KR101030880B1 - 플라즈마 디스플레이용 유리세라믹스 재료 - Google Patents
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- 239000006112 glass ceramic composition Substances 0.000 title claims description 23
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 118
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims abstract description 42
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 10
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 6
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 13
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 238000007496 glass forming Methods 0.000 description 8
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 8
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 8
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 5
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 5
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- AYJRCSIUFZENHW-UHFFFAOYSA-L barium carbonate Chemical compound [Ba+2].[O-]C([O-])=O AYJRCSIUFZENHW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 3
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 3
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 2
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 2
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-NJFSPNSNSA-N hydroxyformaldehyde Chemical compound O[14CH]=O BDAGIHXWWSANSR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 2
- 229910000464 lead oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L lithium carbonate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-]C([O-])=O XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052808 lithium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N oxolead Chemical compound [Pb]=O YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910000018 strontium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZYDPPZYDIRSJT-UHFFFAOYSA-K boron phosphate Chemical compound [B+3].[O-]P([O-])([O-])=O YZYDPPZYDIRSJT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910000149 boron phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000005485 electric heating Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000006089 photosensitive glass Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 1
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J11/00—Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
- H01J11/20—Constructional details
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/22—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions containing two or more distinct frits having different compositions
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
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- H01J5/00—Details relating to vessels or to leading-in conductors common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
- H01J5/02—Vessels; Containers; Shields associated therewith; Vacuum locks
- H01J5/04—Vessels or containers characterised by the material thereof
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
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- Glass Compositions (AREA)
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Abstract
본 발명에 따르면, 연화점이 570~640℃인 유리미립자(A)가 40~70 중량%, 연화점이 480~540℃인 유리미립자(B)가 30~60 중량%인 플라즈마 디스플레이용 유리세라믹스 재료로서, 유리미립자(A)가 SiO2를 2~12 중량%, B2O3를 50~58 중량%, Al2O3를 10~20 중량%, ZnO를 0~6 중량%, Li2O를 0~2.8 중량%, 추가적으로 MgO, CaO, SrO, BaO 중에서 선택되는 1종 이상을 10~22 중량% 포함하고, 유리미립자(A)의 굴절률이 1.53~1.56인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이용 유리세라믹스 재료가 제공된다.
Description
본 발명은 주로 플라즈마 디스플레이 패널, 플라즈마 어드레스 액정 표시 패널 등의 격벽층(隔壁層)의 형성이나 기타 전기·전자회로의 절연성 피막형성에 있어서의 고정세(高精細) 패턴 형성에 사용되는 감광성 페이스트용 유리세라믹스 재료에 관한 것이다.
최근 전자부품의 발달에 따라, 플라즈마 디스플레이 패널, 액정 표시 패널, 일렉트로루미네센스 패널, 형광 표시 패널, 일렉트로크로믹 표시 패널, 발광 다이오드 표시 패널, 가스방전식 표시 패널 등, 많은 종류의 표시 패널이 개발되고 있다. 그 중에서도, 플라즈마 디스플레이 패널(이하, PDP로 약칭한다)이 박형·대형의 평판형 컬러 표시 장치로서 주목을 모으고 있다. PDP는 표시면으로서 사용되는 전면(前面) 기판과 배면(背面) 기판 사이에 많은 셀을 가져, 그 셀 중에서 플라즈마 방전시킴으로써 화상이 형성된다. 이 셀은 무기재료의 격벽으로 구획 형성되어 있어, 화상을 형성하는 각 화소에서의 표시상태를 제어하기 위해, 각 화소단위로 전극이 형성되어 있다.
이 PDP의 배면 기판에는, 방전 셀을 구획 형성하기 위한 격벽이 형성되어 있 으나, 최근, 고정세화로의 요구가 높아져, 이에 따라 격벽층을 고애스펙트비, 또한 고정밀도로 형성하는 요구가 높아지고 있다.
또한, PDP의 제조에 있어서는, 600℃ 전후의 고온에서 소성되기 때문에 유리기판에는 고가의 고왜점(高歪点) 유리가 사용되고 있으나, PDP 메이커로부터는 보다 저렴한 소다석회유리로의 변경이 요망되고 있어, 560℃ 이하의 저온에서 소성 가능한 플라즈마 디스플레이용 유리세라믹 재료의 개발이 기대되고 있다.
종래, 무기재료의 패턴가공을 행하는 경우, 샌드블라스트법이 많이 이용되고 있다. 그러나, 샌드블라스트법은 연삭재의 되튐이나 대전에 의한 과도한 연삭, 소위 사이드 에칭이라 칭해지는 현상에 의해, 고애스펙트비, 또한 고정밀도의 격벽층을 형성할 수 없는 결점이 있었다.
이에, 유리 페이스트 중에 유기 수지를 첨가하여 내연삭성을 높이는 수법이 제안되어 있다(특허문헌 1 참조).
또한, 감광성 유리 페이스트를 사용하여 포토리소그래피 기술에 의해 격벽층을 고애스펙트비, 또한 고정밀도로 형성하는 방법이 제안되어 있다(특허문헌 2~4 참조).
또한, 적정 소성온도범위를 넓게 하는 수법으로서 연화점이 800℃인 유리미립자를 20 중량% 정도 첨가한 예가 제안되어 있다(특허문헌 4 참조).
또한, 조성의 경우에는, 열연화온도와 내수성의 향상을 목적으로 산화납 및 산화비스무트를 채용하는 시스템이 제안되어 있다(특허문헌 2, 4 참조).
특허문헌 1 : 일본국 특허공개 제2003-257322호 공보
특허문헌 2 : 일본국 특허 제3402070호 공보
특허문헌 3 : 일본국 특허 제3696725호 공보
특허문헌 4 : 일본국 특허 제3716787호 공보
발명의 개요
전술한 예를 들면 일본국 특허공개 제2003-257322호 공보에 기재된 정보는, 유기 수지를 첨가함으로써 확실하게 내연삭성은 높일 수 있지만, 절삭효율이 저하되는 문제가 있었다.
또한, 일본국 특허 제3402070호 공보, 일본국 특허 제3696725호 공보, 일본국 특허 제3716787호 공보에 나타내어져 있는 감광성 페이스트에는 유리미립자 이외의 무기재료가 사용되고 있지 않기 때문에, 패턴 형성 후의 소성공정에서 소성온도가 목적하는 온도 보다 조금 높아져 버리면 유리미립자가 연화(軟化)·유동(流動)되어 버려, 고정밀도로 격벽층을 형성할 수 없는 문제가 발생한다.
또한, 일본국 특허 제3716787호 공보에 나타내어져 있는, 연화점이 800℃인 유리미립자를 20 중량% 정도 첨가한 예에서는, 연화점이 700℃를 초과하는 유리를 제조하기 위해서는 1500℃의 고온이 필요하여, 효율적이지 못하다.
또한, 조성면에서 보면, 일본국 특허 제3716787호 공보, 일본국 특허 제3402070호 공보에서 사용되고 있는 산화납 및 산화비스무트는 인체나 환경에 미치는 폐해가 커서, 최근 그 채용을 피하는 추세에 있다.
이와 같이, 플라즈마 디스플레이 패널, 플라즈마 어드레스 액정 표시 패널 등의 격벽층의 형성이나 기타 전기·전자회로의 절연성 피막형성에 있어서의 고정세 패턴 형성에 사용되는 감광성 페이스트용 유리세라믹스 재료로서, 각종 문제점을 해결하는 것은 아직 얻어져 있다고는 할 수 없다.
본 발명에 따르면, 연화점이 570~640℃인 유리미립자(A)가 40~70 중량%, 연화점이 480~540℃인 유리미립자(B)가 30~60 중량%인 플라즈마 디스플레이용 유리세라믹스 재료로서, 유리미립자(A)가 SiO2를 2~12 중량%, B2O3를 50~58 중량%, Al2O3를 10~20 중량%, ZnO를 0~6 중량%, Li2O를 0~2.8 중량%, 추가적으로 MgO, CaO, SrO, BaO 중에서 선택되는 1종 이상을 10~22 중량% 포함하고, 굴절률이 1.53~1.56인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이용 유리세라믹스 재료가 제공된다.
본 발명에 따르면, 상기의 플라즈마 디스플레이용 유리세라믹스 재료를 사용하는 것을 특징으로 하는 PDP용 배면 기판이 제공된다.
상세한 설명
본 발명에 따르면, 주로 소다석회유리 기판을 사용한 플라즈마 디스플레이 패널, 플라즈마 어드레스 액정 표시 패널 등의 격벽층의 형성이나 기타 전기·전자회로의 절연성 피막형성에 관하여, 고정세 패턴 형성이 가능한 감광성 페이스트용 유리세라믹스 재료를 제공할 수 있다.
본 발명에서는, 연화점이 570~640℃인 유리미립자(A)를 40~70 중량%, 연화점이 480~540℃인 유리미립자(B)를 30~60 중량%로 구성함으로써, 500~560℃에서 소성이 가능하여, 소다석회유리 기판을 사용한 플라즈마 디스플레이 패널에 적합하게 사용할 수 있는 것을 발견하였다. 다만, 유리미립자(A)와 유리미립자(B)의 합계 중량을 100 중량%로 한다.
유리미립자(A)가 40 중량% 미만에서는 소결체가 연화·유동되기 쉬워지는 한편, 70 중량%를 초과하면 치밀한 소결체를 얻을 수 없어, 500~560℃의 범위에서 소성할 수 없다. 마찬가지로, 유리미립자(B)가 30 중량% 미만에서는 치밀한 소결체를 얻을 수 없고, 60 중량%를 초과하면 소결체가 연화·유동되기 쉬워져, 500~560℃의 범위에서 소성할 수 없다.
본 발명에서 사용되는 유리미립자(A)는 SiO2를 2~12 중량%, B2O3를 50~58 중량%, Al2O3를 10~20 중량%, ZnO를 0~6 중량%, Li2O를 0~2.8 중량%, 추가적으로 MgO, CaO, SrO, BaO 중에서 선택되는 1종 이상을 10~22 중량% 포함하고, 굴절률이 1.53~1.56인 것을 특징으로 하는 무연(無鉛)·무비스무트 저융점 유리이다. 이하에 있어서, 이 유리의 각 구성성분을 상세하게 기술한다.
SiO2는 유리형성 성분으로, 다른 유리형성 성분인 B2O3와 공존시킴으로써 안정된 유리를 형성할 수 있는 것으로, 2~12%(중량%, 이하에 있어서도 동일하다) 함유시킨다. 2% 미만에서는 유리의 형성이 곤란해지는 한편, 12%를 초과하면 유리의 유동성이 저하되어 치밀한 소결체를 얻는 것이 곤란해진다.
B2O3는 SiO2와 동일한 유리형성 성분으로, 유리 용융을 용이하게 하고, 유리의 열팽창계수에 있어서 과도한 상승을 억제하며, 또한, 소성시에 유리에 적절한 유동성을 부여하여, SiO2와 함께 유리의 굴절률을 조정하는 것이다. 유리 중에 50~58%로 함유시키는 것이 바람직하다. 50% 미만에서는 유리의 유동성이 불충분해져 소결성이 손실되는 한편, 58%를 초과하면 유리의 연화점이 지나치게 높아져 소결성을 손실시킨다.
Al2O3는 유리에 적절한 유동성을 부여하고, 또한, 유리의 내화학성을 높이는 작용이 있어 10~20% 함유시킨다. 10% 미만에서는 유리의 유동성이 커지고, 또한 충분한 내화학성이 얻어지지 않는다. 20%를 초과하면 유리의 유동성이 악화되어 소결성을 손실시킨다. 보다 바람직하게는 12~19%의 범위이다.
ZnO는 유리의 연화점을 낮춰 열팽창계수를 적절한 범위로 조정하는 것으로, 유리 중에 6%까지 함유할 수 있다. 6%를 초과하면 페이스트 중의 감광성 성분과 반응하여 단시간에 페이스트의 점도가 상승하게 된다.
MgO, CaO, SrO, BaO는 유리에 적절히 유동성을 부여하여 유리의 내화학성을 높이는 효과가 있어, 이들 중에서 선택되는 1종 이상을 10~22% 함유시킨다. 10% 미만에서는 유리의 유동성이 불충분해져 560℃ 이하에서의 소성이 곤란해지는 한편, 22%를 초과하면 유리의 열팽창계수가 지나치게 높아진다.
Li2O는 유리의 연화점을 낮추고, 적절히 유동성을 부여하여, 열팽창계수를 적절한 범위로 조정하는 것으로, 2.8%까지 함유할 수 있다. 2.8%를 초과하면 열팽창계수를 과도하게 상승시키는 동시에, 유리 중의 알칼리이온의 용출량이 많아져 페이스트의 점도가 상승하게 된다.
유리미립자(A)는 30℃~300℃에 있어서의 열팽창계수를 50×10-7/℃~70×10-7/℃의 범위로 하는 것이 바람직하다. 50×10-7/℃ 미만에서는 유리미립자(B)와 혼합했을 때의 열팽창계수가 낮아져, 소다석회유리 기판(열팽창계수 80×10-7/℃)과의 정합성(整合性)이 얻어지지 않는 한편, 70×10-7/℃를 초과하면 유리미립자(B)와 혼합했을 때의 열팽창계수가 지나치게 높아져, 소다석회유리 기판과의 정합성이 얻어지지 않게 된다. 또한, 연화점은 570℃ 이상 640℃ 이하로 한다. 570℃ 미만에서는 유동성이 커져 소결체가 연화·유동되기 쉬워지는 한편, 640℃를 초과하면 유동성이 저하되어 치밀한 소결체를 얻는 것이 곤란해진다.
유리미립자(B)는 SiO2를 0~9 중량%, B2O3를 50~55 중량%, Al2O3를 0~11 중량%, ZnO를 0~12 중량%, R2O(Li2O+Na2O+K2O)를 21~25 중량%, P2O5를 0~10 중량%, ZrO2를 0~3 중량%, 추가적으로 MgO, CaO, SrO, BaO 중에서 선택되는 1종 이상을 5~17 중량% 포함하고, 굴절률이 1.53~1.56인 것을 특징으로 하는 무연·무비스무트 저융점 유리여도 된다. 이하에 있어서, 이 유리의 각 구성성분을 상세하게 기술한다.
SiO2는 유리형성 성분으로, 다른 유리형성 성분인 B2O3와 공존시킴으로써 안정된 유리를 형성할 수 있는 것으로, 9%(중량%, 이하에 있어서도 동일하다)까지 함유할 수 있다. 9%를 초과하면 유리의 유동성이 저하되어 치밀한 소결체를 얻는 것이 곤란해진다.
B2O3는 SiO2와 동일한 유리형성 성분으로, 유리 용융을 용이하게 하고, 유리의 열팽창계수에 있어서 과도한 상승을 억제하며, 또한, 소성시에 유리에 적절한 유동성을 부여하여, SiO2와 함께 유리의 굴절률을 조정하는 것이다. 유리 중에 50~55%로 함유시키는 것이 바람직하다. 50% 미만에서는 유리의 유동성이 불충분해져 소결성이 손실되는 한편, 55%를 초과하면 유리의 연화점이 지나치게 높아져 소결성을 손실시킨다. 보다 바람직하게는 50~53%의 범위이다.
Al2O3는 유리에 적절한 유동성을 부여하고, 또한, 유리의 내화학성을 높이는 작용이 있어 0~11% 함유시킨다. 11%를 초과하면 유리의 유동성이 악화되어 소결성을 손실시킨다. 보다 바람직하게는 1~11%의 범위이다.
ZnO는 유리의 연화점을 낮춰 열팽창계수를 적절한 범위로 조정하는 것으로, 유리 중에 12%까지 함유할 수 있다. 12%를 초과하면 페이스트 중의 감광성 성분과 반응하여 단시간에 페이스트의 점도가 상승하게 된다. 보다 바람직하게는 0~6%의 범위이다.
MgO, CaO, SrO, BaO는 유리에 적절히 유동성을 부여하여 유리의 내화학성을 높이는 효과가 있어, 이들 중에서 선택되는 1종 이상을 5~17% 함유시킨다. 5% 미만에서는 유리의 내화학성이 불충분해지고, 유리 중의 알칼리이온의 용출량이 많아져 페이스트의 점도가 상승하게 된다. 한편, 17%를 초과하면 유리의 열팽창계수가 지나치게 높아진다.
R2O(Li2O+Na2O+K2O)는 유리의 연화점을 낮추고, 적절히 유동성을 부여하여, 열팽창계수를 적절한 범위로 조정하는 것으로, 21~25%의 범위에서 함유시키는 것이 바람직하다. 21% 미만에서는 상기 작용을 발휘할 수 없는 한편, 25%를 초과하면 열팽창계수를 과도하게 상승시키는 동시에, 유리 중의 알칼리이온의 용출량이 많아져 페이스트의 점도가 상승하게 된다. 또한, Li2O/K2O의 중량비를 0.2 이상, 0.5 이하, Na2O/K2O의 중량비를 0.6 이상, 1.5 이하로 함으로써, 유리 중의 알칼리이온의 용출량을 억제할 수 있다. 이 범위를 일탈하면 유리 중의 알칼리이온의 용출량이 많아져 페이스트의 점도가 상승하게 된다.
P2O5는 유리형성 성분으로, 다른 유리형성 성분인 SiO2와 공존시킴으로써, 안정한 유리를 형성하는 동시에 내화학성을 높일 수 있는 것으로, 0~10% 함유시킨다. 10%를 초과하면 연화점이 높아지고, 유동성이 불충분해지며, 소결성이 손실된다. 또한, SiO2와의 공존량은 SiO2+P2O5를 2~10%로 하는 것이 바람직하다. 2% 미만에서는 유리의 형성이 불안정해지는 한편, 10%를 초과하면 유리의 유동성이 저하되어 치밀한 소결체를 얻는 것이 곤란해진다.
ZrO2는 유리의 내화학성을 높이는 효과가 있어, 0~3%의 범위로 함유시킨다. 보다 바람직하게는 0.1%~3%의 범위이다.
유리미립자(B)는 30℃~300℃에 있어서의 열팽창계수를 95×10-7/℃~115×10-7/℃의 범위로 하는 것이 바람직하다. 95×10-7/℃ 미만에서는 유리미립자(A)와 혼합했을 때의 열팽창계수가 낮아져, 소다석회유리 기판(열팽창계수 80×10-7/℃)과의 정합성이 얻어지지 않는 한편, 115×10-7/℃를 초과하면 유리미립자(A)와 혼합했을 때의 열팽창계수가 지나치게 높아져, 소다석회유리 기판과의 정합성이 얻어지지 않게 된다.
또한, 유리미립자(B)의 연화점은 480℃ 이상 540℃ 이하로 한다. 480℃ 미만에서는 유동성이 커져 소결체가 연화·유동되기 쉬워지는 한편, 540℃를 초과하면 유동성이 저하되어 치밀한 소결체를 얻는 것이 곤란해진다.
또한, 유리미립자(A)와 유리미립자(B)의 굴절률을 1.53~1.56의 범위로 한다. 광투과성이 우수한 유리미립자와 감광성 유기성분의 굴절률을 정합시킬 수 있기 때문에, 고애스펙트비, 또한 고정밀도의 패턴가공이 가능해진다.
치밀한 소결체가 얻어지는 최저 소성온도[T1]는 500~560℃의 범위에 있는 것이 바람직하다. 500℃ 미만에서는 유기성분 유래의 카본이 유리세라믹스 중에 잔류하기 쉬워지는 한편, 560℃를 초과하면 소다석회유리 기판의 내열온도 이내에서의 형성이 불가능해진다. 또한, 소결체가 연화·유동을 시작하는 온도[T2]와의 사이에 T2―T1≥40의 관계가 있는 것이 바람직하다. [T2-T1]이 40℃ 미만에서는 소성온도의 변화에 의해 소성의 과부족이 발생하기 쉬워진다.
또한, 본 발명에 따르면, 상기의 감광성 페이스트용 유리세라믹스 재료를 사용하고 있는 PDP용 패널(배면 기판)이 제공된다. 전술한 감광성 페이스트용 유리세라믹스 재료를 사용함으로써, 또한 고정밀도의 격벽층 패턴가공이 가능한 PDP용 패널(배면 기판)로 할 수 있다.
실시예 1
이하, 본 발명을 실시예에 의해 설명한다. 다만, 본 발명은 실시예에 한정되는 것은 아니다.
(저융점 유리미립자의 제작) 유리미립자(A)를 제작하는데, SiO2원으로서 미분(微粉) 규사를, B2O3원으로서 붕산을, Al2O3원으로서 알루미나를, ZnO원으로서 산화아연을, MgO원으로서 산화마그네슘을, CaO원으로서 탄산칼슘을, SrO원으로서 탄산스트론튬을, BaO원으로서 탄산바륨을, Li2O원으로서 탄산리튬을 사용하였다. 이들을 목적하는 저융점 유리 조성이 되도록 조합(調合)한 후에, 백금 도가니에 투입하여, 전기 가열로 내에서 1200~1300℃, 1~2시간에 걸쳐 가열용융하여 표 1의 실시예 A1~A8, 표 3의 비교예 C1~C4에 나타내는 조성의 유리를 얻었다. C1~C4에 나타내는 조성의 유리는 본 발명의 유리미립자(A)에 적합하지 않은 유리이다.
유리미립자(B)를 제작하는데, SiO2원으로서 미분 규사를, B2O3원으로서 붕산을, Al2O3원으로서 알루미나를, ZnO원으로서 산화아연을, MgO원으로서 산화마그네슘을, CaO원으로서 탄산칼슘을, SrO원으로서 탄산스트론튬을, BaO원으로서 탄산바륨을, Li2O원으로서 탄산리튬을, Na2O원으로서 탄산나트륨을, K2O원으로서 탄산칼륨을, P2O5원으로서 인산붕소를, ZrO2원으로서 지르콘을 사용하였다. 이들을 목적하는 저융점 유리 조성이 되도록 조합한 후에, 백금 도가니에 투입하여, 전기 가열로 내에서 1100~1200℃, 1~2시간에 걸쳐 가열용융하여 표 2의 실시예 B1~B8, 표 3의 비교예 D1~D4에 나타내는 조성의 유리를 얻었다. D1~D4에 나타내는 조성의 유리는 본 발명의 유리미립자(B)에 적합하지 않은 유리이다.
유리의 일부는 틀(型)에 흘려넣고, 블록형상으로 하여 제물성(열팽창계수, 연화점, 굴절률) 측정용으로 제공하였다. 잔여 유리는 급랭 쌍롤 성형기로 플레이크상으로 하여, 분쇄장치로 평균입경 2~3 ㎛, 최대입경 10 ㎛ 미만의 분말상으로 정립(整粒)하였다.
(감광성 페이스트용 유리세라믹스 재료의 제작) 유리미립자(A)와 유리미립자(B)를 목적하는 감광성 페이스트용 유리세라믹스 재료가 되도록 혼합하여 표 4의 실시예 R1~R8, 표 5의 비교예 S1~S4에 나타내는 감광성 페이스트용 유리세라믹스 재료를 얻었다.
(유리세라믹스의 형성) 후술하는 T1과 T2를 구하기 위해, 실시예 R1~R8, 비교예 S1~S4의 각각에 관하여 복수의 샘플을 제작하여, 각각 상이한 온도에서 소성하였다. 구체적으로는, 상기의 감광성 페이스트용 유리세라믹스 재료의 일부를 직경 12 ㎜Ø, 두께 5 ㎜로 가압성형함으로써 복수의 샘플을 제작하여, 480~640℃의 범위에서 10℃ 간격의 상이한 온도에서 40분간 소성함으로써 유리세라믹스를 얻었다.
얻어진 유리세라믹스를 파쇄하여, 파단면을 침투성 염료에 침지하고, 이어서 그 단면을 육안 및 현미경에 의해 관찰하여, 염료가 침투되어 있지 않은 경우에 대해서는 치밀한 소결체가 얻어진 것으로 판단하고, 치밀한 소결체가 얻어지는 최저 소성온도 T1으로 하였다.
또한, 얻어진 유리세라믹스에 대해서 육안으로 관찰하여, 유리세라믹스의 에지부분이 연화·유동되어 둥그스름함을 띠고 있는 경우를 소결체가 연화·유동을 시작한 것으로 판단하고, 소결체가 연화·유동을 시작하는 온도 T2로 하였다.
또한, T1과 T2 사이를 적정 소성온도범위로 하여, [T2-T1]이 40℃ 이상인 경우를 ○, 40℃ 미만인 경우를 ×로 판정하였다.
(감광성 페이스트의 제작) 잔여 감광성 페이스트용 유리세라믹스 재료를 감광성 화합물을 포함하는 유기성분에 분산하여, 감광성 페이스트를 얻었다.
얻어진 감광성 페이스트에 대해서, 분산 직후의 페이스트 점도[V1]와 5℃ 냉온실에 24시간 정치한 후의 페이스트 점도[V2]를 측정하여, [V2/V1]이 1.2 미만인 경우를 감광성 성분과의 반응이 없다고 판단하여 ◎로, 1.2~1.5의 범위에 있는 경우를 감광성 성분과의 반응이 있지만, 실용 상의 문제는 없다고 판단하여 ○로, 1.5를 초과하는 경우를 감광성 성분과의 반응이 있다고 판단하여 ×로 하였다.
(결과) 감광성 페이스트용 유리세라믹스 재료, 및 각종 시험결과를 표 4 및 표 5에 나타낸다. 또한, 표 1의 A1~A8에 감광성 페이스트용 유리세라믹스 재료의 실시예 R1~R8에 사용한 유리미립자(A)의 유리 조성을, 표 2의 B1~B8에 감광성 페이스트용 유리세라믹스 재료의 실시예 R1~R8에 사용한 유리미립자(B)의 유리 조성을, 표 3의 C1~C4 및 D1~D4에 비교예 S1~S4에 사용한 저융점 유리 조성을 나타낸다.
표 4에 있어서의 실시예 R1~R8에 나타내는 바와 같이, 본 발명의 조성범위 내에 있어서는, 치밀한 소결체가 얻어지는 최저 소성온도가 500~560℃의 범위에 있고, 또한, 적정 소성온도범위가 40℃ 이상으로 넓다. 또한, 감광성 성분과의 반응에 의한 페이스트 점도의 상승이 억제되어 있어, 플라즈마 디스플레이 패널, 플라즈마 어드레스 액정 표시 패널 등의 격벽층의 형성이나 기타 전기·전자회로의 절연성 피막형성에 있어서의 고정세 패턴 형성에 사용되는 감광성 페이스트용 유리세라믹스 재료에 적합하게 사용할 수 있다.
한편으로, 본 발명의 조성범위를 벗어나는 표 5에 있어서의 비교예 S1, S4는, 최저 소성온도가 500~560℃의 범위를 일탈한다. 비교예 S2, S3의 경우, 500~560℃의 범위에 있으나, 적정 소성온도범위가 40℃ 미만으로 좁다. 또한, S3의 경우, 감광성 성분과의 반응에 의한 페이스트 점도의 상승이 확인된다. 따라서, 비교예 S1~S4의 경우, 고정세 패턴 형성에 사용되는 감광성 페이스트용 유리세라믹스 재료로서 적용할 수 없다.
Claims (6)
- 연화점이 570~640℃인 유리미립자(A)가 40~70 중량%, 연화점이 480~540℃인 유리미립자(B)가 30~60 중량%인 플라즈마 디스플레이용 유리세라믹스 재료로서, 유리미립자(A)가 SiO2를 2~12 중량%, B2O3를 50~58 중량%, Al2O3를 10~20 중량%, ZnO를 0~6 중량%, Li2O를 0~2.8 중량%, 추가적으로 MgO, CaO, SrO, BaO 중에서 선택되는 1종 이상을 10~22 중량% 포함하고, 유리미립자(A)의 굴절률이 1.53~1.56인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이용 유리세라믹스 재료.
- 제1항에 있어서,유리미립자(A)의 30℃~300℃에 있어서의 열팽창계수가 50×10-7/℃~70×10-7/℃인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이용 유리세라믹스 재료.
- 제1항에 있어서,유리미립자(B)가 SiO2를 0~9 중량%, B2O3를 50~55 중량%, Al2O3를 0~11 중량%, ZnO를 0~12 중량%, R2O(Li2O+Na2O+K2O)를 21~25 중량%, P2O5를 0~10 중량%, ZrO2를 0~3 중량%, 추가적으로 MgO, CaO, SrO, BaO 중에서 선택되는 1종 이상을 5~17 중량% 포함하고, 유리미립자(B)의 굴절률이 1.53~1.56인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이용 유리세라믹스 재료.
- 제1항에 있어서,유리미립자(B)의 30℃~300℃에 있어서의 열팽창계수가 95×10-7/℃~115×10-7/℃인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이용 유리세라믹스 재료.
- 제1항에 있어서,치밀한 소결체가 얻어지는 최저 소성온도[T1]가 500~560℃이고, 또한, [T1]과 소결체가 연화·유동을 시작하는 온도[T2]가, T2―T1≥40을 만족하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이용 유리세라믹스 재료.
- 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항의 플라즈마 디스플레이용 유리세라믹스 재료를 사용하는 것을 특징으로 하는 PDP용 배면 기판.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JPJP-P-2006-354476 | 2006-12-28 | ||
| JP2006354476A JP5061613B2 (ja) | 2006-12-28 | 2006-12-28 | プラズマディスプレイ用ガラスセラミックス材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20090092321A KR20090092321A (ko) | 2009-08-31 |
| KR101030880B1 true KR101030880B1 (ko) | 2011-04-22 |
Family
ID=39588413
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020097014627A KR101030880B1 (ko) | 2006-12-28 | 2007-12-20 | 플라즈마 디스플레이용 유리세라믹스 재료 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7910507B2 (ko) |
| JP (1) | JP5061613B2 (ko) |
| KR (1) | KR101030880B1 (ko) |
| CN (1) | CN101541698B (ko) |
| WO (1) | WO2008081728A1 (ko) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9604871B2 (en) | 2012-11-08 | 2017-03-28 | Corning Incorporated | Durable glass ceramic cover glass for electronic devices |
| CN105243971A (zh) * | 2014-07-08 | 2016-01-13 | 臻龙实业股份有限公司 | 多晶透明陶瓷显示面板 |
| JP6753468B2 (ja) * | 2016-08-26 | 2020-09-09 | 株式会社村田製作所 | 感光性ガラスペースト、電子部品、及び、電子部品の製造方法 |
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-
2006
- 2006-12-28 JP JP2006354476A patent/JP5061613B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-12-20 CN CN2007800436856A patent/CN101541698B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2007-12-20 US US12/520,374 patent/US7910507B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-12-20 KR KR1020097014627A patent/KR101030880B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2007-12-20 WO PCT/JP2007/074505 patent/WO2008081728A1/ja active Application Filing
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| JP2006151763A (ja) | 2004-11-30 | 2006-06-15 | Central Glass Co Ltd | 無鉛低融点ガラス |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20100093512A1 (en) | 2010-04-15 |
| US7910507B2 (en) | 2011-03-22 |
| JP5061613B2 (ja) | 2012-10-31 |
| CN101541698B (zh) | 2012-10-10 |
| KR20090092321A (ko) | 2009-08-31 |
| CN101541698A (zh) | 2009-09-23 |
| WO2008081728A1 (ja) | 2008-07-10 |
| JP2008162848A (ja) | 2008-07-17 |
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