invention, by increasing the cooling rate at the time of casting, the number and particle diameter of the Ni-Si crystals are reduced, and the conditions of high temperature and long time annealing are adopted within the limit that cracking does not occur in the hot rolling process, and the material is cooled. By doing so, the amount of solid solution Ni.Si was increased in comparison with the conventional method to obtain a desired twin boundary frequency.

[제조 방법][Manufacturing method]

본 발명의 코르손 합금은, 「용해, 주조 → 열간 압연 → 면삭(面削)」 후, 용체화 처리와 냉간 압연 및 시효 처리를 조합한 일반적인 제조 프로세스로 제조되고, 최종 냉간 압연 후에 응력 제거 소둔을 실시하는 경우나 용체화 처리를 열간 압연에서 겸하는 경우도 있다. 소둔 쌍정은 용체화 처리시의 재결정에 수반하여 발생하기 때문에, 쌍정 경계의 빈도를 15 % 이상 60 % 이하를 달성하기 위해서는, 상기 주조부터 열간 압연까지의 조건을 하기의 범위 내에서 실시하고, 최종의 재결정 소둔, 즉 용체화 처리 이전에 Ni 및 Si 를 충분히 고용시켜 두면 된다.The corson alloy of this invention is manufactured by the general manufacturing process which combined the solution treatment, cold rolling, and an aging treatment after "melting, casting-> hot rolling-> face-fining", and stress relief annealing after final cold rolling In some cases, the solution treatment may be combined with hot rolling. Since annealing twinning occurs with recrystallization at the time of solution treatment, in order to achieve the frequency of twinning boundary of 15% or more and 60% or less, the conditions from the casting to hot rolling are carried out within the following ranges. Ni and Si may be sufficiently dissolved before recrystallization annealing, that is, solution treatment.

주조시의 잉곳 냉각 속도를 300 ∼ 500 ℃/min 으로 하고, 주조 냉각시에 조대 Ni-Si 입자의 정출을 억제한다. 잉곳 냉각 속도 500 ℃/min 을 초과하는 속도는, 비용면에서 실용적이지 않다. 다음으로 가열 온도 940 ∼ 1000 ℃, 바람직하게는 950 ∼ 980 ℃ 에서 가열 시간 3 ∼ 6 h 로 소둔하여 잉곳에 잔류한 Ni-Si 입자를 고용시킨 후, 열간 압연을 실시한다. 가열 온도 940 ℃ 미만 또는 3 시간 미만이면, 잔류한 Ni-Si 입자의 고용이 불충분하다. 한편, 열간 압연시의 1000 ℃ 를 초과하는 고온에서의 소둔은 열간 압연 균열의 위험이 증대된다. 6 시간을 초과하는 소둔은 상기 온도역에서는 원하는 효과에 대하여 과잉인 소둔이 되며, 비용면에서 바람직하지 않다. 열간 압연 종료시의 재료 온도는 650 ℃ 이상으로 한다. 650 ℃ 미만이면 열간 압연 중에 석출되는 Ni2Si 양이 증가하여, 충분한 고용 Ni·Si 양을 확보할 수 없기 때문에, 쌍정 경계 빈도가 저하된다.Ingot cooling rate at the time of casting is 300-500 degreeC / min, and crystallization of coarse Ni-Si particle | grains is suppressed at the time of casting cooling. The speed | rate exceeding ingot cooling rate 500 degreeC / min is not practical in cost. Next, after annealing at a heating temperature of 940 to 1000 ° C, preferably at 950 to 980 ° C for 3 to 6 h of heating time to solidify the Ni-Si particles remaining in the ingot, hot rolling is performed. If the heating temperature is less than 940 ° C or less than 3 hours, the solid solution of the remaining Ni-Si particles is insufficient. On the other hand, annealing at high temperatures exceeding 1000 ° C. during hot rolling increases the risk of hot rolling cracking. Annealing in excess of 6 hours results in excessive annealing for the desired effect in the above temperature range, which is undesirable in terms of cost. The material temperature at the end of hot rolling shall be 650 degreeC or more. If it is less than 650 ℃ to the Ni 2 Si amount to be precipitated in the hot rolling is increased, because it is not possible to ensure sufficient employment Ni · Si amount, the boundary frequency is lowered twin crystal.

면삭 후, 가공도 85 % 이상의 냉간 압연을 실시하고, 700 ∼ 820 ℃ 에서 5 sec ∼ 30 min 의 용체화 처리 (이 경우에는, 최종의 재결정 소둔이 됨) 를 실시한 후, 350 ∼ 550 ℃ 에서 2 ∼ 30 h 의 시효 처리를 실시한다. 또한, 가공도 5 % ∼ 50 % 로 냉간 압연을 실시한다.After roughing, cold rolling of 85% or more of workability is performed, and solution treatment for 5 sec to 30 min (in this case, final recrystallization annealing) is performed at 700 to 820 ° C., followed by 2 at 350 to 550 ° C. Aging treatment of -30 h is performed. In addition, cold rolling is performed at a degree of processing of 5% to 50%.

실시예 1Example 1

(시료의 제조)(Production of sample)

전기 구리를 용해시키고, 첨가 원소를 대기 용해로 중에 소정량 투입하여, 용탕을 교반하였다. 그 후, 주입 온도 1250 ℃ 에서 주형으로 출탕하여 잉곳을 얻었다. 주형의 수냉 조건을 변경함으로써, 주조시의 잉곳 냉각 속도를 표 중의 조건으로 조정하였다. 주조시의 잉곳 냉각 속도란, 용탕이 응고된 후, 잉곳 온도가 1100 ℃ 로부터 500 ℃ 에 이를 때까지의 평균 냉각 속도 (℃/min) 이다. 다음으로 이 잉곳을 이하의 순서로 가공·열처리하여, 판두께 0.25 ㎜ 의 시료를 얻었다.Electrical copper was dissolved, a predetermined amount was added to the air melting furnace, and the molten metal was stirred. Thereafter, the ingot was obtained by tapping with a mold at an injection temperature of 1250 ° C. By changing the water cooling conditions of the mold, the ingot cooling rate at the time of casting was adjusted to the conditions in the table. The ingot cooling rate at the time of casting is the average cooling rate (degreeC / min) from ingot temperature to 500 degreeC after a molten metal solidifies. Next, this ingot was processed and heat-treated in the following procedure, and the sample of 0.25 mm of plate | board thickness was obtained.

(1) 잉곳을 표 중의 조건에서 소둔·열간 압연하고, 판두께를 소정의 두께로 마무리한 후 수냉시켰다.(1) The ingot was annealed and hot rolled under the conditions shown in the table, and the plate thickness was finished to a predetermined thickness, followed by water cooling.

(2) 표층의 산화 스케일을 면삭으로 제거하였다.(2) Oxidation scale of the surface layer was removed by roughing.

(3) 판두께 0.3 ㎜ 까지 냉간 압연을 실시하였다.(3) Cold rolling was performed to a plate thickness of 0.3 mm.

(4) 표 중의 용체화 온도에서 1 분간의 용체화 처리를 실시하였다.(4) The solution treatment was performed for 1 minute at the solution temperature in the table.

(5) 450 ℃ × 10 h 의 조건에서 시효 처리를 실시하였다.(5) Aging treatment was performed under the conditions of 450 ° C × 10 h.

(6) 시효재를 0.25 ㎜ 까지 냉간 압연하였다.(6) The aging material was cold rolled to 0.25 mm.

상기 재료에 대하여, 하기 기준에 따라 쌍정 경계에 관한 EBSP 측정, 인장 시험 및 W 굽힘 시험을 실시하였다.For this material, EBSP measurements, tensile tests, and W bending tests on twin boundaries were performed according to the following criteria.

[쌍정 경계]Twin boundary

쌍정 경계의 비율을 구하는 방법으로서, FESEM (Field Emission Scanning Electron Microscope) 에 의한 EBSP (Electron Back Scattering Pattern) 법을 사용하였다. 본 방법으로 결정 방위를 해석한 후, 인접 결정 방위 사이의 방위차를 구하여 입계 성격 분포를 결정하였다. 관찰 배율은 1000 배로 하고, 관찰 시야의 합계는 2 ㎟ 로 하였다. 대응 입계는 Σ 값을 사용하여 나타내며, 쌍정 경계는 Σ3 대응 입계에 상당한다. 쌍정 경계의 비율 (%) 은 (대응 입계 Σ3 의 길이의 총합)/(결정립계의 길이의 총합) × 100 으로 계산된다. 또한, 식 중의 결정립계란 인접 결정립 사이의 방위차가 15 °이상이 되는 경계를 가리키며, 소각 입계나 아입계를 포함하지 않는다.As a method of calculating the ratio of twin boundaries, an EBSP (Electron Back Scattering Pattern) method by FESEM (Field Emission Scanning Electron Microscope) was used. After analyzing the crystal orientation by this method, the grain boundary distribution was determined by determining the orientation difference between adjacent crystal orientations. Observation magnification was 1000 times, and the sum total of the observation visual field was 2 mm <2>. Corresponding grain boundaries are represented using? Values, and twin boundaries correspond to? 3 corresponding grain boundaries. The ratio (%) of the twin boundary is calculated as (total of the length of the corresponding grain boundary Σ3) / (total of the length of the grain boundary) x 100. In addition, the grain boundary in a formula indicates the boundary which the orientation difference between adjacent grains becomes 15 degrees or more, and does not contain an incineration grain boundary or a grain boundary.

[인장 강도][The tensile strength]

각 구리 합금판에 대하여, 압연 방향에 평행한 방향으로 인장 시험을 실시하고, JIS Z 2241 에 준거하여 구하였다. 하기 실시예에서 고강도란, 합금 A 에 관해서는 인장 강도 700 ㎫ 이상인 것을, 합금 B 에 관해서는 650 ㎫ 이상인 것을, 합금 C 에 관해서는 600 ㎫ 이상인 것을 말한다.About each copper alloy plate, the tension test was done in the direction parallel to a rolling direction, and it calculated | required based on JISZ22241. In the following examples, high strength means that the alloy A has a tensile strength of 700 MPa or more, that of the alloy B is 650 MPa or more, and that of the alloy C is 600 MPa or more.

[굽힘 균열][Bending Crack]

굽힘축이 압연 방향과 평행이 되도록 하여 폭 10 ㎜ × 길이 30 ㎜ 의 단책(短冊) 시험편을 채취하였다. 이 시험편의 W 굽힘 시험 (JIS H 3130) 을 실시하여, 균열이 발생하지 않는 최소 굽힘 반경을 MBR (Minimum Bend Radius) 로 하고, 판두께 t (㎜) 와의 비 MBR/t 에 의해 평가하였다. 합금 A 에 관해서는, Bad way (B.W.) 방향의 MBR/t 가 1 이하인 경우, 굽힘 가공성의 균열 평가가 양호 (○) 한 것으로, 그 이외를 불량 (×) 인 것으로 판단하였다.The single test piece of width 10mm x length 30mm was extract | collected so that a bending axis might be parallel to a rolling direction. The W bending test (JIS H 3130) of this test piece was performed, and the minimum bending radius which a crack does not produce was made into MBR (Minimum Bend Radius), and it evaluated by the ratio MBR / t with plate | board thickness t (mm). Regarding alloy A, when MBR / t in the bad way (B.W.) direction was 1 or less, the crack evaluation of bending workability was good (○), and the other was judged to be bad (×).

합금 B 및 C 에 관해서는, MBR/t 가 0.5 이하인 경우, 굽힘 가공성이 양호한 것으로 판정하였다.Regarding alloys B and C, when MBR / t was 0.5 or less, it was determined that bending workability was good.

[굽힘 주름][Bending wrinkles]

상기 W 굽힘 시험에 있어서, MBR 로 굽힘 가공된 시험편의 굽힘 볼록부 표면에 관찰되는 주름의 SEM 이미지를 사진 촬영하였다. 사진상에서 굽힘 주름의 폭을 측정하여, 시험편 내에서의 최대의 굽힘 주름의 폭을 구하였다. 각 공시재에 대하여 3 개의 시험편에 대하여 측정을 실시하여, 평균값을 굽힘 주름의 폭으로 하였다. B.W. 방향의 굽힘 주름의 폭이 30 ㎛ 이하인 경우, 굽힘 가공성의 주름 평가가 양호 (○) 한 것으로, 30 ㎛ 를 초과하면 불량 (×) 인 것으로 판단하였다. 또한, 표 중 「-」는 평가 불능을 나타낸다.In the said W bending test, the SEM image of the wrinkle observed in the surface of the bending convex part of the test piece bent with MBR was photographed. The width | variety of the bending wrinkles was measured on the photograph, and the width | variety of the largest bending wrinkles in the test piece was calculated | required. Three test pieces were measured about each specimen and the average value was made into the width | variety of a bending wrinkle. B.W. When the width | variety of the bending wrinkle of the direction is 30 micrometers or less, the wrinkle evaluation of bending workability was favorable ((circle)), and when it exceeded 30 micrometers, it judged that it was defect (x). In addition, "-" in a table | surface shows the evaluation impossibility.

본 발명에 관련된 Ni-Si 계 구리 합금 A (Cu - 2 % Ni - 0.5 % Si - 0.1 % Mg) 의 실시예를 표 1 에 나타낸다.Table 1 shows an example of Ni-Si-based copper alloy A (Cu-2% Ni-0.5% Si-0.1% Mg) according to the present invention.

본 발명에 관련된 Ni-Si 계 구리 합금 B (Cu - 1.6 % Ni - 0.4 % Si - 0.4 % Sn - 0.5 % Zn) 의 실시예를 표 2 에 나타낸다.Table 2 shows an example of Ni-Si-based copper alloy B (Cu-1.6% Ni-0.4% Si-0.4% Sn-0.5% Zn) according to the present invention.

본 발명에 관련된 Ni-Si 계 구리 합금 C (Cu - 1.6 % Ni - 0.4 % Si) 의 실시예를 표 3 에 나타낸다.Table 3 shows an example of Ni-Si-based copper alloy C (Cu-1.6% Ni-0.4% Si) according to the present invention.

비교예 1, 8 및 15 에서는, 주조시의 냉각 속도가 300 ℃/min 미만이므로, 잉곳에 조대 Ni-Si 입자 정출물이 생성되고, 모상 (母相) 에 대한 Ni 및 Si 의 고용량이 저하되어, 적층 결함 에너지가 충분히 저하되지 않기 때문에, 쌍정 경계 빈도가 15 % 미만이었다.In Comparative Examples 1, 8 and 15, since the cooling rate at the time of casting is less than 300 degree-C / min, coarse Ni-Si grain crystals generate | occur | produce in an ingot, and the solid-solution amount of Ni and Si with respect to a mother phase falls, Since the lamination defect energy was not sufficiently lowered, the twin boundary frequency was less than 15%.

비교예 2 ∼ 4, 9 ∼ 11 및 16 ∼ 18 에서는, 열연 조건이 940 ℃ 이상 또한 3 h 이상, 및 종료 온도 650 ℃ 이상 중 어느 것을 만족하지 않기 때문에, Ni-Si 입자 개재물이 충분히 고용되지 않아, 적층 결함 에너지가 저하되지 않기 때문에, 쌍정 경계 빈도가 15 % 미만이었다.In Comparative Examples 2-4, 9-11, and 16-18, since the hot-rolling conditions do not satisfy any of 940 degreeC or more, 3 h or more, and end temperature 650 degreeC or more, Ni-Si particle inclusions are not fully dissolved. Since the lamination defect energy did not decrease, the twin boundary frequency was less than 15%.

비교예 5, 12 및 19 에서는, 냉간 가공도가 85 % 이하이므로, 용체화시의 재결정이 불충분하고 쌍정 경계 빈도가 15 % 미만이 되었다.In the comparative examples 5, 12, and 19, since the cold workability was 85% or less, recrystallization at the time of solutionization was inadequate and the twinning frequency became less than 15%.

비교예 6, 13 및 20 에서는, 용체화 온도가 700 ℃ 이하이므로, 재결정이 불충분하고, 쌍정 경계 빈도가 15 % 미만이 되고, 강도도 저하되었다.In Comparative Examples 6, 13 and 20, since the solution temperature was 700 degrees C or less, recrystallization was inadequate, twin boundary frequency became less than 15%, and intensity also fell.

비교예 7, 14 및 21 에서는, 용체화 온도가 820 ℃ 를 초과했기 때문에, 쌍정 경계 빈도가 60 % 를 초과하고, 결정 입경이 커지기 때문에, 굽힘 주름의 폭이 커졌다.In Comparative Examples 7, 14 and 21, since the solution temperature exceeded 820 degreeC, since the twin boundary frequency exceeded 60% and the crystal grain size became large, the width | variety of the bending wrinkles became large.

Figure 112010048362110-pct00001
Figure 112010048362110-pct00001

Figure 112010048362110-pct00002
Figure 112010048362110-pct00002

Figure 112010048362110-pct00003
Figure 112010048362110-pct00003

실시예 2Example 2

(시료의 제조)(Production of sample)

전기 구리를 용해시키고, 대기 용해로 중에 첨가 원소를 표 4 에 나타내는 원하는 조성이 되도록 소정량 투입하여, 용탕을 교반하였다. 그 후, 주입 온도 1250 ℃ 에서 주형으로 출탕하고, 냉각 속도를 400 ℃/min 으로 조정하여, 잉곳을 얻었다. 다음으로, 이 잉곳을 이하의 순서로 가공·열처리하여, 판두께 0.25 ㎜ 의 시료를 얻었다.Electrocopper was melt | dissolved, the predetermined amount was added to the desired composition shown in Table 4 in the atmospheric melting furnace, and the molten metal was stirred. Thereafter, the mixture was heated in a mold at an injection temperature of 1250 ° C, the cooling rate was adjusted to 400 ° C / min, and an ingot was obtained. Next, this ingot was processed and heat-treated in the following procedure, and the sample of 0.25 mm of plate | board thickness was obtained.

(1) 잉곳을 950 ℃ 에서 4 시간 소둔 후, 압연 후의 종료 온도가 700 ℃ 가 되도록 열간 압연을 실시하였다.(1) After ingot was annealed at 950 degreeC for 4 hours, hot rolling was performed so that the finishing temperature after rolling might be 700 degreeC.

(2) 표층의 산화 스케일을 면삭하고, 판두께를 5 ㎜ 로 마무리하였다.(2) Oxidation scale of the surface layer was surface-treated, and plate | board thickness was finished to 5 mm.

(3) 판두께 0.3 ㎜ 까지 냉간 압연을 실시하였다.(3) Cold rolling was performed to a plate thickness of 0.3 mm.

(4) 750 ℃ 에서 1 분간의 용체화 처리를 실시하였다.(4) The solution treatment was performed for 1 minute at 750 degreeC.

(5) 450 ℃ × 10 h 의 조건에서 시효 처리를 실시하였다.(5) Aging treatment was performed under the conditions of 450 ° C × 10 h.

(6) 시효재를 0.25 ㎜ 까지 냉간 압연하였다.(6) The aging material was cold rolled to 0.25 mm.

상기 재료에 대하여, 쌍정 경계에 관한 EBSP 측정, 인장 시험, 도전율 및 W 굽힘 시험을 실시하였다. 쌍정 경계 빈도 및 W 굽힘 시험의 평가는 전술한 실시예 1 과 동일하게 실시하고, 인장 강도는 조성의 영향을 크게 받기 때문에, 600 ㎫ 이상을 고강도로 판정하였다.The material was subjected to EBSP measurements, tensile tests, conductivity and W bending tests on twin boundaries. Evaluation of twin boundary frequency and W bending test was performed similarly to Example 1 mentioned above, and since tensile strength is largely influenced by a composition, 600 Mpa or more was determined as high strength.

Figure 112010048362110-pct00004
Figure 112010048362110-pct00004

결과를 표 5 에 나타낸다. 표 5 에 나타내는 바와 같이, 발명예 13 ∼ 24 는 원하는 쌍정 경계 빈도가 얻어지고, 굽힘 가공성이 양호하고, 강도도 양호하였다. 비교예 22 는 Ni 양이 규정량에 비해 낮고, 굽힘 가공성은 양호하지만, 인장 강도가 저하되었다. 비교예 23 은 Ni 양이 규정량에 비해 높고, 열간 압연 균열이 발생하여, 시료 제조가 불가능해졌다.The results are shown in Table 5. As shown in Table 5, Inventive Examples 13-24 obtained the desired twin boundary frequency, the bending workability was favorable, and the strength was also favorable. In Comparative Example 22, the amount of Ni was lower than the prescribed amount and the bending workability was good, but the tensile strength was lowered. In Comparative Example 23, the amount of Ni was higher than the prescribed amount, hot rolling cracking occurred, and sample preparation became impossible.

Figure 112010048362110-pct00005
Figure 112010048362110-pct00005

Claims (4)

1.0 ∼ 4.0 질량% 의 Ni 를 함유하고, Ni 의 질량% 농도에 대하여 1/6 ∼ 1/4 농도의 Si 를 함유하고, 잔부가 Cu 및 불가피적 불순물로 이루어지는 Cu-Ni-Si 계 합금으로서, EBSP 측정에 의한 집합 조직의 관찰 결과, 전체 결정립계 중의 쌍정 경계 (Σ3 경계) 의 빈도를 15 % 이상 60 % 이하로 제어한 Cu-Ni-Si 계 합금.As a Cu-Ni-Si type alloy containing 1.0-4.0 mass% of Ni, containing 1/6-1/4 concentration of Si with respect to the mass% concentration of Ni, and remainder consists of Cu and an unavoidable impurity, The Cu-Ni-Si type alloy which controlled the frequency of the twin boundary (Σ3 boundary) in the whole grain boundary as 15% or more and 60% or less as a result of observation of the texture by EBSP measurement. 제 1 항에 있어서,
추가로 0.2 질량% 이하의 Mg 를 함유하는 Cu-Ni-Si 계 합금.
The method of claim 1,
Furthermore, Cu-Ni-Si type | system | group alloy containing 0.2 mass% or less of Mg.
제 1 항에 있어서,
추가로 Sn 을 0.2 ∼ 1 질량%, Zn 을 0.2 ∼ 1 질량% 함유하는 Cu-Ni-Si 계 합금.
The method of claim 1,
Cu-Ni-Si type alloy which contains 0.2-1 mass% of Sn and 0.2-1 mass% of Zn further.
제 1 항에 있어서,
추가로 Co 를 1 ∼ 1.5 질량%, Cr 을 0.05 ∼ 0.2 질량% 함유하는 Cu-Ni-Si 계 합금.
The method of claim 1,
Cu-Ni-Si type alloy which contains 1-1.5 mass% of Co and 0.05-0.2 mass% of Cr further.
KR1020107016770A 2008-03-31 2009-03-30 Cu-ni-si alloy to be used in electrically conductive spring material KR101249107B1 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2008-093847 2008-03-31
JP2008093847 2008-03-31
PCT/JP2009/056540 WO2009123140A1 (en) 2008-03-31 2009-03-30 Cu-ni-si alloy to be used in electrically conductive spring material

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20100095476A KR20100095476A (en) 2010-08-30
KR101249107B1 true KR101249107B1 (en) 2013-03-29

Family

ID=41135514

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020107016770A KR101249107B1 (en) 2008-03-31 2009-03-30 Cu-ni-si alloy to be used in electrically conductive spring material

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP4596493B2 (en)
KR (1) KR101249107B1 (en)
CN (1) CN101981212A (en)
TW (1) TWI443204B (en)
WO (1) WO2009123140A1 (en)

Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5961335B2 (en) 2010-04-05 2016-08-02 Dowaメタルテック株式会社 Copper alloy sheet and electrical / electronic components
WO2012004868A1 (en) 2010-07-07 2012-01-12 三菱伸銅株式会社 Cu-ni-si copper alloy plate with excellent deep-draw characteristics and production method thereof
KR102008302B1 (en) 2010-09-30 2019-08-07 휴렛-팩커드 디벨롭먼트 컴퍼니, 엘.피. Image forming apparatus and method for generating user interface screen which displayed to the user accessed image forming apparatus
JP5192536B2 (en) * 2010-12-10 2013-05-08 三菱伸銅株式会社 Cu-Ni-Si based copper alloy sheet excellent in deep drawing workability and fatigue resistance and method for producing the same
JP5180283B2 (en) * 2010-12-24 2013-04-10 三菱伸銅株式会社 Cu-Ni-Si based copper alloy sheet having excellent fatigue resistance and spring characteristics after bending, and method for producing the same
JP4857395B1 (en) * 2011-03-09 2012-01-18 Jx日鉱日石金属株式会社 Cu-Ni-Si alloy and method for producing the same
JP5534610B2 (en) * 2011-03-31 2014-07-02 Jx日鉱日石金属株式会社 Cu-Co-Si alloy strip
WO2012160684A1 (en) 2011-05-25 2012-11-29 三菱伸銅株式会社 Cu-ni-si copper alloy sheet with excellent deep drawability and process for producing same
US9159985B2 (en) * 2011-05-27 2015-10-13 Ostuka Techno Corporation Circuit breaker and battery pack including the same
JP2013098098A (en) * 2011-11-02 2013-05-20 Otsuka Techno Kk Breaker
JP5307305B1 (en) * 2011-08-29 2013-10-02 古河電気工業株式会社 Copper alloy material and method of manufacturing the same
JP5827530B2 (en) * 2011-09-16 2015-12-02 三菱伸銅株式会社 Cu-Ni-Si based copper alloy sheet with excellent spring limit and stress relaxation resistance and good shear workability
JP5802150B2 (en) 2012-02-24 2015-10-28 株式会社神戸製鋼所 Copper alloy
CN102864327A (en) * 2012-09-10 2013-01-09 任静儿 Copper alloy material used for valve
CN102864333A (en) * 2012-09-10 2013-01-09 顾建 Copper rare earth alloy material
CN102864331A (en) * 2012-09-10 2013-01-09 顾建 Copper alloy material
CN102851536A (en) * 2012-09-10 2013-01-02 任静儿 Copper alloy used in conductor wire
CN102867562A (en) * 2012-09-10 2013-01-09 任静儿 Cupper alloy
CN102851532A (en) * 2012-09-10 2013-01-02 顾建 Copper alloy used in valves
CN102864332A (en) * 2012-09-10 2013-01-09 任静儿 Copper rare earth alloy
CN102855957A (en) * 2012-09-10 2013-01-02 顾建 Copper alloy material for lead
CN102851531A (en) * 2012-09-10 2013-01-02 虞雪君 Copper-zinc alloy
CN102925746B (en) * 2012-11-29 2014-09-17 宁波兴业鑫泰新型电子材料有限公司 High-performance Cu-Ni-Si system copper alloy, and preparation method and processing method thereof
JP5795030B2 (en) * 2013-07-16 2015-10-14 株式会社古河テクノマテリアル Expanded material made of Cu-Al-Mn alloy material with excellent stress corrosion resistance
CN103643080A (en) * 2013-12-25 2014-03-19 海门市江滨永久铜管有限公司 High-strength, high-ductility and high-conductivity copper-nickel-silicon alloy bar and production method thereof
JP6310538B1 (en) * 2016-12-14 2018-04-11 古河電気工業株式会社 Copper alloy wire rod and method for producing the same
JP7046032B2 (en) * 2019-04-11 2022-04-01 Jx金属株式会社 Copper alloys for electronic materials, manufacturing methods and electronic parts for copper alloys for electronic materials

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007092135A (en) 2005-09-29 2007-04-12 Nikko Kinzoku Kk Cu-Ni-Si-BASED ALLOY HAVING EXCELLENT STRENGTH AND BENDING WORKABILITY
JP2007169781A (en) 2005-11-28 2007-07-05 Nikko Kinzoku Kk Cu-ni-si-based alloy with suppressed wrinkle at bent portion and method for producing the same

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4087307B2 (en) * 2003-07-09 2008-05-21 日鉱金属株式会社 High strength and high conductivity copper alloy with excellent ductility
JP4020881B2 (en) * 2004-04-13 2007-12-12 日鉱金属株式会社 Cu-Ni-Si-Mg copper alloy strip
JP4566048B2 (en) * 2005-03-31 2010-10-20 株式会社神戸製鋼所 High-strength copper alloy sheet excellent in bending workability and manufacturing method thereof
JP2006299287A (en) * 2005-04-15 2006-11-02 Nikko Kinzoku Kk Dual phase copper alloy, spring material and foil body, and method for producing dual phase copper alloy
JP5156317B2 (en) * 2006-09-27 2013-03-06 Dowaメタルテック株式会社 Copper alloy sheet and manufacturing method thereof

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007092135A (en) 2005-09-29 2007-04-12 Nikko Kinzoku Kk Cu-Ni-Si-BASED ALLOY HAVING EXCELLENT STRENGTH AND BENDING WORKABILITY
JP2007169781A (en) 2005-11-28 2007-07-05 Nikko Kinzoku Kk Cu-ni-si-based alloy with suppressed wrinkle at bent portion and method for producing the same

Also Published As

Publication number Publication date
KR20100095476A (en) 2010-08-30
WO2009123140A1 (en) 2009-10-08
CN101981212A (en) 2011-02-23
JP4596493B2 (en) 2010-12-08
TW200948990A (en) 2009-12-01
JP2009263784A (en) 2009-11-12
TWI443204B (en) 2014-07-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101249107B1 (en) Cu-ni-si alloy to be used in electrically conductive spring material
JP4937815B2 (en) Cu-Ni-Si-Co-based copper alloy for electronic materials and method for producing the same
TWI381398B (en) Cu-Ni-Si alloy for electronic materials
KR101331339B1 (en) Cu-ni-si-co based copper ally for electronic materials and manufacturing method therefor
JP4006460B1 (en) Copper alloy excellent in high strength, high conductivity and bending workability, and method for producing the same
JP4934759B2 (en) Copper alloy sheet, connector using the same, and method for producing copper alloy sheet
KR101161597B1 (en) Cu-ni-si-co-base copper alloy for electronic material and process for producing the copper alloy
KR101211984B1 (en) Cu-ni-si-based alloy for electronic material
JP4408275B2 (en) Cu-Ni-Si alloy with excellent strength and bending workability
WO2010126046A1 (en) Cu-Ni-Si-Mg-BASED ALLOY HAVING IMPROVED ELECTRICAL CONDUCTIVITY AND BENDABILITY
TWI475119B (en) Cu-Zn-Sn-Ni-P alloy
WO2006019035A1 (en) Copper alloy plate for electric and electronic parts having bending workability
CN107208191B (en) Copper alloy material and method for producing same
TWI429768B (en) Cu-Co-Si based copper alloy for electronic materials and method for producing the same
US10056166B2 (en) Copper-cobalt-silicon alloy for electrode material
EP2554691A1 (en) Cu-ni-si alloy for electronic material
TWI432586B (en) Cu-Co-Si alloy material
KR20130109209A (en) Cu-si-co-base copper alloy for electronic materials and method for producing same
JP5750070B2 (en) Copper alloy
JP6222885B2 (en) Cu-Ni-Si-Co based copper alloy for electronic materials
JP4210239B2 (en) Titanium copper excellent in strength, conductivity and bending workability, and its manufacturing method
JP4166196B2 (en) Cu-Ni-Si copper alloy strip with excellent bending workability
JP2008001937A (en) Copper alloy material for terminal/connector, and its manufacturing method
TWI432587B (en) Cu-Co-Si-Zr alloy and its manufacturing method
US20170096725A1 (en) Cu-Co-Ni-Si Alloy for Electronic Components

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
N231 Notification of change of applicant
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160218

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170220

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190227

Year of fee payment: 7