KR101141092B1 - 플라즈마 디스플레이 패널용 격벽 형성 재료, 페이스트와 그린 시트 및 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 - Google Patents

플라즈마 디스플레이 패널용 격벽 형성 재료, 페이스트와 그린 시트 및 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 Download PDF

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Abstract

ZnO-B2O3 계 유리 분말 60~90질량% 와 필러 분말 10~40질량% 를 함유하고, 필러 분말의 20~100질량% 를 멀라이트 분말이 차지하는 것을 특징으로 한다. ZnO-B2O3 계 유리 분말은, 질량 백분율로, ZnO 30~60%, B2O3 15~35%, BaO 0~25%, SiO2 3~20%, Li2O 0.2~6%, Li2O+Na2O+K2O 1~12% 함유하는 유리로 이루어지는 것이 바람직하다.

Description

플라즈마 디스플레이 패널용 격벽 형성 재료, 페이스트와 그린 시트 및 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽{MATERIAL,PASTE AND GREEN SHEET FOR FORMING BARRIER RIB OF PLASMA DISPLAY PANEL,AND BARRIER RIB OF PLASMA DISPLAY PANEL}
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널용 격벽 형성 재료에 관한 것이다.
플라즈마 디스플레이 패널은 자기발광형의 플랫 디스플레이로서, 경량 박형(薄型) 및 고시야각 등의 우수한 특성을 구비하고 있고, 또한 대화면화가 가능하기 때문에, 가장 장래성이 있는 표시 장치의 하나로서 주목되고 있다.
플라즈마 디스플레이 패널은, 일반적으로 전면 유리 기판과 배면 유리 기판이 대향하여 형성되어 있고, 이들 기판 사이의 공간에는, 가스 방전부를 구획하기 위한 다수의 격벽 (배리어 리브라고도 한다) 이 형성되어 있다. 격벽을 형성하는 재료로는, 유리 분말과 세라믹 분말을 혼합한 재료가 널리 사용되고 있다. 이 격벽 형성 재료에는, 유리 기판의 변형을 방지하기 위해서 600℃ 이하에서 소성할 수 있어야 하고, 그 때문에, 유리 분말에는 연화점을 낮게 하는 성분인 PbO 를 함유시킨 유리가 사용되고 있지만, PbO 를 함유하는 유리는, 유리 분말을 제작할 때의 인체에 대한 영향이나 폐기물의 처리가 문제시되고 있다. 그래서, ZnO-B2O3 계 유리 분말을 사용한 플라즈마 디스플레이 패널용 격벽 형성 재료가 여러 가 지로 제안되어 있다 (예를 들어, 일본 공개특허공보 2002-326839호).
또한, 플라즈마 디스플레이 패널의 휘도 향상을 목적으로, 투광성이 있는 격벽을 채용하는 것이 요구되고 있다. 그래서, 투광성이 있는 격벽을 형성 가능한 재료가 일본 공개특허공보 2002-110035호에서 제안되어 있다. 이 재료는, 필러 분말로서 특정한 입도를 갖는 알루미나 분말을 사용한 것이다.
일본 공개특허공보 2002-110035호에는, ZnO-B2O3 계 유리 분말에 알루미나 분말을 첨가하면 투광성이 있는 격벽을 얻을 수 있다는 내용이 개시되어 있다. 그러나 ZnO-B2O3 계 유리에 있어서, 일본 공개특허공보 2002-110035호의 기술을 이용할 수 있는 경우는 한정되어 있다. 예를 들어, 일본 공개특허공보 2002-110035호의 ZnO-B2O3 계 유리 분말은 BaO 를 다량으로 함유하고 있지만, BaO 의 함유량이 적은 유리 분말에서는, 알루미나 분말과 조합해도 투광성이 있는 격벽을 제작하기 어려워진다.
본 발명의 목적은, BaO 함유량이 적은 ZnO-B2O3 계 유리 분말을 사용한 경우라도, 투광성을 갖는 격벽을 형성 가능한 플라즈마 디스플레이 패널용 격벽 형성 재료를 제공하는 것이다.
본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널용 격벽 형성 재료는, ZnO-B2O3 계 유리 분말 60~90질량% 와 필러 분말 10~40질량% 를 함유하고, 상기 필러 분말의 20~ 100질량% 를 멀라이트 (mullite) 분말이 차지하는 것을 특징으로 한다.
멀라이트 분말의 50% 평균 입자직경은 0.5~6㎛ 인 것이 바람직하다.
ZnO-B2O3 계 유리 분말은, ZnO 를 30질량% 이상, B2O3 를 15질량% 이상 함유하는 것이 바람직하다. 또한, BaO 의 함유량이 25질량% 를 초과하지 않는 것이 바람직하다.
또한, ZnO-B2O3 계 유리 분말은 무연 유리로 이루어지는 것이 바람직하다.
ZnO-B2O3 계 유리 분말은, 질량 백분율로, ZnO 30~60%, B2O3 15~35%, BaO 0~25%, SiO2 3~20%, Li2O 0.2~6%, Li2O+Na2O+K2O 1~12% 함유하는 유리로 이루어지는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 격벽 형성용 페이스트 및 격벽 형성용 그린시트는, 상기 재료를 함유하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 격벽은, 상기 재료, 상기 페이스트 또는 상기 그린시트를 사용하여 형성되는 것을 특징으로 한다.
형성되는 격벽은, 막두께 30㎛ 환산에서의 550㎚ 의 확산 투과율값이, 유리 기판 포함 투과율값으로 50% 이상인 것이 바람직하다.
또한, ZnO-B2O3 계 유리 분말과 멀라이트 분말을 조합한 본 발명의 재료는 양 재료 모두 유전율이 낮기 때문에, 저유전율 (ε10 이하) 의 격벽을 형성할 수 있다. 그러므로, 저유전율의 격벽이 요구되는 경우에도 바람직하게 사용 가능하다.
본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널용 격벽 형성 재료는, 형상 유지성을 확보하면서 높은 투과율을 갖는 격벽을 형성 가능한 재료이다. 따라서, 납을 함유하지 않고, 또 휘도가 높은 플라즈마 디스플레이 패널을 제작하기 위한 격벽 재료로서 바람직하다.
바람직한 실시예의 설명
알루미나 분말 대신에 멀라이트 분말을 사용하면, BaO 함유량이 적은 ZnO-B2O3 계 유리 분말을 사용한 경우라도 투광성이 있는 격벽을 형성하는 것이 가능해짐이 본 발명자들의 조사에 의해 밝혀졌다. 이는, 이러한 종류의 ZnO-B2O3 계 유리가, 알루미나보다도 멀라이트에 가까운 굴절률을 갖기 쉬운 것에 의한 것으로 추측된다.
이하, 본 발명의 격벽 형성 재료에 대해 상세히 서술한다.
본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널용 격벽 형성 재료는, ZnO-B2O3 계 유리 분말과 필러 분말을 함유한다. 양자의 비율은, ZnO-B2O3 계 유리 분말 60~90질량%, 필러 분말 10~40질량%, 바람직하게는 ZnO-B2O3 계 유리 분말 60~85질량%, 필러 분말 15~40질량%, 더욱 바람직하게는 ZnO-B2O3 계 유리 분말 63~84질량%, 필러 분말 16~37질량% 이다. 필러 분말이 적으면 (즉 유리 분말이 많으면) 형상 유지성이 저하된다. 한편, 필러 분말이 많아지면 (즉 유리 분말이 적으면) 소결성이 불충분해지기 쉬워, 치밀한 격벽을 형성하기가 어려워진다. 또한, 얻어지 는 격벽의 투광성이 저하된다.
그리고, 본 발명의 재료는, 필러 분말로서 주로 멀라이트 분말을 사용한다. 멀라이트 분말은, 알루미나와 실리카의 소성품 또는 전융품(電融品) 모두 사용 가능하고, 이물질 제거 등의 목적에서, 멀라이트 분말을 소결시키지 않을 정도, 예를 들어 300~1300℃, 특히 300~1100℃ 의 범위에서 소성해도 상관없다. 또, 본 발명에 있어서는, 필러 분말 전부를 멀라이트 분말로 해도 되지만, 투광성을 손상시키지 않는 범위에서 기타 필러 분말을 병용하는 것도 가능하다. 예를 들어, 알루미나, 실리카 등의 세라믹 필러를 열팽창 계수의 조정을 위해 도입하는 것이 가능하다. 또, 형상 유지성의 향상을 목적으로, 알루미나, 실리카 외에, 코디에라이트 등의 세라믹 필러를 도입해도 된다. 필러 분말 전체에서 차지하는 멀라이트 분말의 비율은 20~100질량%, 바람직하게는 25~100질량%, 더욱 바람직하게는 30~100질량% 이다. 멀라이트 분말이 차지하는 비율이 적으면, 얻어지는 격벽의 투광성이 저하된다.
본 발명에서 사용하는 멀라이트 분말은, 50% 평균 입자직경이 0.5~6㎛, 특히 0.6~5㎛ 인 것이 바람직하다. 멀라이트 분말의 평균 입자직경이 지나치게 작으면, 페이스트의 형태로 공급되는 과정에서 리올로지 (rheology) 를 조정하기 어려워지고, 또한 비용적으로도 비싸진다. 한편, 평균 입자직경이 커지면 형상 유지성이 나빠지는 경향이 있다. 또, 평균 입자직경이 상이한 2 종류 이상의 멀라이트를 임의의 혼합 비율로 혼합하여 사용하는 것도 가능하다. 또한, 멀라이트 이외의 필러 분말에 관해서도, 멀라이트의 경우와 같은 이유에서 50% 평균 입 자직경이 0.5~6㎛ 의 범위인 것을 사용하는 것이 바람직하다. 단, 티타니아를 사용하면 격벽의 투광성을 현저히 손상시키기 때문에, 본 발명에서는 사용하면 안된다.
본 발명에서 사용하는 ZnO-B2O3 계 유리 분말은, ZnO와 B2O3 를 주성분으로서 함유하는 유리이다. 이러한 유리는, 예를 들어 ZnO 를 30질량% 이상, 또한 B2O3 를 15질량% 이상 함유하는 유리이다. 또한, BaO 를 함유하지 않거나, 또는 함유하는 경우라도 25질량% 를 초과하지 않는 조성의 유리인 것이 바람직하다. 그 이유는, 이 범위에 있는 유리는, 알루미나 분말보다도 멀라이트 분말과 조합하는 편이 투광성이 우수한 격벽을 제작하는 데에 있어서 유리하기 때문이다. 또한, 격벽 재료로부터 PbO 를 삭감한다는 목적에서 보면, PbO 는 1질량% 이하, 바람직하게는 전혀 함유하지 않을 것이 요구된다.
ZnO-B2O3 계 유리의 바람직한 조성예로서, 질량 백분율로, ZnO 30~60%, B2O3 15~35%, BaO 0~25%, SiO2 3~20%, Li2O 0.2~6%, Li2O+Na2O+K2O 1~12% 함유하는 BaO-ZnO-B2O3 계 유리를 들 수 있다. 상기 조성을 갖는 유리는, 600℃ 이하, 특히 560℃ 정도의 저온에서 소성할 수 있는 격벽 재료를 제작 가능한 것이다. 이하에 각 성분에 대해서 설명한다.
ZnO 는 연화점을 낮추는 동시에, 열팽창 계수를 저하시키는 성분이고, 그 함유량은 30~60%, 바람직하게는 35~55%, 보다 바람직하게는 37~54% 이다. ZnO 가 30% 보다 적으면 상기 효과를 얻을 수 없고, 60% 보다 많으면 유리 중에 결정이 석출되어 치밀한 소결체를 얻을 수 없게 된다.
B2O3 는 유리의 골격을 구성하는 성분이고, 그 함유량은 15~35%, 바람직하게는 16~33% 이다. B2O3 가 15% 보다 적으면 유리화가 어려워진다. 한편, B2O3 가 35% 보다 많으면 연화점이 너무 높아져 560℃ 이하의 온도에서 소성하면 치밀한 소결체를 얻을 수 없게 되어, 패널 특성이 저하된다.
BaO 는 유리를 안정화시키는 성분이고, 그 함유량은 0~25%, 바람직하게는 3~25%, 더욱 바람직하게는 4~23%, 특히 바람직하게는 5~20% 이다. BaO 는 필수 성분이 아니지만, 3% 보다 적으면 유리가 불안정해져 결정화되기 쉬워져, 드라이 필름과의 밀착성에 문제가 생기거나, 격벽 형성 재료로서 소성하는 경우에, 결정이 석출되어 치밀한 소결체를 얻을 수 없게 되거나 하는 경우가 있다. 한편, 25% 보다 많으면 열팽창 계수가 높아져 유리 기판의 열팽창 계수와 적합하지 않게 되거나, 투광성이 저하되기 때문에 바람직하지 않다.
SiO2 는 유리의 골격을 형성하는 성분이고, 그 함유량은 3~20%, 바람직하게는 4~17%, 보다 바람직하게는 4~16% 이다. SiO2 가 3% 보다 적으면 유리가 불안정해지고, 20% 보다 많으면 연화점이 지나치게 높아져 560℃ 이하의 온도에서 소성할 수 없게 된다.
Li2O 는 유리의 연화점을 현저히 저하시키는 성분이고, 그 함유량은 0.2~6%, 바람직하게는 0.5~5% 이다. Li2O 가 0.2% 보다 적으면 연화점이 충분히 저 하되지 않기 때문에, 560℃ 이하의 온도에서 소성하기가 어려워진다. 한편, Li2O 가 6% 보다 많으면 현저히 유리가 불안정해지고 결정화되기 쉬워져, 드라이 필름과의 밀착성이 저하되거나, 격벽 형성 재료로서 소성하는 경우에, 결정이 석출되어 치밀한 소결체를 얻을 수 없게 된다.
한편, 유리의 안정성을 유지할 목적에서, Li2O 를 유리 중에 많이 첨가할 수 없는 경우, Li2O 와 마찬가지로 유리의 연화점을 저하시키는 성분인 Na2O 또는 K2O, 또는 양자를 병용하는 것이 바람직하다. 단, Na2O, K2O 의 함유량이 많아지면 유리의 안정성이 저하되어, 드라이 필름과의 밀착성 저하나, 치밀한 소결체를 얻을 수 없게 될 것이 우려되기 때문에, 함유량은, Na2O 를 9% 이하, 8% 이하, 특히 6% 이하, K2O 를 6% 이하, 특히 5% 이하로 제한하는 것이 바람직하다.
알칼리 성분에 관해서는 Li2O, Na2O 및 K2O 의 합계량의 함유량으로, 1~12%, 바람직하게는 2~10% 일 필요가 있다. 합계량으로 1% 보다 적으면, 유리의 연화점이 충분히 저하되지 않기 때문에 560℃ 이하의 온도에서 소성할 수 없게 된다. 한편, 12% 보다 많으면 유리가 불안정해지고 결정화되기 쉬워지므로, 드라이 필름과의 밀착성이 저하되거나, 유리의 내구성에 문제가 생긴다.
알칼리 금속 성분을 첨가하면 드라이 필름과의 밀착성이 저하되는 경향이 있다. 그래서, 밀착성을 개선하기 위해 Al2O3 를 함유시켜도 된다. 단, Al2O3 의 함유량이 많아지면 연화점이 상승하기 때문에, 1.5% 이하로 제한하는 것이 바람 직하다.
또한, 유리를 안정화시키기 위해서, BaO/(B2O3+SiO2) 의 비율을 0.1~0.8 의 범위 내로 하는 것이 바람직하다. 이 비율이 0.1 보다 작으면, 유리가 불안정해져, 격벽 형성 재료로서 소성하는 경우에 결정이 석출되어 치밀한 소결체가 되기 어려워진다. 또한, 0.8 보다 크면, 격벽 형성 재료의 열팽창 계수가 높아져 유리 기판의 열팽창 계수와 적합하지 않게 된다. 보다 바람직한 범위는 0.15~0.6 이다.
또한, 상기 성분 외에도, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서 다른 성분을 첨가할 수 있다. 예를 들어, 내수성이나 내약품성을 향상시키기 위해 MgO, CaO, SrO 등의 알칼리 토금속 산화물이나, Ta2O5, La2O3, SnO2, ZrO2, TiO2, Nb2O5 를, 또한 유리 안정화를 위해 P2O5 를 첨가해도 된다. 또, 이들 성분의 첨가량은 합계량으로 15% 이하, 14% 이하, 12% 이하, 특히 10% 이하로 제한하는 것이 바람직하다.
본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널용 격벽 형성 재료는, 페이스트나 그린시트 등의 형태로 사용할 수 있다.
페이스트의 형태로 사용하는 경우, 상기 서술한 격벽 형성 재료와 함께, 열가소성 수지, 가소제, 용제 등을 사용한다. 격벽 형성 재료의 페이스트 중 함유량으로는 30~90질량% 정도가 일반적이다. 페이스트의 점도로는, 200~1500 푸아즈가 바람직하다. 200 푸아즈 이하이면, 페이스트의 보관성에 문제가 있 고, 1500 푸아즈 이상에서는 인쇄성에 문제가 생긴다. 또한, 페이스트 점도가 1000 푸아즈 이하인 상태로 제공되는 경우는, 페이스트의 분리, 점도 저하, 수지의 열화 등을 미연에 방지하기 위해 0~3% 까지의 산화 방지제나 계면활성제를 첨가하는 것이 바람직하다. 또, 본 발명에서 말하는 점도란, 23℃, 전단 속도 5.7/초의 조건으로 측정했을 때의 값이다.
열가소성 수지는, 건조 후의 막 강도를 높이고, 또한 유연성을 부여하는 성분이고, 그 함유량은 0.1~20질량% 정도가 일반적이다. 열가소성 수지로는 폴리부틸메타크릴레이트, 폴리비닐부티랄, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리에틸메타크릴레이트, 에틸셀룰로오스 등이 사용 가능하고, 이들을 단독으로 또는 혼합하여 사용한다.
가소제는, 건조 속도를 컨트롤하는 동시에 건조막에 유연성을 부여하는 성분이고, 그 함유량은 0~10질량% 정도가 일반적이다. 가소제로는 부틸벤질프탈레이트, 디옥틸프탈레이트, 디이소옥틸프탈레이트, 디카프릴프탈레이트, 디부틸프탈레이트 등이 사용 가능하고, 이들을 단독으로 또는 혼합하여 사용한다.
용제는 재료를 페이스트화하기 위한 재료이고, 그 함유량은 10~30질량% 정도가 일반적이다. 용제로는, 예를 들어 테르피네올, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 2,2,4-트리메틸-1,3-펜타디올모노이소부틸레이트 등을 단독으로 또는 혼합하여 사용할 수 있다.
페이스트의 제작은, 격벽 형성 재료 (유리 분말 및 필러 분말), 열가소성 수지, 가소제, 용제 등을 준비하고, 이것을 소정 비율로 혼합 반죽함으로써 페이스트 로 할 수 있다.
이러한 페이스트를 사용하여, 예를 들어 격벽을 형성하기 위해서는, 우선 이들 페이스트를 스크린 인쇄법이나 일괄 코트법 등을 사용하여 도포하고, 계속해서 샌드블라스트법을 사용하여 불필요한 부분을 제거한 후, 소성하여 소정 형상의 격벽을 얻는다.
본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널용 격벽 형성 재료를 그린시트의 형태로 사용하는 경우, 상기 격벽 형성 재료와 함께, 열가소성 수지, 가소제 등을 사용한다.
격벽 형성 재료의 그린시트 중의 함유량은 60~80질량% 정도가 일반적이다.
열가소성 수지 및 가소제로는, 상기 페이스트의 조제시에 사용되는 것과 동일한 열가소성 수지 및 가소제를 사용할 수 있고, 열가소성 수지의 혼합 비율로는 5~30질량% 정도가 일반적이고, 가소제의 혼합 비율로는 0~10질량% 정도가 일반적이다.
그린시트를 제작하는 일반적인 방법으로는, 격벽 형성 재료와, 열가소성 수지 및 가소제를 준비하고, 이들에, 톨루엔 등의 주용매나, 이소프로필알코올 등의 보조용매를 첨가하여 슬러리로 한 다음, 이 슬러리를 닥터블레이드법에 의해 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 등의 필름 위에 시트 성형한다. 시트 성형 후, 건조시킴으로써 용매나 용제를 제거하여, 그린시트로 할 수 있다.
이상과 같이 하여 얻어진 그린시트를 유리층을 형성해야 할 지점에 열 압착하고, 그 후 소성함으로써, 유리층을 형성할 수 있다. 격벽을 형성하는 경우에 는, 열 압착하여 도포층을 형성한 후에, 상기 서술한 페이스트의 경우와 동일하게 하여 소정의 격벽 형상으로 가공한다.
상기 설명에 있어서는, 격벽 형성 방법으로서, 페이스트 또는 그린시트를 사용한 샌드블러스트법을 예로 설명하고 있지만, 이들 방법에 한정되는 것은 아니고, 인쇄 적층법, 리프트 오프법, 감광성 페이스트법, 감광성 그린시트법, 프레스 성형법 등 기타 형성 방법에도 적용될 수 있는 재료이다.
상기한 바와 같이 하여 제작되는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽은 투광성을 나타낸다. 투광성을 평가하는 파라미터로서, 유리 분말의 연화점에서 10 분간 소성한 후, 막두께가 30㎛ 환산에서의 550㎚ 의 확산 투과율값을 이용할 수 있다. 본 발명에서는, 이 값이 50% 이상, 특히 55% 이상이 되는 것이 바람직하다. 이 투과율값이 50% 이상이면, 플라즈마 디스플레이 패널의 휘도의 향상을 기대할 수 있다.
이하, 실시예에 기초하여 본 발명을 상세히 서술한다. 단, 본 발명은, 이하의 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
표 1 은, 본 실시예에 사용한 유리 분말 조성 (시료 A~I) 를, 표 2 는, 본 실시예에 사용하는 필러 분말 (시료 a~e) 을 나타내는 것이다. 또한, 표 3 ~ 표 5 는, 격벽 재료의 예 (시료 No.1~24) 와 그 평가 결과를 나타내는 것이다.
표 1 의 각 시료는 다음과 같은 방법으로 조제하였다. 우선 표에 나타내는 조성이 되도록 각종 산화물, 탄산염 등의 유리 원료를 조합하여 균일하게 혼합한 후, 백금 도가니에 넣어 1250℃ 에서 2 시간 용융하여 균일한 유리체를 얻었다. 이어서 이것을 알루미나 볼 밀로 분쇄하여, 평균 입경이 3 ㎛, 최대 입경이 20㎛ 인 유리 분말을 얻었다.
얻어진 유리 분말에 관해서 열팽창 계수, 연화점을 측정하였다. 그 결과, A~I 의 각 시료는 열팽창 계수가 69.3~83.0×10-7/℃, 연화점이 564℃ 이하였다.
Figure 112005012887937-pat00001
Figure 112005012887937-pat00002
다음에 표 1 의 유리 분말 및 표 2 의 필러 분말을 사용하여 격벽 재료를 조제하였다.
우선 표 3 ~ 표 5 에 나타내는 배합 비율이 되도록, 각 유리 분말과 각종 세라믹 필러 분말을 혼합하였다. 또, 표에 나타내는 배합 비율은 중량% 표시로 나타내고 있다. 다음에 얻어진 혼합물을, 에틸셀룰로오스의 테르피네올 용액과 혼합 반죽하여 격벽 형성용 페이스트로 하였다.
이 페이스트를 사용하여, 형상 유지성, 투과율, 막두께를 평가하였다. 또한, 유리 분말과 필러 분말로 이루어지는 혼합 분말을 사용하여 유전율을 평가하였다. 결과를 표에 나타낸다.
그리고 형상 유지성은 다음과 같은 방법으로 평가하였다. 우선, 2 장의 창 판유리 (판두께 1.7㎜) 를 준비하고, 각 유리판에 두께 200㎛ 의 도포층을 스크린 인쇄법에 의해 형성하였다. 다음에 도포층 상에 드라이 필름 레지스트 (DFR) 를 라미네이트하였다. 계속해서 이 레지스트를 마스크로 하고, 샌드블라스트법에 의해 레지스트로 덮여 있지 않은 부분을 제거하여, 격벽의 형상을 형성하였다. 다음에, 일방은 유리 분말의 연화점에서, 다른 일방은 유리 분말의 연화점보다 20℃ 높은 온도에서 각각 10 분간 소성하였다. 이렇게 해서 형성된 2 종류의 격벽의 높이, H (연화점), H (연화점+20℃) 를 평가하고, 그 변화율 (△H) 을 이하의 계산식에 의해 구하여, 격벽 재료로서의 형상 유지성을 평가하였다. 또, 격벽의 높이는, 격벽의 단면을 SEM (주사형 전자현미경) 관찰하여, 그 사진으로부터 구하였다.
△H = (H (연화점+20℃))/H (연화점))×100
또, 투과율 및 막두께는 다음과 같은 방법으로 평가하였다. 우선 상기와 같은 방법으로 창 판유리 (판두께 1.7㎜) 상에 소성막두께가 30±1㎛ 가 되도록 약 50㎛ 의 도포층을 형성하고, 유리 분말의 연화점에서 10 분간 소성함으로써 소성막을 제작하였다. 이렇게 해서 제작한 격벽에 대해서, 550㎚ 에서의 확산 투과율을 측정하였다. 다시 이 값을 막두께 30㎛ 로 환산하여, 투과율로서 기재하였다. 또, 확산 투과율은 시마즈제 분광 광도계 UV-3100 로 적분구가 장착된 검출기 하에 측정하여, 유리 기판이 포함된 값을 측정하였다. 또한, 각 시료의 막두께는 소성 후의 막두께에 대해 평가한 값이고, 마이크로미터로 측정하였다.
또한, 유전율은 혼합된 분말을 금속제의 금형에서 원반모양으로 프레스하고, 560℃ 에서 소성한 후에, 2㎜ 의 두께로 연마하여 원반 시료를 제작하였다. 그 후, Ag 전극을 양면에 형성하고, 요코가와 휴렛패커드 주식회사 제 LCR 미터에 의해 주파수 1MHz 에서의 값을 측정하였다.
Figure 112005012887937-pat00003
Figure 112005012887937-pat00004
Figure 112005012887937-pat00005
따라서, 본 발명 BaO 함유량이 적은 ZnO-B2O3 계 유리 분말을 사용한 경우라도, 투광성을 갖는 격벽을 형성 가능한 플라즈마 디스플레이 패널용 격벽 형성 재료를 제공할 수 있다

Claims (15)

  1. ZnO-B2O3 계 유리 분말 60~90질량% 와 필러 분말 10~40질량% 를 함유하고, 상기 필러 분말의 20~100질량% 를 멀라이트 분말이 차지하고,
    상기 ZnO-B2O3 계 유리 분말은 질량 백분율로 ZnO 30~60%, B2O3 15~35%, BaO 0~25%, SiO2 3~20%, Li2O 0.2~6%, Li2O+Na2O+K2O 1~12% 함유하는 무연유리로 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 격벽 형성 재료.
  2. 제 1 항에 있어서, 멀라이트 분말이 필러 분말의 30~100질량% 를 차지하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 격벽 형성 재료.
  3. 제 1 항에 있어서, ZnO-B2O3 계 유리 분말이 60~85중량% 이고, 필러 분말이 15~40중량% 인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 격벽 형성 재료.
  4. 제 1 항에 있어서, 멀라이트 분말의 50% 평균 입자직경이 0.5~6㎛ 인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 격벽 형성 재료.
  5. 삭제
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  9. 삭제
  10. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항의 격벽 형성 재료를 함유하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성용 페이스트.
  11. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항의 격벽 형성 재료를 함유하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성용 그린시트.
  12. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항의 격벽 형성 재료를 사용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽.
  13. 제 10 항의 격벽 형성용 페이스트를 사용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽.
  14. 제 11 항의 격벽 형성용 그린시트를 사용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽.
  15. 제 12 항에 있어서, 막두께 30㎛ 환산에서의 550㎚ 의 확산 투과율값이, 유리 기판 포함 투과율값으로 50% 이상인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽.
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