JP4589111B2 - 可撓性の導電性フィルム - Google Patents

Description

本発明は、導電性フィルムと、それから製造される光学物品とに関する。

グレージング材料は、グレージングの性能を高めるように設計された１つまたは複数の機能層を含有することがある。１つの重要な機能層は、赤外放射の透過を減少させる。赤外線遮断機能層は、通常、不要な太陽輻射を反射または吸収する半透明のメタライズドポリマーフィルム構成または染色ポリマーフィルム構成で製造される。このような機能層について記載する参考文献としては、米国特許第４，５９０，１１８号明細書、同第４，６３９，０６９号明細書、および同第４，７９９，７４５号明細書が挙げられる。またメタライズドフィルム構成を用いる導電性機能層は、アンテナや電磁妨害（ＥＭＩ）遮蔽体などのため、ならびにグレージングおよびディスプレイのデフォッグ、デミスト、霜取りまたは除氷などの電気加熱フィルム用途のために使用することができる。電気加熱フィルム用途はかなりの通電能力を必要とし得るが、可視光透過性が必要とされる場合には非常に薄い（したがって、非常に壊れやすい）金属または合金層を使用しなければならない。このような電気加熱フィルム用途について記載する参考文献としては、米国特許第３，５２９，０７４号明細書、同第４，７８２，２１６号明細書、同第４，７８６，７８３号明細書、同第５，３２４，３７４号明細書、および同第５，３３２，８８８号明細書が挙げられる。電気加熱フィルムは、乗り物用安全グレージングにおいて特に重要である。従来の乗り物用安全グレージングは、２つの剛性層、通常はガラスと、耐引裂性の機械エネルギー吸収中間層、通常は可塑化ポリビニルブチラール（「ＰＶＢ」）との積層体である。電気加熱グレージングの作製は、ＰＶＢ層、電気加熱フィルム層および適切な電極をガラス層の間に配置し、係合表面から空気を除去してから、その集成体をオートクレーブ内で高い温度および圧力にさらし、ＰＶＢ、電気加熱フィルム層およびガラスを融着させて光学的に透明な構造にすることによって行われる。得られた電気加熱安全グレージングは、例えば、自動車、飛行機、列車、またはその他の車両のウィンドシールド、バックライト、サンルーフまたはサイドウィンドウにおいて使用することができる。

乗り物の空気力学を向上させ、外側の視界を改善するために、多くの乗り物用ウィンドウの形状は平面ではなく、次第に、厳しい角度および複雑な曲線を含む。これらの角度および曲線によって、電気加熱機能層を乗り物用グレージング内に積層させることが非常に困難になる場合がある。積層後すぐに電気的または光学的な欠陥が生じる場合もあるし、グレージングの使用中に故障が起こる場合もある。

導電性機能層の伸長は、スクラッチまたは亀裂などの欠陥を生じ得る。電気加熱フィルムでは、特に、スクラッチまたは亀裂が電気加熱機能層を通る電流の方向に対して垂直方向にある場合には、フィルムにエネルギーが与えられるとこれらの欠陥はホットスポットの形成を引き起こし得る。ＥＭＩ遮蔽体では、これらの欠陥は電磁エネルギーの漏れを引き起こし得る。

これらの欠陥は、一つには透明導電層の脆弱性によって、あるいはこのような層の腐食する傾向によって、発生することがあると考えられる。透明導電層のスタックを含有するフィルムでは、フィルムを取扱う（例えば、グレージング内への積層、またはＥＭＩ遮蔽体への形成）か、あるいは使用中に温度変化にさらされると生じるかもしれない伸長、加熱、および冷却によって、層間距離の局部的な変化が発生することがある。これらの難点は、導電性機能層のスタックを含有するフィルムがＰＶＢに隣接して配置される場合に悪化すると考えられる。ＰＶＢシートは、通常、大量の可塑剤および他の補助剤を含有する。これらの補助剤は、フィルム層内に移動し、導電性機能層間の距離の局部的変化をもたらし得る腐食、膨潤またはその他の効果を引き起こすことがあると考えられる。

本出願は導電性の可視光透過性フィルムの製造方法を開示し、該方法は、
ａ）可視光透過性の可撓性支持体を提供する工程と、
ｂ）前記支持体の上に可視光透過性の第１の金属または合金層を形成する工程と、
ｃ）前記第１の金属または合金層の上に、有機層を形成する工程と、
ｄ）前記有機層を架橋させて、可視光透過性の架橋高分子層を形成する工程と、
ｅ）前記架橋高分子層の上に、可視光透過性の第２の金属または合金層を形成する工程と、
ｆ）前記第１および第２の金属または合金層のうちの少なくとも１つに、１つまたは複数の電極を接続する工程と、
を含む。得られるフィルムは、第１および第２の金属または合金層の間に非架橋有機層または無機層を用いるフィルムよりも、はるかに優れた成形性および故障への耐性を有すると思われる。

また、本出願は導電性グレージング物品の製造方法であって、グレージング材料層と、可視光透過性の架橋高分子層で隔てられた第１および第２の可視光透過性金属または合金層を含む可視光透過性フィルムとを組み立てる工程と、前記グレージング材料およびフィルムを結合して単一の物品にする工程と、前記金属または合金層のうちの少なくとも１つに、１つまたは複数の電極を接続する工程とを含む。

更に、本出願は電気加熱可能な積層物品の製造方法を開示し、該方法は、
ａ）第１のグレージング材料層と、第１の機械エネルギー吸収層と、架橋高分子層で隔てられた第１および第２の金属または合金層を含む可視光透過性の可撓性フィルム層と、前記金属または合金層へ電流が供給されることを可能にする電極と、第２の機械エネルギー吸収層と、第２のグレージング材料層とを組み立てる工程と、
ｂ）前記層の間から残留空気を除去する工程と、
ｃ）前記層を加熱および加圧し、前記層および電極を結合して単一の物品にする工程と、
を含む。

更に本出願は、電気的に接続された第１および第２の可視光透過性金属または合金層を含む導電性の可視光透過性フィルムであって、前記第１および第２の可視光透過性金属または合金層が可視光透過性の架橋高分子層で隔てられている可視光透過性フィルムを開示する。

更に本出願は、可視光透過性の架橋高分子層で隔てられた第１および第２の可視光透過性金属または合金層を含むと共に、前記金属または合金層へ電流が供給されることを可能にする電極を更に含む可視光透過性フィルムに接合された少なくとも１つの機械エネルギー吸収材料層を含む安全グレージング予備積層体を開示する。

また更に、本出願は、可視光透過性の架橋高分子層で隔てられた第１および第２の可視光透過性金属または合金層を含むと共に、前記金属または合金層へ電流が供給されることを可能にする電極を更に含む可視光透過性フィルムに接合された少なくとも１つのグレージング材料層を含む電気加熱可能なグレージング物品を開示する。好ましくは、このようなグレージング物品中のグレージング材料はガラスを含み、グレージング物品はフィルムとガラスの間に接着剤層を含む。

更に本出願は、可視光透過性の架橋高分子層で隔てられた第１および第２の可視光透過性金属または合金層を含むと共に、前記金属または合金層へ電流が供給されることを可能にする電極を更に含む可視光透過性フィルムを含む、少なくとも１つのウィンドシールド、バックライト、サイドウィンドウまたはスカイライトを含む電気加熱可能なグレージングを有する乗り物を開示する。

架橋高分子層で隔てられた多数の導電性金属または合金層の使用によって、湾曲、屈曲、または伸長を受けた場合の層間剥離、破損、または電流遮断に対する耐性が高められた物品が提供される。好ましくは、曲げやしわにもかかわらずフィルムに０．１５Ｗ／ｃｍ²より大きい電力がかけられた後に、層は導電性を保持するであろう。最も好ましくは、腐食条件にさらされた後に、層は導電性を保持するであろう。

上記の一般的な概要は、読者の利便性のために提供される。本発明の範囲は、適宜補正されるかもしれないが、特許請求の範囲によって定義されるので、これらは添付される特許請求の範囲と置換えまたは混同されてはならない。

図面中の様々な図における同様の参照記号は同様の要素を示す。図面中の要素は一定の縮尺で表されているわけではない。

本発明のフィルムまたは物品中の様々な層の位置に対して「頂上」、「上」、「最上部」などの方向性に関する単語を使用することによって、１つまたは複数の層の、水平の支持体層に対する相対的な位置について言及する。フィルムまたは物品が、その製造中または製造後に空間的に特定の方向性を有すべきことを意図するものではない。

「架橋」ポリマーとは、通常は架橋分子または架橋基を介する化学的な共有結合によりポリマー鎖が結合されて、ネットワークポリマーが形成されたポリマーを意味する。架橋ポリマーは、一般に不溶性によって特徴付けられるが、適切な溶媒の存在下で膨潤可能な場合がある。「ポリマー」という用語は、ホモポリマーおよびコポリマーと、例えば同時押出しによって、あるいは反応（例えば、エステル交換を含む）によって混和性ブレンドに形成され得るホモポリマーまたはコポリマーとを含む。「コポリマー」という用語は、ランダムコポリマーおよびブロックコポリマーの両方を含む。

「可視光透過性」の支持体、層、フィルムまたは物品とは、支持体、層、フィルムまたは物品が、スペクトルの可視部分において、法線軸（ｎｏｒｍａｌ ａｘｉｓ）に沿って測定される少なくとも約２０％の透過率Ｔ_visを有することを意味する。「赤外線反射性」の支持体、層、フィルムまたは物品とは、支持体、層、フィルムまたは物品が、約７００ｎｍ〜約２０００ｎｍの波長領域の少なくとも１００ｎｍ幅のバンドにおいて、法線に近い角度（例えば、約６°の入射角度）で測定される少なくとも５０％の光を反射することを意味する。「光」とは、太陽輻射を意味する。

「非平面状」の表面または物品（例えば、ガラスまたは他のグレージング材料の）とは、表面または物品が連続的、断続的、一方向性または複合的な湾曲を有することを意味する。「複合的な湾曲」を有する表面または物品とは、表面または物品が、単一の点から２つの異なる非直線的な方向に湾曲することを意味する。

「伸展性」の金属または合金層とは、可視光透過性フィルム内に取り込まれたときに、電気的な連続性を損失せずに面内の方向に少なくとも３％伸長されることが可能であり、約０．２５メートルの距離で肉眼により検出されるような可視的な不連続が金属または合金層の表面に形成されない層を意味する。

「実質的にクラックや折り目がない」とは、約１メートルの距離、好ましくは約０．５メートルの距離で肉眼により検出されるような可視的な不連続がフィルムもしくは金属または合金層の表面にない、物品中に積層されたフィルムを意味する。「実質的にしわがない」とは、約１メートルの距離、好ましくは約０．５メートルの距離で肉眼を用いて検出されるような平滑フィルム表面の収縮から生じる小さい隆起や溝がない、物品中に積層されたフィルムを意味する。「光学的に透明」とは、約１メートルの距離、好ましくは約０．５メートルの距離で肉眼により検出されるような目に見えて顕著な変形、曇りまたはキズが存在しない積層物品を意味する。

「電気的に接続された」層とは、少なくとも１つの接地電極（例えば、ＥＭＩ遮蔽用途のため）へ、あるいは回路の一部を形成する２つ以上の電極（例えば、加熱、侵入検知、または他の通電または容量的な（ｃａｐａｃｉｔａｔｉｖｅ）用途のため）へ接続された導電層を意味する。

図１を参照すると、電気加熱可能な物品１０は、可撓性プラスチック支持体層１４、第１の金属または合金層１６、架橋高分子層１８、および第２の金属または合金層２０を有する反射機能層１２を含む。層１６および２０などの金属または合金層を略して「金属層」と称することもあり得る。金属層１６および１８は、電極２４、２６、２８および３０、母線３２および３４、ならびに接続ワイヤ３６および３８を介して、電源２２へ並列に接続される。機能層１２は、その両方の主要表面において、ＰＶＢ層４０および４２に結合される。ＰＶＢ層４０および４２は、次に、ガラスシート４４および４６に結合される。電流は金属層１６および１８を通って流れ、機能層１２ならびにガラスシート４４および４６を電気的に加熱する。

図２を参照すると、フィルムは、１１０でおおまかに表されている。フィルム１１０は、ポリエチレンテレフタレート（「ＰＥＴ」）などの可視光透明性のプラスチックフィルムから製造される可撓性支持体１１２を含む。支持体１１２の上には、ファブリー−ペロー四分の一波長干渉スタック１１４が位置する。スタック１１４には、銀から製造された第１の可視光透明性金属層１１６と、架橋アクリレートポリマーから製造された可視光透明性層１１８と、銀から製造された第２の可視光透明性金属層１２０とが含まれる。架橋高分子層１１８は、以下により詳細に記載されるように、第１の金属または合金層１１６の上に現場形成される。第２の金属層１２０およびスタック１１４の上には、架橋アクリレートポリマーから製造された任意の保護層１２２が位置する。スタック１１４などのファブリー−ペロー四分の一波長スタックでは、金属層１１６および１２０ならびに介在する架橋高分子層１１８の厚さは、慎重に選択される。金属層１１６および１２０は十分に薄いので、部分的に反射性であり、部分的に透過性である。架橋高分子層１１８（略して「スペーシング層」または「誘電層」と呼ぶこともある）は、所望の通過帯域の中心波長の約１／４である光学的厚さ（誘電層の物理的厚さ×その面内の屈折率と定義される）を有する。その波長が通過帯域内にある光は、大部分は、金属薄層１１６および１２０を透過する。その波長が通過帯域より上の光は、大部分は、金属薄層１１６および１２０により反射されるか、あるいは相殺的干渉のために相殺される。

図３には、もう１つのフィルムが１３０でおおまかに表されている。フィルム１３０はフィルム１１０に似ているが、支持体１１２とスタック１１４との間に、架橋アクリレートポリマーから製造されるベースコート層１３２を含む。

図４は予備積層体１４０を示す。予備積層体１４０は、フィルム１３０の保護層１２２に接合されたＰＶＢで製造される機械エネルギー吸収層１３４を含む。

図５は、もう１つの予備積層体１５０を示す。予備積層体１５０は、フィルム１４０の支持体１１２に接合された第２の機械エネルギー吸収層１３４を含む。これは、図４に示される予備積層体よりも耐久性の高い予備積層体を提供する。

図６は、積層された安全ウィンドシールド１６０の断面図を示す。ウィンドシールド１６０は連続的に湾曲した表面を有し、その曲率半径は、ウィンドシールド１６０の中心領域付近（図６では、破線のみで示される）では比較的大きいが、ウィンドシールド１６０のより鋭く湾曲した端部領域１６１、１６３付近では比較的小さい値に減少する。図６に示されるように、ニップローラ１６６、１６８は、２つのガラス片３２ａおよび３２ｂの間に、予備積層体１５０を脱気して取り付けるために使用されている。積層手順は、通常、ウィンドシールドをオートクレーブ（図６には図示せず）内で圧力をかけて加熱することによって完了する。

図７は、図６のウィンドシールド１６０の斜視図を示す。湾曲領域１６１、１６２、１６３および１６４は複合的な湾曲を有する。ウィンドシールド１６０を形成するために使用される脱気／積層およびオートクレーブ工程の間に予備積層体１５０がいくらか縮小すれば、ウィンドシールド１６０を通してしわのない外観を得ることが容易になるであろう。

開示されるフィルムは、可視光透明性の可撓性支持体を含む。好ましい支持体は、５５０ｎｍにおいて少なくとも約７０％の可視光透過率を有する。特に好ましい支持体は、ポリエステル（例えばＰＥＴ）、ポリアクリレート（例えば、ポリメタクリル酸メチル）、ポリカーボネート、ポリプロピレン、高密度または低密度ポリエチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリウレタン、ポリアミド、ポリビニルブチラール、ポリ塩化ビニル、ポリ二フッ化ビニリデン、およびポリエチレンスルフィドなどの熱可塑性フィルムと、セルロース誘導体、ポリイミド、ポリイミドベンズオキサゾール、およびポリベンズオキサゾールなどの熱硬化性フィルムとを含む可撓性プラスチック材料である。

また支持体は、「強化されたヒートミラーフィルム」という表題の係属中の米国特許出願第１０／２２２，４７３号明細書に記載されるもののように、少なくとも１つの架橋高分子層および金属または合金層でコーティングされた多層光学フィルム（「ＭＯＦ」）でもよい。

ＰＥＴおよびＭＯＦで製造される支持体が特に好ましい。好ましくは、支持体は、約０．０１〜約１ｍｍの厚さを有する。

開示されるフィルムは、好ましくは、赤外線遮断ファブリー−ペロー光学干渉スタックを含む。このようなスタックはそれぞれ、第１の金属層、架橋高分子層、および第２の金属層を含む。所望される場合にはフィルム中にこのようなスタックが２つ以上存在してもよい。追加のスタックは、便宜上、それまでのスタックの上に追加の架橋高分子層および金属層を配置させて形成することができる。このようなスタックを含有するフィルムは、「ポリマー−金属の赤外線干渉フィルタ」という表題の係属中の米国特許出願第１０／２２２，４６６号明細書、および上記の係属中の米国特許出願第１０／２２２，４７３号明細書に記載されている。後者の出願のファブリー−ペロースタックおよびＭＯＦ支持体は結合して、ファブリー−ペロースタックのみまたはＭＯＦ支持体のみを含有するフィルムと比較して、広範囲の赤外放射の反射を有する赤外線遮断フィルムを提供する。ファブリー−ペロー干渉スタックにおける架橋高分子スペーシング層の使用は、金属層に損傷を与えたり、その間隔を変えたりすることなく、フィルムをより容易に方向付け可能にする。ＭＯＦ支持体または完成フィルムを方向付けおよび任意でヒートセットすることによって、非平面状の表面に対するフィルムの適合性を高めることができる。

開示される物品中の第１の、第２の、および追加の金属層は、互いに同一でもよいし、異なっていてもよい。好ましい金属には、元素の銀、金、銅、ニッケルおよびクロムが含まれ、銀が特に好ましい。また、ステンレス鋼などの合金、もしくは互いのまたは他の金属との混合物中にこれらの金属を含有する分散体も使用することができる。金属層は、同じ厚さを有する必要はない。好ましくは、金属層は連続的であるように十分厚く、フィルムおよびフィルムを含有する物品が、所望の程度の可視光透過性を有するように十分薄い。好ましくは、金属層の物理的厚さ（光学的厚さに対立するものとして）は約３〜約５０ｎｍであり、更に好ましくは約４〜約１５ｎｍである。通常、第１の金属層は、上記の支持体上に付着させることによって形成される。第１の、第２の、および追加の金属層は、好ましくは、スパッタリング（例えば、カソードまたはプレーナマグネトロンスパッタリング）、蒸発（例えば、抵抗または電子ビーム蒸発）、化学蒸着、めっきなどのフィルムメタライジング技術で使用される技法を用いて施される。

第１の金属層の平滑性および連続性、ならびにその支持体への接着力は、好ましくは、支持体の適切な前処理によって高められる。好ましい前処理法としては、反応性または非反応性雰囲気の存在下における支持体の放電前処理（例えば、プラズマ、グロー放電、コロナ放電、誘電障壁放電または大気圧放電）、化学的前処理、フレーム前処理、もしくは米国特許第３，６０１，４７１号明細書および同第３，６８２，５２８号明細書に記載される酸化物および合金などの核形成層の適用が挙げられる。これらの前処理は、支持体の表面が次に施される金属層に対して受容的であるようにするのに役立つ。プラズマ前処理が特に好ましい。更に特に好ましい前処理法としては、上記層１３２などの無機または有機ベースコート層で支持体をコーティングし、次に任意で、プラズマ前処理または上記の他の前処理のうちの１つを用いて更に前処理することが挙げられる。有機ベースコート層、特に架橋アクリレートポリマーに基づくベースコート層が特に好ましい。最も好ましくは、米国特許第４，６９６，７１９号明細書、同第４，７２２，５１５号明細書、同第４，８４２，８９３号明細書、同第４，９５４，３７１号明細書、同第５，０１８，０４８号明細書、同第５，０３２，４６１号明細書、同第５，０９７，８００号明細書、同第５，１２５，１３８号明細書、同第５，４４０，４４６号明細書、同第５，５４７，９０８号明細書、同第６，０４５，８６４号明細書、同第６，２３１，９３９号明細書、および同第６，２１４，４２２号明細書と、公開されたＰＣＴ出願国際公開第００／２６９７３号パンフレットと、Ｄ．Ｇ．ショー（Ｓｈａｗ）およびＭ．Ｇ．ラングロア（Ｌａｎｇｌｏｉｓ）の「紙およびポリマーウェブをコーティングするための新しい蒸着方法」、第６回インターナショナル・バキューム・コーティング・カンファレンス（１９９２年）と、Ｄ．Ｇ．ショーおよびＭ．Ｇ．ラングロアの「アクリレート薄膜を蒸着するための新しい高速方法：最新版」バキューム・コーターズ協会の第３６回アニュアル・テクニカル・カンファレンス予稿集（１９９３年）と、Ｄ．Ｇ．ショーおよびＭ．Ｇ．ラングロアの「メタライズドフィルムのバリヤ特性を改良するための蒸着アクリレートコーティングの使用」、バキューム・コーターズ協会の第３７回アニュアル・テクニカル・カンファレンス予稿集（１９９４年）と、Ｄ．Ｇ．ショー、Ｍ．ローリグ（Ｒｏｅｈｒｉｇ）、Ｍ．Ｇ．ラングロアおよびＣ．シーハン（Ｓｈｅｅｈａｎ）の「ポリエステルおよびポリプロピレンフィルム基材の表面を平滑にするための蒸発アクリレートコーティングの使用」、ラドテック（ＲａｄＴｅｃｈ）（１９９６年）と、Ｊ．アフィニト（Ａｆｆｉｎｉｔｏ）、Ｐ．マーティン（Ｍａｒｔｉｎ）、Ｍ．グロス（Ｇｒｏｓｓ）、Ｃ．コロナド（Ｃｏｒｏｎａｄｏ）およびＥ．グリーンウェル（Ｇｒｅｅｎｗｅｌｌ）の「光学用途のための真空蒸着ポリマー／金属多層フィルム」、シン・ソリッド・フィルムズ（Ｔｈｉｎ Ｓｏｌｉｄ Ｆｉｌｍｓ）２７０，４３−４８（１９９５）と、Ｊ．Ｄ．アフィニト、Ｍ．Ｅ．グロス、Ｃ．Ａ．コロナド、Ｇ．Ｌ．グラフ（Ｇｒａｆｆ）、Ｅ．Ｎ．グリーンウェルおよびＰ．Ｍ．マーティンの「ポリマー−酸化物の透明バリヤ層」バキューム・コーターズ協会の第３９回アニュアル・テクニカル・カンファレンス予稿集（１９９６年）とに記載されるように、ベースコート層は、放射線架橋可能なモノマー（例えば、アクリレートモノマー）をフラッシュ蒸発および蒸着させた後、現場で架橋させる（例えば、電子ビーム装置、ＵＶ光源、放電装置またはその他の適切な装置を用いて）ことによって形成される。必要に応じて、ロールコーティング（例えば、グラビアロールコーティング）またはスプレーコーティング（例えば、静電スプレーコーティング）などの従来のコーティング方法を用いてベースコート層を施し、例えばＵＶ放射を用いて架橋させることもできる。ベースコート層の所望される化学組成物および厚さは、支持体の性質にある程度依存するであろう。例えば、ＰＥＴ支持体では、ベースコート層は好ましくはアクリレートモノマーから形成され、通常は、わずか数ｎｍから約２マイクロメートルまでの厚さを有するであろう。

ベースコート層に対する第１の金属層の接着力は、ベースコート層中に接着促進または耐食性の添加剤を含有させることによって、更に改善することができる。これは、ベースコート層と第１の金属層との間の界面の表面エネルギーまたは他の関連特性に影響を与えることができる。適切な接着促進または耐食性添加剤としては、メルカプタン、チオール含有化合物、酸（カルボン酸または有機リン酸など）、トリアゾール、染料および湿潤剤が挙げられる。エチレングリコールビス−チオグリコラート（米国特許第４，６４５，７１４号明細書に記載される）は、特に好ましい添加剤である。添加剤は、好ましくは、第１の金属層の過度の酸化または他の劣化を引き起こすことなく、所望の程度に増大した接着力を得るのに十分な量で存在する。

架橋高分子層は第１の金属層の上に位置し、様々な有機材料から形成することができる。好ましくは、高分子層は、第１の金属または合金層の上において、現場で架橋される。必要に応じて、高分子層は、ロールコーティング（例えば、グラビアロールコーティング）またはスプレーコーティング（例えば、静電スプレーコーティング）などの従来のコーティング方法を用いて施し、次に例えばＵＶ放射を用いて架橋させることができる。最も好ましくは、高分子層は、上記のようなモノマーのフラッシュ蒸発、蒸着、および架橋によって形成される。揮発可能な（メタ）アクリレートモノマーはこのような方法で使用するために好ましく、揮発可能なアクリレートモノマーが特に好ましい。好ましい（メタ）アクリレートは、約１５０〜約６００の範囲、更に好ましくは約２００〜約４００の範囲の分子量を有する。その他の好ましい（メタ）アクリレートは、１分子あたりのアクリレート官能基の数に対する分子量の比率の値が、約１５０〜約６００ｇ／モル／メタ（アクリレート）基の範囲であり、より好ましくは、約２００〜約４００ｇ／モル／メタ（アクリレート）基の範囲である。フッ素化（メタ）アクリレートは、より高い分子量範囲または比率、例えば約４００〜約３０００分子量または約４００〜約３０００ｇ／モル／メタ（アクリレート）基で使用することができる。コーティング効率は、支持体を冷却することにより改善できる。特に好ましいモノマーとしては多官能性（メタ）アクリレートが挙げられ、単独で使用されるか、あるいは、ヘキサンジオールジアクリレート、エトキシエチルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、シアノエチル（モノ）アクリレート、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、オクタデシルアクリレート、イソデシルアクリレート、ラウリルアクリレート、ベータ−カルボキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ジニトリルアクリレート、ペンタフルオロフェニルアクリレート、ニトロフェニルアクリレート、２−フェノキシエチルアクリレート、２−フェノキシエチルメタクリレート、２，２，２−トリフルオロメチル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、プロポキシル化ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ビスフェノールＡエポキシジアクリレート、１，６−へキサンジオールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシル化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロピル化トリメチロールプロパントリアクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）−イソシアヌレートトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、フェニルチオエチルアクリレート、ナフトロキシエチル（ｎａｐｈｔｈｌｏｘｙｅｔｈｙｌ）アクリレート、ＵＣＢケミカルズ（ＵＣＢ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ）からのＩＲＲ−２１４環状ジアクリレート、ラド−キュア・コーポレーション（Ｒａｄ−Ｃｕｒｅ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）からのエポキシアクリレートＲＤＸ８００９５、およびこれらの混合物などの他の多官能性または単官能性（メタ）アクリレートと組み合わせて使用される。例えば、ビニルエーテル、ビニルナフチレン、アクリロニトリル、およびこれらの混合物などの様々なその他の硬化可能な材料を、架橋高分子層に含めることができる。架橋高分子層の物理的厚さは、一部はその屈折率に依存し、一部はフィルムの所望の光学特性（例えば、フィルムがファブリー−ペロースタックを含有すべきかどうか）に依存する。赤外線除去ファブリー−ペロースタックで使用するために、架橋高分子スペーシング層は、通常約１．３〜約１．７の屈折率を有し、好ましくは約７５〜約２００ｎｍ、更に好ましくは約１００〜約１５０ｎｍの光学的厚さと、それに対応して約５０〜約１３０ｎｍ、更に好ましくは約６５〜約１００ｎｍの物理的厚さとを有するであろう。

光学的なモデリングを用いて、ここに開示される物品の適切な層厚を設計することができる。例えば、ベースコート、架橋高分子スペーシング層およびトップコートがトリプロピレングリコールジアクリレート（屈折率１．４６６２）で製造され、金属層がマグネトロンスパッタリングされた銀（屈折率０．１５４）で製造された５層アクリレート／金属／アクリレート／金属／アクリレートの赤外線除去光学スタックでコーティングされた厚さ５１マイクロメートルのＰＥＴ支持体では、２つの典型的なターゲット構造は、ベースコートからトップコートまでのそれぞれの層の物理的厚さが１２９／１２／１０４／１２／５４ｎｍまたは１１６／１０／１１６／１０／５５ｎｍである。

架橋高分子スペーシング層は、非架橋高分子スペーシング層に勝るいくつかの利点を有する。架橋高分子スペーシング層は、加熱時に非架橋高分子スペーシング層ほど明らかには溶融も軟化もせず、したがって、形成または積層プロセス中などに温度および圧力の同時的な影響下で、著しく流動、変形または薄くなりにくい。架橋高分子スペーシング層が非常に耐溶媒性であるのに対して、非架橋高分子スペーシング層は、非架橋高分子スペーシング層を形成するために使用されるような溶媒によって、溶解または明らかに軟化され得る。架橋高分子スペーシング層は、ウィンドウ用途ではクリーニング溶液、そして自動車用途ではガソリン、オイル、トランスミッション液などの自動車用流体のように、本発明のフィルムが遭遇し得る液体に対してより大きい耐性を有することができる。また、架橋高分子スペーシング層は、同様のポリマーから製造された非架橋高分子スペーシング層と比べて、より高いモジュラスおよびスチフネス、歪み時のより良い弾性回復、またはより良いレジリエンスなどの望ましい物理特性を有することができる。

架橋高分子層の平滑性および連続性ならびに第１の金属層に対するその接着力は、好ましくは、架橋高分子層を施す前に第１の金属層の適切な前処理をすることによって、あるいは架橋高分子層中に適切な添加剤を含有させることによって高められる。好ましい前処理としては、上記の支持体についての前処理が挙げられ、第１の金属層のプラズマ前処理が特に好ましい。架橋高分子層のための好ましい添加剤には、上記のベースコート層の添加剤が含まれる。

第２の金属層の平滑性および連続性ならびに架橋高分子層に対するその接着力は、好ましくは、第２の金属層を施す前に架橋高分子層の適切な前処理をすることによって、あるいは架橋高分子層中に適切な添加剤を含有させることによって高められる。好ましい前処理には上記の支持体の前処理が含まれ、架橋高分子層のプラズマ前処理が特に好ましい。架橋高分子層のための好ましい添加剤には、上記のベースコート層の添加剤が含まれる。

驚くべきことに、上記の前処理のうちの１つまたは両方が用いられる場合、そしてスペーシング層を形成するために使用されるモノマー混合物中に上記のベースコート層添加剤のうちの１つまたは複数が取り込まれる場合には、電流の影響下で、腐食に対する金属層の耐性が顕著に増強されることも発見された。プラズマ処理は好ましい前処理であり、窒素プラズマが特に好ましい。エチレングリコールビス−チオグリコラートは、モノマー混合物中に取り込まれるのに好ましい添加剤である。

必要に応じて、第２の金属層の上に、架橋高分子スペーシング層および金属層の追加の対を施すことができる。例えば、３つの金属層または４つの金属層を含有するスタックは、いくつかの用途のために望ましい特性を提供する。それぞれの金属層がその各面に隣接して架橋高分子層を有する２〜４つの金属層を含有するスタックは、特に好ましい。

最上部の金属層は、好ましくは、上記の層１２２などの適切な保護層でオーバーコーティングされる。所望される場合、保護層は、ロールコーティング（例えば、グラビアロールコーティング）またはスプレーコーティング（例えば、静電スプレーコーティング）などの従来のコーティング方法を用いて施され、次に、例えばＵＶ放射を用いて架橋させることができる。最も好ましくは、保護層は、上記のようなモノマーのフラッシュ蒸発、蒸着および架橋によって形成される。揮発可能な（メタ）アクリレートモノマーは、このような保護層で使用するために好ましく、揮発可能なアクリレートモノマーが特に好ましい。フィルムが保護層または他の表面層を含み、ＰＶＢなどの機械エネルギー吸収材料シートの間に積層される場合、保護層または他の表面層の屈折率は、ＰＶＢとフィルムの間の屈折率の差によって生じる界面での反射を最小限にするように選択することができる。また保護層を後処理して、ＰＶＢなどの機械エネルギー吸収材料に対する保護層の接着力を高めることができる。好ましい後処理には上記の支持体の前処理が含まれ、フィルムの両面のプラズマ後処理が特に好ましい。保護層のための好ましい添加剤には、上記のベースコート層の添加剤が含まれる。

開示されるフィルムを製造するために便宜上使用することができる装置１８０は図８に示される。動力供給されたリール１８１ａおよび１８１ｂは、装置１８０内で支持ウェブ１８２を前後に移動させる。温度制御された回転ドラム１８３ａおよび１８３ｂならびにアイドラー１８４ａ、１８４ｂ、１８４ｃ、１８４ｄおよび１８４ｅはウェブ１８２を運搬して、金属スパッタリングアプリケータ１８５、プラズマ前処理器１８６、モノマー蒸発器１８７、およびＥビーム架橋装置１８８を通過させる。液体モノマー１８９は、リザーバ１９０から蒸発器１８７へ供給される。装置１８０を複数回通過させることによってウェブ１８２に一連の層を施すことができる。酸素、水蒸気、ほこり、およびその他の大気汚染物が、様々な前処理、モノマーコーティング、架橋、およびスパッタリング工程を妨害するのを阻止するために、装置１８０は、適切なチャンバ（図８には図示せず）内に格納し、真空下に保持するか、あるいは適切な不活性雰囲気を供給することができる。

開示される予備積層体は、開示されるフィルムを層１３４などの１つまたは複数の機械エネルギー吸収層に接合させて形成される。機械エネルギー吸収層は、ＰＶＢ、ポリウレタン（「ＰＵＲ」）、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエチレン、エチレン酢酸ビニル、およびサーリン（ＳＵＲＬＹＮ）（商標）樹脂（イー・アイ・デュポン・ドゥ・ヌムール・アンド・カンパニー（Ｅ．Ｉ．ｄｕＰｏｎｔ ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ ＆ Ｃｏ．））を含む、当業者にはよく知られているであろう様々な材料から製造することができる。ＰＶＢは、機械エネルギー吸収層のために好ましい材料である。機械エネルギー吸収層の厚さは所望される用途に依存し得るが、通常は、約０．３〜約１ｍｍであろう。

本発明のフィルムまたは予備積層体に様々な機能層またはコーティングを追加して、特にフィルムまたは予備積層体の表面において、その物理特性または化学特性を変更または改善することができる。このような層またはコーティングとしては、例えば、フィルムまたは予備積層体の製造方法中の取扱いを容易にするための低摩擦コーティングまたはスリップ粒子と、フィルムまたは予備積層体が別のフィルムまたは表面の次に配置される場合に、フィルムまたは予備積層体に拡散特性を追加するため、あるいはウェットアウトまたはニュートンリングを防止するための粒子と、感圧型接着剤またはホットメルト型接着剤などの接着剤と、隣接層への接着力を増すためのプライマと、フィルムまたは予備積層体が接着ロール形態で使用される場合に使用するための低接着力バックサイズ材料とを挙げることができる。機能層またはコーティングは、例えば国際公開第０１／９６１１５号パンフレットに記載される機能層などの、飛散防止、侵入防止、または破裂−引裂耐性のフィルムおよびコーティングを含有することもできる。追加の機能層またはコーティングは、国際公開第９８／２６９２７号パンフレットおよび米国特許第５，７７３，１０２号明細書に記載されるもののような振動減衰フィルム層と、保護を提供するため、あるいは水または有機溶媒などの液体、もしくは酸素、水蒸気または二酸化炭素などの気体に対するフィルムまたは予備積層体の透過特性を変更するためのバリヤ層とを含むことができる。これらの機能性要素は、フィルムまたは予備積層体の最も外側の層のうちの１つまたは複数の中に取り込まれてもよいし、あるいは、別のフィルムまたはコーティングとして施されてもよい。

用途によっては、フィルムまたは予備積層体へ染色フィルム層を積層させたり、フィルムまたは予備積層体の表面に有色コーティングを施したり、あるいはフィルムまたは予備積層体を製造するために使用される材料のうちの１つまたは複数に染料または顔料を含有させるなどによって、フィルムまたは予備積層体の外観または性能を変更することが望ましい場合がある。染料または顔料は、赤外線、紫外線または可視スペクトル部分を含む、１つまたは複数の選択されたスペクトル領域を吸収することができる。染料または顔料を使用して、特にフィルムまたは予備積層体がある周波数を透過させるが他の周波数を反射する場合に、フィルムまたは予備積層体の特性を補足することができる。本発明のフィルムまたは予備積層体において使用することができる特に有用な有色層は、国際公開第２００１／５８９８９号パンフレットに記載されている。この層は、フィルムまたは予備積層体上のスキン層として、積層、押出コーティングまたは同時押出することができる。顔料の装填レベルは、約０．０１〜約１．０重量％の間で変化させて、可視光の透過性を所望されるように変化させることができる。また、ＵＶ放射にさらされると不安定かもしれないフィルムの内部層を保護するために、ＵＶ吸収性被覆層の追加が望ましいこともある。

このフィルムまたは予備積層体に追加することができる追加の機能層またはコーティングには、例えば、帯電防止コーティングまたはフィルム、難燃剤、ＵＶ安定剤、耐摩耗性またはハードコート材料、光学コーティング、曇り防止材料、磁気または磁気光学コーティングまたはフィルム、液晶パネル、エレクトロクロミックまたはエレクトロルミネセントパネル、写真乳剤、プリズムフィルム、およびホログラフィックフィルムまたはイメージが含まれる。追加の機能層またはコーティングは、例えば、国際公開第９７／０１４４０号パンフレット、同第９９／３６２６２号パンフレットおよび同第９９／３６２４８号パンフレットに記載されている。

上記フィルムまたは予備積層体は、例えば、製品識別、方向性情報、広告、警告、装飾または他の情報を表示するために使用されるもののように、インクまたは他の印刷表示で処理することができる。例えば、スクリーン印刷、インクジェット印刷、熱転写印刷、活版印刷、オフセット印刷、フレキソ印刷、スティップル印刷、レーザー印刷などの様々な技法を用いてフィルムに印刷をすることができ、一成分および二成分インク、酸化乾燥およびＵＶ乾燥インク、溶解インク、分散インク、ならびに１００％インク系を含む様々なタイプのインクを使用することができる。

上記フィルムおよび予備積層体は、広範な種類の基材に接合または積層させることができる。典型的な基材材料としては、ガラス（絶縁、強化、積層、アニール、または熱強化されていてもよい）およびプラスチック（ポリカーボネートおよびポリメタクリル酸メチルなど）などのグレージング材料が挙げられる。開示されるフィルムおよび予備積層体は、非平面状の基材、特に複合的な湾曲を有する基材に関連して特に有用である。フィルムまたは予備積層体は、好ましくは、積層および脱気方法の間に実質的にクラックや折り目が生じることなく、このような非平面状基材に適合することができる。

開示されるフィルム（またはこのようなフィルムが上に形成され得る支持体）は、フィルムが実質的にしわを生じることなく非平面状基材に適合するのを促進するのに十分な条件下で延伸され、必要に応じてヒートセットできる。これは、本発明のフィルムを積層させる非平面状基材が既知の形状または湾曲を有する場合、特に積層体が既知の厳しい複合的な湾曲を有する場合に特に有用である。各面内方向におけるフィルムまたは支持体の収縮を個別に制御することによって、積層の間に、特にニップロール積層の間に、制御された形でフィルムを収縮させることができる。例えば、フィルムを積層させる非平面状基材が複合的な湾曲を有すれば、各面内方向のフィルムの収縮を合わせて、これらの方向の基材の特定の湾曲特性を一致させることができる。最も大きい収縮を有するフィルムまたは支持体の面内方向は、好ましくは、最も小さい湾曲、すなわち最も大きい曲率半径を有する基材寸法に位置合わせされる。曲率半径に従って湾曲を特徴付けることに加えて、あるいはその代わりに、所望される場合にはその他の尺度（基材の主要表面により画定される幾何学表面から測定される隆起したまたは窪んだ領域の深度など）を使用することもできる。典型的な非平面状基材への積層では、フィルムの収縮は、好ましくは、両方の面内方向において約０．４％よりも大きく、より好ましくは少なくとも１つの面内方向において約０．７％よりも大きく、最も好ましくは少なくとも１つの面内方向において約１％よりも大きい。全体的なフィルムの収縮は、好ましくは、エッジの層間剥離または「引き込み」を低減するように制限される。したがって、フィルムの収縮は、好ましくは各面内方向において約３％よりも小さく、より好ましくは各面内方向において約２．５％よりも小さい。収縮挙動は、主として、使用されるフィルムまたは支持体材料、ならびにフィルムまたは支持体の伸長比、ヒートセット温度、滞留時間およびトーイン（最大レール設定に対して測定される、テンターのヒートセットゾーンにおけるレール間隔の減少）などの因子によって支配され得る。またコーティングは、フィルムの収縮特性を変化させることができる。例えば、プライマコーティングは、横断方向（「ＴＤ」）の収縮を約０．２％〜約０．４％減少させ、機械方向（「ＭＤ」）の収縮を約０．１〜約０．３％増大させることができる。方向付けおよびヒートセット装置は大幅に異なることができ、理想的な方法設定は、通常、それぞれの場合に実験的に決定される。目標の収縮特性を有するＭＯＦ支持体を製造するための技法に関する更なる詳細は、国際公開第０１／９６１０４号パンフレットに記載されている。

開示されるフィルム中の金属層は、アースおよび１つまたは複数の電気回路に別々に接続されてもよいし、互いに直列に電気的に接続されても、あるいは並列に電気的に接続されてもよい。並列に接続されると、層は増強された通電容量を提供することができる。電極は、当業者にはよく知られているであろうマスキング、めっきおよび他の印刷回路技術を用いて形成することもできるし、あるいは当業者には同様によく知られているであろう金属細長片、ワイヤ、導電性ペイント、および他の接続を用いて形成することもできる。２つ以上の金属層が直列または並列に接続される場合には、適切な母線を用いることができる。フィルムが他の材料（例えば、グレージング）または物品（例えば、ＥＭＩを発生するかあるいはＥＭＩに敏感な装置のための不透明なハウジングまたは部分的なハウジング）に接合される前または後に、電極を金属層へ接続することができる。

上記のように、フィルムは、初めに、機械エネルギー吸収層（単数または複数）に積層されて、予備積層体を形成することができ、次に、乗り物のグレージングシート（単数または複数）に積層される。フィルム、電極、機械エネルギー吸収層およびグレージングシートを含有するサンドイッチ構造は、単一の積層工程で組み立てることもできる。いずれの場合でも、各積層工程の間に、種々の層の間から空気を除去しなければならない。一般に、積層の前に、少なくともフィルムおよび１つまたは複数の機械エネルギー吸収層を、最も外側のフィルム層のＴ_gよりも低い温度にオーブン内で予熱することが好ましいであろう。好ましくは、機械エネルギー吸収層、フィルム、電極およびグレージングシートの間には、特定のレベルの接着力が確立されるべきである。しかしながら、機械エネルギー吸収層は、好ましくは、最終積層工程が行われる前に流動する程に十分に軟化するものであってはならない。機械エネルギー吸収層は、好ましくは、フィルムが収縮して完成積層体の形状に形成されるように、予備積層体のエッジを定位置に取り付けるのに役立つべきである。可能性のあるフィルム内のしわの発生や、フィルムのエッジにおける層間剥離を回避するために、積層体は、好ましくは、オートクレービングの後、制御された速度で冷却される。脱気は、上記の真空脱気またはニップロール方法を用いて加速することができる。好ましくは、脱気および積層は、１つまたは複数のニップロールを用いて実行される。代表的なニップロール装置は、米国特許第５，０８５，１４１号明細書に示される。その他のこのような装置は、当業者にはよく知られているであろう。

積層に続いて、積層体は、好ましくは、機械エネルギー吸収層および本発明のフィルムをグレージングシートの輪郭に適合させて最終的な積層グレージング物品を形成するのに十分な温度に、オートクレーブ内で加熱される。積層体の種々の層の少なくとも部分的な結合を得るために、積層の間、十分な圧力も加えられるべきである。ＰＶＢを含有する積層体では、約１３８℃〜約１５０℃の温度および約０．５〜１．５ＭＰａの圧力が典型的である。熱および圧力は、機械エネルギー吸収層を流動させて広げ、最小限の時間内で残留空気を除去しながら（あるいは、ＰＶＢ中に溶解させながら）、ボイドを埋め、均一なサンドイッチ構造を形成し、積層体の層を互いに強固に結合させる。オートクレーブサイクルは、製造業者によって大きく変わり得るが、典型的な１つのオートクレーブサイクルは、（ａ）周囲温度および圧力から約９３℃および約０．５５ＭＰａまで、約１５分以内で温度および圧力を上昇させることと、（ｂ）約４０分以内で、圧力を約０．５５ＭＰａに維持しながら温度を約１４３℃まで上昇させることと、（ｃ）約１０分以内で、温度を約１４３℃に維持しながら圧力を約１．３８ＭＰａまで上昇させることと、（ｄ）最大温度および圧力を約２０分間維持することと、（ｅ）約１５分以内で、温度および圧力を約３８℃および約１ＭＰａまで低下させることと、（ｆ）圧力を約４分以内で周囲圧力まで低下させることとを含む。全オートクレーブサイクルは、通常、約６０分〜約１２０分である。

また、開示されるフィルムは、例えば、米国特許第４，７９９，７４５号明細書に記載されるグレージング物品などの建築用グレージングにおいても使用することができる。このようなグレージング物品を製造する方法は、当業者には明らかであろう。例えば、有用な建築用グレージング物品は、米国特許第４，７９９，７４５号明細書のスペーシング層１８を架橋高分子スペーシング層で置き換えて製造することができる。完成グレージング物品は、好ましくは光学的に透明である。図９は、基材１９２と、スペーシング層１９５で隔てられた第１および第２の金属層１９４および１９６を含有するファブリー−ペロースタック１９３とを含むフィルム１９１を示す。フィルム１９１は、感圧型接着剤層１９７を用いてガラスシート１９８に接合される。

開示されるフィルムは、電磁妨害を引き起こし得るか、あるいは電磁妨害に敏感な電子装置およびその他の装置から、あるいは装置内に、不要な電磁エネルギーが透過するのを阻止できる光学的に透明な可撓性ＥＭＩ遮蔽体を提供することができる。このようなＥＭＩ遮蔽体は、「耐久性の透明ＥＭＩ遮蔽フィルム」という表題の係属中の米国特許出願第１０／２２２，４６５号明細書に記載されている。開示されるフィルムを使用して、可視光透過性の架橋高分子層で隔てられた第１および第２の可視光透過性金属または合金層を含み、少なくとも１つの接地電極が少なくとも１つの金属または合金層に接続された可視光透過性フィルムで、装置を少なくとも部分的に包囲することができる。フィルムは、同程度の光学的透明性および遮蔽力を提供しながら、典型的な市販の光学的に透明なＥＭＩ遮蔽フィルムよりも大幅に優れた機械的耐久性および耐食性を提供することができる。

電気的な接続は開示されるフィルムへ容易に行なうことができ、最小限の表面処理を有する、あるいは全く有さない。３Ｍ（商標）導電性テープ９７０３および９７１３（ミネソタ州セントポール（Ｓｔ．Ｐａｕｌ ＭＮ）の３Ｍ）は、このような電気接続を行なうために特に好ましい。これらのテープは、テープが一度本発明のフィルムに貼付されてしまうと、最も外側の架橋高分子層（存在する場合）を貫通して、下方の金属層（例えば、銀）への電気接続を提供する繊維または粒子を含有する。このようなフィルムでは、導電性金属層は、環境暴露による腐食に対して十分に保護されると共に、電気接続を行ない易い。

交流または直流を用いて、本発明の完成フィルムおよび完成グレージング物品中の金属層を加熱することができる。一般的に使用される１２ＶＤＣ自動車用電圧、現在計画中の４２ＶＤＣ自動車用電圧、ならびに飛行機、その他の乗り物および建物において現在使用されているか使用計画中であるその他の電圧を含む、様々な電圧を用いることができる。

驚くべきことに、開示されるフィルムは、伸長、湾曲、あるいは折り目が付けられた場合でもその導電性を保持する。フィルムは、好ましくは、引張りモードでその元の長さの１０％以上変形された場合に導電性を保持する。好ましくは、フィルムは、引張りモードでその元の長さの５０％以上変形された場合に導電性を保持する。導電層を含有する既知の層状フィルムは１０％より少ない歪みでその導電性を失うので、これは予想外の結果である。同様に、浸透性および拡散に対するバリヤとしての機能を果たす無機層を含有する既知のフィルムも、通常、１０％より少ない歪みでそのバリヤ特性を喪失する。開示されるフィルムは、好ましくは、４５°の角度で湾曲された場合、更に好ましくは９０°の角度で湾曲された場合に、導電性を保持する。最も好ましくは、開示されるフィルムは、１８０°の角度で湾曲または折り目が付けられた場合に導電性を保持する。導電層を含有する既知の層状フィルムは、湾曲されたとき、あるいは乱暴に扱われたときでさえ、その導電性を失うので、これは予想外の結果である。

開示されるフィルムは、スパッタコーティングされる無機誘電層、または溶媒塗布される非架橋高分子誘電層を用いて製造されるフィルムよりもはるかに迅速に製造することができる。後者の２つの方法では、誘電層の付着工程が律速因子であるのに対して、開示される方法は誘電層のはるかに迅速な付着を可能にする。更に、開示される方法は、コーティング工程の間にフィルムを取り出すことなく単一のチャンバ内で実行できるのに対して、報告された溶媒塗布による非架橋誘電層は、金属層の付着が行われたチャンバの外側で形成されているようである。

以下の試験を用いて本発明のフィルムを評価した。

腐食試験
幅２５．４ｍｍ×長さ約２５４〜３０５ｍｍの２つの細長片を、フィルムサンプルの中央から切り取った。室温で２０％のＫＣｌ溶液を含有するビンの中に、各細長片の約１５０〜２００ｍｍが塩溶液に浸漬されるように細長片を置いた。ビンの蓋をビンにねじ込み、塩溶液が蒸発するのを防止した。１５分間浸漬した後で細長片を取り出し、支持体面を下にして乾燥ペーパータオルの上に置き、細長片の幅に沿ってティッシュまたはペーパータオルで拭き取った。拭き取りの間、中程度の圧力をかけた。次に細長片を冷水で洗浄して、表面から塩を除去し、フィルム表面の外観を観察した。外観の等級は、細長片の拭き取り後に除去された金属層の量の視覚的な評価に基づき、元の金属層面積の割合で表した。

電流下での腐食試験
幅２５．４ｍｍ×長さ２０３ｍｍの２つの細長片をフィルムサンプルの中央から切り取った。細長片の狭い方の端部の両側に、Ｎｏ．２２−２０１銀ペイント（ケイティ・カンパニー（Ｋａｔｙ Ｃｏｍｐａｎｙ））でペイントした。銀ペイントが乾燥したら、ペイントされたエッジの上に銅を覆い、細長片の各端部に耐久性の電極を形成した。ワニ口クリップを用いて、銅電極に電源を接続した。接点の間に４．０ボルトの電圧を印加し、得られた電流を測定して記録した。次に、各細長片の中央付近の１２５〜１５０ｍｍ長さの部分を、室温で２０％ＫＣＬ溶液中に沈めた。浸漬時間の過程において電流を測定して記録した。

接着試験
幅約２５４ｍｍ×長さ約２５４ｍｍの四角形をフィルムサンプルの中央から切り取った。マスキングテープおよびフィラメントテープの幅２５．４ｍｍ×長さ１７８ｍｍの片をＭＤおよびＴＤ方向の両方でフィルムにそれぞれ貼付し、２．３ｋｇローラで押圧し、次に１週間エージングした。接着試験の等級は、テープを剥がした後に残存する金属層の量の視覚的な評価に基づき、元の金属層面積の割合で表した。

導電率対歪み試験
フィルムが導電しなくなるときのパーセント歪みを決定するために、サインテク（ＳＩＮＴＥＣＨ）（商標）２００／Ｓ引張り試験機（インストロン社（Ｉｎｓｔｒｏｎ Ｃｏｒｐ．））を用いてフィルムを伸長した。電流下での腐食試験の場合と同様に作製した細長片を引張り試験機のジョー（ｊａｗ）内に固定し、ワニ口クリップを用いて電源を銅電極に接続した。ゲージ長１０１．６ｍｍおよびクロスヘッド速度２５．４ｍｍ／分を用いながら、細長片に４ボルトの定電圧を供給し、電流を測定して％歪みに対して記録した。

シート抵抗試験
非接触の導電率測定装置（デルコム・インストルメンツ社（Ｄｅｌｃｏｍ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｉｎｃ．）モデル７１７Ｂベンチトップ・コンダクタンス・モニター）を用いて、シート抵抗、あるいは表面抵抗率についてフィルムを評価した。

太陽熱利得係数および遮光係数
値Ｔｅは、試験片により透過される２５０ｎｍ〜２５００ｎｍの太陽エネルギーを、全入射太陽エネルギーで除した比率（パーセントで表される）と定義される。値Ａｅは、試験片により吸収される２５０ｎｍ〜２５００ｎｍの太陽エネルギーを、全入射太陽エネルギーで除した比率（パーセントで表される）と定義される。太陽特性は、空気質量１．５を用いるＡＳＴＭ Ｅ８９１からの太陽放射照度データを用いて計算される。太陽熱利得係数（ＳＨＧＣ）は、次のように計算される。
ＳＨＧＣ＝Ｔｅ＋０．２７（Ａｅ）
遮光係数（ＳＣ）は、標準厚さの３．２ｍｍのウィンドウガラスの単一面による太陽熱利得係数に対する、所与グレージングによる太陽熱利得係数の比率と定義され、次のように計算される。
ＳＣ＝ＳＨＧＣ／８７．０

ＥＭＩ遮蔽強度
ＥＭＩ遮蔽強度は、同軸ＴＥＭセルを用いるファーフィールド型試験により、ＡＳＴＭ Ｄ−４９３５に従って評価した。結果はデシベル（ｄＢ）で報告される。

以下の限定されない実施例は、別に表示されない限り全ての割合および百分率が重量によるものであり、ここで説明される。

実施例１
（層１）厚さ０．０５ｍｍ×幅５０８ｍｍのＰＥＴ支持体（デュポン帝人フィルム（ＤｕＰｏｎｔ Ｔｅｉｊｉｎ Ｆｉｌｍｓ）のメリネックス（ＭＥＬＩＮＥＸ）（商標）Ｎｏ．４５３フィルム）の長さ約３００メートルのロールを、図８に示されるようなロールツーロール（ｒｏｌｌ ｔｏ ｒｏｌｌ）型の真空チャンバ内に搭載した。真空チャンバ内の圧力は３×１０^-4トルに低下させた。ウェブ速度３６．６ｍ／分で一回通過する間に、支持体を順次プラズマ前処理およびアクリレートコーティングした。プラズマ前処理は、７０ｓｃｃｍの窒素ガス流の窒素雰囲気下で、クロムターゲットと、１５００ワット電力（４２９ボルトおよび３．５アンペア）で動作される非平衡ｄｃマグネトロンとを用いた。アクリレートコーティングはＩＲＲ２１４アクリレート（ＵＣＢケミカルズ）およびラウリルアクリレートの５０：５０混合物を用い、液体モノマー混合物の容器をベルジャー内に置き、約１ミリトルに減圧することによって１時間脱気した。脱気したモノマーを、超音波噴霧器により２７４℃に保持した蒸発チャンバ内へ２．３５ｍｌ／分の流速でポンプ注入した。−１８℃のドラム温度を用いてモノマー蒸気を移動ウェブ上に凝縮させ、７．５９ｋＶおよび２．０ミリアンペアで動作される単一のフィラメントガンを用いて電子ビーム架橋させた。

（層２）ウェブ方向を反転させた。再度３６．６ｍ／分で動作させ、アクリレート表面をプラズマ処理し、マグネトロンスパッタ銀でコーティングした。プラズマ前処理は前述のとおりであるが、４１３ボルトおよび３．６４アンペアで行なった。１０，０００ワット電力（５９０ボルトおよび１６．９６アンペア）、ドラム温度２５℃、および９０ｓｃｃｍのアルゴンガス流のアルゴン雰囲気で、銀をスパッタリングした。

（層３）ウェブ方向を再度反転させた。再度３６．６ｍ／分で動作させ、上記のモノマー混合物を用いて架橋スペーシング層を形成したが、モノマー蒸着の前に銀表面のプラズマ前処理は行なわなかった。−１７℃のドラム温度、および上記の他のモノマー蒸着条件を用いて、モノマー蒸気を移動ウェブ上に凝縮させ、７．８ｋＶおよび３．８ミリアンペアで動作される単一のフィラメントガンを用いて電子ビーム架橋させた。

（層４）ウェブ方向を再度反転させた。再度３６．６ｍ／分で動作させ、架橋スペーシング層をプラズマ前処理し、マグネトロンスパッタ銀でコーティングした。プラズマ前処理は前述のとおりであるが、４２９ボルトおよび３．５アンペアを用いた。前述のとおりに銀をスパッタリングしたが、５９０ボルト、１６．９４アンペア、および２２℃のドラム温度で行なった。

（層５）ウェブ方向を再度反転させた。上記のモノマー混合物を用いて保護層を形成したが、モノマー蒸着の前に銀表面のプラズマ前処理は行なわなかった。−１７℃のドラム温度、および上記の他のモノマー蒸着条件を用いて、モノマー蒸気を移動ウェブ上に凝縮させ、１０．１１ｋＶおよび３．８ミリアンペアで動作される単一のフィラメントガンを用いて電子ビーム架橋させた。

得られた５層アクリレート／Ａｇ／アクリレート／Ａｇ／アクリレートの赤外線除去光学スタックの光学特性は、図１０に示される。曲線ＴおよびＲはそれぞれ、完成フィルムの透過性（Ｔ_vis）および反射性を示す。光学的モデリングを用い、銀のブラッガーマン（Ｂｒｕｇｇｅｒｍａｎ）密度を０．９７と仮定して、計算された５層の厚さは、１２０ｎｍ（アクリレート層１）／１２ｎｍ（Ａｇ層２）／８５ｎｍ（アクリレート層３）／１２ｎｍ（Ａｇ層４）／１２０ｎｍ（アクリレート層５）であった。

実施例２
実施例１の方法を用いて、ＰＥＴ支持体を５層アクリレート／Ａｇ／アクリレート／Ａｇ／アクリレート光学スタックで被覆したが、金属層の上部および底部の両方においてプラズマ前処理を用いた。個々の層の違いは次のとおりである。

（層１）支持体のプラズマ前処理は上記のとおりであるが、１０００ワット電力（４０２ボルトおよび２．５アンペア）および１０２ｓｃｃｍの窒素ガス流で行なった。モノマー流速は２．４５ｍｌ／分であり、蒸発チャンバ温度は２７６℃であった。−２１℃のドラム温度を用いてモノマー蒸気を移動ウェブ上に凝縮させた。電子ビームフィラメントは、８．０ｋＶおよび６．５ミリアンペアで動作させた。

（層２）プラズマ前処理は、１０００ワット電力（３０９ボルトおよび３．３４アンペア）および９０ｓｃｃｍの窒素ガス流で行なった。５７０ボルトおよび１７．８８アンペア、ドラム温度２１℃、ならびにアルゴンガス流９３．２ｓｃｃｍで銀をスパッタリングした。

（層３）スペーシング層の蒸着の前に、銀表面をプラズマ前処理した。プラズマ前処理はクロムターゲットおよび１０００ワット電力（３０８ボルトおよび３．３３アンペア）を用いた。−２３℃のドラム温度を用いてモノマー蒸気を移動ウェブ上に凝縮させ、８．０ｋＶおよび６．０ミリアンペアで動作される単一のフィラメントガンを用いて電子ビーム架橋させた。

（層４）プラズマ前処理は、３１６ボルトおよび３．２２アンペアで行ない、窒素ガスの流速は９０ｓｃｃｍであった。５６７ボルトおよび１７．６６アンペア、ドラム温度２０℃、ならびにアルゴンガス流９５．５ｓｃｃｍで銀をスパッタリングした。

（層５）保護層の蒸着前に銀表面をプラズマ前処理した。プラズマ前処理は層３の場合と同じであった。−２３℃のドラム温度を用いて、モノマー蒸気を移動ウェブ上に凝縮させ、８．０ｋＶおよび６．２ミリアンペアで動作される単一のフィラメントガンを用いて電子ビーム架橋させた。

得られた５層アクリレート／Ａｇ／アクリレート／Ａｇ／アクリレートの赤外線除去光学スタックの光学特性は、図１１に示される。曲線ＴおよびＲはそれぞれ、完成フィルムの透過性および反射性を示す。光学的モデリングを用い、銀のブラッガーマン（Ｂｒｕｇｇｅｒｍａｎ）密度を０．９７と仮定して、５層の計算された厚さは、１２０ｎｍ（アクリレート層１）／９ｎｍ（Ａｇ層２）／９５ｎｍ（アクリレート層３）／９ｎｍ（Ａｇ層４）／１２０ｎｍ（アクリレート層５）であった。

実施例３〜５
実施例２の方法を用いて、様々な厚さの銀層を有する５層アクリレート／Ａｇ／アクリレート／Ａｇ／アクリレート赤外線除去光学スタックをＰＥＴ支持体上に形成した。外観、透過性（透過−光Ｙ（Ｔｒａｎｓ−Ｌｕｍｉｎｏｕｓ Ｙ）（Ｔ_vis））、反射性（反射−光Ｙ）（Ｒｅｆｌ−Ｌｕｍｉｎｏｕｓ Ｙ）、太陽熱利得係数（ＳＨＧＣ）、遮光係数（ＳＣ）およびシート抵抗率について、得られたフィルムを評価した。処理条件および評価結果は以下の表１に示される。

表１の結果は、金属層の厚さを変えるための様々なライン速度の使用を示す。７２％という高いＴ_vis、および３．９オーム／スクエアという低いシート抵抗を有するフィルムが得られた。また、導電率対歪み試験を用いて、実施例４および５のそれぞれのフィルムの２つのサンプルを評価した。結果は、図１２および図１３にそれぞれ示される。全てのフィルムサンプルは、５０％以上までの歪みにおいて電流を伝導した。図１２および図１３の結果は、本発明のフィルムが透明歪みゲージとして使用され得ることも実証する。

比較例１
導電率対歪み試験を用いて、透明銀層および酸化インジウム無機誘電体（サウスウォール・テクノロジーズ社（Ｓｏｕｔｈｗａｌｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ Ｉｎｃ．）のＸＩＲ（商標）７５フィルム）に基づく市販の製品を評価した。サンプルは、わずか１％の歪みを受けると故障した。

実施例６〜１１
実施例３〜５の方法を用いて、ＰＥＴ支持体（実施例６〜９）または複屈折多層光学フィルム支持体（３Ｍ（商標）熱線反射フィルムＮｏ．４１−４４００−０１４６−３、実施例１０〜１１）上に、５層アクリレート／Ａｇ／アクリレート／Ａｇ／アクリレート赤外線除去光学スタックを形成し、任意でプラズマ後処理を付与した。以下に示されるように蒸着条件を変更することにより、層５の厚さを変化させた。外観、透過性、反射性、太陽熱利得係数、遮光係数およびシート抵抗率について、得られたフィルムを評価した。処理条件および評価結果は、以下の表２に示される。

表２の結果は２つの異なる基材の使用を示し、保護トップコートの厚さおよびトップコートの任意のプラズマ後処理を変更した。約７３％という高いＴ_vis、および３．９オーム／スクエアという低いシート抵抗を有するフィルムが得られた。また実施例１１のフィルムの２つのサンプルを、導電率対歪み試験を用いて評価した。結果は図１４に示される。いずれのフィルムサンプルも、５０％以上までの歪みにおいて電流を伝導した。

実施例１２
実施例２の方法を用いて、ＰＥＴ支持体を５層アクリレート／Ａｇ／アクリレート／Ａｇ／アクリレート光学スタックで被覆したが、金属層の上部および底部の両方においてプラズマ前処理を用いた。個々の層の違いは次のとおりである。

（層１）支持体のプラズマ前処理は１０００ワット電力で行なったが、３２２ボルト、３．１５アンペア、および窒素ガス流７０ｓｃｃｍを用いた。モノマー流速は２．６５ｍｌ／分であり、蒸発チャンバ温度は２７４℃であった。モノマー蒸気を−２０℃のドラム温度を用いて移動ウェブ上に凝縮させた。電子ビームフィラメントを８．０４ｋＶおよび５．７ミリアンペアで動作させた。

（層２）プラズマ前処理は１０００ワット電力で行なったが、３７８ボルト、３．０９アンペア、および窒素ガス流７０ｓｃｃｍを用いた。５４７ボルト、１８．３６アンペア、ドラム温度２６℃、およびアルゴンガス流７０ｓｃｃｍで銀をスパッタリングした。

（層３）プラズマ前処理は１０００ワット電力で行なったが、３２７ボルトおよび３．１アンペアを用いた。モノマー蒸気を−１９℃のドラム温度を用いて移動ウェブ上に凝縮させた。電子ビームフィラメントを８．０４ｋＶおよび６．３ミリアンペアで動作させた。

（層４）プラズマ前処理は１０００ワット電力で行なったが、３２８ボルト、３．０７アンペア、および窒素ガス流速７０ｓｃｃｍを用いた。５４６ボルト、１８．３４アンペア、ドラム温度２８℃、およびアルゴンガス流７０ｓｃｃｍで銀をスパッタリングした。

（層５）プラズマ前処理は１０００ワット電力で行なったが、３５９ボルトおよび２．８２アンペアを用いた。モノマー蒸気を−１８℃のドラム温度を用いて移動ウェブ上に凝縮させた。電子ビームフィラメントを８．０４ｋＶおよび４．６ミリアンペアで動作させた。

得られた５層アクリレート／Ａｇ／アクリレート／Ａｇ／アクリレートの赤外線除去光学スタックの光学特性は、図１５に示される。曲線ＴおよびＲはそれぞれ、完成フィルムの透過性および反射性を示す。フィルムは７１．５％のＴ_visを有した。次にフィルムを３０．５ｃｍ×２．５４ｃｍの細長片に切断した。エッジを銀の導電性ペイント（オー・ケー・トーセン社（Ｏ．Ｋ．Ｔｈｏｒｓｅｎ Ｉｎｃ．）のシルバー・プリント（ＳＩＬＶＥＲ ＰＲＩＮＴ）（商標））でペイントした。細長片の狭い方の対向端部のそれぞれの上に２．５４ｃｍ×２．５４ｃｍの銅箔を覆い、ワニ口クリップを備えた試験導線を用いて、０〜２０ボルト電源（ヒューレット・パッカード社（Ｈｅｗｌｅｔｔ Ｐａｃｋａｒｄ，Ｉｎｃ．）のモデル６２５３ＡデュアルＤＣ）に接続した。細長片に電圧を印加し、電流および細長片の温度を時間の関数として測定した。細長片温度が上昇しなくなったら、より高い電圧を印加した。結果は以下の表３に示される。

表３の結果は、フィルムが、回路の故障を起こすことなく、非常に高い電力密度および非常に高い温度に耐え得ることを示す。細長片を冷却させ、次に細長片に１６ボルトを印加した結果、０．２７アンペアの電流が測定された。フィルムは触ると温かくなった。次に、カウンタートップのエッジ上でフィルムを４５°の角度に曲げ、次に９０°の角度に曲げた。フィルムは触るとまだ温かく感じられ、電流は０．２７アンペアのままであった。次にフィルムを１８０°の角度に曲げた。サンプルは触るとまだ温かく感じられ、電流は０．２７アンペアのままであった。クラッキングが生じていれば、フィルム内にホットスポットが生じており、実質的な電流変化（あるいは、電流の完全な中断）が観察されたであろう。

比較例２
実施例２０の方法を用いて、ＸＩＲ（商標）７５フィルム（サウスウォール・テクノロジーズ社）のサンプルに電力を供給し加熱した。２４ボルトをかけるか、曲げると、サンプルは故障した。結果は以下の表４に示される。

表４の結果は、比較フィルムが電気的に加熱され得ることを示す。しかしながら、電圧が２４ボルトに増大されると、フィルムは故障した。これは、酸化インジウム層のクラッキングによると確信された。比較フィルムの別のサンプルは、１６ボルトの印加電圧を用いて電気的に加熱し、その結果０．２３５アンペアの電流が測定された。比較フィルムは触ると温かくなった。比較フィルムをカウンタートップのエッジ上で４５°の角度に曲げると、フィルムは故障した。光学顕微鏡を用いて、コーティング中にクラックが観察された。

実施例１３
シート抵抗４．２オーム／スクエアを有する実施例５のフィルムの３０４ｍｍ×３０４ｍｍサンプルは、両方の金属層がエネルギー供給されるように、母線に電気的に接続させた。２つの２ｍｍガラスシート間に配置された２つの０．０５ｍｍ厚さのＰＶＢシートから製造されるサンドイッチ構造の中心に、フィルムサンプルを積層した。母線と母線の抵抗は４．０６オームであった。母線に１６．５ボルトの電位をかけ、その結果、４．０６アンペアの電流および２９９Ｗ／ｍｍ²の印加電力密度が生じた。電圧をかけて７分以内に、ガラスの表面温度は２０℃上昇した。結果は、３つの他の印加電力密度において表面温度を２０℃上昇させるのに必要な時間と共に、以下の表５に示される。

４２ボルトの電源を用いると、これらの時間は、平均サイズ、すなわち典型的な車用ウィンドシールドでは約０．９ｍ×約１．５ｍ、典型的なスポーツ多目的車用ウィンドシールドでは約０．８８ｍ×約１．６６ｍのウィンドシールドにおいて有用な除氷性能を提供するであろう。

実施例１４
実施例９のプラズマ条件を用いて、いくつかのフィルムに、フィルムの片面または両面において任意のプラズマ後処理を施し、次に実施例１３の場合と同様に、ガラスシートの間に積層させた。積層体を評価して、その圧縮せん断強度を決定した。以下の表６には、実施例番号、スタックの最上層の上または支持体の下面のプラズマ後処理の有無、ならびに測定された圧縮せん断強度が示される。

実施例１５
ＰＥＴ支持体を３層アクリレート／Ａｇ／アクリレートスタックで被覆した。個々の層は次のように形成した。

（層１）厚さ０．０５ｍｍ×幅５０８ｍｍのＰＥＴフィルム（デュポン帝人フィルムのメリネックス（商標）Ｎｏ．４５３フィルム）の長さ約９１４メートルのロールを、ロールツーロール型の真空チャンバ内に搭載し、チャンバ圧力をポンプで８×１０^-6トルの圧力にした。４８．５％のＩＲＲ２１４アクリレート、４８．５％のラウリルアクリレート、および３．０％のイビクリル（ＥＢＥＣＲＹＬ）（商標）１７０接着プロモータを含有するアクリレート混合物でＰＥＴフィルムをコーティングした。コーティングする前に、アクリレート混合物を真空で脱気し、超音波噴霧器により、２７５℃に保持した蒸発チャンバ内へ２．３５ｍ／分の流速でポンプ注入した。ＰＥＴフィルムを、０℃に保持されたコーティングドラム上を３０．４メートル／分のウェブ速度で通過させ、ここで、モノマー蒸気を凝縮させた後、続いて、８．０ｋＶおよび２．０ミリアンペアで動作される単一フィラメントで電子ビーム架橋させた。これにより、硬化後に１００ｎｍの厚さを有するアクリレート層が生成された。

（層２）チャンバ内部でウェブ方向を反転させ、アクリレート表面を銀層でスパッタコーティングした。チャンバ圧力２．０ミリトル、およびウェブ速度３０．４メートル／分で、スパッタリングガスとしてアルゴンを用いて、１０，０００ワット電力で銀をスパッタリングし、厚さ１０ｍｍの銀層が提供された。

（層３）ウェブ方向を再度反転させた。層１と同一の条件を用い、厚さ１００ｍｍのアクリレート層を銀層上に蒸着させた。

得られた３層フィルムスタックは、良好なスペクトルの透過特性および反射特性を示し、１０オーム／スクエアの電気抵抗率を有した。電流下での腐食試験を実行すると、浸漬の数秒後に電流はゼロに低下した。これは、厳しい腐食条件下で望ましいよりも銀の腐食および電気回路の故障がより速く生じたことを示す。

実施例１６
実施例１５と同じ方法で第２の３層フィルムスタックを作製したが、次の層の蒸着の前に窒素プラズマ前処理（ＰＥＴ、層１アクリレートコーティング、および層２銀コーティングの）を用いた。１．０ｋＷおよび２．０ミリトル圧力で動作される非平衡ｄｃマグネトロン源を用いて、窒素プラズマを加えた。電流下での腐食試験を実行すると、浸漬の５００〜６００秒後まで電流はゼロに低下しなかった。これにより、実施例１５の場合よりも、銀の腐食および電気回路の故障がはるかにゆっくりであることが示された。

実施例１７
モノマー混合物に２％のエチレングリコールビス−チオグリコラートを添加して、実施例１５と同じ方法で３層フィルムスタックを作製した。電流下での腐食試験を実行すると、浸漬の５００〜６００秒後に電流はゼロに低下した。これにより、銀の腐食および電気回路の故障は実施例１５の場合よりもゆっくりであり、実施例１６と同等の性能であることが示された。

実施例１８
実施例１５と同じ方法で３層フィルムスタックを作製したが、実施例１６の場合のように窒素プラズマ前処理を用い、実施例１７の場合のように２％エチレングルコールビス−チオグリコラートを添加した。電流下での腐食試験を実行すると、浸漬後９００秒以上の間、電流は一定のままであり、この時間で試験を終了させた。これは、実施例１５〜１７と比べて、銀の腐食および回路故障の可能性は更に減少されたことを示した。

実施例１９
５５０ｎｍにおける光の透過、シート抵抗およびＥＭＩ遮蔽強度について、実施例１２のフィルムを試験した。測定された光の透過は７５％であり、表面抵抗率は４．５オーム／スクエアであり、ＥＭＩ遮蔽強度は２９ｄＢであった。

比較例３
実施例１９の方法を用いて、光学的に透明なＡｇＨＴ４（商標）ＥＭＩ遮蔽フィルム（ＣＰフィルム）のサンプルを評価した。測定された光の透過は７６％であり、表面抵抗率は４．７オーム／スクエアであり、ＥＭＩ遮蔽強度は２９ｄＢであった。フィルムに手でしわをつけ、再度ＥＭＩ遮蔽強度について再試験した。ＥＭＩ遮蔽強度は５ｄＢに低下した。腐食および歪み耐性についても、新しいフィルムサンプルを評価した。電流下での腐食試験において回路故障は２０秒で起こり、導電率対歪み試験において２％歪みで導電率はゼロに低下した。

実施例２０
実施例１２の方法を使用し、金属層の上部および底部の両方にプラズマ前処理を用いて、５層アクリレート／Ａｇ／アクリレート／Ａｇ／アクリレート光学スタックでＰＥＴ支持体を被覆した。モノマー混合物は、２％エチレングリコールビス−チオグリコラートを含有した。その他の個々の層の違いは次のとおりであった。

（層１）支持体のプラズマ前処理は１０００ワット電力で行なったが、４２８ボルトおよび２．３アンペアを用いた。−１７℃のドラム温度を用いて、モノマー蒸気を移動ウェブ上に凝縮させた。電子ビームフィラメントは８．０ｋＶおよび２．８ミリアンペアで動作させた。

（層２）プラズマ前処理は１０００ワット電力で行なったが、３６８ボルトおよび２．７２アンペアを用いた。６３２ボルト、１５．８アンペア、ドラム温度３１℃、およびアルゴンガス流８７ｓｃｃｍで銀をスパッタリングした。

（層３）プラズマ前処理は１０００ワット電力で行なったが、４３０ボルトおよび２．３アンペアを用いた。−１７℃のドラム温度を用いて、モノマー蒸気を移動ウェブ上に凝縮させた。電子ビームフィラメントは８．０ｋＶおよび４．８ミリアンペアで動作させた。

（層４）プラズマ前処理は１０００ワット電力で行なったが、３６８ボルトおよび２．７２アンペアを用いた。６３４ボルト、１５．８アンペア、ドラム温度３２℃、およびアルゴンガス流８７ｓｃｃｍで銀をスパッタリングした。

（層５）プラズマ前処理は１０００ワット電力で行なったが、４４８ボルトおよび２．２アンペアを用いた。−１９℃のドラム温度を用いて、モノマー蒸気を移動ウェブ上に凝縮させた。電子ビームフィラメントは８．０ｋＶおよび５．７ミリアンペアで動作させた。

得られたフィルムの測定された光透過は７０％であり、表面抵抗率は５．６オーム／スクエアであり、ＥＭＩ遮蔽強度は２８ｄＢであった。比較例３の場合のようにフィルムに手でしわをつけ、ＥＭＩ遮蔽強度について再試験した。ＥＭＩ遮蔽強度は２８ｄＢのままであり、ＥＭＩ遮蔽能力の完全な保持が示された。

本発明の様々な修正および変更は、本発明から逸脱することなく本当業者には明らかであろう。本発明は、説明の目的だけで本明細書中に示されたものに限定されてはならない。

電気加熱可能な物品の略断面図である。 フィルムの略断面図である。 もう１つのフィルムの略断面図である。 予備積層体の略断面図である。 もう１つの予備積層体の略断面図である。 電気加熱可能なウィンドシールドの略断面図である。 図６のウィンドシールドの斜視図である。 開示される方法を実行するための装置の概略図である。 電気加熱可能な建築用グレージングの略断面図である。 開示される２つのフィルムの透過率および反射率を示すグラフである。 開示される２つのフィルムの透過率および反射率を示すグラフである。 開示される３つのフィルムのコンダクタンス対歪みを示すグラフである。 開示される３つのフィルムのコンダクタンス対歪みを示すグラフである。 開示される３つのフィルムのコンダクタンス対歪みを示すグラフである。 開示されるフィルムの透過率および反射率を示すグラフである。

Claims (6)

1. ａ）可視光透過性の可撓性支持体を提供する工程と、
   ｂ）前記支持体の上に可視光透過性の第１の金属または合金層を形成する工程と、
   ｃ）前記第１の金属または合金層の上に、有機層を蒸着する工程と、
   ｄ）前記有機層を架橋させて、可視光透過性の架橋高分子層を形成する工程と、
   ｅ）前記架橋高分子層の上に、可視光透過性の第２の金属または合金層を形成する工程と、
   ｆ）前記第１および第２の金属または合金層のうちの少なくとも１つに、１つまたは複数の電極を接続する工程と、
   を含む導電性の可視光透過性フィルムの製造方法。
2. 前記金属または合金層が銀を含み、前記架橋高分子層がアクリレートポリマーを含む、請求項１に記載の方法。
3. ａ）グレージング材料層と、可視光透過性の蒸着され架橋された高分子層で隔てられた第１および第２の可視光透過性金属または合金層を含む可視光透過性フィルムとを組み立てる工程と、
   ｂ）前記グレージング材料とフィルムとを結合して単一の物品にする工程と、
   ｃ）前記金属または合金層のうちの少なくとも１つに、１つまたは複数の電極を接続する工程と、
   を含む電気加熱可能なグレージング物品の製造方法。
4. ａ）第１のグレージング材料層と、第１の機械エネルギー吸収層と、蒸着され架橋された高分子層で隔てられた第１および第２の金属または合金層を含む可視光透過性の可撓性フィルム層と、前記金属または合金層へ電流が供給されることを可能にする電極と、第２の機械エネルギー吸収層と、第２のグレージング材料層とを組み立てる工程と、
   ｂ）前記層の間から残留空気を除去する工程と、
   ｃ）前記層を加熱および加圧し、前記層及び電極を結合して単一の物品にする工程と、
   を含む電気加熱可能な積層物品の製造方法。
5. 可視光透過性の蒸着され架橋された高分子層で隔てられた第１および第２の可視光透過性金属または合金層を含むと共に、前記金属または合金層へ電流が供給されることを可能にする電極を更に含む可視光透過性フィルムに接合された少なくとも１つの機械エネルギー吸収材料層を含む安全グレージング予備積層体。
6. 可視光透過性の蒸着され架橋された高分子層で隔てられた第１および第２の可視光透過性金属または合金層を含むと共に、前記金属または合金層へ電流が供給されることを可能にする電極を更に含む可視光透過性フィルムに接合された少なくとも１つのグレージング材料層を含む電気加熱可能なグレージング物品。

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