KR101115219B1 - 가요성 전기 도전성 필름 - Google Patents

가요성 전기 도전성 필름 Download PDF

Info

Publication number
KR101115219B1
KR101115219B1 KR1020057002611A KR20057002611A KR101115219B1 KR 101115219 B1 KR101115219 B1 KR 101115219B1 KR 1020057002611 A KR1020057002611 A KR 1020057002611A KR 20057002611 A KR20057002611 A KR 20057002611A KR 101115219 B1 KR101115219 B1 KR 101115219B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
layer
delete delete
metal
film
visible light
Prior art date
Application number
KR1020057002611A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20050050082A (ko
Inventor
로버트 제이. 플레밍
크리스토퍼 에스. 라이온즈
클라크 아이. 브라이트
에드워드 제이. 앤더슨
브라이언 엘. 코스터
마리아 엘. 젤린스키
Original Assignee
쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 filed Critical 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니
Publication of KR20050050082A publication Critical patent/KR20050050082A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101115219B1 publication Critical patent/KR101115219B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B3/00—Ohmic-resistance heating
    • H05B3/84—Heating arrangements specially adapted for transparent or reflecting areas, e.g. for demisting or de-icing windows, mirrors or vehicle windshields
    • H05B3/86—Heating arrangements specially adapted for transparent or reflecting areas, e.g. for demisting or de-icing windows, mirrors or vehicle windshields the heating conductors being embedded in the transparent or reflecting material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
    • B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
    • B32B17/10—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
    • B32B17/10005—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing
    • B32B17/10009—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing characterized by the number, the constitution or treatment of glass sheets
    • B32B17/10036—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing characterized by the number, the constitution or treatment of glass sheets comprising two outer glass sheets
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
    • B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
    • B32B17/10—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
    • B32B17/10005—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing
    • B32B17/10165—Functional features of the laminated safety glass or glazing
    • B32B17/10174—Coatings of a metallic or dielectric material on a constituent layer of glass or polymer
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
    • B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
    • B32B17/10—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
    • B32B17/10005—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing
    • B32B17/1055—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing characterized by the resin layer, i.e. interlayer
    • B32B17/10706—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing characterized by the resin layer, i.e. interlayer being photo-polymerized
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
    • B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
    • B32B17/10—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
    • B32B17/10005—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing
    • B32B17/1055—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing characterized by the resin layer, i.e. interlayer
    • B32B17/10761—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing characterized by the resin layer, i.e. interlayer containing vinyl acetal
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
    • B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
    • B32B17/10—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
    • B32B17/10005—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing
    • B32B17/10807—Making laminated safety glass or glazing; Apparatus therefor
    • B32B17/10816—Making laminated safety glass or glazing; Apparatus therefor by pressing
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/36—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B38/00—Ancillary operations in connection with laminating processes
    • B32B38/0008—Electrical discharge treatment, e.g. corona, plasma treatment; wave energy or particle radiation
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04—Interconnection of layers
    • B32B7/10—Interconnection of layers at least one layer having inter-reactive properties
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B38/00—Ancillary operations in connection with laminating processes
    • B32B2038/0052—Other operations not otherwise provided for
    • B32B2038/0076—Curing, vulcanising, cross-linking
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B38/00—Ancillary operations in connection with laminating processes
    • B32B2038/0052—Other operations not otherwise provided for
    • B32B2038/0092—Metallizing
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2309/00—Parameters for the laminating or treatment process; Apparatus details
    • B32B2309/60—In a particular environment
    • B32B2309/62—Inert
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2309/00—Parameters for the laminating or treatment process; Apparatus details
    • B32B2309/60—In a particular environment
    • B32B2309/68—Vacuum
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2310/00—Treatment by energy or chemical effects
    • B32B2310/14—Corona, ionisation, electrical discharge, plasma treatment
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2329/00—Polyvinylalcohols, polyvinylethers, polyvinylaldehydes, polyvinylketones or polyvinylketals
    • B32B2329/06—PVB, i.e. polyinylbutyral
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B2203/00—Aspects relating to Ohmic resistive heating covered by group H05B3/00
    • H05B2203/017—Manufacturing methods or apparatus for heaters
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T156/00—Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10T156/10—Methods of surface bonding and/or assembly therefor
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31551—Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
    • Y10T428/31616—Next to polyester [e.g., alkyd]
    • Y10T428/3162—Cross-linked polyester [e.g., glycerol maleate-styrene, etc.]
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31551—Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
    • Y10T428/31627—Next to aldehyde or ketone condensation product
    • Y10T428/3163—Next to acetal of polymerized unsaturated alcohol [e.g., formal butyral, etc.]
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31551—Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
    • Y10T428/31645—Next to addition polymer from unsaturated monomers
    • Y10T428/31649—Ester, halide or nitrile of addition polymer
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31678—Of metal
    • Y10T428/31692—Next to addition polymer from unsaturated monomers
    • Y10T428/31699—Ester, halide or nitrile of addition polymer

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)
  • Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)
  • Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
  • Manufacturing Of Electric Cables (AREA)

Abstract

전기 도전성 필름은 가시광 투과 가교 결합된 중합층에 의해 분리된 전기 접속된 제1 및 제2 가시광 투과 금속 또는 금속 합금층을 포함한다. 필름은 창유리(특히, 비평면 차량 안정 창유리)에 결합 또는 적층되어 금속 또는 금속 합금층이 손상되거나 변형될 가능성을 감소시킬 수 있다. 필름은 또한 전자기 간섭을 야기하거나 그에 민감한 장치를 투명하게 차폐하여 금속 또는 금속 합금층이 파단될 가능성을 감소시킬 수 있다.
전기 도전성 필름, 창유리, 중합층, 금속 또는 금속 합금층, 적층체

Description

가요성 전기 도전성 필름 {FLEXIBLE ELECTRICALLY CONDUCTIVE FILM}
본 발명은 전기 도전성 필름 및 그로부터 제조된 광학 제품에 관한 것이다.
창유리 재료는 종종 창유리의 성능을 향상시키도록 가공된 하나 이상의 기능층을 포함한다. 한 가지 중요한 기능층은 적외 방사선의 투과성을 감소시킨다. 적외선 차단성 기능층은 통상적으로 원하지 않는 태양 방사선을 반사하거나 흡수하는 부분 투과성의 금속화된 또는 염색된 중합체 필름으로 제조된다. 이러한 기능층을 설명하는 참고문헌은 미국 특허 제4,590,118호, 제4,639,069호 및 제4,799,745호를 포함한다. 금속화된 필름 구조를 채용한 도전성 기능층은 또한 안테나, 전자기 간섭(EMI) 차폐와 같은 목적 및 창유리와 디스플레이의 서림 제거, 안개 제거, 성에 제거 또는 제빙과 같은 전기 가열식 필름 용도로 사용될 수 있다. 전기 가열식 필름 적용예는 현저한 전류 전달 능력을 요구할 수 있지만, 가시광 투과가 필요할 때, 매우 얇은(이에 따라, 매우 깨지기 쉬운) 금속 또는 금속 합금층을 채용해야 한다. 이러한 전기 가열식 필름 적용예를 설명하는 참고문헌은 미국 특허 제3,529,074호, 제4,782,216호, 제4,786,783호, 제5,324,374호 및 제5,332,888호를 포함한다. 전기 가열식 필름은 특히 차량 안전 창유리에 중요하다. 종래 차량 안전 창유리는 두 개의 강성층, 일반적으로, 통상 가소화된 폴리비닐 부 티랄("PVB")인, 베임 방지성(anti-lacerative) 기계적 에너지 흡수층과 유리의 적층체이다. 전기 가열식 창유리는 PVB층, 전기 가열식 필름 층 및 유리층 사이의 적절한 전극을 배치하고, 결합된 면으로부터 공기를 제거하고, 그 후 PVB, 전기 가열식 필름층 및 유리를 광학적 투명 구조물에 융합 접합시키도록 고압용기내에서 상승된 압력 및 온도하에 그 조립체를 배치함으로써 제조된다. 그 결과적인 전기 가열식 안전 창유리는 예를 들어, 자동차, 항공기, 열차 또는 다른 차량의 윈드실드, 백라이트, 채광창 또는 측면 윈도우에 사용될 수 있다.
차량 공기 역학성을 향상시키고 외부 가시성을 개선시키기 위해, 많은 차량 윈도우 형상은 편평하지 않고 점차 상당한 각도 및 복합적 곡선을 포함한다. 이러한 각도 및 곡선은 전기 가열식 기능층을 차량 유리창에 적층하는 것을 어렵게 한다. 때로는 전기 또는 광학 결함이 적층 직후에 발생하고 때로는 창유리의 사용중에 손상이 발생한다.
전기 도전성 기능층의 신장은 긁힘 또는 금(fissure)과 같은 결함을 야기할 수 있다. 전기 가열식 필름에서 이러한 결함은 필름이 전류가 가해질 때, 특히 긁힘 또는 금이 전기 가열식 기능층을 통한 전류 유동 방향에 직각으로 배향될 때 고온 스팟을 형성시킬 수 있다. EMI 차폐부에서, 이러한 결함은 전자기 에너지 누설을 야기할 수 있다.
이러한 결함이 이러한 층의 부식 경향에 의해서 또는 투명 도전성 층의 깨짐에 의해 부분적으로 야기될 수 있는 것으로 믿어진다. 투명 도전성 층의 적층체를 함유한 필름에서, 층간 거리의 국부적인 변화는 필름이 사용시 온도 변화에 노출되거나 또는 취급(예를 들어, 유리창안으로 적층되거나 또는 EMI 차폐물 안에 형성)되는 경우 발생될 수 있는 신장, 가열 및 냉각에 의해 야기될 수 있다. 이들 난점은 도전성 기능층의 적층체를 함유한 필름이 PVB에 인접하게 위치될 때 악화될 수 있는 것으로 믿어진다. PVB 시트는 통상, 상당한 양의 가소제 및 다른 보조제를 함유한다. 이러한 보조제는 필름층으로 이동할 수 있어서 도전성 기능층 사이의 거리의 국부적인 변화를 야기할 수 있는 부식, 융기 또는 다른 영향을 야기한다고 여겨진다.
본 출원은 전기 도전성 가시광 투과 필름을 제조하는 방법을 개시하며,
a) 가시광 투과 가요성 지지체를 제공하는 단계와,
b) 지지체 위에 가시광 투과 제1 금속 또는 금속 합금층을 형성하는 단계와,
c) 제1 금속 또는 금속 합금층 위에 유기층을 형성하는 단계와,
d) 가시광 투과 가교 결합된 중합층을 형성하도록 유기층을 가교 결합하는 단계와,
e) 가교 결합된 중합층 위에 가시광 투과 제2 금속 또는 금속 합금층을 형성하는 단계와,
f) 제1 및 제2 금속 또는 금속 합금층 중 적어도 하나에 하나 이상의 전극을 접속하는 단계를 포함한다.
그 결과적인 필름은 제1 및 제2 금속 또는 금속 합금층 사이에 무기물층 또는 가교 결합되지 않은 유기물층을 채용한 필름보다 더 우수한 성형성 및 손상 내성을 갖는다.
본 출원은 또한 전기 가열식 창유리 제품을 제조하는 방법을 개시하며, 가시광 투과 가교 결합된 중합층에 의해 분리된 제1 및 제2 가시광 투과 금속 또는 금속 합금층을 구비한 가시광 투과 필름 및 창유리 재료의 층을 조립하는 단계와, 창유리 재료와 필름을 함께 단일 제품으로 접합하는 단계와, 적어도 하나의 금속 또는 금속 합금층에 하나 이상의 전극을 접속하는 단계를 포함한다.
본 출원은 또한 전기 가열식 적층 제품을 제조하는 방법을 개시하고,
a) 제1 창유리 재료층, 제1 기계적 에너지 흡수층, 가교 결합된 중합층에 의해 분리된 제1 및 제2 금속 또는 금속 합금층을 구비한 가시광 투과 가요성 필름층, 전류가 금속 또는 금속 합금층에 공급되게 하는 전극, 제2 기계적 에너지 흡수층 및 제2 창유리 재료층을 조립하는 단계와,
b) 층 사이로부터 잔류 공기를 제거하는 단계와,
c) 층과 전극을 함께 단일 제품으로 접합하도록 층을 가열하고 압력을 인가하는 단계를 포함한다.
본 출원은 가시광 투과 가교 결합된 중합층에 의해 분리된 전기 접속된 제1 및 제2 가시광 투과 금속 또는 금속 합금층을 포함하는 전기 도전성 가시광 투과 필름을 더 개시한다.
본 출원은 또한 가시광 투과 가교 결합된 중합층에 의해 분리된 제1 및 제2 가시광 투과 금속 또는 금속 합금층을 구비한 가시광 투과 필름에 결합된 기계적 에너지 흡수 재료의 적어도 하나의 층을 포함하고 전류가 금속 또는 금속 합금층에 공급되게 하는 전극을 더 포함하는 안전 창유리 예비 적층체를 개시한다.
본 출원은 또한 가시광 투과 가교 결합된 중합층에 의해 분리된 제1 및 제2 가시광 투과 금속 또는 금속 합금층을 구비한 가시광 투과 필름에 결합된 창유리 재료의 적어도 하나의 층을 포함하고 전류가 금속 또는 금속 합금층에 공급되게 하는 전극을 더 포함하는 전기 가열식 창유리 제품을 개시한다. 바람직하게는 이런 창유리 제품의 창유리 재료는 유리를 포함하고, 창유리 제품은 필름과 유리 사이에 접착층을 포함한다.
본 출원은 가교 결합된 가시광 투과 중합층에 의해 분리된 제1 및 제2 가시광 투과 금속 또는 금속 합금층을 가진 필름을 구비한, 윈드실드, 백라이트, 측면 윈도우 또는 채광창 중 적어도 하나를 포함하고 전류가 금속 또는 금속 합금층에 공급되게 하는 전극을 더 포함하는 전기 가열식 창유리를 구비한 차량을 더 개시한다.
가교 결합된 중합층에 의해 분리된 다중 전기 도전성 금속 또는 금속 합금층의 사용은 접합, 휨, 신장 상태에 있을 때 박리, 파열 또는 전류 차단에 대한 증가된 내성을 갖는 제품을 제공한다. 바람직하게는 층은 만곡 또는 주름에도 불구하고 필름에 0.15W/cm2 이상의 전력 인가 후에 전기 도전성을 유지한다. 층은 부식 조건에 노출 후에 전기 도전성을 유지하는 것이 더욱 바람직하다.
상기의 개괄적인 요약은 독자의 편의를 위해 제공되었다. 이는 본 발명의 범주가 청구범위에 의해 규정되기 때문에, 때대로 보정될 수 있으므로, 본 명세서에 첨부된 청구범위와 대체 도는 혼동되지 않아야 한다.
도1은 전기 가열식 제품의 개략 단면도이다.
도2는 필름의 개략 단면도이다.
도3은 다른 필름의 개략 단면도이다.
도4는 예비 적층체의 개략 단면도이다.
도5는 다른 예비 적층체의 개략 단면도이다.
도6은 전기 가열식 윈드실드의 개략 단면도이다.
도7은 도6의 윈드실드의 사시도이다.
도8은 개시된 방법을 수행하기 위한 장치의 개략도이다.
도9는 전기 가열식 건축 유리창의 개략 단면도이다.
도10 및 도11은 두 개의 개시된 필름에 대한 투과율과 반사율을 도시한 그래프이다.
도12 내지 도14는 세 개의 개시된 필름에 대한 컨덕턴스 대 스트레인(strain)을 도시한 그래프이다.
도15는 개시된 필름의 투과율과 반사율을 도시한 그래프이다.
도면의 다양한 그림에서 유사한 참조 기호는 유사한 요소를 나타낸다. 도면에서 그 요소들은 축척대로 그려진 것이 아니다.
본 발명의 필름 또는 제품의 다양한 층의 위치에 대해 "위에", "상에" 및 " 최상위" 등과 같은 방향의 용어를 사용하여, 수평 지지층에 대해 하나 이상의 층의 상대적인 위치를 의미한다. 필름 또는 제품은 그 제조 동안 또는 그 이후에 공간적인 소정의 특정 배향을 가져야 하는 것은 아니다.
"가교 결합된(crosslinked)" 중합체는, 망상(network) 중합체를 형성하기 위해 보통 가교 결합된 분자 또는 그룹을 경유한 화학적 공유 결합에 의해 중합체 사슬이 함께 결합되는 중합체를 의미한다. 가교 결합된 중합체는 일반적으로 불용성을 특징으로 하지만, 적절한 용매로 팽창될 수 있다. "중합체"라는 용어는 동형중합체(homopolymer) 및 공중합체와, 예를 들어, 에스테르 교환 반응(transesterification)을 포함하는 반응 또는 공압출(coextrusion)에 의해 혼합가능한 혼합물에 형성될 수 있는 동형중합체 또는 공중합체를 포함한다. "공중합체"라는 용어는 랜덤 및 블록 공중합체 모두를 포함한다.
"가시광 투과" 지지체, 층, 필름 또는 제품은 지지체, 층, 필름 또는 제품이 수직축을 따라 측정된 적어도 약 20%의 스펙트럼의 가시 부분에서의 투과성(Tvis)을 갖는 것을 의미한다. "적외선 반사" 지지체, 층, 필름 또는 제품은 지지체, 층, 필름 또는 제품이 근수직 각(예를 들어, 약 6°의 입사각)에서 측정된 약 700nm 내지 약 2000nm의 범위의 파장 범위에서 적어도 100nm 폭의 대역에서 광의 적어도 약 50%를 반사시키는 것을 의미한다. "광"은 태양 방사선을 의미한다.
"비평면" 표면 또는 제품(예를 들어, 유리 또는 다른 창유리 재료)은 표면 또는 제품이 연속적, 단속적, 일방향성 또는 복합 곡률을 갖는 것을 의미한다. " 복합 곡률"을 구비한 표면 또는 제품은 그 표면 또는 제품은 단일 지점으로부터 두 개의 상이한 비선형 방향으로 만곡하는 것을 의미한다.
"확장가능한" 금속 또는 금속 합금층은 가시광투과 필름으로 합체될 때 약 0.25미터의 거리에서 나안으로 검출되는 경우 금속 또는 금속 합금층의 표면에 가시적 불연속부를 형성하지 않고 전기 연속성의 손실 없이 배치된 방향으로 적어도 3%만큼 신장될 수 있는 층을 의미한다.
"실질적인 균열 또는 구김 없이"는 제품에 적층되어 있으면서, 약 1미터, 바람직하게는 약 0.5미터의 거리에서 나안으로 검출되는 경우 금속 또는 금속 합금층 또는 필름의 표면에 가시적 불연속부가 없는 필름을 의미한다. "실질적인 주름없이"는, 제품에 적층되어 있으면서, 약 1미터, 바람직하게는 약 0.5미터의 거리에서 나안을 이용하여 검출될 때 완만한 필름면의 수축을 가져오는 작은 릿지 또는 주름이 없는 필름을 의미한다. "광학적으로 투명한"은, 약 1미터, 바람직하게는 약 0.5미터의 거리에서 나안에 의해 검출될 때 가시적으로 지각할 수 있는 비틀림, 흐릿함 또는 흠이 없는 적층된 제품을 의미한다.
"전기 접속된" 층에 의해, 적어도 하나의 접지 전극(예를 들어, EMI 차폐 적용예용) 또는 회로(예를 들어, 가열, 침입 탐지 또는 다른 전류 운반 또는 정전용량성 응용분야를 위한)의 부분을 형성하는 두 개 이상의 전극에 접속된 도전성 층을 의미한다.
도1을 참조하면, 전기 가열식 제품(10)은 가요성 플라스틱 지지층(14), 금속 또는 금속 합금의 제1 층(16), 가교 결합된 중합층(18) 및 금속 또는 금속 합금의 제2 층(20)을 구비한 반사 기능층(12)을 포함한다. 간략화를 위해, 층(16, 20)과 같은 금속 또는 금속 합금층을 "금속층"으로 언급한다. 금속층(16, 18)은 전극(24, 26, 28, 30), 버스 바아(32, 34) 및 접속 배선(36, 38)를 통해 전압원(22)에 병렬 접속된다. 기능층(12)은 PVB층(40, 42)에 그 주 표면 양자 모두가 접합된다. PVB층(40, 42)은 순차적으로 유리 시트(44, 46)에 접합된다. 전류는 금속층(16, 18)을 통해 유동하고 기능층(12)과 유리 시트(44, 46)를 전기적으로 가열한다.
도2를 참조하면, 필름은 총칭하여 110으로 도시된다. 필름(110)은 폴리에틸렌 테레프탈레이트("PET")와 같은 가시광 투과 플라스틱 필름으로 형성된 가요성 지지체(112)를 포함한다. 페브리-페롯(Favry-Perot) 4분치파 간섭 스택(114)은 지지체(112) 위에 놓인다. 스택(114)은 은으로 형성된 제1 가시광 투과 금속층(116), 가교 결합된 아크릴레이트 중합체로 형성된 가시광 투과층(118) 및 은으로 형성된 제2 가시광 투과 금속층(120)을 포함한다. 가교 결합된 중합층(118)은 더 상세히 후술될 바와 같이, 제1 금속 또는 합금층(116) 위에 현장 형성된다. 가교 결합된 아크릴레이트 중합체로 형성된 광학 보호층(122)은 제2 금속층(120) 및 스택(114)의 위에 놓인다. 스택(114)과 같은 페브리-페롯 4분치파 스택에서, 금속층(116, 120) 및 개재식 가교 결합된 중합층(118)의 두께가 주의깊게 선택된다. 금속층(116, 120)은 부분 반사 및 부분 투과성이 되도록 충분히 얇다. (간략화를 위해 "이격층" 또는 "유전체층"으로 언급될 수 있는) 가교 결합된 중합층(118)은 원하는 통과 대역의 중심의 약 1/4 파장인 (원래 굴절률의 몇 배의 유전체 층의 물리적 두께로서 정의된) 광학 두께를 갖는다. 그 파장이 통과 대역 내에 있는 광은 주로 얇은 금속층(116, 120)을 통해 투과된다. 그 파장이 통과 대역 위에 있는 광은 얇은 금속층(116, 120)에 의해 주로 반사되거나 파괴적 간섭으로 인해 상쇄된다.
도3에서, 다른 필름이 총칭하여 130으로 도시되어 있다. 필름(130)은 필름(110)과 유사하지만, 지지체(112)와 스택(114) 사이에 가교 결합된 아크릴레이트 중합체로 형성된 베이스 코팅층(132)을 포함한다.
도4는 예비 적층체(140)를 도시한다. 예비 적층체(140)는 필름(130)의 보호층(122)에 결합된 PVB로 형성된 기계적 에너지 흡수층(134)을 포함한다.
도5는 다른 예비 적층체(150)를 도시한다. 예비 적층체(150)는 필름(140)의 지지체(112)에 결합된 제2 기계적 에너지 흡수층(134)을 포함한다. 이는 도4에 도시된 예비 적층체보다 더욱 내구성 있는 예비 적층체를 제공한다.
도6은 적층된 안전 윈드실드(160)의 단면도를 도시한다. 윈드실드(160)는 곡률 반경이 윈드실드(160)의 중심 구역(도6에 파선으로 도시됨)에 인접하여 상대적으로 크지만, 윈드실드(160)의 급격하게 만곡된 단부 구역(161, 163)에 인접하여 상대적으로 작은 값으로 감소되는 연속적으로 만곡된 표면을 갖는다. 도6에 도시된 바와 같이, 닙 롤러(166, 168)는 두 개의 유리판(32a, 32b) 사이에 예비 적층체를 탈기 및 점착하도록 사용된다. 적층 과정은 통상 압력하에서 고압 용기(도6에 도시되지 않음)에서 윈드실드를 가열함으로써 완성된다.
도7은 도6의 윈드실드(160)의 사시도이다. 만곡부(161, 162, 163, 164)는 복합 곡률을 갖는다. 예비 적층체(150)가 윈드실드(160)를 형성하는 공기제거/적 층화와 고압 용기 단계 동안 다소 수축되면, 윈드실드(160)를 통해 주름없는 외관을 얻기가 보다 용이해질 것이다.
개시된 필름은 가시광 투과 가요성 지지체를 포함한다. 양호한 지지체는 550nm에서 적어도 약 70%의 가시광 투과율을 갖는다. 특히 양호한 지지체는 폴리에스테르(예컨대, PET), 폴리아크릴레이트(예컨대, 폴리메틸메타아크릴레이트), 폴리카보네이트, 폴리프로필렌, 고/저밀도 폴리에틸렌, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리설폰, 폴리에테르설폰, 폴리우레탄, 폴리아미드, 폴리비닐부티랄, 폴리비닐클로라이드, 폴리비닐리덴디플로라이드 및 폴리에틸렌설파이드와 같은 열가소성 플라스틱 필름과, 셀룰로오스유도체, 폴리이미드, 폴리이미드벤조사졸 및 폴리벤조사졸과 같은 열경화성 플라스틱 필름을 포함하는 가요성 플라스틱 재료이다.
지지체는 "강화 열 거울 필름(Enhanced Heat Mirror Films)"을 발명의 명칭으로 하여 공동 계류중인 미국 출원 번호 제10/222,473호에 설명된 바와 같이 적어도 하나의 가교 결합된 중합체 층과 금속 또는 금속 합금층으로 코팅된 다층 광학필름(MOF)일 수도 있다.
PET와 MOF로 제조된 지지체가 특히 바람직하다. 양호하게는, 지지체가 약 0.01 내지 약 1mm의 두께를 갖는다.
개시된 필름은 적외선 차단 파브리 페롯(Fabry-Perot) 광학 간섭 적층을 포함한다. 각각의 이러한 적층은 가교 결합된 중합층의 제1 금속층 및 제2 금속층을 포함한다. 이러한 하나 이상의 적층은 필요시 필름 내에 있을 수 있다. 추가의 적층은 이전 적층의 위에 가교 결합된 중합층과 금속층을 추가 배치함으로써 편리 하게 형성될 수 있다. 이러한 적층을 포함한 필름은 "폴리머-금속 적외선 간섭 필터(Polymer-Metal Infrared Interference Filter)"를 발명의 명칭으로 하여 공동 계류중인 미국 출원 번호 제10/222,466호와 전술한 미국 출원 번호 제10/222,473호에 설명되어 있다. 상기 출원의 파브리-페로 적층과 MOF 지지체는 파브리 페롯 스택 또는 MOF 지지체 만을 포함하는 필름에 비하여 확장된 적외 방사선 반사 적외선 차단 필름을 제공하기 위해 결합한다. 파브리 페롯 간섭 적층에서 가교 결합된 중합체 이격 층을 이용하면 금속층의 손실이나 층간의 이격 변경없이 필름을 더 용이하게 위치조정되게 한다. MOF 지지체가나 마감처리된 필름을 배향하고 선택적으로 열 경화(heat-setting)함으로써 비평탄 표면에 대한 필름의 적응도를 향상시킬 수 있다.
개시된 제품의 제1, 제2 및 다른 추가 금속층은 서로 동일하거나 또는 다를 수 있다. 양호한 금속 재료는 은, 금, 동, 니켈 및 크롬 원자를 포함하는데, 은이 특히 양호하다. 스테인레스강과 같은 합금 또는 서로 또는 다른 금속과의 혼합물에서 이들 금속의 분산체와 같은 합금이 채용될 수도 있다. 금속층이 동일한 두께를 가질 필요는 없다. 양호하게는, 금속층은 연속성을 갖도록 충분히 두껍고, 필름과 필름을 포함한 제품이 원하는 정도의 가시광 투과율을 갖는 것을 보장하도록 충분히 얇다. 양호하게는, 금속층의 물리적 두께(광학 두께에 대향됨)는 약 3 내지 약 50nm이고, 보다 양호하게는 약 4 내지 약 15nm이다. 통상 제1 금속층은 전술한 지지체 위에 증착시킴으로써 형성된다. 제1, 제2 및 다른 추가 금속층은 양호하게는, 스퍼터링(예컨대, 캐소드 또는 평면 마그네트론 스퍼터링), 증발법(예컨 대, 저항 또는 전자 비임 증발법), 화학 증착, 도금과 같은 필름 금속화 기술을 이용하여 인가된다.
제1 금속층의 평탄성 및 연속성과 지지체에 대한 점착성은 지지체의 적절한 전처리에 의해 양호하게 향상된다. 양호한 전처리 공정은 반응 또는 비반응의 대기(예컨대, 플라즈마, 발광 방전, 코로나 방전, 유전체 차단부 방전 또는 대기압 방전) 상태에서 지지체의 전기 방전 전처리와 화학적 전처리, 불꽃 전처리 또는 미국 특허 제3,601,471호와 제3,682,528호에 개시된 산화물과 합금과 같은 핵 형성층의 인가를 포함한다. 이러한 전처리는 지지체의 표면이 순차적으로 적용된 금속층에 수용되는 것을 보장한다. 플라즈마 전처리가 특히 양호하다. 보다 더 양호한 전처리 공정은 선택적으로 플라즈마를 사용한 추가적인 전처리 또는 전술한 다른 하나의 전처리에 따른 적층체(132)와 같은 무기 또는 유기 베이스 코팅층을 갖는 지지체 코팅을 포함한다. 유기 베이스 코팅층, 특히 아크릴레이트 중합체의 가교 결합에 기초한 베이스 코팅층이 특히 양호하다. 가장 양호하게는, 베이스 코팅층은 순간 증발법(flash evaporation)과 방사선-가교결합형 단량체(예컨대, 아크릴레이트 단량체)의 증착에 의해 형성되고, 미국 특허 제4,696,719호, 제4,722,515호, 제4,842,893호, 제4,954,371호, 제5,018,048호, 제5,032,461호, 제5,097,800호, 제5,125,138호, 제5,440,446호, 제5,547,908호, 제6,045,864호, 제6,231,939호와 제6,214,422호, PCT 출원 공개 제WO 00/26973호, 디. 지. 쇼우(D. G. Shaw)와 엠. 지. 랑글로이스(M. G. Langlois)의 "코팅 용지와 중합체 웨브를 위한 신 증착 공정(A New Vapor Deposition Process for Coating Paper and Polymer Webs)" - 6회 세계 진공코팅회의(1992년), 디. 지. 쇼우(D. G. Shaw)와 엠. 지. 랑글로이스(M. G. Langlois)의 "증착 아크릴레이트 박막 필름을 위한 신 고속 공정, 증보판(A New High Speed Process for Vapor Depositing Acrylate Thin Films: An Updates)" - 진공피막협회 36회 연례 기술 회의(1993년), 디. 지. 쇼우(D. G. Shaw)와 엠. 지. 랑글로이스(M. G. Langlois)의 "금속화 필름의 차단 특성을 증가시키기 위한 증착 아크릴레이트 코팅의 이용(Use of Vapor Deposited Acrylate Coating to Improve the Varrier Properties of Metalized Film)" - 진공 피막 협회 37회 연례 기술 회의(1994년), 디. 지. 쇼우(D. G. Shaw), 엠. 로리지(M. Roehrig), 엠. 지. 랑글로이스(M. G. Langlois)와 시. 쉬한(C. Sheehan)의 "폴리에스테르와 폴리프로필렌 필름 기판의 표면을 평탄하게 하는 증발 아크릴레이트 코팅의 이용(Use of Evaporated Acrylate Coating to Smooth the Surface of Polyester and Polipropylene Film Substrates)" - 래드테크(1996년), 제이. 아피니토(J. Affinito), 피. 마틴(P. Martin), 엠. 그로스(M. Gross), 씨. 코로나도(C. Coronado)와 이. 그린웰(E. Greenwell)의 "광학 용도의 진공 증착 중합체/금속 다층 필름(Vacuum deposited polymer/metal multilayer films for optical application)"-박막 고체 필름 270, 43-48(1995년), 그리고 제이. 디. 아피니토(J. D. Affinito), 엠. 이. 그로스(M. E. Gross), 씨. 에이. 코로나도(C. A. Coronado), 지. 엘. 그라프(G. L. Graff), 이. 엔. 그린웰(E. N. Greenwell)과 피. 엠. 마틴(P. M. Martin)의 "중합-산화체 투과 차단층(Polymer-Oxide Transparent Barrier Layers): - 진공 피막 협회 39차 연례 기술회의(1996년)에 개시된 바와 같 이 그 자리(예컨대, 전자 비임 장치, UV 광원, 전기 방전 장치 또는 다른 적당한 장치를 사용함)에서 가교 결합에 따른다. 필요에 따라 베이스 코팅은 또한 롤 코팅(예, 그라비어 롤 코팅) 또는 스프레이 코팅(예컨대, 정전기 스프레이 코팅)과 같은 종래의 코팅 방법을 이용할 수 있는데, 있어서 예를 들어, UV 방사선을 이용하여 가교 결합된다. 필요한 베이스 코팅층의 화학적 조성과 두께는 지지체의 특성에 따른다. 예를 들어, 양호하게는 PET 지지체용 베이스 코팅층은 아크릴레이트 단량체로 형성되고 통상 수 nm에서 약 2마이크로미터의 두께를 갖는다.
베이스 코팅층에 제1 금속층을 부착하는 것은 베이스 코팅층에 점착 촉진 또는 부식 방지 첨가제를 포함한 것에 의해 더 향상될 수 있다. 이는 표면 에너지 또는 베이스 코팅층과 제1 금속층 사이 경계부의 다른 관련된 특성에 영향을 줄 수 있다. 적절한 점착 촉진 또는 부식 방지 첨가제는 메르캅탄, 씨올(thiol) 함유 화합물, 산(카르복실산 또는 유기 인산과 같음), 트리아졸(triazoles), 염료와 습윤제를 포함한다. 에틸렌글리콜 비스-씨오글리콜레이트(bis-thioglycolate)(미국 특허 제4,645,714호에 설명됨)가 특히 양호한 첨가제이다. 첨가제는 양호하게는, 과도한 산화를 유발 또는 다른 제1 금속층의 분해 없이 원하는 정도의 향상된 점착성을 얻기 위해 충분한 양이 제공된다.
가교 결합된 중합층은 제1 금속층 위에 놓이고, 다양한 유기 재료로 형성될 수 있다. 양호한 중합층은 제1 금속 또는 합금층 위에서 그 자리에서 가교 결합된다. 필요시, 중합층은 롤 코팅(예, 그라비어 롤 코팅) 또는 스프레이 코팅(예컨대, 정전기 스프레이 코팅)과 같은 종래의 코팅 방법을 이용하여 인가될 수 있는 데, 예를 들면, UV 방사선을 이용하여 가교 결합된다. 가장 양호한 중합층은 순간 증발법(flash evaporation), 증착과 전술한 단량체의 가교 결합에 의해 형성된다. 휘발성 (메쓰)아크릴레이트 단량체는 휘발성 아크릴레이트 단량체가 특히 양호한, 그와 같은 공정에서 사용이 바람직하다. 양호한 (메쓰)아크릴레이트는 약 150 내지 약 600, 보다 양호하게는 약 200 내지 약 400 범위의 분자량을 갖는다. 다른 양호한 (메쓰)아크릴레이트는 약 150 내지 약 600g/mole/(메쓰)아크릴레이트 그룹, 보다 양호하게는 약 200 내지 약 400g/mole/(메쓰)아크릴레이트 그룹 범위에서 분자당 아크릴레이트 기능 그룹의 수치에 대한 분자량의 비율 수치를 갖는다. 불소화 (메쓰)아크릴레이트는 예컨대 분자량 약 400 내지 약 3000 또는 약 400 내지 약 3000g/mole/(메쓰)아크릴레이트 그룹의 고분자량의 범위 또는 비율에서 이용될 수 있다. 코팅 만족도는 지지체의 냉각에 의해 증진될 수 있다. 헥산디올 디아크릴레이트, 에톡시에틸 아크릴레이트, 페녹시에틸 아크릴레이트, 시안에틸(모노)아크릴레이트, 이소보닐 아크릴레이트, 이소보닐 메쓰아크릴레이트, 옥타데실 아크릴레이트, 이소데실 아크릴레이트, 로릴 아크릴레이트, 베타카르복시에틸 아크릴레이트, 테트라하이드로푸푸릴 아크릴레이트, 디니트릴 아크릴레이트, 페나플루오로페닐 아크릴레이트, 니트로페닐 아크릴레이트, 2-페녹시에틸 아크릴레이트, 2-페녹시에틸 메쓰아크릴레이트, 2,2,2-트리플루오로메틸 (메쓰)아크릴레이트, 디에틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디메쓰아크릴레이트, 트리프로필렌 글리콜 디아크릴레이트, 테트라에틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 네오펜틸 글리콜 디아크릴레이트, 프로폭실레이티트 네오펜틸 글리콜 디아크릴레이트, 폴리에틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 테트라에틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 비스페놀 에이 에폭시 디아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디메쓰아크릴레이트, 트리메티롤 프로판 트리아크릴레이트, 에톡시레이티드 트리메티롤 프로판 트리아크릴레이트, 프로피레이티드 트리메티롤 프로판 트라아크릴레이트, 트리스(2-하이드록시에틸)-이소시아누레이트 트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 페닐디오에틸 아크릴레이트, 나프틀옥시에틸 아크릴레이트, UCB화학의 IRR-214 환형 디아크릴레이트, 래드큐어코퍼레이션의 에폭시 아크릴레이트 RDX80095 및 이들의 혼합물과 같은 다른 복합 기능 또는 단일 기능과 함께 단독 또는 조합으로 사용된 특히 양호한 단량체는 복합기능의 (메쓰)아크릴레이트를 포함한다. 다양한 다른 교정용 재료는 가교 결합된 중합층, 예를 들어 비닐에테르, 비닐나프틸렌, 아크릴로니트릴과 이들의 혼합물에 포함될 수 있다. 가교 결합된 중합층의 물리적 두께는 해당 굴절률 일부분과 요구된 필름의 광학 특성(예컨대, 필름이 파브리 페롯 스택을 포함하는지 여부)의 일부에 따른다. 적외선 차단 파브리 페롯 스택에 사용되는, 가교 결합 중합체 이격층은 대체로 약 1.3 내지 약 1.7의 굴절률을 갖고 양호하게는 약 75 내지 약 200nm, 보다 양호하게는 약 100 내지 약 150nm의 광학 두께를, 약 50 내지 약 130nm, 보다 양호하게는 약 65 내지 약 100nm의 대응하는 물리적 두께를 갖는다.
광학 모델링은 개시된 제품에서 적절한 층 두께를 얻기 위해 채용될 수 있다. 예를 들어, 베이스 코팅, 가교 결합된 중합체 이격층과 트리프로필렌 글리콜 디아크릴레이트(굴절률 1.4662)로 구성된 상부 코팅 및 은(굴절률 0.154)이 도포된 마그네트론으로 제조된 금속층에 5개층의 적외선 차단 아크릴레이트/메탈/아크릴레이트/메탈/아크릴레이트 광학 스택으로 코팅된 51 마이크로미터 두께의 PET 지지체에서 , 두개의 예시적인 대상 구조는 129/12/104/12/54nm 또는 116/10/116/10/55nm의 상부 코팅를 통한 베이스 피막으로부터의 각 층의 물리적 두께를 갖는다.
가교 결합 중합체 이격층은 비가교 결합 중합체 이격층보다 다양한 이점을 갖는다. 가교 결합 중합체 이격층은 비가교 결합 중합체 이격층만큼 가열에 따라 감지할만큼 녹거나 물러지지 않고 따라서 형성 또는 적층 공정 동안에 따라, 온도와 압력의 동시적인 영향하에서 현저하게 유동하거나, 변형되거나 또는 얇아지는 것이 덜해진다. 가교 결합 중합체 이격층은 높은 용매에 대한 내구성이 있는 반면, 비가교 결합 중합체 이격층은 비가교 결합 중합체 이격층을 형성할 때 사용된 것과 같은 용매에 의해 용융되거나 물러진다. 가교 결합 중합체 이격층은 유리창 용도의 세척액과 같은, 본 발명의 필름이 만나게 될 액체와 가솔린, 오일, 변속기 오일 등, 자동차용 자동차 유액에 대해 큰 내구성을 가질 수 있다. 가교 결합 중합체 이격층은 또한 유사한 중합체로 제조된 비가교 결합 중합체 이격층에 비해 높은 모듈러스 및 강성, 변형시 더 나은 탄성 복원력 또는 더 나은 탄성력과 같은 원하는 물리적 특성을 가질 수도 있다.
양호하게는, 가교 결합 중합층의 평탄성 및 연속성과 제1 금속층에 대한 점착은 가교 결합 중합층의 인가 이전의 제1 금속층의 적절한 전처리 또는 가교 결합 중합층에 적절한 첨가제를 포함하는 것에 의해 향상된다. 양호한 전처리는 전술한 지지체 전처리를 포함하고, 제1 금속층의 플라즈마 전처리가 특히 양호하다. 가교 결합 중합층을 위한 양호한 첨가제는 전술한 베이스 코팅층 첨가제를 포함한다.
양호하게는, 제2 금속층의 평탄성 및 연속성과 가교 결합 중합층에 대한 점착은 제2 금속층의 인가 이전의 가교 결합 중합층의 적절한 전처리 또는 가교 결합 중합층의 적절한 첨가제의 포함에 의해 향상된다. 양호한 전처리는 전술한 지지체 전처리를 포함하고, 가교 결합 중합층의 플라즈마 전처리가 특히 양호하다. 가교 결합 중합층을 위한 양호한 첨가제는 전술한 베이스 코팅층 첨가제를 포함한다.
놀랍게도, 전술한 전처리 중 하나 양자 모두가 채용되었을때, 그리고 전술한 베이스 코팅층 첨가제의 하나 또는 그 이상이 이격층의 형성에 사용된 단량체 혼합물에 합체되었을때, 전류의 영향하에서 부식에 대한 금속층의 내구성이 현저하게 향상됨을 또한 발견했다. 플라즈마 처리는 양호한 전처리이고, 질소 플라즈마는 특히 양호하다. 에틸렌 글리콜 비스-씨오글리콜레이트는 단량체 혼합물에 합체되기 위한 양호한 첨가제이다.
필요시, 가교 결합된 중합체 이격층과 금속층의 추가 쌍들은 제2 금속층 상단에 인가될 수 있다. 예를 들어, 3개의 금속층 또는 4개의 금속층을 포함한 스택은 몇몇 용도를 위한 원하는 특성을 제공한다. 각각의 금속층이 각 표면에 인접한 가교 결합된 중합층을 갖는 2개 내지 4개의 금속층을 포함한 스택이 특히 양호하다.
양호하게는, 최상위 금속층 위에는 층(122)과 같은 적절한 보호층이 오버코팅된다. 필요시, 보호층은 롤 코팅(예컨대, 그라비어 롤 코팅) 또는 스프레이 코팅(예컨대, 정전기 스프레이 코팅)과 같은 종래의 코팅 방법을 이용하여 도포된 다 음, 예를 들면 UV 방사선을 이용하여 가교 결합된다. 가장 양호호하게는, 보호층은 전술한 바와 같이 플래쉬 증발(flash evaporation), 증착 및 단량체의 가교 결합에 의해 형성된다. 휘발성(메쓰)아크릴레이트 단량체가 이러한 보호층에 사용되는데 양호하고, 휘발성 아크릴레이트 단량체는 특히 양호하다. 필름이 보호층 또는 다른 표면층을 포함하고 PVB와 같은 기계적 에너지 흡수 재료의 시트 사이에 적층되는 경우, 보호층 또는 다른 표면층의 굴절률은 PVB와 필름 사이의 굴절률의 임의의 차이에 의해 발생하는 경계에서 반사를 최소화하도록 선택될 수 있다. 보호층은 PVB와 같은 기계적 에너지 흡수 재료에 대한 보호층의 점착성을 증대시키도록 후처리될 수도 있다. 양호한 후처리는 전술한 지지체 전처리를 포함하고, 필름의 양면의 플라즈마 후처리가 특히 양호하다. 양호한 보호층용 첨가제는 전술한 베이스 코팅층 첨가제를 포함한다.
개시된 필름을 제조하는데 편리하게 사용될 수 있는 장치(180)가 도8에 도시된다. 파워 릴(181a, 181b)은 장치(180)를 통해 지지 웨브(182) 전후로 이동시킨다. 온도 제어식 회전 드럼(183a, 183b) 및 아이들러(184a, 184b, 184c, 184d, 184e)는 금속 스퍼터링 어플리케이터(185), 플라즈마 전처리기(186), 단량체 증발기(187)와 E 비임 가교 결합 장치(188)를 지나 웨브(182)를 지지한다. 액체 단량체(189)는 저장기(190)로부터 증발기(187)에 공급된다. 연속 층들은 장치(180)를 관통하는 다중 통로를 이용하여 웨브(182)에 인가될 수 있다. 장치(180)는 적절한 챔버(도8에 도시되지 않음)에 수납되고 진공하에서 유지되거나 또는 산소, 수증기, 먼지 및 다양한 전처리, 단량체 코팅, 가교 결합 및 스퍼터링 단계에서 간섭하는 다른 대기 오염 물질을 막기 위해 적절한 불활성 분위기가 공급될 수 있다.
개시된 예비 적층체는 층(134)과 같은 하나 이상의 기계적 에너지 흡수층에 개시된 필름을 접합시킴으로써 형성된다. 기계적 에너지 흡수층은 PVB, 폴리우레탄("PUR's), 폴리비닐 클로라이드, 폴리비닐 아세탈, 폴리에틸렌, 에틸렌 비닐 아세테이트 및 등록상표명 SURLYN 수지(이. 아이. 듀폰 드 네모아스 앤드 컴파니)을 포함하는, 본 기술 분야의 숙련자에게 익숙한 다양한 재료로 제조될 수 있다. PVB는 기계적 에너지 흡수층용으로 양호한 재료이다. 기계적 에너지 흡수층의 두께는 원하는 용도에 따라 다르지만, 통상 약 0.3 내지 약 1mm일 것이다.
다양한 기능층 또는 코팅이 필름 또는 예비 적층체의 표면에서 그 물리적 또는 화학적 특성을 바꾸거나 향상시키도록 본 발명의 필름 또는 예비 적층체에 첨가될 수 있다. 이러한 층 또는 코팅은 예를들어, 생산 공정 동안 필름 또는 예비 적층체를 다루기 용이하게 만드는 저마찰 코팅 또는 슬립 입자를 포함할 수 있는데, 생산 공정은 필름 또는 예비 적층체가 또 다른 필름 또는 표면 다음에 놓였을 때, 필름 또는 예비 적층체에 확산 특성을 더하거나 습윤(wet-out) 또는 뉴튼 링을 막기 위한 입자화, 압력에 민감한 점착 또는 고열 용융 점착과 같은 점착, 인접 층의 점착을 증진시키기 위한 프라이머, 그리고 필름 또는 예비 적층체가 롤 형태 점착에 사용될 때, 사용되는 백사이즈(backsize) 재료의 저 점착과 같다. 기능층 또는 코팅은 또한 내파쇄성, 내침투성, 또는 내파열성 필름 및 코팅을 포함하는데, 예를 들면 기능층은 제WO01/96115호에 설명되어 있다. 추가 기능층 또는 코팅은 제WO98/26927호와 미국 특허 제5,773,102호에 설명되어 있는 것과 같은 진동 감쇠 필 름층과, 물 또는 유기 용매와 같은 액체를 향한 또는 산소, 수증기 또는 이산화탄소와 같은 기체를 향한 필름 또는 예비 적층체의 투과 특성을 바꾸거나 보호하는 베리어층을 포함한다. 이러한 기능 성분은 하나 또는 이상의 필름 또는 예비 적층체의 최외각 층에 합체될 수 있거나, 또는 개별 필름 또는 코팅으로 도포될 있다.
몇몇 용도에 있어서는, 필름 또는 예비 적층체에 염료 필름 층을 적층하고, 필름 또는 예비 적층체의 표면에 안료 코팅을 도포하거나, 또는 필름 또는 예비 적층체를 제조하는데 사용되는 하나 이상의 재료에 염료 또는 안료를 포함하는 것과 같이, 필름 또는 예비 적층체의 외관과 성능을 바꾸는 것이 바람직할 수 있다. 염료 또는 안료는 적외선, 자외선 또는 가시광 스펙트럼의 부분을 포함하는, 스펙트럼의 하나 이상의 선택된 구역에서 흡수할 수 있다. 염료 또는 안료는 특히 필름 또는 예비 적층체가 소정의 주파수는 투과시키는 반면, 다른 주파수는 반사하는 필름 또는 예비 적층체의 특성을 보충하는데 사용될 수 있다. 본 발명의 필름 또는 예비 적층체에 채용될 수 있는 특히 유용한 안료층이 제WO2001/58989호에 설명되어 있다. 이러한 층은 필름 또는 예비 적층체의 외피층으로서 적층, 압출 코팅 또는 공압출될 수 있다. 안료 로딩 레벨은 필요시 가시광 투과율을 변동시키도록 약 0.01 내지 약 1.0 질량% 사이에서 변동될 수 있다. UV 흡수 커버층의 추가는 UV 방사선에 노출시, 불안정해질 수도 있는 필름의 임의의 내부층을 보호하기 위해 또한 바람직할 수 있다.
필름 또는 예비 적층체에 더해질 수 있는 추가 기능층 또는 코팅은, 예를들어 항정전기 코팅 또는 필름, 화염 지연제, UV 안정제, 내마모성 또는 하드코트 재 료, 광학 코팅, 김서림 방지 재료, 자기 또는 광자기 코팅 또는 필름, 액상 수정 패널, 전기변색(electrochromic) 또는 전계발광(electroluminescent) 패널, 사진, 에멀젼, 분광 필름 그리고 홀로그래픽 필름 또는 화상을 포함한다. 추가의 기능층 또는 코팅은 예를 들면 제WO97/01441호, 제WO99/36262호 및 제WO99/36248호에 설명되어 있다.
필름 또는 예비 적층체는 예를 들어 제품 식별, 배향 정보, 광고, 경고, 장식, 또는 다른 정보를 표시하는데 사용되는 것과 같은 잉크 또는 다른 인쇄된 인디시아로 처리될 수 있다. 예를 들어, 스크린 인쇄, 잉크젯 인쇄, 열전사 인쇄, 활판 인쇄, 옵셋 인쇄, 플렉소 인쇄, 점각 인쇄 등과 같은 다양한 기술이 필름의 인쇄에 이용될 수 있고, 일 또는 이성분 잉크, 산화 건조 및 UV 건조 잉크, 용해된 잉크, 분산된 잉크, 및 100% 잉크 시스템을 포함하는 다양한 유형의 잉크가 사용될 수 있다.
필름 또는 예비 적층체는 다양한 기판으로 접합 또는 적층될 수 있다. 통상 기판 재료는 (절연, 템퍼링, 적층, 어닐링 또는 가열 강화될 수도 있는) 유리와 (폴리카보네이트 및 폴리메틸메쓰아크릴레이트와 같은) 플라스틱과 같은 투과체를 포함한다. 개시된 필름과 예비 적층체는 비평면 기판, 특히 복합 곡률을 갖는 기판과 관련하여 특히 유용하다. 양호하게는, 필름 또는 예비 적층체는 적층 및 공기제거(de-airing) 공정 동안 실질적인 균열 또는 구김없이 이러한 비평면 기판에 부합할 수 있다.
개시된 필름(또는 이러한 형성된 필름 위의 지지체)은 비평면 기판에 물리적 구김없이 부합하는 필름을 지원하는 충분한 조건 하에서 추가로 열 경화되고 방향이 결정될 수 있다. 이는 적층될 본 발명의 필름의 비평면 기판이 알려진 형태 또는 굴곡을 가질 때와 적층체가 알려진 중대한 복합적 굴곡을 가질 때, 특히 유용하다. 개별적으로 각 면내 방향에서 필름 또는 지지체의 수축을 제어하면, 필름은 적층, 특히 닙 롤 적층화 동안 제어된 방식에서 수축을 유발할 수 있다. 예를들어, 필름이 적층화된 비평면 기판이 복합적인 굴곡을 가지면, 필름의 수축은 각각의 방향에서 기판의 특별한 굴곡 특성을 맞추기 위해 평평한 방향으로 재단되어질 것이다. 양호하게는, 가장 큰 수축이 있는 면내 필름 또는 지지체 방향은 가장 적은 굴곡이 있는, 즉 가장 큰 곡률 반경의 기판의 크기로 배열된다. 곡률 반경에 따른 굴곡의 특화된 추가 또는 배치에서, 다른 측정(기판의 주요한 표면으로 한정된 기하학적 표면으로부터 측정된 융기 또는 만입 부위와 같음)은 또한 필요에 따라 이용될 수 있다. 통상 비-평면 기판의 적층화에서, 양호하게는 필름 수축은 면내 방향 양쪽으로 약 0.4% 보다 크고, 보다 양호하게는 적어도 하나의 면내 방향에서 약 0.7% 보다 크며, 가장 양호하게는 면내 방향 한 쪽에서 적어도 약 1% 보다 크다. 필름 수축의 총합은 가장자리의 비적층화 또는 "풀인(pull-in)"을 줄이기 위해 제한된다. 따라서, 양호하게는 필름 수축은 각 면내 방향에서 약 3% 보다 적고, 보다 양호하게는 각 면내 방향에서 약 2.5% 보다 적다. 수축 양식은 주로 채용된 필름 또는 지지체 재료, 그리고 필름 또는 지지체의 신장률, 열 경화 온도, 잔류 시간 그리고 토인(toe-in)(최대 레일 세팅에 근접하게 측정된 건조시키는 열 경화 구역에서 레일 이격의 감소) 같은 요소에 의해 결정된다. 코팅은 또한 필름 의 수축 특성을 변화시킬 수 있다. 예를 들어, 프라이머 코팅은 약 0.2% 내지 약 0.4% 만큼 역방향("TD") 수축을 감소시키며 약 0.1 내지 약 0.3%의 기계 가공 방향("MD") 수축을 증가시킨다. 배향하고 열 경화하는 설비는 매우 다양할 수 있고 이상적인 공정 세팅은 통상 각각의 경우에 경험적으로 결정된다. 목표로 하는 수축 특성을 갖는 MOF 지지체를 제조하는 기술과 관련된 상세는 제WO01/96104호에 설명되어 있다.
개시된 필름의 금속층은 병렬로 전기 접속되거나 서로 직렬로 전기 접속된 하나 이상의 전기 회로 및 접지에 분리식으로 연결될 수 있다. 병렬로 접속될 때, 그 층은 향상되 전류 이송 용량을 제공할 수 있다. 전극은 마스킹, 도금 및 당업자게 친숙한 다른 인쇄 회로 기술을 사용하여 형성될 수 있거나, 또는 금속 스트립, 배선, 도전성 페인트 및 이와 유사하게 당업자에게 친숙한 다른 연결물을 이용하여 형성될 수 있다. 적절한 버스 바아는 두 개 이상의 금속층이 직렬 또는 병렬로 접속되는 경우 채용될 수 있다. 전극은 필름이 다른 재료(예를 들어, 창유리) 또는 제품(예를 들어, EMI에 민감하거나 또는 야기하는 장치용 비투과 하우징 또는 부분 하우징)에 결합되기 전 또는 후에 금속층에 접속될 수 있다.
상술된 바와 같이, 필름은 초기에 예비 적층체를 형성하도록 기계적 에너지 흡수층 또는 층들에 적층되고 그 후 차량용 유리창 시트 또는 시트들에 적층될 수 있다. 필름, 전극, 기계적 에너지 흡수층 또는 층들 및 유리창 시트 또는 시트들을 내장한 샌드위치는 또한 단일 적층 단계에 조립될 수 있다. 어느 경우에, 공기는 각각의 적층 단계동안 다양한 층들 사이로부터 제거될 수 있다. 일반적으로, 적층 이전에 최외부 필름층의 Tg 아래의 온도로 오븐에서 적어도 하나의 필름 및 하나 이상의 기계적 에너지 흡수층 또는 층들을 예열하는 것이 바람직하다. 바람직하게는, 일정 수준의 접착이 기계적 에너지 흡수층 또는 층들, 필름, 전극과 유리창 시트 또는 시트들 사이에 형성된다. 그러나, 기계적 에너지 흡수층 또는 층들은 바람직하게는 최종 적층 단계가 발생하기 전에 유동하기에 충분히 연성화되지 않아야 한다. 기계적 에너지 흡수층 또는 층들은 바람직하게는 필름이 수축하고 그 자체가 완성된 적층체의 형상으로 형성될 수 있도록 예비 적층체의 에지를 제위치에 고정시키게 협조할 수 있다. 적층체는 바람직하게는 필름의 에지에서 필름 또는 얇은 조각층 내의 가능한 주름을 방지하기 위해 고압 반응(autoclaving) 후 제어된 속도로 냉각된다. 공기 제거(de-airing)는 상술된 닙 롤 처리 또는 진공 공기 제거를 이용하여 가속화될 수 있다. 바람직하게 공기 제거 및 적층은 하나 이상의 닙 롤러를 이용하여 수행된다. 대표적인 닙 롤 장치는 미국 특허 제5,085,141호에 도시된다. 다른 이러한 장치는 당업자에게 친숙하다.
적층에 이어서, 적층체는 바람직하게는 본 발명의 기계적 에너지 흡수층 또는 층들 및 필름이 유리창 시트 또는 시트들의 형상을 따르게 되고 최종 적층된 유리창 제품을 형성하게 하도록 충분한 온도로 압력 용기에서 가열된다. 충분한 압력은 또한 적층체의 다양한 층의 적어도 부분적인 접합을 달성하도록 적층 동안 인가된다. PVB를 함유한 적층체의 경우, 약 138℃ 내지 약 150℃의 온도 및 약 0.5 내지 약 1.5MPa의 압력이 전형적이다. 열 및 압력은 기계적 에너지 흡수층 또는 층들이 유동하고, 기공을 충전하도록 퍼지고, 균일한 샌드위치 구조를 형성하고, 최소 시간의 틀에서 잔류 공기를 제거(또는 PVB에서 그것을 분해)하면서 적층체 층을 견고하게 접합하게 한다. 제조자에 따라 고압 반응 싸이클이 상당히 변할 수 있지만, 하나의 전형적인 고압 반응 싸이클은 (a)대기에서 약 93℃ 및 약 15분 내의 약 0.55MPa로 온도 및 압력을 증가시키는 단계와, (b)약40분 내의 약 0.55MPa의 압력을 유지하면서 약 143℃로 온도를 증가시키는 단계와, (c)약 10분 내로 약 143℃로 온도를 유지하면서 약 1.38MPa로 압력을 증가시키는 단계와, (d) 약 20동안 이러한 최대 온도 및 압력을 유지시키는 단계와, (e)약 15분 내로 약 38℃ 및 약 1MPa의 온도 및 압력으로 감소시키는 단계와, (f)약 4분 내로 대기 압력으로 감소시키는 단계를 포함한다. 전체 고압 반응 싸이클은 전형적으로 약 60분 내지 약 120분이다.
개시된 필름은 또한 미국 특허 제4,799,745호에 개시된 예를 들어, 유리창 제품과 같은 건축 유리창에 채용될 수 있다. 이러한 유리창 제품을 형성하는 방법은 당업자에게 명백하다. 예를 들어, 유용한 건축 유리창 제품은 미국 특허 제4,799,745호의 이격층(18)으로 가교 결합된 중합체 이격층을 대체하여 형성될 수 있다. 최종 유리창 제품은 바람직하게는 광학적으로 투명하다. 도9는 기판(192)을 내장한 필름(191) 및 이격층(195)에 이해 분리된 제1 및 제2 금속층(194, 196)을 내장한 페브리-페롯 스택(193)을 도시한다. 필름(191)은 감압 접착제의 층(197)을 이용하여 유리 시트(198)에 결합된다.
개시된 필름은 전자기 간섭에 민감하거나 야기할 수 있는 전자 장비 및 다른 장치로부터 또는 그 안으로 원하지 않는 전자기 에너지의 투과를 차단할 수 있는 광학적 투과성이고, 가요성인 EMI 차폐물을 제공할 수 있다. 이러한 EMI 차폐물은 "내구성 투과 EMI 차폐 필름"이라는 발명의 명칭으로 공동 출원 미국 출원 일련 번호 제10/222,465호에서 설명된다. 개시된 필름은 가시광투과 가교 결합된 중합층에 의해 분리된 제1 및 제2 가시광투과 금속 또는 금속 합금층을 구비한 가시광투과 필름을 갖는 장치를 적어도 부분적으로 둘러싸도록 사용될 수 있고, 여기서 적어도 하나의 접지 전극이 적어도 하나의 금속 또는 금속 합금층에 접속된다. 필름은 상당한 광투과성 및 차폐력을 제공하면서 전형적인 상업적으로 이용가능한 광투과 EMI 차폐 필름보다 상당히 우수한 기계적 내구성 및 내부식성을 제공할 수 있다.
전기 연결물은 최소 또는 표면 준비없이 개시된 필름으로 용이하게 형성될 수 있다. 3MTM 도전성 테이프 9703 및 9713(미네소타주 세인트 폴 3M)은 이러한 전기 연결물을 형성하기에 특히 바람직하다. 이러한 테이프는 일단 테이프가 본 발명의 필름에 도포되면 (존재시) 최외부 가교 결합된 중합층을 관통하고 금속층(예를 들어, 은) 아래에 전기 연결물을 제공하는 섬유 또는 입자를 함유한다. 이러한 필름으로, 도전성 금속층은 전기 연결물용으로 허용가능하고 환경적 노출을 통해 부식에 대해 우수하게 방어된다.
교류 또는 직류 전류는 본 발명의 최종 유리창 제품 및 최종 필름의 금속층을 가열하는데 채용될 수 있다. 공통으로 사용되는 12VDC 고압 반응 전압, 직류식으로 계획된 42VDC 고압 반응 전압, 및 항공기, 다른 차량 및 건물에 사용하도록 설계되거나 또는 현재 사용되는 다른 전압을 포함해서 다양한 전압이 채용될 수 있다.
놀랍게도, 개시된 필름은 신장되거나, 만곡되거나 접힐 때에도 그 전기 도전성을 보유한다. 필름은 바람직하게는 그 원래 길이의 10% 이상만큼의 장력 모드에서 신장될 때 도전성을 보유한다. 바람직하게는, 필름은 그 원래 길이의 50% 이상만큼의 장력 모드에서 신장될 때 도전성을 보유한다. 이는 도전성 층을 함유한 공지된 층식 필름이 10% 아래의 스트레인으로 그 도전성을 손실하기 때문에 놀라운 결과이다. 유사하게, 투과성 및 확산에 장벽으로 작용하는 무기물 층을 함유한 공지된 필름은 또한 전형적으로 10%보다 작은 스트레인에서 그 장벽 특성을 손실한다. 개시된 필름은 바람직하게는 45°각도로 만곡될 때, 더 바람직하게는 90°각으로 만곡될 때 도전성을 보유한다. 더욱 바람직하게는, 개시된 필름은 180°로 만곡되거나 접힐 때 도전성을 보유한다. 이는 도전성 층을 함유한 공지된 층식 필름이 만곡되거나 거칠게 다루어 질 때에도 그 도전성을 손상하기 때문에 놀라운 결과이다.
개시된 필름은 스퍼터-코팅된 무기 유전체층 또는 용매-가해진 가교 결합되지 않은 중합체 유전체층을 사용하여 형성된 필름보다 더욱 신속하게 제조될 수 있다. 후자의 두 방법으로, 유전체층 증착 단계는 속도 제한 팩터이고, 반면에 개시된 방법은 유전체층의 더욱 신속한 증착을 가능하게 한다. 더욱이, 개시된 방법은 코팅 단계 사이에 필름의 제거없이 단일 챔버에서 수행될 수 있고, 반면에 보고된 용매-인가된 가교 결합되지 않은 유전체층은 금속층의 증착이 발생하는 챔버 외측 에 형성되는 것으로 나타난다.
다음의 테스트는 본 발명의 필름을 평가하기 위해 사용되었다.
부식 테스트
약 254 내지 305mm 길이와 25.4mm 폭의 두 개의 스트립은 필름 샘플의 중심으로부터 절단된다. 그 스트립은 약 150 내지 200mm의 각각의 스트립이 소금 용액에 침지되도록 실온에서 20% KCl 용액을 함유한 병에 위치된다. 병 상부는 소금 용액이 증발되는 것을 방지하기 위해 병 위에 나사고정된다. 스트립은 약 15분 침지 후에 제거되고, 건조 종이 타월에 지지측 아래로 위치시켜 스트립의 폭을 따라 티슈 또는 종이 타월로 닦인다. 최소 압력이 닦는 동안 가해진다. 다음에, 스트립은 그 표면으로부터 소금을 제거하기 위해 냉수로 닦이고 필름 표면 외관이 관찰된다. 외관 등급은 스트립을 닦은 후 제거된 금속층의 양의 시각적 평가에 기초하여 원래 금속층 영역의 퍼센트로 표시된다.
전류 테스트 하의 부식
203mm 길이와 25.4mm 폭의 두 개의 스트립은 필름 샘플의 중심으로부터 절단된다. 스트립의 협소한 단부는 제22-201 은 페인트(캐티 컴파니)로 양 측면에 페인트된다. 은 페인트가 건조된 후, 구리는 스트립의 각각의 단부에 내구성 전극을 형성하도록 페인트된 에지에 대해 절첩된다. 앨리게이터 클립은 구리 전극에 전력원을 접속하도록 사용된다. 4.0볼트의 전압이 접점 사이에 인가되고 그 결과적인 전류가 측정되고 기록된다. 각각의 스트립의 중심 근처의 125 내지 150mm 길이 섹션은 그 후 실온에서 20% KCl 용액에 잠긴다. 침지 시간동안 전류가 측정되고 기 록된다.
부착 테스트
약 254mm의 폭과 약 254mm의 길이를 갖는 사각형이 필름 샘플의 중심으로부터 절단된다. 25.4mm 폭과 178mm 길이의 마스킹 테이프 및 필라멘트 테이프는 각각 MD 및 TD 방향 양쪽에서 필름에 도포된다. 부착 테스트 등급은 테이프가 벗겨진 후 잔류하는 금속층의 양의 시각적 평가를 기초로 하고, 원래 금속층 영역의 퍼센트로 표현된다.
도전성 대 스트레인 테스트
필름은 필름이 전기를 도전하는 것을 정지시키는 퍼센트 스트레인을 계산하기 위해 신테크 200/S 텐사일 테스터(인스트론 코포레이션)를 이용하여 신장된다. 전류 하의 부식에서와 같이 준비된 스트립이 장력 테스터의 조우에 클램핑되고, 앨리케이터 클립이 전력원을 구리 전극에 접속하기 위해 사용된다. 101.6mm의 측정 길이 및 25.4mm/min의 크로스헤드 속도를 이용하면서, 4볼트의 일정한 전압이 스트립에 공급되고 전류 유동이 측정되고 % 스트레인에 대해 기록된다.
시트 저항 테스트
필름은 비접촉 도전성 측정 장치(델콤 인스트루먼트 인크.의 벤치탑 콘덕턴스 몬니터 모델 717B)를 이용하여 시트 저항 또는 표면 저항용으로 평가된다.
태양열 이득(gain) 계수 및 차광 계수
수치(Te)는 전체 입사 태양 에너지에 의해 분할된 250nm 내지 2500nm의 시편에 의해 투과된 퍼센트로 표현된 태양 에너지의 비율로 한정된다. 수치(Ae)는 전 체 입사 태양 에너지에 의해 분할된 250nm 내지 2500nm의 시편에 의해 흡수된 퍼센트로 표현된 태양 에너지의 비율로 한정된다. 태양 특성은 공기 질량 1.5를 이용하여 ASTM E891로부터 태양 방사선 데이터를 이용하여 계산된다. 태양열 이득 계수(SHGC)는
SHGC=Te+0.27(Ae)
로 계산된다. 차광 계수(SC)는 표준 3.2mm 두께의 윈도우 유리의 단일 판유리를 통한 것에 대한 소정의 창유리를 통한 태양열 이득 계수의 비율로 정의되고,
SC=SHGC/87.0
으로 계산된다.
EMI 차폐 강도
EMI 차폐 강도는 동축 TEM 셀을 이용하여 먼 필드 타입(far field type) 테스트를 통해 ASTM D-4935에 따라서 평가된다. 그 결과는 데시벨(dB)로 보고된다.
모든 부분 및 퍼센트가 달리 나타내지 않으면 중량에 의한 것인 다음의 비제한적인 예가 이제 설명된다.
예1
(층1) 508mm 폭과 0.05mm 두께의 약 300미터 길이의 롤인 PET 지지체(듀퐁 태진 필름인 멜리넥스 제453필름)이 도8에 도시된 것과 유사한 롤 진공 챔버에 롤 안으로 적재된다. 진공 챔버의 압력은 3x10-4토르로 감소된다. 지지체는 이어서 플라즈마 전처리되고 36.6m/min의 웨브 속도로 일 패스동안 아크릴레이트 코팅된 다. 플라즈마 전처리는 크롬 타겟을 이용하고 불균형 dc 마그네트론은 70sccm의 질소 가스 유동으로 질소 분위기에서 1500와트 전력(429볼트 및 3.5암페어)에서 작동된다. 아크릴레이트 코팅은 액체 중합체 혼합물의 용기를 벨 병에 놓아두고 압력을 약 1밀리토르로 감소시킴으로써 1시간동안 탈가스화시킨 라우릴 아크릴레이트와 IRR214 아크릴레이트(UCB 케미컬)의 50:50 혼합물을 채용한다. 탈가스화된 단량체는 274℃에서 유지된 증기 챔버 안으로 초음파 분무기를 통해 2.35ml/min이 유동 속도로 펌핑된다. -18℃의 드럼 온도를 이용하여, 단량체 증기는 이동 웨브 위로 응축되고 전자 비임은 7.59kV 및 2.0밀리암페어로 작동되는 단일 필라멘트 건을 이용하여 가교 결합된다.
(층2) 웨브 방향이 역전된다. 다시 36.6m/min으로 작동하여, 아크릴레이트 표면은 플라즈마 처리되고 마그네트론 스퍼터링된 은으로 코팅된다. 플라즈마 전처리는 413볼트 및 3.64암페어인 것을 제외하고 전과 같다. 은은 10,000와트 전력(590볼트 및 16.96암페어), 25℃의 드럼 온도 및 90sccm의 아르곤 가스 유동을 가진 아르곤 분위기로 스퍼터링된다.
(층3) 웨브 방향은 다시 역전된다. 다시 36.6m/min으로 작동하여, 가교 결합된 이격층은 단량체 증착 이전에 은 표면의 플라즈마 전처리가 없는 것을 제외하고 상술된 단량체 혼합물을 이용하여 형성된다. -17℃의 드럼 온도 및 상술된 다른 단량체 증착 조건을 이용하여, 단량체 증기는 7.8kV 및 3.8밀리암페어에서 작동되는 단일 필라멘트 건을 이용하여 가교 결합된 전자 비임 및 이동 웨브 위로 응축된다.
(층4) 웨브 방향은 다시 역전된다. 다시 36.6m/min으로 작동하여, 가교 결합된 이격층은 플라즈마 전처리되고 은이 스퍼터링된 마그네트론으로 코팅된다. 플라즈마 전처리는 429볼트 및 3.5암페어를 이용하는 것을 제외하고 전과 같다. 은은 590볼트, 16.94암페어 및 22℃의 드럼 온도를 제외하고 전과 같이 스퍼터링된다.
(층5) 웨브 방향은 다시 역전된다. 보호층은 단량체 증착 이전에 은 표면의 플라즈마 전처리가 없는 것을 제외하고 상술된 단량체 혼합물을 사용하여 형성된다. -17℃의 드럼 온도 및 상술된 다른 단량체 증착 조건을 사용하여, 단량체 증기는 이동 웨브 상으로 응축되고 전자 비임은 10.11kV 및 3.8암페어로 작동되는 단일 필라멘트 건을 사용하여 가교 결합된다.
그 결과적인 5개의 층 적외선 차단형 아크릴레이트/은/아크릴레이트/은/아크릴레이트 광학 스택의 광학 특성이 도10에 도시된다. 커브(T, R)는 각각 최종 필름의 투과(Tvis) 및 반사를 나타낸다. 0.97의 은에 대한 브러거만 밀도를 가정하고 광학 모델링을 사용하여, 5개의 층은 120nm(아크릴레이트층1)/12nm(은층2)/85nm(아크릴레이트층3)/12nm(은층4)/120nm(아크릴레이트층5)의 두께를 갖는다.
예2
예1의 방법을 사용하여, PET 지지체는 5개 층의 아크릴레이트/은/아크릴레이트/은/아크릴레이트 광학 스택으로 덮이지만, 금속층의 상부 및 바닥부 양쪽에 플라즈마 전처리가 사용된다. 개별적 층의 차이는 다음과 같다.
(층1) 지지체 플라즈마 전처리는 1000와트 전력(402볼트 및 2.5암페어) 및 102sccm의 질소 가스 유동에서인 점을 제외하고 전과 같다. 단량체 유동 속도는 2.45ml/min이고 증기 챔버 온도는 276℃이다. 단량체 증기는 -21℃ 드럼 온도를 사용하여 이동 웨브 상에 응축된다. 전자 비임 필라멘트는 8.0kV 및 6.5밀리암페어에서 작동된다.
(층2) 플라즈마 전처리는 1000와트 전력(390볼트 및 3.34암페어) 및 90sccm의 질소 가스 유동에서 된다. 은은 570볼트 및 17.88암페어, 21℃의 드럼 온도 및 93.2sccm의 아르곤 가스 유동에서 스퍼터링된다.
(층3) 은 표면은 이격층의 증착 이전에 플라즈마 전처리된다. 플라즈마 전처리는 크롬 타겟 및 1000와트 전력(308볼트 및 3.33암페어)을 이용한다. -23℃의 드럼 온도를 이용하여, 단량체 증기는 이동 웨브 상에 응축되고 전자 비임은 8.0kV 및 6.0밀리암페어에서 작동되는 단일 필라멘트 건을 이용하여 가교 결합된다.
(층4) 플라즈마 전처리는 316볼트 및 3.22암페어에서 되고, 질소 가스 유동 속도는 90sccm이다. 은은 567볼트, 17.66암페어, 20℃의 드럼 온도 및 95.5sccm의 아르곤 가스 유동에서 스퍼터링된다.
(층5) 은 표면은 보호층의 증착 이전에 플라즈마 전처리된다. 플라즈마 전처리는 층3에서와 동일하다. -23℃의 드럼 온도를 이용하여, 단량체 증기는 이동 웨브 위에 응축되고 전자 비임은 8.0kV 및 6.2밀리암페어에서 작동되는 단일 필라멘트 건을 이용하여 가교 결합된다.
그 결과적인 5개의 층 적외선 차단형 아크릴레이트/은/아크릴레이트/은/아크릴레이트 광학 스택의 광학 특성이 도11에 도시된다. 커브(T, R)는 각각 최종 필 름의 투과 및 반사를 나타낸다. 0.97의 은에 대한 브러거만 밀도를 가정하고 광학 모델링을 사용하여, 5개의 층은 120nm(아크릴레이트층1)/9nm(은층2)/95nm(아크릴레이트층3)/9nm(은층4)/120nm(아크릴레이트층5)의 두께로 계산된다.
예3 내지 예5
예2 및 예5의 층의 방법을 이용하여 두께를 변화시킨 은층을 구비한 적외선 차단형 아크릴레이트/은/아크릴레이트/은/아크릴레이트 광학 스택이 PET 지지체에 형성된다. 결과적인 필름은 외관, 투과(투과-발광 Y(Tvis)), 반사(반사-발광 Y), 태양열 이득 계수(SHGC), 차광 계수(SC) 및 시트 저항에 대해 평가된다. 처리 조건 및 평가 결과가 표1로 아래에서 설명된다.
예3 예4 예5
층1
증착된 재료 단량체 단량체 단량체
라인 속도(m/min) 36.6 36.6 36.6
플라즈마(와트) 1000 1000 1000
드럼 온도(℃) -21 -21 -21
단량체 피드(ml/min) 2.65 2.65 2.65
층2
증착된 재료 은 은 은
라인 속도(m/min) 35.1 36.6 38.1
플라즈마(와트) 1000 1000 1000
드럼 온도(℃) 26 26 26
스퍼터 전력(KW) 10 10 10
층3
증착된 재료 단량체 단량체 단량체
라인 속도(m/min) 36.6 36.6 36.6
플라즈마(와트) 1000 1000 1000
드럼 온도(℃) -19 -19 -19
단량체 피드(ml/min) 2.65 2.65 2.65
층4
증착된 재료 은 은 은
라인 속도(m/min) 35.1 36.6 38.1
플라즈마(와트) 1000 1000 1000
드럼 온도(℃) 28 28 28
스퍼터 전력(KW) 10 10 10
층5
증착된 재료 단량체 단량체 단량체
라인 속도(m/min) 36.6 36.6 36.6
플라즈마(와트) 1000 1000 1000
드럼 온도(℃) -18 -18 -18
단량체 피드(ml/min) 1.35 1.35 1.35
결과
외관 우수 우수 우수
투과 발광 Y(Tvis) 72.37 72.14 71.53
반사 발광 Y 12.36 10.92 11.18
SHGC 46.28 46.84 48.04
SC 0.5320 0.5384 0.5522
시트 저항(오옴/스퀘어) 3.929 4.505 4.673
표1의 결과가 금속층을 두께를 변경시키도록 가변 라인 속도의 사용을 도시한다. 72%만큼 높은 Tvis와 3.9오옴/스퀘어만큼 낮은 시트 저항을 갖는 필름이 얻어진다. 예4 및 예5의 각각의 필름의 두 개의 샘플이 또한 도전성 대 스트레인 테스트를 이용하여 평가된다. 그 결과가 각각 도12 및 도13에 도시된다. 모든 필름 샘플은 50% 이상의 스트레인에서 전류를 전도한다. 도12 및 도13의 결과는 또한 본 발명의 필름이 투과 스트레인 표본으로 사용될 수 있는 것을 증명한다.
비교예1
투과 은층 및 산화 인듐 무기 유전체에 기초한 상업적 제품(XIR 75 필름, 싸우스월 테크놀로지 인크.)이 도전성 대 스트레인 테스트를 이용하여 평가된다. 샘플은 단지 1% 스트레인하에 있을 때 손상된다.
예6 내지 예11
예3 내지 예5의 방법을 이용하여, 5층의 적외선 차단형 아크릴레이트/은/아크릴레이트/은/아크릴레이트 광학 스택이 PET 지지체(예6 내지 예9) 또는 복굴절 다층 광학 필름 지지체(3M 솔라 리플렉팅 필름 제41-4400-0146-3호, 예11 및 예11) 상에 형성되고 선택적으로 플라즈마 후처리를 한다. 층5의 두께는 후에 도시되는 증착 조건을 변경함으로써 변화된다. 그 결과적인 필름은 외관, 투과, 반사, 태양열 이득 계수, 차광 계수 및 시트 저항에 대해 평가된다. 처리 조건 및 평가 결과가 표2로 아래에서 설명된다.
예6 예7 예8 예9 예10 예11
지지체 PET PET PET PET MOF MOF
층1
증착 재료 단량체 단량체 단량체 단량체 단량체 단량체
라인 속도(m/min) 36.6 36.6 36.6 36.6 36.6 36.6
플라즈마(와트) 1000 1000 1000 1000 1000 1000
드럼 온도(℃) -21 -21 -21 -21 -21 -21
단량체 피드(m/min) 2.65 2.65 2.65 2.65 2.65 2.65
층2
증착 재료 은 은 은 은 은 은
라인 속도(m/min) 36.6 36.6 36.6 36.6 36.6 36.6
플라즈마(와트) 1000 1000 1000 1000 1000 1000
드럼 온도(℃) 26 26 26 26 19 19
스퍼터 전력 10 10 10 10 10 10
층3
증착 재료 단량체 단량체 단량체 단량체 단량체 단량체
라인 속도(m/min) 36.6 36.6 36.6 36.6 36.6 36.6
플라즈마(와트) 1000 1000 1000 1000 1000 1000
드럼 온도(℃) -19 -19- -19 -19 -20 -20
단량체 피드(m/min) 2.65 2.65 2.65 2.65 2.85 2.85
층4
증착 재료 은 은 은 은 은 은
라인 속도(m/min) 36.6 36.6 36.6 36.6 36.6 36.6
플라즈마(와트) 1000 1000 1000 1000 1000 1000
드럼 온도(℃) 28 28 28 28 23 23
스퍼터 전력 10 10 10 10 10 10
층5
증착 재료 단량체 단량체 단량체 단량체 단량체 단량체
라인 속도(m/min) 36.6 36.6 36.6 36.6 36.6 36.6
플라즈마(와트) 1000 1000 1000 1000 1000 1000
드럼 온도(℃) -18 -18 -18 -18 -17 -17
단량체 피드(m/min) 1.45 1.25 1.35 1.35 1.35 1.35
플라즈마 후처리
라인 속도(m/min) 36.6 36.6 36.6
플라즈마(와트) 1500 1000 1000
결과
외관 우수 우수 우수 우수 우수 우수
투과 발광 Y(Tvis) 71.51 70.09 68.19 72.59 72.69 72.51
반사 발광 Y 11.73 12.02 11.86 7.75 11.16 10.15
SHGC 46.60 46.25 44.82 46.81 44.97 45.63
SC 0.5356 0.5316 0.5152 0.5381 0.5169 0.5244
시트 저항(오옴/스퀘어) 4.23 4.38 5.709 5.208 3.927 4.389
표2의 결과는 보호 마감층 두께 및 마감층의 선택적 플라즈마 후처리를 변화시키는 두 개의 상이한 기판의 사용을 도시한다. 약 73%만큼 높은 Tvis와 3.9오옴/스퀘어만큼 낮은 시트 저항을 갖는 필름이 얻어진다. 예11의 필름의 두 개의 샘플이 또한 도전성 대 스트레인 테스트를 이용하여 평가된다. 그 결과가 도14에 도시된다. 양쪽 필름 샘플은 50% 이상의 스트레인에서 전류를 전도한다.
예12
예2의 방법을 사용하여, PET 지지체는 5개 층의 아크릴레이트/은/아크릴레이트/은/아크릴레이트 광학 스택으로 덮이지만, 금속층의 상부 및 바닥부 양쪽에 플라즈마 전처리가 사용된다. 개별적 층의 차이는 다음과 같다.
(층1) 지지체 플라즈마 전처리는 1000와트 전력에서지만 322볼트, 3.15암페어 및 70sccm의 질소 가스 유동을 이용한다. 단량체 유동 속도는 2.65ml/min이고 증기 챔버 온도는 274℃이다. 단량체 증기는 -20℃ 드럼 온도를 사용하여 이동 웨브 상에 응축된다. 전자 비임 필라멘트는 8.04kV 및 5.7밀리암페어에서 작동된다.
(층2) 플라즈마 전처리는 1000와트 전력에서지만 378볼트, 3.09암페어 및 70sccm의 질소 가스 유동을 이용한다. 은은 547볼트 및 18.36암페어, 21℃의 드럼 온도 및 70sccm의 아르곤 가스 유동에서 스퍼터링된다.
(층3) 플라즈마 전처리는 1000와트 전력에서지만 378볼트 및 3.1암페어를 이용한다. 단량체 증기는 -19℃의 드럼 온도를 이용하여 이동 웨브 상에 응축된다. 전자 비임은 8.04kV 및 6.3밀리암페어에서 작동된다.
(층4) 플라즈마 전처리는 1000와트 전력에서지만 328볼트, 3.07암페어 및 70sccm의 질소 가스 유동 속도를 이용한다. 은은 546볼트, 18.34암페어, 28℃의 드럼 온도 및 70sccm의 아르곤 가스 유동에서 스퍼터링된다.
(층5) 플라즈마 전처리는 1000와트 전력에서지만 359볼트 및 2.82암페어를 이용한다. 단량체 증기는 -18℃의 드럼 온도를 이용하여 이동 웨브 위에 응축된다. 전자 비임 필라멘트는 8.04kV 및 4.6밀리암페어에서 작동된다.
그 결과적인 5개 층 적외선 차단형 아크릴레이트/은/아크릴레이트/은/아크릴레이트 광학 스택의 광학 특성이 도15에 도시된다. 커브(T, R)는 각각 최종 필름의 투과 및 반사를 나타낸다. 그 필름은 71.5%의 Tvis를 갖는다. 다음에, 그 필름은 30.5cm X 2.54cm 스트립으로 절단된다. 에지는 은 도전성 페인트(실버 프린트, O.K. 토르센 인크.)로 페인트된다. 2.54cm X 2.54cm 구리 호일은 스트립의 각각의 대향하는 좁은 단부 위로 절첩되고 0 내지 20볼트 전력 공급으로 앨리케이터 클립을 갖춘 테스트 도선(모델 6253A 듀얼 DC, 휴렛 패커드, 인크.)을 이용하여 접속된다. 전압이 스트립에 인가되고 전류 및 스트립 온도는 시간의 함수로 측정된다. 스트립 온도가 증가하는 것을 멈출 때, 더 높은 전압이 인가된다. 그 결과가 표3으로 아래에 도시된다.
시간(분) 볼트 암페어 전력(W) 전력(W/cm 2 ) 온도(℃)
0 0 0 - - 23.4
1 16 0.265 4.24 0.548 51.3
2 16 0.265 4.24 0.548 54
3 16 0.265 4.24 0.548 55.4
4 16 0.265 4.24 0.548 56.4
6 16 0.265 4.24 0.548 57.8
10 16 0.265 4.24 0.548 58.8
11 20 0.34 6.8 0.0878 69.9
12 20 0.34 6.8 0.0878 73.1
15 20 0.34 6.8 0.0878 75.6
17 20 0.34 6.8 0.0878 76.4
19 20 0.34 6.8 0.0878 76.3
21 24 0.42 10.08 0.1302 103.1
22 24 0.42 10.08 0.1302 99.8
23 24 0.42 10.08 0.1302 103.5
25 24 0.42 10.08 0.1302 105.4
29 24 0.42 10.08 0.1302 106.9
33 24 0.42 10.08 0.1302 107.4
34 24 0.42 10.08 0.1302 107.4
표3의 결과는 필름이 회로 손상없이 매우 높은 전력 밀도 및 매우 높은 온도를 견딜 수 있는 것을 도시한다. 스트립은 냉각되게 되고 그 후 16볼트가 스트립에 인가되어 0.27암페어의 측정 전류를 가져온다. 그 필름은 접촉시 따뜻해진다. 다음에 그 필름은 45°각도 및 그 후 90°각도로 카운터 상부의 에지에 대해 만곡된다. 그 필름은 여전히 따뜻하고 그 전류는 0.27암페어로 유지된다. 필름은 그 후 180°각도로 만곡된다. 샘플은 여전히 따뜻하고 그 전류는 0.27암페어로 유지된다. 균열이 발생되면, 고온 스폿이 필름에 발생되고 실질적인 전류 변화(또는 전류 유동의 완전한 중단)가 관찰된다.
비교예2
예20의 방법을 이용하여, XIR 75필름의 샘플(싸우스월 테크놀로지 인크.)이 전력공급되고 가열된다. 그 샘플은 24볼트에 놓일 때 또는 만곡될 때 손상된다. 그 결과가 표4로 아래에 설명된다.
시간(분) 볼트 암페어 전력(W) 전력(W/cm 2 ) 온도(℃)
0 8 0.122 0.976 0.0130 23.1
2 8 0.122 0.976 0.0130 32.3
4 8 0.122 0.976 0.0130 33
6 8 0.122 0.976 0.0130 33.4
7 8 0.122 0.976 0.0130 33.6
8 8 0.122 0.976 0.0130 33.4
10 12 0.182 2.184 0.0291 41.7
11 12 0.182 2.184 0.0291 42.5
12 12 0.182 2.184 0.0291 43
13 12 0.182 2.184 0.0291 43.1
14 12 0.182 2.184 0.0291 43.5
15 12 0.182 2.184 0.0291 43.6
16 12 0.182 2.184 0.0291 43.6
17 12 0.182 2.184 0.0291 43.7
18 12 0.182 2.184 0.0291 43.7
20 16 0.24 3.84 0.0512 53.3
22.5 16 0.24 3.84 0.0512 55.1
25 16 0.24 3.84 0.0512 55.7
26 16 0.24 3.84 0.0512 55.7
27 16 0.24 3.84 0.0512 55.5
28 16 0.24 3.84 0.0512 55.7
30 20 0.29 5.8 0.0773 67.3
32 20 0.29 5.8 0.0773 71.2
34 20 0.29 5.8 0.0773 72
37.5 20 0.29 5.8 0.0773 72.3
38 20 0.29 5.8 0.0773 72.8
39 20 0.29 5.8 0.0773 72.7
40 20 0.29 5.8 0.0773 72.7
41 24 0 (손상) (손상) -
표4의 결과는 비교 필름이 전기적으로 가열될 수 있는 것을 도시한다. 그러나, 전압이 24볼트로 증가될 때 필름이 손상된다. 이는 산화 인듐층의 균열때문으로 여겨진다. 비교 필름의 개별 샘플은 16볼트의 인가된 전압을 이용하여 전기 가열되고 0.235암페어의 측정 전류를 가져온다. 비교 필름은 터치시 따뜻해진다. 그 비교 필름이 45°각도로 카운터 상부의 에지 위로 만곡될 때, 그 필름은 손상된다. 광학 현미경을 이용하여, 크랙이 코팅에서 관찰될 수 있다.
예13
4.2오옴/스퀘어의 시트 저항을 갖는 예5의 필름의 304mm X 304mm 샘플이 전기적으로 버스 바아에 접속되어 양쪽 금속층이 전류를 통한다. 그 필름 샘플은 두 개의 2mm 유리 시트 사이에 위치된 PVB의 두 개의 0.05mm 두께 시트로 형성된 샌드위치의 중심으로 적층된다. 버스 대 버스 저항은 4.06옴이다. 16.5볼트의 전압이 버스 바아에 인가되어 4.06암페어의 전류 및 299W/mm2의 인가 전력 밀도를 가져온다. 전압이 켜지는 7분 내에, 유리의 표면 온도는 20℃만큼 증가한다. 그 결과는 세 개의 다른 인가 전력 밀도에서 20℃만큼 표면 온도를 증가시키는데 요구되는 시간을 따라 표5로 아래에서 설명된다.
인가된 전력 밀도(W/mm 2 ) 20℃만큼 표면 온도를 증가시키는 시간(분)
239 9.5
299 7
580 4
645 3.5
42볼트 전력 공급을 이용하여, 이러한 시간은 평균 크기, 즉, 전형적인 차 윈드실드용의 약 0.9m X 0.9m 및 전형적인 스포츠카 윈드실드용의 0.88m X 약 1.66m의 윈드실드에서 유용한 제빙 성능을 제공한다.
예14
몇몇 필름은 예9의 플라즈마 조건을 이용한 필름의 한 쪽 또는 양 쪽 측면 상에 선택적인 플라즈마 후처리를 하고 그 후 예13에서와 같이 유리 시트 사이에 적층된다. 적층체는 압축성 전단 강도를 결정하도록 평가된다. 표6의 아래 설명은 예시적 수, 스택의 최상위 층의 상부 또는 지지체의 하부측의 플라즈마 후처리가 있거나 또는 없는 상태 및 측정된 압축성 전단 강도를 나타낸다.
예 넘버 기판 적층체 상부 플라즈마 지지체 아래 플라즈마 압축성 전단병형(Mpa)
... 비코팅 PET 없음 없음 5.92
3 PET 없음 없음 1.67
4 PET 없음 없음 1.72
5 PET 없음 없음 1.48
8 PET 예 없음 5.3
9 PET 예 없음 5.01
9 PET 예 예 7.29
10 MOF 없음 없음 1.5
11 MOF 예 없음 6.35
11 MOF 예 예 15.19
예15
PET 지지체는 세 개의 층 아크릴레이트/은/아크릴레이트 적층체로 덮인다. 개별적 층은 다음과 같이 형성된다.
(층1) 0.05mm 두께 X 508mm 폭 PET 필름(멜리넥스 제453필름, 듀퐁 태진 필름)의 914미터 길이의 롤은 롤 진공 챔버로 롤 안으로 잠입되고, 챔버 압력은 8X10-6토르의 압력으로 펌핑된다. PET필름은 48.5% IRR214 아크릴레이트, 48.5% 라우릴 아크릴레이트 및 3.0% 에베크릴 170 접착 촉진제를 함유한 아크릴레이트 혼합물로 코팅된다. 아크릴레이트는 코팅 이전에 진공 탈가스되고, 275℃로 유지되는 증기 챔버 안으로 초음파 분사기를 통해 2.35ml/min의 유동 속도로 펌핑된다. PET 필름은 30.4미터/min의 웨브 속도로 0℃에서 유지되는 코팅 드럼 위로 통과되고, 여기에 단량체 증기가 응축되고, 그 후 이어서 전자 비임이 8.0kV 및 2.0밀리암페어에서 작동되는 단일 필라멘트로 가교 결합된다. 이는 경화후에 100nm 두께를 가진 아크릴레이트 층을 생성한다.
(층2) 웨브 방향은 챔버 내측으로 역전되고, 아크릴레이트 표면은 은층으로 스퍼터링 코팅된다. 은은 10nm 두께 은층을 제공하도록 30.4미터/분의 웨브 속도, 2.0밀리토르의 챔버 압력에서 스퍼터링 가스와 같은 아르곤을 사용하여 10,000와트 전력에서 스퍼터링된다.
(층3) 웨브 방향은 다시 역전된다. 층1과 동일한 조건을 이용하여, 100nm 두께 아크릴레이트층은 은층 위로 증착된다.
그 결과적인 3개층 필름 스택은 우수한 스펙트럼 투과 및 반사 특성을 나타내고, 10오옴/스퀘어의 전기 전항을 갖는다. 전류 테스트 하의 부식이 수행될 때 전류는 침지 후 몇 초 안에 제로로 떨어진다. 이는 은 부식 및 전류 손상이 심각한 부식 조건 하에서 바람직한 것보다 더욱 신속하게 발생하는 것을 나타낸다.
예16
제2의 3개층 필름 스택은 예15와 동일한 방식으로 준비되지만, 후속 층의 증착 이전에 (PET, 층1 아크릴레이트 코팅, 층2 은 코팅의)질소 플라즈마 전처리를 이용한다. 질소 플라즈마는 1.0kW 및 2.0밀리토르 압력에서 작동되는 불균형 dc 마그네트론 공급원을 이용하여 인가된다. 전류 테스트 하의 부식이 수행될 때 전류는 침지 후 500 내지 600초까지 제로로 떨어지지 않고, 예15보다 훨씬 느린 은 부식 및 전기 회로 손상을 나타낸다.
예17
3개층 필름 스택은 단량체 혼합물에 2% 에틸렌 글리콜 비스-티오글리콜레이트의 첨가로 예15와 동일한 방식으로 준비된다. 전류 테스트 하의 부식이 수행될 때 전류는 침지 후 500 내지 600초에 제로로 떨어지고, 예15보다 느린 은 부식 및 전기 회로 손상을 나타내고, 예16의 성능과 비교할 만한다.
예18
3개층 필름 스택이 예15와 동일한 방식으로 준비되지만, 예17에서와 같이 2% 에틸렌 글리콜 비스-티오글리콜레이트 첨가물과 예16에서와 같이 질소 플라즈마 전처리를 사용한다. 전류 테스트 하의 부식이 수행될 때 전류는 테스트가 종료되는 시간인 침지 후 900초 이상에 대해 일정하게 유지된다. 이는 은 부식 및 전기 회로 손상이 예15 내지 예17과 비교하여 더 감소되는 것을 나타낸다.
예19
예12의 필름은 550nm에서의 광투과, 시트 저항 및 EMI 차광 강도용으로 테스트된다. 측정된 광투과는 75%이고, 표면 저항은 4.5오옴/스퀘어이고, EMI 차광 강도는 29dB이다.
비교예3
예19의 방법을 이용하여, AgHT4TM 광투과 EMI 차광 필름(CP 필름)의 샘플이 평가된다. 측정된 광투과는 76%이고, 표면 저항은 4.7오옴/스퀘어이고, EMI 차광 강도는 29dB이다. 필름은 손으로 주름지고 EMI 차광 강도를 위해 재테스트된다. EMI 차광 강도는 5dB로 감소된다. 필름의 새로운 샘플이 또한 부식 및 스트레인 저항을 위해 평가된다. 회로 손상이 전류 테스트 하의 부식에서 20초 내에 발생하고, 도전성은 도전성 대 스트레인 테스트의 2% 스트레인에서 제로로 떨어진다.
예20
예12의 방법을 사용하여, PET 지지체는 금속층의 상부 및 바닥부 양쪽에 플라즈마 전처리가 사용된 5개 층의 아크릴레이트/은/아크릴레이트/은/아크릴레이트 광학 스택으로 덮인다. 단량체 혼합물은 2% 에틸렌 글리콜 비스-티오글리콜레이트를 함유한다. 다른 개별 층 차이는 다음과 같다.
(층1) 지지체 플라즈마 전처리는 1000와트 전력에서지만 428볼트, 2.3암페어를 이용한다. 단량체 증기는 -17℃ 드럼 온도를 사용하여 이동 웨브 상에 응축된다. 전자 비임 필라멘트는 8.0kV 및 2.8밀리암페어에서 작동된다.
(층2) 플라즈마 전처리는 1000와트 전력에서지만 368볼트 및 2.72암페어를 이용한다. 은은 632볼트, 15.8암페어, 31℃의 드럼 온도 및 87sccm의 아르곤 가스 유동에서 스퍼터링된다.
(층3) 플라즈마 전처리는 1000와트 전력에서지만 430볼트 및 2.3암페어를 이용한다. 단량체 증기는 -17℃의 드럼 온도를 이용하여 이동 웨브 상에 응축된다. 전자 비임은 8.0kV 및 4.8밀리암페어에서 작동된다.
(층4) 플라즈마 전처리는 1000와트 전력에서지만 368볼트 및 2.72암페어를 이용한다. 은은 634볼트, 15.8암페어, 32℃의 드럼 온도 및 87sccm의 아르곤 가스 유동에서 스퍼터링된다.
(층5) 플라즈마 전처리는 1000와트 전력에서지만 448볼트 및 2.2암페어를 이용한다. 단량체 증기는 -19℃의 드럼 온도를 이용하여 이동 웨브 위에 응축된다. 전자 비임 필라멘트는 8.0kV 및 5.7밀리암페어에서 작동된다.
그 결과적인 필름의 측정된 광투과는 70%이고, 표면 저항은 5.6오옴/스퀘어이고, EMI 차광 강도는 28dB이다. 필름은 비교예3에서와 같이 손으로 주름지고 EMI 차광 강도를 위해 재테스트된다. EMI 차광 강도는 28dB로 유지되고, EMI 차광 성능의 완전한 보전을 나타낸다.
본 발명의 다양한 변경 및 변화는 본 발명의 범위 내에서 당업자에게 자명하다. 본 발명은 단지 예시적 목적을 위해 본 명세서에서 설명된 것들에 제한되지 않아야 한다.

Claims (42)

  1. 삭제
  2. 삭제
  3. 전기 가열식 창유리 제품을 제조하는 방법이며,
    a) 가시광 투과 가교 결합된 중합층에 의해 분리된 제1 가시광 투과 금속 또는 금속 합금 층 및 제2 가시광 투과 금속 또는 금속 합금 층을 포함하는 가시광 투과 필름 및 창유리 재료의 층을 조립하는 단계와,
    b) 창유리 재료와 필름을 함께 단일 제품으로 접합하는 단계와,
    c) 금속 또는 금속 합금 층들 중 적어도 하나에 하나 이상의 전극을 접속하는 단계를 포함하고,
    여기서, 상기 a)의 조립 단계는, 금속 또는 금속 합금 층의 표면에 0.25 미터 거리에서 나안으로 관측할 수 있는 불연속부를 형성하지 않고 전기 연속성의 손실 없이 면내(in-plane) 방향으로 적어도 3% 만큼 상기 가시광 투과 필름을 신장시키는 단계를 더 포함하는 것인, 전기 가열식 창유리 제품 제조 방법.
  4. 전기 가열식 적층 제품을 제조하는 방법이며,
    a) 제1 창유리 재료층, 제1 기계적 에너지 흡수층, 가교 결합된 중합층에 의해 분리된 제1 금속 또는 금속 합금 층 및 제2 금속 또는 금속 합금 층을 포함하는 가시광 투과 가요성 필름층, 전류가 금속 또는 금속 합금 층에 공급되게 하는 전극, 제2 기계적 에너지 흡수층 및 제2 창유리 재료층을 조립하는 단계와,
    b) 층들 사이로부터 잔류 공기를 제거하는 단계와,
    c) 층과 전극을 함께 단일 제품으로 접합하도록 층을 가열하고 압력을 인가하는 단계를 포함하고,
    여기서, 상기 a)의 조립 단계는, 금속 또는 금속 합금 층의 표면에 0.25 미터 거리에서 나안으로 관측할 수 있는 불연속부를 형성하지 않고 전기 연속성의 손실 없이 면내(in-plane) 방향으로 적어도 3% 만큼 상기 가시광 투과 가요성 필름층을 신장시키는 단계를 더 포함하는 것인, 전기 가열식 적층 제품 제조 방법.
  5. 가시광 투과 가교 결합된 중합층에 의해 분리된 제1 가시광 투과 금속 또는 금속 합금 층 및 제2 가시광 투과 금속 또는 금속 합금 층을 포함하는 가시광 투과 필름에 결합된 기계적 에너지 흡수 재료의 적어도 하나의 층을 포함하고, 전류가 금속 또는 금속 합금 층에 공급되게 하는 전극을 더 포함하는 안전 창유리 예비 적층체.
  6. 가시광 투과 가교 결합된 중합층에 의해 분리된 제1 가시광 투과 금속 또는 금속 합금 층 및 제2 가시광 투과 금속 또는 금속 합금 층을 포함하는 가시광 투과 필름에 결합된 창유리 재료의 적어도 하나의 층을 포함하고 전류가 금속 또는 금속 합금 층에 공급되게 하는 전극을 더 포함하고,
    상기 가시광 투과 필름은, 금속 또는 금속 합금 층의 표면에 0.25 미터 거리에서 나안으로 관측할 수 있는 불연속부를 형성하지 않고 전기 연속성의 손실 없이 면내(in-plane) 방향으로 적어도 3% 만큼 신장되어진 것인, 전기 가열식 창유리 제품.
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. 삭제
  10. 삭제
  11. 삭제
  12. 삭제
  13. 삭제
  14. 삭제
  15. 삭제
  16. 삭제
  17. 삭제
  18. 삭제
  19. 삭제
  20. 삭제
  21. 삭제
  22. 삭제
  23. 삭제
  24. 삭제
  25. 삭제
  26. 삭제
  27. 삭제
  28. 삭제
  29. 삭제
  30. 삭제
  31. 삭제
  32. 삭제
  33. 삭제
  34. 삭제
  35. 삭제
  36. 삭제
  37. 삭제
  38. 삭제
  39. 삭제
  40. 삭제
  41. 삭제
  42. 삭제
KR1020057002611A 2002-08-17 2003-07-14 가요성 전기 도전성 필름 KR101115219B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US10/222,449 US6933051B2 (en) 2002-08-17 2002-08-17 Flexible electrically conductive film
US10/222,449 2002-08-17
PCT/US2003/021887 WO2004016560A2 (en) 2002-08-17 2003-07-14 Flexible electrically conductive film

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20050050082A KR20050050082A (ko) 2005-05-27
KR101115219B1 true KR101115219B1 (ko) 2012-02-17

Family

ID=31714963

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020057002611A KR101115219B1 (ko) 2002-08-17 2003-07-14 가요성 전기 도전성 필름

Country Status (12)

Country Link
US (3) US6933051B2 (ko)
EP (1) EP1542866B1 (ko)
JP (1) JP4589111B2 (ko)
KR (1) KR101115219B1 (ko)
CN (1) CN1675059B (ko)
AT (1) ATE444161T1 (ko)
AU (1) AU2003274899A1 (ko)
BR (1) BR0313509B1 (ko)
DE (1) DE60329503D1 (ko)
MX (1) MXPA05001700A (ko)
TW (1) TWI343583B (ko)
WO (1) WO2004016560A2 (ko)

Families Citing this family (72)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2353506A1 (en) 1998-11-02 2000-05-11 3M Innovative Properties Company Transparent conductive oxides for plastic flat panel displays
US6818291B2 (en) * 2002-08-17 2004-11-16 3M Innovative Properties Company Durable transparent EMI shielding film
US6933051B2 (en) * 2002-08-17 2005-08-23 3M Innovative Properties Company Flexible electrically conductive film
US20050163958A1 (en) * 2003-11-13 2005-07-28 Yuji Nakatsugawa Optical filter and display using the same
FR2862961B1 (fr) * 2003-11-28 2006-02-17 Saint Gobain Substrat transparent utilisable alternativement ou cumulativement pour le controle thermique, le blindage electromagnetique et le vitrage chauffant.
AU2004318735B2 (en) * 2004-04-13 2009-07-30 Research Frontiers Incorporated Methods for laminating films for SPD light valves and SPD light valves incorporating such laminated films
KR100809568B1 (ko) * 2004-04-23 2008-03-04 마츠시다 덴코 가부시키가이샤 정전 무화기를 구비한 가열 송풍 장치
US20050277709A1 (en) * 2004-05-28 2005-12-15 Fisher William K Polymer layers having infrared absorbing particles
FR2874607B1 (fr) * 2004-08-31 2008-05-02 Saint Gobain Vitrage feuillete muni d'un empilement de couches minces reflechissant les infrarouges et/ou le rayonnement solaire et d'un moyen de chauffage.
EP1819508A1 (en) * 2004-11-19 2007-08-22 Akzo Nobel N.V. Method for preparing flexible mechanically compensated transparent layered material
US7294657B2 (en) * 2005-03-07 2007-11-13 General Electric Company Curable acrylate compositions, methods of making the compositions and articles made therefrom
US20060216501A1 (en) 2005-03-24 2006-09-28 Solutia, Inc. Polymer interlayers comprising antiblocking layers
US20060216485A1 (en) * 2005-03-24 2006-09-28 Solutia, Inc. Polymer interlayers comprising skin layers
JP4419146B2 (ja) * 2005-06-13 2010-02-24 日東電工株式会社 透明導電性積層体
GB0520303D0 (en) * 2005-10-06 2005-11-16 Pilkington Plc Laminated glazing
US8800482B2 (en) * 2005-12-29 2014-08-12 Exatec Llc Apparatus and method of dispensing conductive material with active Z-axis control
JP5237123B2 (ja) * 2006-02-23 2013-07-17 ピコデオン エルティーディー オイ プラスチック基材の塗装方法及び塗装されたプラスチック製品
KR101399235B1 (ko) * 2006-02-23 2014-05-30 피코데온 리미티드 오와이 탄소 질화물 코팅 및 탄소 질화물 코팅된 제품
US20080099614A1 (en) * 2006-10-16 2008-05-01 Blue Linden S Unitary one-piece windshield
US20080099456A1 (en) * 2006-10-25 2008-05-01 Schwenke Robert A Dispensing method for variable line volume
US20080187725A1 (en) * 2006-12-28 2008-08-07 Exatec, Llc Functional layers for polycarbonate glazing
EP2125361B1 (en) 2006-12-28 2019-01-23 3M Innovative Properties Company Nucleation layer for thin film metal layer formation
DE102007005845A1 (de) * 2007-02-01 2008-08-07 Kuraray Europe Gmbh Verfahren zur Herstellung von Solarmodulen im Walzenverbundverfahren
US7777397B2 (en) 2007-03-12 2010-08-17 3M Innovative Properties Company Multilayer conductive elements
EP1988186A1 (en) * 2007-04-24 2008-11-05 Galileo Vacuum Systems S.p.A. Multichamber vacuum deposition system
GB0712826D0 (en) * 2007-07-03 2007-08-08 Pilkington Group Ltd RF interference reduction for functional glazings
US8179034B2 (en) * 2007-07-13 2012-05-15 3M Innovative Properties Company Light extraction film for organic light emitting diode display and lighting devices
US20090015142A1 (en) * 2007-07-13 2009-01-15 3M Innovative Properties Company Light extraction film for organic light emitting diode display devices
KR20100051738A (ko) * 2007-08-31 2010-05-17 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 광전지 생산 라인
US8630040B2 (en) * 2007-10-30 2014-01-14 3M Innovative Properties Company Multi-component films for optical display filters
KR101563025B1 (ko) * 2007-12-28 2015-10-23 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 가요성 캡슐화 필름 및 그의 제조 방법
CN101909873B (zh) * 2007-12-28 2016-10-19 3M创新有限公司 用于阳光控制及其它用途的红外线反射膜
US20090169879A1 (en) * 2007-12-31 2009-07-02 3M Innovative Properties Company Corrosion resistant multi-layer window film construction
WO2009088864A1 (en) 2007-12-31 2009-07-16 Exatec, Llc Apparatus and method for printing three-dimensional articles
BRPI0819575A2 (pt) * 2007-12-31 2015-05-05 3M Innovative Properties Co "bandagens médicas e kit de bandagem médica"
EP2257120B1 (en) * 2008-03-17 2013-06-26 LG Chem, Ltd. Heating element and manufacturing method for same
US8350451B2 (en) 2008-06-05 2013-01-08 3M Innovative Properties Company Ultrathin transparent EMI shielding film comprising a polymer basecoat and crosslinked polymer transparent dielectric layer
WO2010002755A2 (en) 2008-06-30 2010-01-07 3M Innovative Properties Company Method of making inorganic or inorganic/organic hybrid barrier films
US20100110551A1 (en) * 2008-10-31 2010-05-06 3M Innovative Properties Company Light extraction film with high index backfill layer and passivation layer
US7957621B2 (en) * 2008-12-17 2011-06-07 3M Innovative Properties Company Light extraction film with nanoparticle coatings
US20100266801A1 (en) * 2009-04-15 2010-10-21 Optimum Coating Technologies, S.A. de C.V. Low-emissivity window film and process for producing such a film
US9168180B2 (en) * 2009-06-16 2015-10-27 3M Innovative Properties Company Conformable medical dressing with self supporting substrate
SG178225A1 (en) * 2009-08-03 2012-03-29 3M Innovative Properties Co Process for forming optically clear conductive metal or metal alloy thin films and films made therefrom
GB0914961D0 (en) 2009-08-27 2009-09-30 Appleton Steve Electrically heated window
US20110056924A1 (en) * 2009-09-10 2011-03-10 Benjamin Park Townsend Solar defrost panels
US8596781B2 (en) * 2009-10-15 2013-12-03 Adlens Beacon, Inc. Fluid filled lens reservoir system and manufacturing method of the reservoir system
JP2013516789A (ja) * 2010-01-06 2013-05-13 ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー エラストマー性ポリシロキサン保護層を有する耐湿分性光電池デバイス
KR200451671Y1 (ko) * 2010-02-26 2011-01-05 (주)휴먼전자엔씨 터치 센서
NZ602103A (en) 2010-03-01 2014-07-25 Cpfilms Inc Low emissivity and emi shielding window films
US8778109B2 (en) * 2010-03-01 2014-07-15 Cpfilms Inc. Low emissivity and EMI shielding films
US8425662B2 (en) 2010-04-02 2013-04-23 Battelle Memorial Institute Methods for associating or dissociating guest materials with a metal organic framework, systems for associating or dissociating guest materials within a series of metal organic frameworks, and gas separation assemblies
TWI469442B (zh) * 2010-10-15 2015-01-11 Advanced Connectek Inc Soft antenna
WO2012096304A1 (ja) * 2011-01-13 2012-07-19 東レ株式会社 遠赤外線反射積層体
FR2976439A1 (fr) * 2011-06-07 2012-12-14 Saint Gobain Element chauffant a couche
PL2718098T3 (pl) * 2011-06-10 2018-10-31 Saint-Gobain Glass France Ogrzewana szyba zespolona z funkcją bezpieczeństwa
US20130337276A1 (en) * 2012-06-19 2013-12-19 Global Ip Holdings, Llc Plastic part having a layered, decorative, colored-metal finish
CN108878685A (zh) * 2012-08-22 2018-11-23 3M创新有限公司 透明oled光提取
JP6316317B2 (ja) * 2013-12-26 2018-04-25 阪本 順 積層体の製造方法、及び積層体の製造装置
EP3123530A4 (en) 2014-03-25 2017-08-16 3M Innovative Properties Company Flexible circuits with coplanar conductive features and methods of making same
TWI663135B (zh) * 2014-10-22 2019-06-21 美商康寧公司 改善阻止撞擊破裂之蓋板可靠性的方法與設備
US10132967B2 (en) * 2015-11-02 2018-11-20 Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha Metal gloss design member
WO2017083591A1 (en) 2015-11-10 2017-05-18 Woodham Biotechnology Holdings, LLC Gel electrophoresis and transfer combination using conductive polymers and method of use
CN105552247B (zh) * 2015-12-08 2018-10-26 上海天马微电子有限公司 复合基板、柔性显示装置及其制备方法
CN109562673A (zh) * 2016-05-24 2019-04-02 高新材料企业有限公司 温度操纵装置及其制备方法
DE102016217585B3 (de) * 2016-09-15 2017-08-03 Schaeffler Technologies AG & Co. KG Dehnungsmesstreifen sowie Verfahren zur Herstellung eines Dehnungsmessstreifens
JP7041674B2 (ja) 2016-10-14 2022-03-24 シー３ナノ・インコーポレイテッド 安定化された薄く広がった金属導電性フィルム、および安定化化合物の供給のための溶液
CN106898434B (zh) * 2017-02-28 2018-08-10 厦门大学 一种导电加热透明电极的制造方法
WO2019189738A1 (ja) * 2018-03-29 2019-10-03 積水化学工業株式会社 合わせガラス用中間膜及び合わせガラス
EP4021720A4 (en) * 2019-08-30 2023-09-27 Central Glass Company, Limited LAMINATED GLASS PRESENTING A HOLOGRAPHIC FILM AND METHOD FOR PRODUCING LAMINATED GLAZING
KR20220097516A (ko) 2019-11-18 2022-07-07 시쓰리나노 인크 성긴 금속 전도성 층의 안정화를 위한 투명 전도성 필름의 코팅 및 가공
WO2021177809A1 (es) * 2020-03-03 2021-09-10 Hernandez Santillan Joel Sensor de penetración
CN113038641B (zh) * 2021-05-17 2022-05-13 中熵科技(北京)有限公司 新型复合半导体制热薄膜及薄膜制备方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000026973A1 (en) * 1998-11-02 2000-05-11 Presstek, Inc. Transparent conductive oxides for plastic flat panel displays
US6204480B1 (en) * 2000-02-01 2001-03-20 Southwall Technologies, Inc. Vacuum deposition of bus bars onto conductive transparent films

Family Cites Families (146)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2676117A (en) * 1949-04-18 1954-04-20 Libbey Owens Ford Glass Co Light transmissive electrically conducting optical article
NL295987A (ko) 1962-08-02 1900-01-01
US3302002A (en) 1966-08-11 1967-01-31 Sierracin Corp Uniformly heated conductive panels
US3529074A (en) 1968-05-07 1970-09-15 Sierracin Corp External busbar system
US3601471A (en) 1969-03-03 1971-08-24 Optical Coating Laboratory Inc Durable first surface silver high reflector
BE759235A (fr) * 1969-11-20 1971-05-21 Triplex Safety Glass Co Perfectionnements aux objets transparents conducteurs de l'electricite
US3682528A (en) 1970-09-10 1972-08-08 Optical Coating Laboratory Inc Infra-red interference filter
US3752348A (en) 1971-08-30 1973-08-14 Ford Motor Co Motor vehicle electrically heated windshield and backlight system
US3825917A (en) * 1972-11-16 1974-07-23 Sierracin Corp Security window
US3897140A (en) 1972-12-22 1975-07-29 Roger W Tuthill Multilayer solar filter reducing distortive diffraction
US3990784A (en) 1974-06-05 1976-11-09 Optical Coating Laboratory, Inc. Coated architectural glass system and method
US4017661A (en) 1974-08-09 1977-04-12 Ppg Industries, Inc. Electrically conductive transparent laminated window
US4721349A (en) * 1974-08-16 1988-01-26 Massachusetts Institute Of Technology Transparent heat-mirror
US4337990A (en) * 1974-08-16 1982-07-06 Massachusetts Institute Of Technology Transparent heat-mirror
US4556277A (en) * 1976-05-27 1985-12-03 Massachusetts Institute Of Technology Transparent heat-mirror
US4098965A (en) * 1977-01-24 1978-07-04 Polaroid Corporation Flat batteries and method of making the same
US4166876A (en) 1977-03-28 1979-09-04 Teijin Limited Transparent, electrically conductive laminated structure and process for production thereof
JPS5944993B2 (ja) 1978-07-11 1984-11-02 帝人株式会社 積層体
US4226910A (en) 1979-07-12 1980-10-07 Minnesota Mining And Manufacturing Company Energy control sheet having insulative properties
EP0024925B1 (en) 1979-08-31 1983-10-05 Teijin Limited Heat wave-reflective or electrically conductive laminated structure
DE3160998D1 (en) 1980-03-10 1983-11-03 Teijin Ltd Selectively light-transmitting laminated structure
US4581337A (en) * 1983-07-07 1986-04-08 E. I. Du Pont De Nemours And Company Polyether polyamines as linking agents for particle reagents useful in immunoassays
JPS5926251A (ja) * 1982-06-30 1984-02-10 帝人株式会社 積層体
DE3370195D1 (en) 1982-06-30 1987-04-16 Teijin Ltd Optical laminar structure
US4565719A (en) * 1982-10-08 1986-01-21 Optical Coating Laboratory, Inc. Energy control window film systems and methods for manufacturing the same
JPS5970558A (ja) * 1982-10-15 1984-04-21 帝人株式会社 積層体
JPS59138440A (ja) 1983-01-27 1984-08-08 豊田合成株式会社 セラミツクス被膜層を有する樹脂成形体
US4590118A (en) 1983-02-17 1986-05-20 Teijin Limited Selective light transmission sheet
JPS60127152A (ja) * 1983-12-15 1985-07-06 帝人株式会社 光選択透過性シ−ト
US5097800A (en) 1983-12-19 1992-03-24 Spectrum Control, Inc. High speed apparatus for forming capacitors
US5018048A (en) 1983-12-19 1991-05-21 Spectrum Control, Inc. Miniaturized monolithic multi-layer capacitor and apparatus and method for making
US5125138A (en) 1983-12-19 1992-06-30 Spectrum Control, Inc. Miniaturized monolithic multi-layer capacitor and apparatus and method for making same
US4842893A (en) 1983-12-19 1989-06-27 Spectrum Control, Inc. High speed process for coating substrates
US5032461A (en) 1983-12-19 1991-07-16 Spectrum Control, Inc. Method of making a multi-layered article
JPS60226435A (ja) * 1984-04-24 1985-11-11 Bridgestone Corp 合せガラス
JPS6143555A (ja) * 1984-08-07 1986-03-03 豊田合成株式会社 透明樹脂成形品
US4722515A (en) 1984-11-06 1988-02-02 Spectrum Control, Inc. Atomizing device for vaporization
US4645714A (en) 1984-12-24 1987-02-24 Minnesota Mining And Manufacturing Company Corrosion-resistant silver mirror
EP0242460A1 (en) 1985-01-18 1987-10-28 SPECTRUM CONTROL, INC. (a Pennsylvania corporation) Monomer atomizer for vaporization
US4828346A (en) * 1985-10-08 1989-05-09 The Boc Group, Inc. Transparent article having high visible transmittance
US4654067A (en) * 1986-01-28 1987-03-31 Ford Motor Company Method for making an electrically heatable windshield
JPH0734332B2 (ja) * 1986-03-12 1995-04-12 株式会社ト−ビ 透明導電性フイルムの製造方法
US4954371A (en) 1986-06-23 1990-09-04 Spectrum Control, Inc. Flash evaporation of monomer fluids
US5071206A (en) 1986-06-30 1991-12-10 Southwall Technologies Inc. Color-corrected heat-reflecting composite films and glazing products containing the same
US4799745A (en) 1986-06-30 1989-01-24 Southwall Technologies, Inc. Heat reflecting composite films and glazing products containing the same
US5332888A (en) 1986-08-20 1994-07-26 Libbey-Owens-Ford Co. Sputtered multi-layer color compatible solar control coating
JPH0832436B2 (ja) 1986-11-27 1996-03-29 旭硝子株式会社 透明導電性積層体
US4806220A (en) * 1986-12-29 1989-02-21 Ppg Industries, Inc. Method of making low emissivity film for high temperature processing
US5059295A (en) * 1986-12-29 1991-10-22 Ppg Industries, Inc. Method of making low emissivity window
US5270517A (en) * 1986-12-29 1993-12-14 Ppg Industries, Inc. Method for fabricating an electrically heatable coated transparency
US5028759A (en) * 1988-04-01 1991-07-02 Ppg Industries, Inc. Low emissivity film for a heated windshield
CN87208073U (zh) * 1987-05-13 1988-04-06 南京工学院 窗用遮阳塑料薄膜
US4786783A (en) 1987-08-11 1988-11-22 Monsanto Company Electrically heatable laminated window
US4782216A (en) 1987-08-11 1988-11-01 Monsanto Company Electrically heatable laminated window
US4910090A (en) 1987-10-21 1990-03-20 Southwall Technologies, Inc. EMI/RFI shield for visual display terminals
FR2633920B1 (fr) 1988-07-08 1992-02-21 Saint Gobain Vitrage Procede pour produire une couche transparente a faible resistivite
US5324374A (en) 1988-07-27 1994-06-28 Saint Gobain Vitrage Laminated glass with an electroconductive layer
FR2639042B1 (fr) 1988-11-14 1993-01-15 Saint Gobain Vitrage Dispositif pour l'entrainement des rouleaux moteurs d'une calandreuse pour vitrages feuilletes et calandreuse equipee de ce dispositif
US4973511A (en) 1988-12-01 1990-11-27 Monsanto Company Composite solar/safety film and laminated window assembly made therefrom
US4965408A (en) 1989-02-01 1990-10-23 Borden, Inc. Composite sheet material for electromagnetic radiation shielding
US5506037A (en) * 1989-12-09 1996-04-09 Saint Gobain Vitrage International Heat-reflecting and/or electrically heatable laminated glass pane
CA2038117A1 (en) 1990-03-29 1991-09-30 Mahfuza B. Ali Controllable radiation curable photoiniferter prepared adhesives for attachment of microelectronic devices and a method of attaching microelectronic devices therewith
US5529654A (en) * 1990-06-18 1996-06-25 Monsanto Company Process forming a shaped laminate
US5711816A (en) * 1990-07-06 1998-01-27 Advanced Technolgy Materials, Inc. Source reagent liquid delivery apparatus, and chemical vapor deposition system comprising same
US5091244A (en) 1990-08-10 1992-02-25 Viratec Thin Films, Inc. Electrically-conductive, light-attenuating antireflection coating
US5111329A (en) * 1990-11-28 1992-05-05 Ford Motor Company Solar load reduction panel with controllable light transparency
US5306547A (en) * 1990-12-14 1994-04-26 Southwall Technologies Inc. Low transmission heat-reflective glazing materials
WO1992012219A1 (en) 1991-01-11 1992-07-23 Minnesota Mining And Manufacturing Company Polymer-dispersed liquid crystal device having an ultraviolet-polymerizable matrix and a variable optical transmission and a method for preparing the same
US5427861A (en) * 1991-08-12 1995-06-27 Monsanto Company Laminated glazing panel having improved resistance to light exposure
US5759329A (en) * 1992-01-06 1998-06-02 Pilot Industries, Inc. Fluoropolymer composite tube and method of preparation
US5427638A (en) * 1992-06-04 1995-06-27 Alliedsignal Inc. Low temperature reaction bonding
GB9215928D0 (en) * 1992-07-27 1992-09-09 Cambridge Display Tech Ltd Manufacture of electroluminescent devices
US5260095A (en) 1992-08-21 1993-11-09 Battelle Memorial Institute Vacuum deposition and curing of liquid monomers
AU6411894A (en) 1993-03-23 1994-10-11 Southwall Technologies, Inc. Gold-clad-silver-layer-containing films
US5360659A (en) 1993-05-24 1994-11-01 The Dow Chemical Company Two component infrared reflecting film
US5631315A (en) * 1993-07-01 1997-05-20 Monsanto Company Plasticized polyvinyl butyral sheet containing epoxy resin
US5510173A (en) * 1993-08-20 1996-04-23 Southwall Technologies Inc. Multiple layer thin films with improved corrosion resistance
BR9407741A (pt) 1993-10-04 1997-02-12 Catalina Coatings Inc Revestimento de acrilato
US5440446A (en) 1993-10-04 1995-08-08 Catalina Coatings, Inc. Acrylate coating material
JP2846571B2 (ja) * 1994-02-25 1999-01-13 出光興産株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子
US6673438B1 (en) * 1994-05-03 2004-01-06 Cardinal Cg Company Transparent article having protective silicon nitride film
US5489489A (en) 1994-07-21 1996-02-06 Motorola, Inc. Substrate having an optically transparent EMI/RFI shield
US6083628A (en) 1994-11-04 2000-07-04 Sigma Laboratories Of Arizona, Inc. Hybrid polymer film
US5607789A (en) * 1995-01-23 1997-03-04 Duracell Inc. Light transparent multilayer moisture barrier for electrochemical cell tester and cell employing same
US5620524A (en) * 1995-02-27 1997-04-15 Fan; Chiko Apparatus for fluid delivery in chemical vapor deposition systems
US5877895A (en) 1995-03-20 1999-03-02 Catalina Coatings, Inc. Multicolor interference coating
US5744227A (en) 1995-04-03 1998-04-28 Southwall Technologies Inc. Antireflective coatings comprising a lubricating layer having a specific surface energy
US5981059A (en) 1995-04-03 1999-11-09 Southwall Technologies, Inc. Multi-layer topcoat for an optical member
US5771562A (en) 1995-05-02 1998-06-30 Motorola, Inc. Passivation of organic devices
US5629389A (en) * 1995-06-06 1997-05-13 Hewlett-Packard Company Polymer-based electroluminescent device with improved stability
CN1119674C (zh) * 1995-06-26 2003-08-27 美国3M公司 透明的多层装置及包含该装置的制品
US5699188A (en) 1995-06-26 1997-12-16 Minnesota Mining And Manufacturing Co. Metal-coated multilayer mirror
BR9609314A (pt) 1995-06-26 1999-07-06 Minnesota Mining & Mfg Película de multicamadas
US6737154B2 (en) * 1995-06-26 2004-05-18 3M Innovative Properties Company Multilayer polymer film with additional coatings or layers
JP3079961B2 (ja) * 1995-07-11 2000-08-21 株式会社村田製作所 衝撃センサ
US5681615A (en) 1995-07-27 1997-10-28 Battelle Memorial Institute Vacuum flash evaporated polymer composites
FR2738772B1 (fr) 1995-09-15 1997-10-24 Saint Gobain Vitrage Vitrage feuillete d'isolation acoustique
US5686360A (en) 1995-11-30 1997-11-11 Motorola Passivation of organic devices
US5756192A (en) * 1996-01-16 1998-05-26 Ford Motor Company Multilayer coating for defrosting glass
US5739180A (en) * 1996-05-02 1998-04-14 Lucent Technologies Inc. Flat panel displays and methods and substrates therefor
TW446637B (en) 1996-05-28 2001-07-21 Mitsui Chemicals Inc Transparent laminates and optical filters for displays using the same
US5731661A (en) * 1996-07-15 1998-03-24 Motorola, Inc. Passivation of electroluminescent organic devices
US5902688A (en) * 1996-07-16 1999-05-11 Hewlett-Packard Company Electroluminescent display device
KR20000064304A (ko) 1996-09-03 2000-11-06 도낀 가부시끼가이샤 복합자성 시트의 제조방법
GB9619781D0 (en) * 1996-09-23 1996-11-06 Secr Defence Multi layer interference coatings
US6132882A (en) 1996-12-16 2000-10-17 3M Innovative Properties Company Damped glass and plastic laminates
US5912069A (en) * 1996-12-19 1999-06-15 Sigma Laboratories Of Arizona Metal nanolaminate composite
US5872355A (en) * 1997-04-09 1999-02-16 Hewlett-Packard Company Electroluminescent device and fabrication method for a light detection system
TW417025B (en) 1997-04-10 2001-01-01 Sumitomo Chemical Co Front plate for plasma display
US6198220B1 (en) * 1997-07-11 2001-03-06 Emagin Corporation Sealing structure for organic light emitting devices
US5902641A (en) * 1997-09-29 1999-05-11 Battelle Memorial Institute Flash evaporation of liquid monomer particle mixture
US6045864A (en) 1997-12-01 2000-04-04 3M Innovative Properties Company Vapor coating method
US6007901A (en) 1997-12-04 1999-12-28 Cpfilms, Inc. Heat reflecting fenestration products with color corrective and corrosion protective layers
US6030671A (en) 1998-01-09 2000-02-29 Msc Specialty Films, Inc. Low emissivity window films
CN1104325C (zh) 1998-01-13 2003-04-02 美国3M公司 改性共聚聚酯和改进的多层反射薄膜
US6049419A (en) 1998-01-13 2000-04-11 3M Innovative Properties Co Multilayer infrared reflecting optical body
EP2147771B1 (en) 1998-01-13 2018-07-11 Minnesota Mining And Manufacturing Company Process for making multilayer optical films
DE69910732T2 (de) * 1998-01-27 2004-06-17 Minnesota Mining & Manufacturing Company, St. Paul Fluorochemische benzotriazole
US6111698A (en) 1998-03-06 2000-08-29 Southwall Technologies, Inc. Multilayer absorbing antireflective coating
US6066826A (en) * 1998-03-16 2000-05-23 Yializis; Angelo Apparatus for plasma treatment of moving webs
JP4063945B2 (ja) 1998-03-19 2008-03-19 リンテック株式会社 電波シールド材
US5904958A (en) * 1998-03-20 1999-05-18 Rexam Industries Corp. Adjustable nozzle for evaporation or organic monomers
US6500559B2 (en) 1998-05-04 2002-12-31 Cryovac, Inc. Multiple layer film with amorphous polyamide layer
US6040939A (en) * 1998-06-16 2000-03-21 Turkiye Sise Ve Cam Fabrikalari A.S. Anti-solar and low emissivity functioning multi-layer coatings on transparent substrates
US6146225A (en) 1998-07-30 2000-11-14 Agilent Technologies, Inc. Transparent, flexible permeability barrier for organic electroluminescent devices
US6352777B1 (en) * 1998-08-19 2002-03-05 The Trustees Of Princeton University Organic photosensitive optoelectronic devices with transparent electrodes
US6034813A (en) * 1998-08-24 2000-03-07 Southwall Technologies, Inc. Wavelength selective applied films with glare control
US6040017A (en) * 1998-10-02 2000-03-21 Sigma Laboratories, Inc. Formation of multilayered photonic polymer composites
JP2000167969A (ja) * 1998-12-07 2000-06-20 Nitto Denko Corp 透明積層体およびそれを用いたプラズマディスプレイパネル用フィルター
US6268695B1 (en) 1998-12-16 2001-07-31 Battelle Memorial Institute Environmental barrier material for organic light emitting device and method of making
WO2000048749A1 (en) 1999-02-18 2000-08-24 Battelle Memorial Institute Method for adhering laminate structures
US6172810B1 (en) 1999-02-26 2001-01-09 3M Innovative Properties Company Retroreflective articles having polymer multilayer reflective coatings
JP2000294980A (ja) * 1999-04-06 2000-10-20 Nippon Sheet Glass Co Ltd 透光性電磁波フィルタおよびその製造方法
US6264336B1 (en) 1999-10-22 2001-07-24 3M Innovative Properties Company Display apparatus with corrosion-resistant light directing film
US6413645B1 (en) 2000-04-20 2002-07-02 Battelle Memorial Institute Ultrabarrier substrates
US6573652B1 (en) 1999-10-25 2003-06-03 Battelle Memorial Institute Encapsulated display devices
US6811867B1 (en) 2000-02-10 2004-11-02 3M Innovative Properties Company Color stable pigmented polymeric films
US6492026B1 (en) 2000-04-20 2002-12-10 Battelle Memorial Institute Smoothing and barrier layers on high Tg substrates
US6797396B1 (en) 2000-06-09 2004-09-28 3M Innovative Properties Company Wrinkle resistant infrared reflecting film and non-planar laminate articles made therefrom
US7238401B1 (en) 2000-06-09 2007-07-03 3M Innovative Properties Company Glazing element and laminate for use in the same
US6818291B2 (en) * 2002-08-17 2004-11-16 3M Innovative Properties Company Durable transparent EMI shielding film
US7215473B2 (en) * 2002-08-17 2007-05-08 3M Innovative Properties Company Enhanced heat mirror films
US6933051B2 (en) * 2002-08-17 2005-08-23 3M Innovative Properties Company Flexible electrically conductive film
US7169328B2 (en) * 2003-01-17 2007-01-30 T/J Technologies, Inc. Multiphase nanocomposite material and method for its manufacture
US7018713B2 (en) * 2003-04-02 2006-03-28 3M Innovative Properties Company Flexible high-temperature ultrabarrier
US20060055308A1 (en) * 2004-09-16 2006-03-16 Lairson Bruce M Plasma display filter with a dielectric/metallic layer stack of at least eleven layers

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000026973A1 (en) * 1998-11-02 2000-05-11 Presstek, Inc. Transparent conductive oxides for plastic flat panel displays
US6204480B1 (en) * 2000-02-01 2001-03-20 Southwall Technologies, Inc. Vacuum deposition of bus bars onto conductive transparent films

Also Published As

Publication number Publication date
DE60329503D1 (de) 2009-11-12
US20040033369A1 (en) 2004-02-19
US20080257475A1 (en) 2008-10-23
TW200403693A (en) 2004-03-01
CN1675059B (zh) 2010-06-16
EP1542866B1 (en) 2009-09-30
EP1542866A2 (en) 2005-06-22
WO2004016560A2 (en) 2004-02-26
KR20050050082A (ko) 2005-05-27
BR0313509B1 (pt) 2011-08-23
BR0313509A (pt) 2005-06-21
US20050181123A1 (en) 2005-08-18
WO2004016560A3 (en) 2004-04-08
US7393557B2 (en) 2008-07-01
JP4589111B2 (ja) 2010-12-01
CN1675059A (zh) 2005-09-28
AU2003274899A8 (en) 2004-03-03
MXPA05001700A (es) 2005-07-28
US6933051B2 (en) 2005-08-23
AU2003274899A1 (en) 2004-03-03
JP2005535474A (ja) 2005-11-24
ATE444161T1 (de) 2009-10-15
TWI343583B (en) 2011-06-11
WO2004016560A8 (en) 2005-04-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101115219B1 (ko) 가요성 전기 도전성 필름
US6929864B2 (en) Extensible, visible light-transmissive and infrared-reflective film and methods of making and using the film
EP2125361B1 (en) Nucleation layer for thin film metal layer formation
JP5475685B2 (ja) ソーラーコントロール及びその他の使用のための赤外線反射フィルム
EP2462791B1 (en) Process for forming optically clear conductive metal or metal alloy thin films and films made therefrom
EP1530733B1 (en) Enhanced heat mirror films
EP1529422B1 (en) Flexible, formable conductive films

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E90F Notification of reason for final refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150119

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160104

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170102

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180103

Year of fee payment: 7

LAPS Lapse due to unpaid annual fee