KR101226977B1 - 촬상장치 - Google Patents

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KR101226977B1
KR101226977B1 KR1020100081780A KR20100081780A KR101226977B1 KR 101226977 B1 KR101226977 B1 KR 101226977B1 KR 1020100081780 A KR1020100081780 A KR 1020100081780A KR 20100081780 A KR20100081780 A KR 20100081780A KR 101226977 B1 KR101226977 B1 KR 101226977B1
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카즈아키 야마나
키요카즈 추레이
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캐논 가부시끼가이샤
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B19/00—Cameras
    • G03B19/02—Still-picture cameras
    • G03B19/12—Reflex cameras with single objective and a movable reflector or a partly-transmitting mirror

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Abstract

촬상장치는, 미러 다운 위치에서 촬영 광학계로부터 출사하는 광을 반사하는 미러; 상기 미러를 회전 가능하게 지지하는 미러 지지 부재; 상기 미러 지지 부재가 미러 다운 위치에서 접촉하는 접촉부재; 회전가능한 제1의 레버부재; 및 상기 접촉부재가 고정되고, 상기 제1의 레버부재에 의해 회전 가능하게 유지되는 제2의 레버부재를 구비하고, 상기 미러 지지 부재가 상기 접촉부재에 접촉한 후, 상기 제2의 레버부재가 상기 제1의 레버부재에 대하여 회전하고, 상기 제1의 레버부재에 접촉하며, 상기 제1의 레버부재를 회전시킴으로써, 상기 제1의 레버부재 및 상기 제2의 레버부재는, 상대적인 위치 관계를 변하게 하지 않고 회전하여, 상기 접촉부재의 상기 미러 지지 부재에 대한 위치를 조정한다.

Description

촬상장치{IMAGE SENSING APPARATUS}
본 발명은, 예를 들면 촬상장치의 퀵 리턴 미러의 바운드(bound)를 억제하는 촬상장치에 관한 것이다.
종래, 예를 들면 일안 레플렉스 카메라의 퀵 리턴(quick return) 미러 기구에서는, 메인 미러 및 서브 미러를 촬영 광학계로부터의 광로(촬영 광로)의 내외의 위치로 고속으로 회전시킨다. 촬영 광로내에서는, 미러들은, 미러 박스에 설치된 스토퍼에 접촉할 때 소정의 정지 위치에 위치 결정되어, 뷰파인더 광학계와 초점검출 유닛에 광을 이끈다.
상기 퀵 리턴 미러 기구에 있어서는, 미러들을 촬영 광로외의 위치로부터 촬영 광로내의 위치로 고속 회전시킨 때(이하, 복귀시라고 한다)에 상기 스토퍼에 충돌하므로 미러들이 바운드 하는 현상(이하, 미러 바운드 현상)이 발생한다. 상기 미러 바운드 현상을 정지시키는 시간(이하, 바운드 억제 시간)을 단축함으로써, 초점검출 동작을 빠른 시기에 시작하여, 연사 촬영시에 단위 시간당의 촬영 매수를 많이 할 수 있다.
예를 들면, 일본국 특개평 7-036105호에는, 각 미러가 미러 지지부재에 충돌해서 바운드 하는 바운드 시간이, 미러 지지부재를 고정했을 경우의 바운드 억제 시간보다도 짧아지도록, 미러 지지부재 및/또는 미러부재의 관성 모멘트를 결정하는 기술이 기재되어 있다.
그렇지만, 상기 일본국 특개평 7-036105호에서는, 각 미러를 위치 결정 및 조정할 때 상기 미러 지지 부재의 정지 위치가 변화된다. 이 변화에 따라, 회전 위치 결정부재의 가동 범위가 변화되어버리기 때문에, 충격흡수 효과가 변화되고, 바운드 억제 시간에 변동이 생긴다.
본 발명은, 상기 과제를 고려해서 이루어지고, 미러의 각도 조정의 결과로서 바운드 억제 시간의 변동을 제거함으로써 항상 높은 바운드 억제 효과를 얻을 수 있는 촬상장치를 실현한다.
상술한 과제를 해결하기 위해서, 본 발명은, 미러 다운 위치에 위치될 때에 촬영 광학계로부터 출사하는 광을 반사하는 미러; 상기 미러를 회전 가능하게 지지하는 미러 지지 부재; 상기 미러가 미러 다운 위치에 위치될 때에 상기 미러 지지 부재가 접촉하는 접촉부재; 회전가능한 제1의 레버부재; 및 상기 접촉부재가 고정되고, 상기 제1의 레버부재에 의해 회전 가능하게 지지되는 제2의 레버부재를 구비한 촬상장치로서, 상기 미러가 상기 미러 다운 위치로 이동할 때에, 상기 미러 지지 부재가 상기 접촉부재에 접촉한 후, 상기 제2의 레버부재가 상기 제1의 레버부재에 대하여 회전하고, 상기 제1의 레버부재에 접촉하고, 상기 제1의 레버부재를 회전시킴으로써, 상기 제1의 레버부재 및 상기 제2의 레버부재는, 상대적인 위치 관계를 변하게 하지 않고 회전하여, 상기 접촉부재의 상기 미러 지지 부재에 대한 위치를 조정하는, 촬상장치를 제공한다.
본 발명에 의하면, 미러의 각도 조정의 결과로서 바운드 억제 시간의 변동을 제거함으로써 항상 높은 바운드 억제 효과를 얻을 수 있는 촬상장치를 실현할 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징들을 (첨부된 도면들을 참조하여) 아래의 예시적 실시예들의 설명으로부터 명백해질 것이다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 촬상장치의 구성을 나타낸 개략도,
도 2는 제 1 실시예에 따른 퀵 리턴 미러 유닛 및 바운드 억제 기구의 분해도,
도 3a 내지 3f는 제 1 실시예에 따른 메인 미러 및 서브 미러의 작동을 설명하는 도 2의 측면도,
도 4a 및 4b는 제 1 실시예에 따른 메인 미러의 각도 조정을 설명하는 도 2의 측면도,
도 5는 제 2 실시예에 따른 미러 바운드 억제 기구의 측면도,
도 6a 및 6b는 제 2 실시예에 따른 메인 미러의 각도 조정을 설명하기 위한 측면도다.
이하, 본 발명의 실시예들을 첨부도면들을 참조하여 상세히 설명한다.
다음의 실시예들은, 본 발명을 실시하기 위한 예들일 뿐이다. 이 실시예들은, 본 발명을 적용한 장치의 각종 조건과 구조에 따라 적절하게 수정 또는 변경된다. 본 발명은 아래의 실시예들에 한정되지 않는다.
[제 1 실시예]
우선, 도 1을 참조하여, 본 실시예에 따른 촬상장치의 구성에 관하여 설명한다. 도 1을 참조하면, 참조번호 1은 일안 레플렉스 카메라 등의 촬상장치, 2는 촬영 렌즈, 3은 퀵 리턴 미러 유닛, 및 4는 피사체상을 관찰하기 위한 광학 뷰파인더 유닛이다. 참조번호 5는 CMOS센서나 CCD센서 등의 촬상소자나 필름, 그 소자나 필름의 유지 부재, 및 각종 필터로 구성되는 촬상 유닛을 나타내고, 6은 초점검출장치다.
다음에, 도 2를 참조하여, 본 실시예의 퀵 리턴 미러 유닛(3)과 미러 바운드 억제 기구(10, 100)의 구성에 관하여 설명한다. 도 2를 참조하면, 참조번호 11은 하프(half) 미러로 구성된 메인 미러이며, 메인 미러 지지 부재(12)에 고정되어 있다. 메인 미러 지지 부재(12)의 축(12a)은 (도면에 나타내지 않은) 미러 박스에 회전 가능하게 축방향으로 지지되어 있다. 메인 미러 지지 부재(12)는, 피사체상을 관찰하기 위한 촬영 광로내의 미러 다운(down) 위치(관찰 위치)와, 촬영 광로로부터 퇴피한 촬영 광로외의 미러 업(up) 위치(촬영 위치)와의 사이에서 회전가능하다.
상기 미러 다운 위치에서는, 메인 미러(11)는, 촬영 광학계로부터의 광의 성분 일부를 반사해서 상기 뷰파인더 광학계(4)에 이끌고, 나머지의 광을 투과시킨다. 이에 따라, 촬영자는, 뷰파인더 광학계(4)를 거쳐서 피사체상을 관찰할 수 있다. 상기 미러 업 위치에서는, 메인 미러(11)는, 촬영 광학계에 의해 형성된 피사체상의 촬상 유닛(5)에 의해 광전변환을 허용하도록 촬영 광로외에 퇴피된다.
제1의 레버부재인 각도 조정 플레이트(101)는 구멍(101c)을 가진다. 각도 조정 플레이트(101)는 구멍(101c)을 중심으로 (도면에 나타내지 않은)미러 박스의 축으로 회전 가능하게 축방향으로 지지되어 있다. 제2의 레버부재인 회전 레버(102)의 회전중심(102a)이 각도 조정 플레이트(101)의 구멍(101c)에 코킹(caulking)되어서, 회전 레버(102)는 회전중심(102a)을 중심으로 하여, 각도 조정 플레이트(101)에 회전 가능하게 축방향으로 지지되어 있다. 회전 레버(102)의 단부(102d)에는, 가압부재인 레버 인장 코일 용수철(103)의 가동단(103b)이 걸려져 있다. 메인 미러(11)가 미러 다운 위치에 위치될 때에 메인 미러 지지 부재(12)가 접촉하는 접촉부재인 각도 조정 핀(105)은, 회전 레버(102)와 그 고정면(102c)에 의해 고정되어 있다.
상기 레버 인장 코일 용수철(103)의 일단인 고정단(103a)은, (도면에 나타내지 않은) 미러 박스에 고정되고, 항상 가동단(103b)으로부터 고정단(103a)을 향해서 가압력이 작용하므로 회전 레버(102)가 반시계방향으로 가압된다. 상기 레버 인장 코일 용수철(103)에 의한 반시계방향의 가압력에 의해, 각도 조정 핀(105)의 단면(105b)이 각도 조정 플레이트(101)의 경사부(101d)에 접촉하고 있다. 또한, 각도 조정 핀(105)의 단부(105a)는, 메인 미러 지지 부재(12)와 접촉하고, 축(12a)을 중심으로 한 반시계방향의 메인 미러 지지 부재(12)의 회전을 제한함으로써 메인 미러(11)를 미러 다운 위치에 유지한다.
탄성부재인 충격흡수 고무부재(104)는 각도 조정 플레이트(101)에 고정되어 있다. 그 충격흡수 고무부재(104)는, 회전 레버(102)가 레버 인장 코일 용수철(103)의 가압력에 저항해서 시계방향으로 회전하면, 회전 레버(102)의 경사부(102b)와 충돌한다. 그 후, 충격흡수 고무부재(104)는 회전 레버(102)의 회전 범위를 규제하고, 회전 레버(102)의 회전운동 에너지를 흡수한다.
참조번호 13은 서브 미러이며, 서브 미러 지지 부재(14)에 고정되어 있다. 서브 미러 지지 부재(14)는, 메인 미러 지지 부재(12)의 축(12b)에 의해 회전 가능하게 축방향으로 지지되어 있고, 메인 미러 지지 부재(12)가 미러 다운 위치에 정지하고 있는 상태에서, 초점검출장치(6)에 소정의 피사체상이 출력된다.
서브 미러 지지 부재(14)는, 메인 미러 지지 부재(12)가 미러 업 위치로 회전할 때는, 메인 미러 지지 부재(12)와 함께 미러 업 위치까지 회전한다. 서브 미러 가압 용수철(15)은, 메인 미러 지지 부재(12)에 대하여, 축(12b)을 중심으로 하여, 미러 다운 위치에서는 서브 미러 지지 부재(14)를 반시계방향으로 가압하고, 미러 업 위치에서는 서브 미러 지지 부재를 시계방향으로 가압하고 있다.
서브 미러 각도 고정 핀(16)은 서브 미러 각도 고정 플레이트(17)에 고정되어 있고, 서브 미러 지지 부재(14)의 스토퍼(stopper)로서 기능한다. 다시 말해, 서브 미러 각도 고정 핀(16)은, 메인 미러 지지 부재(12)의 축(12b)을 중심으로 한 서브 미러 지지 부재(14)의 반시계방향의 회전을 제한함으로써 서브 미러 지지 부재(14)를 미러 업 위치에 유지한다.
서브 미러 지지 부재(14)는 후크(hook)형상부(14b)를 가진다. 참조번호 18은 서브 미러 후크 핀(바운드 억제 핀)으로, 서브 미러 후크 플레이트(19)에 고정되어 있다. 서브 미러 후크 플레이트(19)는 서브 미러 각도 고정 플레이트(17)에 형성된 구멍(17a)을 중심으로 회전한다. 서브 미러 후크 플레이트(19)는, 서브 미러 후크 플레이트(19)의 굴곡부(19a)와 서브 미러 각도 고정 플레이트(17)의 굴곡부(17b)에 걸린 서브 미러 후크 인장 코일 용수철(20)에 의해, 구멍(17a)을 중심으로 반시계방향으로 가압되어 있다.
서브 미러 후크 플레이트(19)는, 서브 미러 후크 핀(18)과 서브 미러 각도 고정 플레이트(17)의 측면부(17d)가 접촉할 때 상기 구멍(17a)을 중심으로 한 반시계방향의 회전이 제한된다. 참조번호 21은 서브 미러 반전 핀으로, (도면에 나타내지 않은) 미러 박스에 고정되어 있다.
다음에, 도 3a 내지 3f를 참조하여, 본 실시예의 메인 미러 및 서브 미러의 작동에 관하여 설명한다. 도 3a는 미러 다운 위치를 나타낸다. 촬영동작이 개시되면, 소정의 시퀀스 후 메인 미러 지지 부재(12)가 메인 미러 지지 부재(12)의 축(12a)을 중심으로 하여, 시계방향으로 미러 업 위치까지 회전한다.
상기 과정동안, 서브 미러 지지 부재(14)의 캠 형상부(14c)와 서브 미러 반전 핀(21)이 접촉하는 경우, 서브 미러 지지 부재(14)는 축(12b)을 중심으로 하여, 시계방향으로 미러 업 위치까지 회전한다. 미러 업 위치인 도 3b의 상태에서, 소정의 시퀀스를 경과해서 노출과정이 완료하면, 메인 미러 지지 부재(12)는, 축(12a)을 중심으로 하여 반시계방향으로 회전하고, 미러 업 위치로부터 미러 다운 위치로 복귀한다.
상기 지지 부재(12)의 복귀 동작에 연동하여, 서브 미러 지지 부재(14)도, 서브 미러 지지 부재(14)의 캠 형상부(14c)와 서브 미러 반전 핀(21)이 접촉하는 경우, 축(12b)을 중심으로 반시계방향으로 회전하고, 미러 업 위치로부터 미러 다운 위치로 복귀한다. 상기 복귀의 과정동안, 서브 미러 지지 부재(14)의 후크 형상부(14b)와 서브 미러 후크 핀(18)이 접촉한다(도 3c).
상기 접촉동작에 의해, 서브 미러 후크 핀(18)은 서브 미러 각도 고정 플레이트(17)의 구멍(17a)을 중심으로 시계방향으로 회전하고, 서브 미러 후크 핀(18)은 서브 미러 지지 부재(14)의 복귀의 이동 궤적외로 이동한다(도 3d).
그 후에, 서브 미러 지지 부재(14)는, 서브 미러 각도 고정 핀(16)과 접촉한다. 서브 미러 후크 핀(18)은 서브 미러 후크 인장 코일 용수철(20)의 가압력에 의해, 구멍(17a)을 중심으로 반시계방향으로 회전하고, 서브 미러 지지 부재(14)의 후크 형상부(14b)의 내측에 들어간다.
서브 미러 각도 고정 핀(16)과 접촉한 서브 미러 지지 부재(14)는, 그 후에 후크 형상부(14b)에서 서브 미러 후크 핀(18)과 접촉한다. 서브 미러 지지 부재(14)는, 서브 미러 각도 고정 핀(16)과 서브 미러 후크 핀(18)과의 사이에서 바운드를 반복하면서, 서브 미러 가압 용수철(15)의 가압력에 의해 서브 미러 각도 고정 핀(16)에 접촉하면서 정지한다.
서브 미러 지지 부재(14)는 서브 미러 각도 고정 핀(16)과 서브 미러 후크 핀(18)과의 사이에서 바운드를 반복하고 있는 상태와 대략 동시에, 메인 미러 지지 부재(12)의 평면부(12c)는, 각도 조정 핀(105)의 단부(105a)와 접촉한다(도 3e).
상기 접촉동작에 의해, 각도 조정 핀(105)은, 각도 조정 플레이트(101)의 구멍(101a)을 중심으로 시계방향으로 회전하고, 메인 미러 지지 부재(12)의 복귀의 이동 궤적외의 위치로 이동한다(도 3f).
상기 각도 조정 핀(105)과 일체로 회전 레버(102)가 회전하면서, 회전 레버(102)의 경사부(102b)는, 회전 레버(102)의 회전 범위를 규제하는 충격흡수 고무부재(104)와 충돌한다. 또한, 회전 레버(102)의 단부(102d)에는 레버 인장 코일 용수철(103)의 타단인 가동단(103b)이 걸려져, 그 레버 인장 코일 용수철(103)은 회전 레버(102)의 회전시에 신축한다.
메인 미러 지지 부재(12)의 미러 업 위치로부터 미러 다운 위치에의 복귀에 의한 회전운동 에너지는, 상기 회전 레버(102)의 회전운동으로 변환된다. 또한, 회전 레버(102)의 회전운동 에너지는, 충격흡수 고무부재(104)와 회전 레버(102)간의 충돌, 및 레버 인장 코일 용수철(103)의 신장/수축에 의해 쇠퇴한다. 이에 따라, 메인 미러 지지 부재(12)의 바운드 현상을 억제하고, 바운드 억제 시간을 단축하고 있다.
본 실시예에서는, 후크 형상부(14b)와 서브 미러 후크 핀(18)이 접촉하고, 서브 미러 각도 고정 핀(16)과 서브 미러 지지 부재(14)의 일부(14a)가 접촉하므로, 서브 미러 지지 부재(14)의 바운딩을 억제하고 있다. 또한, 회전 레버(102)의 회전에 의해 메인 미러 지지 부재(12)의 바운딩을 억제한다. 그에 따라 미러 복귀시의 바운드 억제 시간을 단축한다.
이하 도 4a 및 4b를 참조하여, 메인 미러(11)의 촬영 광축에 대한 각도 조정에 관하여 설명한다. 도 4a 및 4b를 참조하면, 각도 조정 플레이트(101)는, 구멍(101c)을 가진다. 각도 조정 플레이트(101)는 구멍(101c)을 중심으로 하여 (도면에 나타내지 않은) 미러 박스의 축에 의해 회전 가능하게 축방향으로 지지된다. 각도 조정 플레이트(101), 회전 레버(102), 충격흡수 고무부재(104), 및 각도 조정 핀(105)은, 각도 조정 플레이트(101)의 구멍(101c)을 회전중심으로서 하여 일체로 회전한다. 따라서, 각도 조정 플레이트(101)를 회전시키는 경우도, 각도 조정 플레이트(101), 회전 레버(102), 충격흡수 고무부재(104), 및 각도 조정 핀(105)간에 상대적인 위치 관계는 변화되지 않고 있다.
도 4a 및 4b의 화살표는, 메인 미러(11)의 각도 조정에 의한 메인 미러 지지 부재(12)와 각도 조정 플레이트(101)의 회전 방향을 나타낸다. 도 4a 및 4b의 실선은, 각도 조정전의 미러 바운드 억제 기구(100)의 위치를 나타내고, 파선은 각도 조정후의 메인 미러 지지 부재(12), 각도 조정 플레이트(101), 각도 조정 핀(105), 회전 레버(102) 및 충격흡수 고무부재(104)를 각각 나타낸다. 참조번호 300은, 회전 레버(102)의 충격흡수 고무부재(104)에 충돌할 때까지의 회전 가능범위를 나타낸다.
도 4a에서는, 구멍(101c)을 중심으로 하여 각도 조정 플레이트(101)를 반시계방향으로 회전시킴으로써, 메인 미러(11)의 촬영 광축에 대한 각도 조정을 행한다. 도 4b에서는, 구멍(101c)을 중심으로 하여, 각도 조정 플레이트(101)를 시계방향으로 회전시킴으로써, 메인 미러의 광축에 대한 각도 조정을 행한다. 이렇게, 상기 각도 조정은, 도 4a 및 4b의 파선의 범위내에서 행한다.
메인 미러(11)의 촬영 광축에 대한 각도 조정 과정에서는, 회전 레버(102), 충격흡수 고무부재(104) 및 각도 조정 핀(105)은, 각도 조정 플레이트(101)의 회전중심(구멍(101c))을 중심으로 해서 각도 조정 플레이트(101)와 같은 회전각도로 회전한다. 즉, 각도 조정 플레이트(101), 회전 레버(102), 충격흡수 고무부재(104) 및 각도 조정 핀(105)은, 각도 조정 플레이트(101)의 구멍(101c)을 회전중심으로서 일체로 회전한다. 따라서, 메인 미러(11)의 촬영 광축에 대한 각도 조정을 행하기 위해서, 각도 조정 플레이트(101)를 회전시키는 경우에도, 각도 조정 플레이트(101), 회전 레버(102), 충격흡수 고무부재(104) 및 각도 조정 핀(105)간의 상대적인 위치 관계는 변화되지 않고 있다. 도 4a 및 4b에 도시된 것처럼, 회전 레버(102)가 충격흡수 고무부재(104)와 충돌할 때까지의 거리 300은, 메인 미러(11)의 촬영 광축에 대한 각도 조정을 행한 경우에도, 항상 일정하게 유지된다.
상기한 바와 같이, 회전 레버(102)가 충격흡수 고무부재(104)와 충돌할 때까지의 거리 300이 일정하게 유지되므로, 충격흡수 고무부재(104)와 회전 레버(102)간의 충돌에 의한 쇠퇴효과와, 레버 인장 코일 용수철(103)의 신축에 의한 쇠퇴효과는 대략 일정하게 유지되어서, 항상 안정한 바운드 억제 효과를 얻는다. 본 실시예에서는, 충격흡수 고무부재(104)를 각도 조정 플레이트(101)에 고정하고 있지만, 회전 레버(102)에 고정해도 좋다.
[제 2 실시예]
이하, 도 5 및 도 6a, 6b를 참조하여, 제 2 실시예의 미러 바운드 억제 기구에 관하여 설명한다. 상기 제 1 실시예에서는, (도면에 나타내지 않은) 미러 박스에 걸린 레버 인장 코일 용수철(103)의 고정단(103a)이, 도 5에 나타나 있는 바와 같이, 각도 조정 플레이트(201)에 고정된 축(203c)에 걸려 있다. 즉, 가압부재인 레버 인장 코일 용수철(103)은 한쪽 끝이 축(203c)에 걸려지고, 다른쪽 끝이 회전 레버(102)의 단부(102d)에 걸려진다. 각도 조정 플레이트(201)는, 구멍(201c)을 갖고, 이 구멍(201c)을 중심으로 (도면에 나타내지 않은) 미러 박스의 축으로 회전 가능하게 축방향으로 지지된다. 회전 레버(102)는, 각도 조정 플레이트(201)에 의해 회전 가능하게 축방향으로 지지된다. 충격흡수 고무부재(104)는, 각도 조정 플레이트(201)에 고정되어 있다.
회전 레버(102), 충격흡수 고무부재(104), 및 회전 레버(102)에 고정된 각도 조정 핀(105)은, 각도 조정 플레이트(201)의 회전중심(구멍(201c))을 중심으로 각도 조정 플레이트(201)와 같은 회전각도로 회전한다. 도 6a 및 6b의 화살표는, 각도 조정시 메인 미러 지지 부재(12)와 각도 조정 플레이트(201)의 회전 방향을 나타낸다. 도 6a 및 6b의 실선은 각도 조정전의 미러 바운드 억제 기구의 위치를 나타내고, 파선은 각도 조정후의 메인 미러 지지 부재(12), 각도 조정 플레이트(201), 각도 조정 핀(105), 회전 레버(102) 및 충격흡수 고무부재(104)를 나타낸다. 참조번호 400은, 회전 레버(102)가 충격흡수 고무부재(104)와 충돌할 때까지의 거리를 나타낸다.
도 6a에서는, 구멍(201c)을 중심으로 하여 각도 조정 플레이트(201)를 반시계방향으로 회전시킴으로써, 메인 미러(11)의 광축에 대한 각도 조정을 행한다. 도 6b에서는, 구멍(201c)을 중심으로 하여 각도 조정 플레이트(201)를 시계방향으로 회전시킴으로써, 메인 미러의 광축에 대한 각도 조정을 행한다. 이렇게, 각도 조정은 도 6a 및 도 6b의 파선의 범위내에서 행한다.
메인 미러(11)의 촬영 광축에 대한 각도 조정 과정에서는, 회전 레버(102), 충격흡수 고무부재(104) 및 각도 조정 핀(105)은, 각도 조정 플레이트(201)의 회전중심(구멍(201c))에 대해서 각도 조정 플레이트(201)와 같은 회전각도로 회전한다. 즉, 각도 조정 플레이트(201), 회전 레버(102), 충격흡수 고무부재(104) 및 각도 조정 핀(105)은, 각도 조정 플레이트(201)의 구멍(201c)을 회전중심으로 하여서 일체로 회전한다. 따라서, 메인 미러(11)의 촬영 광축에 대한 각도 조정을 행하기 위해서, 각도 조정 플레이트(201)를 회전시키는 경우에도, 각도 조정 플레이트(201), 회전 레버(102), 충격흡수 고무부재(104) 및 각도 조정 핀(105)간의 상대적인 위치 관계는 변화되지 않고 있다. 도 6a 및 6b에 도시된 것처럼, 회전 레버(102)가 충격흡수 고무부재(104)와 충돌할 때까지의 거리 400은, 메인 미러(11)의 촬영 광축에 대한 각도 조정을 행한 경우에도, 항상 일정하게 유지된다.
한층 더, 도 6a 및 6b에 도시된 것처럼, 레버 인장 코일 용수철(103)이 걸려져 있는 회전 레버(102)의 단부(102d)와 상기 축(203c) 사이의 거리 401은, 메인 미러(11)의 촬영 광축에 대한 각도 조정을 행한 경우에도, 일정하게 유지된다. 따라서, 메인 미러(11)의 촬영 광축에 대한 각도 조정을 행한 경우에도, 레버 인장 코일 용수철(103)의 가압력도 일정하게 유지된다. 즉, 본 실시예에서는, 메인 미러(11)의 촬영 광축에 대한 각도 조정을 행한 경우에도, 회전 레버(102)가 충격흡수 고무부재(104)와 충돌할 때까지의 거리 400을 일정하게 유지할 수 있음과 동시에, 레버 인장 코일 용수철(103)의 가압력도 일정하게 유지할 수 있다.
상기한 바와 같이, 회전 레버(102)의 회전 가능범위가 일정하게 유지되므로, 충격흡수 고무부재(104)와 회전 레버(102)간의 충돌에 의한 쇠퇴효과와, 레버 인장 코일 용수철(103)의 신/축에 의한 쇠퇴효과가 일정하게 유지되어서, 항상 안정한 바운드 억제 효과를 얻는다.
한층 더, 레버 인장 코일 용수철(103)의 가압력이 일정하게 유지되므로, 예를 들어, 회전 레버(102)의 활주 마찰이 바운드 억제 효과에 영향을끼치는 경우에는, 상기 제 1 실시예의 경우보다도 한층 더 안정한 바운드 억제 효과를 얻을 수 있다.
또한, 제 2 실시예에서는 충격흡수 고무부재(104)를 각도 조정 플레이트(201)에 고정하고 있지만, 회전 레버(102)에 고정해도 좋다.
본 발명을 예시적 실시예들을 참조하여 기재하였지만, 본 발명은 상기 개시된 예시적 실시예들에 한정되지 않는다는 것을 알 것이다. 아래의 청구항의 범위는, 모든 변형, 동등한 구조 및 기능을 포함하도록 아주 넓게 해석해야 한다.

Claims (4)

  1. 미러 다운 위치에 위치될 때에 촬영 광학계로부터 출사하는 광을 반사하는 미러;
    상기 미러를 회전 가능하게 지지하는 미러 지지 부재;
    상기 미러가 미러 다운 위치에 위치될 때에 상기 미러 지지 부재가 접촉하는 접촉부재;
    회전가능한 제1의 레버부재; 및
    상기 접촉부재가 고정되고, 상기 제1의 레버부재에 의해 회전 가능하게 지지되는 제2의 레버부재를 구비한 촬상장치로서,
    상기 미러가 상기 미러 다운 위치로 이동할 때에, 상기 미러 지지 부재가 상기 접촉부재에 접촉한 후, 상기 제2의 레버부재가 상기 제1의 레버부재에 대하여 회전하고, 상기 제1의 레버부재에 접촉하고,
    상기 제1의 레버부재를 회전시킴으로써, 상기 제1의 레버부재 및 상기 제2의 레버부재는, 상대적인 위치 관계를 변하게 하지 않고 회전하여, 상기 접촉부재의 상기 미러 지지 부재에 대한 위치를 조정하는, 촬상장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1의 레버부재에는 탄성부재가 고정되고, 상기 미러가 상기 미러 다운 위치로 이동할 때에, 상기 미러 지지 부재가 상기 접촉부재에 접촉한 뒤, 상기 제2의 레버부재가 상기 제1의 레버부재에 대하여 회전하고, 상기 탄성부재에 접촉하는, 촬상장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 제2의 레버부재에 가압력을 주는 가압부재를 더 구비하고,
    상기 미러가 상기 미러 다운 위치로 이동할 때에, 상기 미러 지지 부재가 상기 접촉부재에 접촉한 뒤, 상기 제2의 레버부재가 상기 가압부재의 가압력에 저항해서 상기 제1의 레버부재에 대하여 회전하는, 촬상장치.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 가압부재는, 한쪽 끝이 상기 제1의 레버부재에 걸리고, 다른쪽 끝이 상기 제2의 레버부재에 걸리는, 촬상장치.
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