KR101021452B1

KR101021452B1 - 피라졸 화합물

Info

Publication number: KR101021452B1
Application number: KR1020057017673A
Authority: KR
Inventors: 마사야 하시즈메; 노리야스 사카모토; 하야토 다쿄
Original assignee: 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤
Priority date: 2003-03-25
Filing date: 2004-02-03
Publication date: 2011-03-16
Also published as: CN1761654A; KR20050111609A; AU2004224033B2; US20060142367A1; WO2004085405A1; DE602004029143D1; MXPA05010144A; CO5611064A2; CN101701010B; PT1607390E; EP1607390B1; EG24798A; ZA200506245B; US7442801B2; TW200505338A; CN101701010A; ES2349635T3; IL170056A; CN101704784A; CN101712651A

Abstract

식 (a) 로 나타내는 피라졸 화합물:

[식 중, R¹ 은 C1-C4 알킬기 또는 트리플루오로메틸기를 나타내고, R² 는 C1-C4 알킬기를 나타내고, R³ 은 수소원자 또는 C1-C6 알킬기를 나타내고; R⁴ 는 할로겐원자 등을 나타내고, m 은 0∼4 의 정수를 나타내고; R⁵ 는 할로겐원자 등을 나타내고, n 은 0∼4 의 정수를 나타내고; R⁶ 및 R⁷ 은 동일 또는 상이하고, 수소원자, 할로겐원자 또는 메틸기를 나타내고, X 는 산소원자 또는 R⁸O-N 으로 표시되는 기를 나타내고, R⁸ 은 수소원자, C1-C6 알킬기 등을 나타낸다].

Description

피라졸 화합물{PYRAZOLE COMPOUND}

본 발명은, 피라졸 화합물, 그 제조중간체 및 이것을 사용하는 유해 절지동물의 방제 방법에 관한 것이다.

특정 유형의 피라졸 화합물이 살충류 진드기제의 유효성분으로서 알려져 있다 (USP 4,843,068 공보).

그러나, 상기 피라졸 화합물의 유해 절지동물 방제 활성은 충분하지 않은 경우가 있어, 유해 절지동물 방제 활성을 갖는 신규한 화합물이 요청되고 있다.

발명의 개시

본 발명은 식 (a)

[식 중, R¹ 은 C1-C4 알킬기 또는 트리플루오로메틸기를 나타내고, R² 는 C1-C4 알킬기를 나타내고, R³ 은 수소원자 또는 C1-C6 알킬기를 나타내고; R⁴ 는 할로겐원자, C1-C3 알킬기, C1-C3 알콕시기, C1-C3 할로알킬기 또는 C1-C3 할로알콕시기를 나타내고, m 은 0∼4 의 정수를 나타내고, m 이 2∼4 의 정수를 나타내는 경우에는 각각의 R⁴ 는 동일하거나 상이해도 되고; R⁵ 는 할로겐원자, C1-C3 알킬기, C1-C3 알콕시기, C1-C3 할로알킬기 또는 C1-C3 할로알콕시기를 나타내고, n 은 0∼4 의 정수를 나타내고, n 이 2∼4 의 정수를 나타내는 경우에는 각각의 R⁵ 는 동일하거나 상이해도 되고; R⁶ 및 R⁷ 은 동일 또는 상이하고, 수소원자, 할로겐원자 또는 메틸기를 나타내고, X 는 산소원자 또는 R⁸O-N 으로 표시되는 기를 나타내고, R⁸ 은 수소원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기, C3-C6 알케닐기, C3-C6 할로알케닐기, C3-C6 알키닐기, C3-C6 할로알키닐기, C2-C5 시아노알킬기 또는 벤질기 (상기 벤질기는 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기, C2-C5 알콕시카르보닐기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 된다) 를 나타낸다]

로 표시되는 피라졸 화합물 (이하, 본 발명 화합물이라고 한다), 본 발명 화합물을 함유하는 유해 절지동물 방제 조성물, 및 본 발명 화합물의 유효량을 유해 절지동물 또는 유해 절지동물의 서식지에 시용하는 것을 특징으로 하는 유해 절지동물의 방제방법을 제공한다.

본 발명은 또한, 본 발명 화합물의 제조중간체로서 유용한 식 (b)

[식 중, R¹ 은 C1-C4 알킬기 또는 트리플루오로메틸기를 나타내고, R² 는 C1-C4 알킬기를 나타내고, R³ 은 수소원자 또는 C1-C6 알킬기를 나타내고; R⁴ 는 할로겐원자, C1-C3 알킬기, C1-C3 알콕시기 또는 트리플루오로메틸기를 나타내고, m 은 0∼4 의 정수를 나타내고, m 이 2∼4 의 정수를 나타내는 경우에는 각각의 R⁴ 는 동일하거나 상이해도 되고;

R⁵ 는 할로겐원자, C1-C3 알킬기, C1-C3 알콕시기 또는 트리플루오로메틸기를 나타내고, n 은 0∼4 의 정수를 나타내고, n 이 2∼4 의 정수를 나타내는 경우에는 각각의 R⁵ 는 동일하거나 상이해도 되고;

X 는 산소원자 또는 R⁸O-N 으로 표시되는 기를 나타내고, R⁸ 은 수소원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기, C3-C6 알케닐기, C3-C6 할로알케닐기, C3-C6 알키닐기, C3-C6 할로알키닐기, C2-C5 시아노알킬기 또는 벤질기 (상기 벤질기는 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기, C2-C5 알콕시카르보닐기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 된다) 를 나타낸다]

로 표시되는 화합물도 제공한다.

본 발명 화합물에 있어서, R¹, R², R³, R⁴, R⁵, R⁶, R⁷ 또는 R⁸로 표시되는 각 치환기로서는, 하기에 나타내는 치환기가 구체적으로 예시된다.

R¹로 표시되는 C1-C4 알킬기란, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기 및 tert-부틸기이다.

R²로 표시되는 C1-C4 알킬기는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, 및 tert-부틸기이다.

R³으로 표시되는 C1-C6 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 3-메틸부틸기, 2,2-디메틸프로필기, 1,1-디메틸프로필기, 1-에틸프로필기, 헥실기, 5-메틸펜틸기, 2-에틸부틸기, 3-메틸펜틸기, 및 1,3-디메틸부틸기를 들 수 있다.

R⁴ 및 R⁵로 표시되는 할로겐원자란, 불소원자, 염소원자, 브롬원자, 및 요드원자이고 ;

C1-C3 알킬기는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 및 이소프로필기이고 ;

C1-C3 알콕시기는, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 이소프로폭시기이고 ;

C1-C3 할로알킬기로서는, 트리플루오로메틸기, 2-플루오로에틸기, 2,2,2-트리플루오로에틸기, 3,3,3-트리플루오로프로필기, 2-클로로에틸기, 및 3-브로모프로필기를 들 수 있고;

C1-C3 할로알콕시기로서는, 트리플루오로알콕시기, 2,2,2-트리플루오로에톡시기, 및 3,3,3-트리플루오로프로폭시기를 들 수 있다.

R⁶으로 표시되는 할로겐원자란, 불소원자, 염소원자, 브롬원자, 및 요드원자이고 ;

R⁷로 표시되는 할로겐원자란, 예를 들어 불소원자, 염소원자, 브롬원자, 및 요드원자이다.

R⁸로 표시되는 C1-C6 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 네오펜틸기, tert-펜틸기, 1-메틸부틸기, 1,2-디메틸프로필기 및 헥실기를 들 수 있고;

C1-C6 할로알킬기로서는, 플루오로메틸기, 2-플루오로에틸기, 2,2,2-트리플루오로에틸기, 3,3,3-트리플루오로프로필기, 4,4,4-트리플루오로부틸기, 5,5,5-트리플루오로펜틸기, 2-클로로에틸기, 3-클로로프로필기, 3-브로모프로필기, 4-클로로부틸기, 4-브로모부틸기, 4-클로로펜틸기, 및 4-브로모펜틸기를 들 수 있고;

C3-C6 알케닐기로서는, 알릴기, 2-메틸-2-프로페닐기, 3-메틸-2-부테닐기, 2-부테닐기, 3-부테닐기, 2-펜테닐기, 3-펜테닐기, 2-헥세닐기, 및 3-헥세닐기를 들 수 있고;

C3-C6 할로알케닐기로서는, 3-클로로-2-프로페닐기, 3,3-디클로로-2-프로페닐기, 3-브로모-2-프로페닐기, 3,3-디브로모-2-프로페닐기, 2-클로로-2-프로페닐기, 2-브로모-2-프로페닐기, 2-플루오로-2-프로페닐기, 2,3-디클로로-2-프로페닐기, 2,3-디브로모-2-프로페닐기, 3-클로로-2-부테닐기, 3-클로로-4,4,4-트리플루오로-2-부테닐기, 4-클로로-2-부테닐기, 4-브로모-2-부테닐기, 및 2,3,3-트리플루오로-2-프로페닐기를 들 수 있고;

C3-C6 알키닐기로서는, 2-프로피닐기, 2-부티닐기, 2-펜티닐기, 3-부티닐기, 및 1-메틸-2-프로피닐기를 들 수 있고;

C3-C6 할로알키닐기로서는, 3-클로로-2-프로피닐기, 4-클로로-3-부티닐기, 5-클로로-4-펜티닐기, 6-클로로-5-헥시닐기, 3-브로모-2-프로피닐기, 4-브로모-3-부티닐기, 5-브로모-4-펜티닐기, 및 6-브로모-5-헥시닐기를 들 수 있고;

C2-C5 시아노알킬기로서는, 시아노메틸기, 2-시아노에틸기, 3-시아노프로필기, 및 4-시아노부틸기를 들 수 있고;

할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기, C2-C5 알콕시카르보닐기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 되는 벤질기로서는, 벤질기, 2-플루오로벤질기, 3-플루오로벤질기, 4-플루오로벤질기, 2-클로로벤질기, 3-클로로벤질기, 4-클로로벤질기, 2-브로모벤질기, 3-브로모벤질기, 4-브로모벤질기, 2,3-디클로로벤질기, 3,5-디클로로벤질기, 2,4-디클로로벤질기, 2-메틸벤질기, 3-메틸벤질기, 4-메틸벤질기, 2,3-디메틸벤질기, 3,5-디메틸벤질기, 2,4-디메틸벤질기, 2-메톡시벤질기, 3-메톡시벤질기, 4-메톡시벤질기, 2,3-디메톡시벤질기, 3,5-디메톡시벤질기, 2,4-디메톡시벤질기, 4-메톡시카르보닐벤질기, 4-에톡시카르보닐벤질기, 4-프로폭시카르보닐벤질기, 4-트리플루오로메틸벤질기, 및 4-트리플루오로메톡시벤질기를 들 수 있다.

본 발명 화합물의 태양으로서는, 예를 들어 이하의 것을 들 수 있다.

식 (a) 에 있어서 R¹ 이 메틸기인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R¹ 이 에틸기인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R¹ 이 트리플루오로메틸기인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R² 가 메틸기인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 메틸기인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 m 이 0 인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 n 이 0 인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R⁶ 이 염소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R⁶ 및 R⁷ 이 염소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R¹ 이 메틸기이고, R² 가 메틸기인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R¹ 이 에틸기이고, R² 가 메틸기인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R¹ 이 트리플루오로메틸기이고, R² 가 메틸기인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R¹ 이 메틸기이고, R⁶ 이 염소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R¹ 이 에틸기이고, R⁶ 이 염소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R¹ 이 트리플루오로메틸기이고, R⁶ 이 염소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R¹ 이 메틸기이고, R⁶ 및 R⁷ 이 염소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R¹ 이 에틸기이고, R⁶ 및 R⁷ 이 염소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R¹ 이 트리플루오로메틸기이고, R⁶ 및 R⁷ 이 염소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R¹ 이 메틸기이고, R² 가 메틸기이고, R⁶ 이 염소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R¹ 이 에틸기이고, R² 가 메틸기이고, R⁶ 이 염소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R¹ 이 트리플루오로메틸기이고, R² 가 메틸기이고, R⁶ 이 염소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R¹ 이 메틸기이고, R² 가 메틸기이고, R⁶ 및 R⁷ 이 염소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R¹ 이 에틸기이고, R² 가 메틸기이고, R⁶ 및 R⁷ 이 염소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R¹ 이 트리플루오로메틸기이고, R² 가 메틸기이고, R⁶ 및 R⁷ 이 염소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R¹ 이 메틸기이고, R² 가 메틸기이고, R³ 이 수소원자이고, R⁶및 R⁷ 이 염소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R¹ 이 에틸기이고, R² 가 메틸기이고, R³ 이 수소원자이고, R⁶및 R⁷ 이 염소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R¹ 이 트리플루오로메틸기이고, R² 가 메틸기이고, R³ 이 수소원자이고, R⁶ 및 R⁷ 이 염소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R¹ 이 메틸기이고, R² 가 메틸기이고, R³ 이 메틸기이고, R⁶ 및 R⁷ 이 염소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R¹ 이 에틸기이고, R² 가 메틸기이고, R³ 이 메틸기이고, R⁶ 및 R⁷ 이 염소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R¹ 이 트리플루오로메틸기이고, R² 가 메틸기이고, R³ 이 메틸기이고, R⁶ 및 R⁷ 이 염소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R¹ 이 메틸기이고, R² 가 메틸기이고, m 이 0 이고, n 이 0 인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서, R¹ 이 에틸기이고, R² 가 메틸기이고, m 이 0 이고, n 이 0 인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R¹ 이 트리플루오로메틸기이고, R² 가 메틸기이고, m 이 0 이고, n 이 0 인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R¹ 이 메틸기이고, R² 가 메틸기이고, m 이 0 이고, n 이 0 이고, R⁶ 이 염소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R¹ 이 에틸기이고, R² 가 메틸기이고, m 이 0 이고, n 이 0 이고, R⁶ 이 염소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R¹ 이 트리플루오로메틸기이고, R² 가 메틸기이고, m 이 0 이고, n 이 0 이고, R⁶ 이 염소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R² 가 메틸기이고, R⁶ 이 염소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R² 가 메틸기이고, R⁶ 및 R⁷ 이 염소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R² 가 메틸기이고, m 이 0 이고, n 이 0 인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R² 가 메틸기이고, m 이 0 이고, n 이 0 이고, R⁶ 이 염소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R² 가 메틸기이고, m 이 0 이고, n 이 0 이고, R⁶ 및 R⁷ 이 염소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 m 이 0 이고, n 이 0 인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 m 이 0 이고, n 이 0 이고, R⁶ 이 염소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 m 이 0 이고, n 이 0 이고, R⁶ 및 R⁷ 이 염소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 C1-C6 알킬기인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 수소원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기, C3-C6 알케닐기, C3-C6 할로알케닐기, C3-C6 알키닐기, C3-C6 할로알키닐기, C2-C5 시아노알킬기 또는 벤질기 (상기 벤질기는 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기, C2-C5 알콕시카르보닐기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 된다) 인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 수소원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기, C3-C6 알케닐기, C3-C6 할로알케닐기, C3-C6 알키닐기, C3-C6 할로알키닐기 또는 C2-C5 시아노알킬기인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 벤질기 (상기 벤질기는 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기, C2-C5 알콕시카르보닐기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 된다) 인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 X 가 산소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자이고, X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 수소원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기, C3-C6 알케닐기, C3-C6 할로알케닐기, C3-C6 알키닐기, C3-C6 할로알키닐기, C2-C5 시아노알킬기 또는 벤질기 (상기 벤질기는 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기, C2-C5 알콕시카르보닐기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 된다) 인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자이고, X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 수소원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기, C3-C6 알케닐기, C3-C6 할로알케닐기, C3-C6 알키닐기, C3-C6 할로알키닐기 또는 C2-C5 시아노알킬기인 피라졸 화합물; 식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자이고, X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 벤질기 (상기 벤질기는 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기, C2-C5 알콕시카르보닐기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 된다) 인 피라졸 화합물; 식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자이고, X 가 산소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자이고, X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 수소원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기, C3-C6 알케닐기, C3-C6 할로알케닐기, C3-C6 알키닐기, C3-C6 할로알키닐기, C2-C5 시아노알킬기 또는 벤질기 (상기 벤질기는 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기, C2-C5 알콕시카르보닐기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 된다) 이고, R⁴ 및 R⁵가 할로겐원자, C1-C3 알킬기, C1-C3 알콕시기 또는 트리플루오로메틸기이고, m 및 n 이 0∼2 의 정수인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자이고, X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 수소원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기, C3-C6 알케닐기, C3-C6 할로알케닐기, C3-C6 알키닐기, C3-C6 할로알키닐기 또는 C2-C5 시아노알킬기이고, R⁴ 및 R⁵ 가 할로겐원자, C1-C3 알킬기, C1-C3 알콕시기 또는 트리플루오로메틸기이고, m 및 n 이 0∼2 의 정수인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자이고, X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 벤질기 (상기 벤질기는 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기, C2-C5 알콕시카르보닐기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 된다) 이고, R⁴ 및 R⁵ 가 할로겐원자, C1-C3 알킬기, C1-C3 알콕시기 또는 트리플루오로메틸기이고, m 및 n 이 0∼2 의 정수인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자이고, X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 수소원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기, C3-C6 알케닐기, C3-C6 할로알케닐기, C3-C6 알키닐기, C3-C6 할로알키닐기 또는 C2-C5 시아노알킬기이고, R⁴ 및 R⁵ 가 수소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자이고, X 가 산소원자이고, R⁴ 및 R⁵ 가 할로겐원자, C1-C3 알킬기, C1-C3 알콕시기 또는 트리플루오로메틸기이고, m 및 n 이 0∼2 의 정수인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자이고, R⁶ 이 할로겐원자이고, X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 수소원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기, C3-C6 알케닐기, C3-C6 할로알케닐기, C3-C6 알키닐기, C3-C6 할로알키닐기, C2-C5 시아노알킬기 또는 벤질기 (상기 벤질기는 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기, C2-C5 알콕시카르보닐기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 된다) 인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자이고, R⁶ 이 할로겐원자이고, X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 수소원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기, C3-C6 알케닐기, C3-C6 할로알케닐기, C3-C6 알키닐기, C3-C6 할로알키닐기 또는 C2-C5 시아노알킬기인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자이고, R⁶ 이 할로겐원자이고, X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 벤질기 (상기 벤질기는 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기, C2-C5 알콕시카르보닐기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 된다) 인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자이고, R⁶ 이 할로겐원자이고, X 가 산소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자이고, R⁶ 및 R⁷ 이 할로겐원자이고, X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 수소원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기, C3-C6 알케닐기, C3-C6 할로알케닐기, C3-C6 알키닐기, C3-C6 할로알키닐기, C2-C5 시아노알킬기 또는 벤질기 (상기 벤질기는 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기, C2-C5 알콕시카르보닐기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 된다) 인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자이고, R⁶ 및 R⁷ 이 할로겐원자이고, X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 수소원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기, C3-C6 알케닐기, C3-C6 할로알케닐기, C3-C6 알키닐기, C3-C6 할로알키닐기 또는 C2-C5 시아노알킬기인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자이고, R⁶ 및 R⁷ 이 할로겐원자이고, X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 벤질기 (상기 벤질기는 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기, C2-C5 알콕시카르보닐기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 된다) 인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자이고, R⁶ 및 R⁷ 이 할로겐원자이고, X 가 산소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자이고, X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 수소원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기, C3-C6 알케닐기, C3-C6 할로알케닐기, C3-C6 알키닐기, C3-C6 할로알키닐기, C2-C5 시아노알킬기 또는 벤질기 (상기 벤질기는 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기, C2-C5 알콕시카르보닐기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 된다) 이고, R¹ 이 메틸기인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자이고, X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 수소원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기, C3-C6 알케닐기, C3-C6 할로알케닐기, C3-C6 알키닐기, C3-C6 할로알키닐기, C2-C5 시아노알킬기 또는 벤질기 (상기 벤질기는 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기, C2-C5 알콕시카르보닐기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 된다) 이고, R¹ 이 에틸기인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자이고, X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 수소원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기, C3-C6 알케닐기, C3-C6 할로알케닐기, C3-C6 알키닐기, C3-C6 할로알키닐기, C2-C5 시아노알킬기 또는 벤질기 (상기 벤질기는 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기, C2-C5 알콕시카르보닐기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 된다) 이고, R¹ 이 트리플루오로메틸기인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자이고, X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 수소원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기, C3-C6 알케닐기, C3-C6 할로알케닐기, C3-C6 알키닐기, C3-C6 할로알키닐기, C2-C5 시아노알킬기 또는 벤질기 (상기 벤질기는 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기, C2-C5 알콕시카르보닐기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 된다) 이고, R² 가 메틸기인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자이고, X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 수소원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기, C3-C6 알케닐기, C3-C6 할로알케닐기, C3-C6 알키닐기, C3-C6 할로알키닐기, C2-C5 시아노알킬기 또는 벤질기 (상기 벤질기는 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기, C2-C5 알콕시카르보닐기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 된다) 이고, R³ 이 수소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자이고, X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 수소원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기, C3-C6 알케닐기, C3-C6 할로알케닐기, C3-C6 알키닐기, C3-C6 할로알키닐기, C2-C5 시아노알킬기 또는 벤질기 (상기 벤질기는 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기, C2-C5 알콕시카르보닐기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 된다) 이고, R³ 이 메틸기인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자이고, X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 수소원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기, C3-C6 알케닐기, C3-C6 할로알케닐기, C3-C6 알키닐기, C3-C6 할로알키닐기, C2-C5 시아노알킬기 또는 벤질기 (상기 벤질기는 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기, C2-C5 알콕시카르보닐기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 된다) 이고, m 이 0 인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 n 이 0 인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자이고, X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 수소원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기, C3-C6 알케닐기, C3-C6 할로알케닐기, C3-C6 알키닐기, C3-C6 할로알키닐기, C2-C5 시아노알킬기 또는 벤질기 (상기 벤질기는 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기, C2-C5 알콕시카르보닐기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 된다) 이고, R⁶ 이 염소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자이고, X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 수소원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기, C3-C6 알케닐기, C3-C6 할로알케닐기, C3-C6 알키닐기, C3-C6 할로알키닐기, C2-C5 시아노알킬기 또는 벤질기 (상기 벤질기는 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기, C2-C5 알콕시카르보닐기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 된다) 이고, R⁶ 및 R⁷이 염소원자인 피라졸화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자이고, X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 수소원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기, C3-C6 알케닐기, C3-C6 할로알케닐기, C3-C6 알키닐기, C3-C6 할로알키닐기, C2-C5 시아노알킬기 또는 벤질기 (상기 벤질기는 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기, C2-C5 알콕시카르보닐기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 된다) 이고, R¹ 이 메틸기이고, R² 가 메틸기인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자이고, X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 수소원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기, C3-C6 알케닐기, C3-C6 할로알케닐기, C3-C6 알키닐기, C3-C6 할로알키닐기, C2-C5 시아노알킬기 또는 벤질기 (상기 벤질기는 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기, C2-C5 알콕시카르보닐기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 된다) 이고, R¹ 이 에틸기이고, R² 가 메틸기인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자이고, X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 수소원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기, C3-C6 알케닐기, C3-C6 할로알케닐기, C3-C6 알키닐기, C3-C6 할로알키닐기, C2-C5 시아노알킬기 또는 벤질기 (상기 벤질기는 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기, C2-C5 알콕시카르보닐기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 된다) 이고, R¹ 이 트리플루오로메틸기이고, R² 가 메틸기인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자이고, X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 수소원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기, C3-C6 알케닐기, C3-C6 할로알케닐기, C3-C6 알키닐기, C3-C6 할로알키닐기, C2-C5 시아노알킬기 또는 벤질기 (상기 벤질기는 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기, C2-C5 알콕시카르보닐기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 된다) 이고, R¹ 이 메틸기이고, R² 가 메틸기이고, R³ 이 수소원자이고, R⁶ 및 R⁷ 이 염소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자이고, X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 수소원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기, C3-C6 알케닐기, C3-C6 할로알케닐기, C3-C6 알키닐기, C3-C6 할로알키닐기, C2-C5 시아노알킬기 또는 벤질기 (상기 벤질기는 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기, C2-C5 알콕시카르보닐기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 된다) 이고, R¹ 이 트리플루오로메틸기이고, R² 가 메틸기이고, R³ 이 수소원자이고, R⁶ 및 R⁷ 이 염소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자이고, X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 수소원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기, C3-C6 알케닐기, C3-C6 할로알케닐기, C3-C6 알키닐기, C3-C6 할로알키닐기, C2-C5 시아노알킬기 또는 벤질기 (상기 벤질기는 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기, C2-C5 알콕시카르보닐기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 된다) 이고, R¹ 이 메틸기이고, R² 가 메틸기이고, R³ 이 메틸기이고, R⁶ 및 R⁷ 이 염소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자이고, X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 수소원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기, C3-C6 알케닐기, C3-C6 할로알케닐기, C3-C6 알키닐기, C3-C6 할로알키닐기, C2-C5 시아노알킬기 또는 벤질기 (상기 벤질기는 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기, C2-C5 알콕시카르보닐기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 된다) 이고, R¹ 이 트리플루오로메틸기이고, R² 가 메틸기이고, R³ 이 메틸기이고, R⁶ 및 R⁷ 이 염소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자이고, X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 수소원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기, C3-C6 알케닐기, C3-C6 할로알케닐기, C3-C6 알키닐기, C3-C6 할로알키닐기, C2-C5 시아노알킬기 또는 벤질기 (상기 벤질기는 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기, C2-C5 알콕시카르보닐기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 된다) 이고, m 이 0 이고, n 이 0 인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자이고, X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 수소원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기, C3-C6 알케닐기, C3-C6 할로알케닐기, C3-C6 알키닐기, C3-C6 할로알키닐기, C2-C5 시아노알킬기 또는 벤질기 (상기 벤질기는 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기, C2-C5 알콕시카르보닐기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 된다) 이고, m 이 0 이고, n 이 0 이고, R⁶ 이 염소원자인 피라졸 화합물;

식 (a) 에 있어서 R³ 이 수소원자이고, X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 수소원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기, C3-C6 알케닐기, C3-C6 할로알케닐기, C3-C6 알키닐기, C3-C6 할로알키닐기, C2-C5 시아노알킬기 또는 벤질기 (상기 벤질기는 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기, C2-C5 알콕시카르보닐기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 된다) 이고, m 이 0 이고, n 이 0 이고, R⁶ 및 R⁷ 이 염소원자인 피라졸 화합물.

본 발명 화합물은, 예를 들면 이하의 (제조법 1)∼(제조법 4) 에 의해 제조할 수 있다.

(제조법 1)

식 (b)

[식 중, R¹, R², R³, R⁴, R⁵, X, m 및 n 은 상기와 동일한 의미를 나타낸다].

로 표시되는 화합물을, 식 (e)

L-CH₂CH=C(R⁶)(R⁷) (e)

[식 중, R⁶ 및 R⁷ 은 상기와 동일한 의미를 나타내고, L 은 할로겐원자 (예를 들어, 염소원자 또는 브롬원자 등), 메탄술포닐옥시기, 벤젠술포닐옥시기, 톨루엔술포닐옥시기를 나타낸다].

로 표시되는 화합물과 반응시켜, 본 발명 화합물을 얻는다.

상기 반응은, 염기의 존재 하, 통상은 용매 속에서 행하여진다. 반응온도는, 통상 -78℃∼150℃ 의 범위이고, 반응시간은 0.1∼24시간의 범위이다.

상기 반응에 사용되는 용매로서는, 예를 들어 아세톤, 메틸에틸케톤 등의 케톤, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소, 헥산, 헵탄 등의 지방족 탄화수소, 디에틸에테르, 테트라히드로푸란, 1,4-디옥산, 1,2-디메톡시에탄, 1,2-디에톡시에탄 등의 에테르, 염화메틸렌, 클로로포름, 1,2-디클로로에탄, 클로로벤젠, 디클로로벤젠 등의 할로겐화 탄화수소, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 등의 아미드, 아세토니트릴 등의 니트릴, 디메틸술폭시드, 또는 이것들의 혼합물을 들 수 있다.

상기 반응에 사용되는 염기로서는, 예를 들어, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화칼슘 등의 알칼리금속, 또는 알칼리 토금속의 수산화물, 수소화나트륨, 수소화칼륨, 수소화칼슘 등의 알칼리금속 또는 알칼리 토금속의 수소화물, 탄산나트륨, 탄산칼륨 등의 무기염기, 트리에틸아민 등의 유기염기를 들 수 있다.

식 (b) 로 표시되는 화합물 1몰에 대하여, 식 (e) 로 표시되는 화합물은 통상 1∼3몰의 비율, 염기는 통상 1∼3몰의 비율로 사용된다.

반응종료 후에는, 반응혼합물을 물에 부어, 유기용매로 추출하고, 그 유기층을 건조, 농축하는 등의 후처리 조작을 실행함으로써, 본 발명 화합물을 단리할 수 있다. 단리된 본 발명 화합물은 재결정화, 칼럼 크로마토그래피 등에 의해 더욱 정제할 수 있다.

(제조법 2)

식 (c)

[식 중, R¹, R², R³, R⁴, R⁵, R⁶, R⁷, m 및 n 은 상기와 동일한 의미를 나타낸다].

로 표시되는 화합물을, 식 (d)

R⁸O-NH₂ (d)

[식 중, R⁸ 은 상기와 동일한 의미를 나타낸다].

로 표시되는 히드록실아민화합물의 그 자체 또는 그의 염 (염산염, 황산염, 질산염 등) 과 반응시켜, 식 (a) 에 있어서의 X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기인 본 발명 화합물을 얻는다.

상기 반응은, 염기의 존재 하, 통상 용매속에서 행하여진다. 반응온도는, 통상 -78℃∼150℃ 의 범위이고, 반응시간은 0.1∼24시간의 범위이다.

상기 반응에 사용되는 용매로서는, 예를 들어 메탄올, 에탄올 등의 알코올, 벤젠, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소, 헥산, 헵탄 등의 지방족 탄화수소, 디에틸에테르, 테트라히드로푸란, 1,4-디옥산, 1,2-디메톡시에탄, 1,2-디에톡시에탄 등의 에테르, 염화메틸렌, 클로로포름, 1,2-디클로로에탄, 클로로벤젠, 디클로로벤젠 등의 할로겐화 탄화수소, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 등의 아미드, 디메틸술폭시드, 물 또는 이것들의 혼합물을 들 수 있다.

상기 반응에 사용되는 염기로서는, 예를 들어 수소화나트륨, 수소화칼륨, 수소화칼슘 등의 알칼리금속 또는 알칼리 토금속의 수소화물, 탄산나트륨, 탄산칼륨 등의 무기염기, 트리에틸아민, 피리딘 등의 유기염기를 들 수 있다.

식 (d) 로 표시되는 히드록실아민 화합물 그 자체를 과잉으로 사용함으로써, 염기가 불필요하게 되는 경우도 있다.

식 (c) 로 표시되는 화합물 1몰에 대하여, 식 (d) 로 표시되는 히드록실아민 화합물 그 자체 또는 그의 염은 통상 1∼3몰의 비율, 염기는 통상 1∼10몰의 비율로 사용된다.

반응종료 후에는, 반응혼합물을 물에 부어, 유기용매로 추출하고, 그 유기층을 건조, 농축하는 등의 후처리조작을 실행함으로써, 식 (a) 에 있어서의 X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기인 본 발명 화합물을 단리할 수 있다. 단리된 본 발명 화합물은 재결정화, 칼럼 크로마토그래피 등에 의해 더욱 정제할 수 있다.

(제조법 3)

식 (f)

로 표시되는 화합물을, 식 (g)

L-R⁸ (g)

[식 중, R⁸ 은 상기와 동일한 의미를 나타내고, L 은 할로겐원자 (예를 들어, 염소원자 또는 브롬원자 등), 메탄술포닐옥시기, 벤젠술포닐옥시기, 톨루엔술포닐옥시기를 나타낸다].

로 표시되는 화합물과 반응시켜, 식 (a) 에 있어서 X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기인 본 발명 화합물을 얻는다.

반응에 사용되는 용매로서는, 예를 들어 아세톤, 메틸에틸케톤 등의 케톤, 벤젠, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소, 헥산, 헵탄등의 지방족 탄화수소, 디에틸에테르, 테트라히드로푸란, 1,4-디옥산, 1,2-디메톡시에탄, 1,2-디에톡시에탄 등의 에테르, 클로로벤젠, 디클로로벤젠 등의 할로겐화 탄화수소, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 등의 아미드, 아세토니트릴 등의 니트릴, 디메틸술폭시드 또는 이것들의 혼합물 등을 들 수 있다.

상기 반응에 사용되는 염기로서는, 예를 들어 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화칼슘 등의 알칼리금속, 또는 알칼리 토금속의 수산화물, 수소화나트륨, 수소화칼륨, 수소화칼슘 등의 알칼리금속 또는 알칼리 토금속의 수소화물, 탄산나트륨, 탄산칼륨 등의 무기염기, 트리에틸아민 등의 유기염기를 들 수 있다.

식 (f) 로 표시되는 화합물 1몰에 대하여, 식 (g) 로 표시되는 화합물은 통상 1∼1.5몰의 비율, 염기는 통상 1∼1.2몰의 비율로 사용된다.

반응종료 후에는, 반응혼합물을 물에 부어, 유기용매 추출하고, 그 유기층을 건조, 농축하는 등의 후처리조작을 실행함으로써, 식 (a) 에 있어서의 X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기인 본 발명 화합물을 단리할 수 있다. 단리된 본 발명 화합물은 재결정화, 칼럼 크로마토그래피 등에 의해 더욱 정제할 수 있다.

(제조법 4)

식 (h)

[식 중, R¹, R² 및 R³ 은 상기와 동일한 의미를 나타낸다].

로 표시되는 화합물을, 식 (k)

[식 중, R⁴, R⁵, R⁶, R⁷, m 및 n 은 상기와 동일한 의미를 나타낸다].

로 표시되는 화합물과 반응시켜, 식 (a) 에 있어서의 X 가 산소원자인 본 발명 화합물을 얻는다.

상기 반응은, 염기의 존재 하, 통상 용매속에서 행하여진다. 반응온도는, 통상 -78∼150℃ 의 범위이고, 반응시간은 0.1∼24 시간의 범위이다.

상기 반응에 사용되는 용매로서는, 예를 들어 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소, 헥산, 헵탄 등의 지방족 탄화수소, 디에틸에테르, 테트라히드로푸란, 1,4-디옥산, 1,2-디메톡시에탄, 1,2-디에톡시에탄 등의 에테르, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 등의 아미드, 디메틸술폭시드, 또는 이것들의 혼합물 등을 들 수 있다.

식 (h) 로 표시되는 화합물 1몰에 대하여, 식 (k) 로 표시되는 화합물은 통상 0.5∼3몰의 비율, 염기는 통상 1∼3몰의 비율로 사용된다.

반응종료 후에는, 예를 들어 반응혼합물을 물에 부어, 유기용매로 추출하여, 유기층을 건조, 농축하는 등의 후처리조작을 실행함으로써, 식 (a) 에 있어서의 X 가 산소원자인 본 발명 화합물을 단리할 수 있다. 단리된 식 (a) 에 있어서의 X 가 산소원자인 본 발명 화합물은 재결정화, 칼럼 크로마토그래피 등에 의해 더욱 정제할 수 있다.

다음으로, 본 발명의 중간체의 제조법에 관해서 설명한다.

식 (b-2)

[식 중, R¹, R², R³, R⁴, R⁵, R⁸, m 및 n 은 상기와 동일한 의미를 나타낸다].

로 표시되는 화합물은, 예를 들어 식 (b-1)

[식 중, R¹, R², R³, R⁴, R⁵, m 및 n 은 상기와 동일한 의미를 나타낸다].

로 표시되는 화합물을, 식 (d) 로 표시되는 히드록실아민 화합물의 그 자체 또는 그의 염 (염산염, 황산염, 질산염 등) 과 반응시키는 것에 의해 제조할 수 있다.

상기 반응은, 염기의 존재 하, 통상 용매속에서 사용할 수 있다. 반응온도는, 통상 -78℃∼150℃ 의 범위이고, 반응시간은 0.1∼24시간의 범위이다.

반응에 사용되는 용매로서는, 예를 들어 메탄올, 에탄올 등의 알코올, 벤젠, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소, 헥산, 헵탄 등의 지방족 탄화수소, 디에틸에테르, 테트라히드로푸란, 1,4-디옥산, 1,2-디메톡시에탄, 1,2-디에톡시에탄 등의 에테르, 염화메틸렌, 클로로포름, 1,2-디클로로에탄, 클로로벤젠, 디클로로벤젠의 할로겐화 탄화수소, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 등의 아미드류, 디메틸술폭시드, 물 또는 이것들의 혼합물을 들 수 있다.

상기 반응에 사용되는 염기로서는, 예를 들어 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화칼슘 등의 알칼리금속, 또는 알칼리 토금속의 수산화물, 수소화나트륨, 수소화칼륨, 수소화칼슘 등의 알칼리금속 또는 알칼리 토금속의 수소화물, 탄산나트륨, 탄산칼륨 등의 무기염기, 트리에틸아민 등의 유기염기를 들 수 있다. 식 (d) 로 표시되는 히드록실아민 화합물 그 자체를 과잉으로 사용하는 것에 의해, 염기가 불필요하게 되는 경우도 있다.

식 (b-1) 로 표시되는 화합물 1몰에 대하여, 식 (d) 로 표시되는 히드록실아민 화합물 그 자체 또는 그의 염은 통상 1∼3몰의 비율이고, 염기는 통상 1∼10몰의 비율로 사용된다.

반응종료 후에는, 예를 들어 반응혼합물을 물에 부어, 유기용매로 추출하고, 그 유기층을 건조, 농축하는 등의 후처리조작을 실행함으로써, 식 (b-2) 로 표시되는 본 발명 화합물을 단리할 수 있다. 단리된 식 (b-2) 로 표시되는 화합물은 재결정화, 칼럼 크로마토그래피 등에 의해 더욱 정제할 수 있다.

식 (b-1) 로 표시되는 화합물은, 예를 들어 식 (h) 로 표시되는 화합물을, 식 (i)

[식 중, R⁴, R⁵, m 및 n 은 상기와 동일한 의미를 나타낸다].

로 표시되는 화합물과 반응시키는 것에 의해 제조할 수 있다.

상기 반응은, 염기의 존재 하, 통상 용매속에서 행하여진다. 반응온도는 통상 -78℃∼150℃ 의 범위이고, 반응시간은 0.1∼24시간의 범위이다.

상기 반응에 사용되는 염기로서는, 예를 들어, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화칼슘 등의 알칼리금속, 또는 알칼리 토금속의 수산화물, 수소화나트륨, 수소화칼륨, 수소화칼슘 등의 알칼리금속 또는 알칼리 토금속의 수소화물, 탄산나트륨, 탄산칼륨 등의 무기염기, 트리에틸아민 등의 유기염기 등을 들 수 있다.

식 (h) 로 표시되는 화합물 1몰에 대하여, 식 (i) 로 표시되는 화합물은 통상 0.5∼3몰의 비율, 염기는 통상 1∼3몰의 비율로 사용된다.

반응종료 후에는, 예를 들어 반응혼합물을 물에 부어, 유기용매로 추출하여, 유기층을 건조, 농축하는 등의 후처리조작을 실행함으로써, 식 (b-1) 로 표시되는 화합물을 단리할 수 있다. 단리된 식 (b-1) 로 표시되는 화합물은 재결정화, 칼럼 크로마토그래피 등에 의해 더욱 정제할 수 있다.

또한, 식 (i) 로 표시되는 화합물중의 2개의 페놀성 수산기 중 하나를 적절한 보호기 (예를 들어, 벤질기, tert-부틸디메틸실릴기 및 메톡시메틸기) 로 보호한 화합물을 사용하여, 상기의 반응을 한 후에, 그 보호기를 탈보호함으로써, 식 (b-1) 로 표시되는 화합물을 제조할 수도 있다.

이하에 본 발명 화합물의 구체예를 나타낸다.

화학식 I 내지 XXXXXIII 에서의 각각의 R¹, R² 및 X 는 표 1 및 표 2 에 기재된 조합 중 임의의 것이다.

[표 2]

본 발명 화합물이 효력을 갖는 유해 절지동물로서는, 예를 들어 유해 곤충류나 유해 진드기류, 구체적으로는 예를 들어 이하의 것을 들 수 있다.

반시목해충:

애멸구 (Laodelphax striatellus), 벼멸구 (Nilaparvata lugens), 흰등멸구 (Sogatella furcifera) 등의 멸구류,

끝동매미충 (Nephotettix cincticeps), 두점끝동매미충 (Nephotettix virescens) 등의 매미충류,

목화진딧물 (Aphis gossypii), 복숭아혹진딧물 (Myzus persicae) 등의 진딧물류,

풀색노린재 (Nezara antennata), 톱다리개미허리노린재 (Riptortus clavetus) 등의 노린재류,

온실가루이 (Trialeurodes vaporariorum), 은잎가루이 (Bemisia argentifolii) 등의 가루이류,

귤붉은깍지벌레 (Aonidiella aurantii), 샌호제깍지벌레 (Comstockaspis perniciosa), 시트라스 스노우 스케일 (Unaspis citri), 루비깍지벌레 (Ceroplastes rubens), 이세리야깍지벌레 (Icerya purchasi) 등의 깍지벌레류,

노린재류,

나무이류 등.

인시목해충:

이화명나방 (Chilo suppressalis), 혹명나방 (Cnaphalocrocis medinalis), 목화명나방 (Notarcha derogata), 화랑곡나방 (Plodia interpunctel1a) 등의 명나방류,

담배거세미나방 (Spodoptera litura), 멸강나방 (Pseudaletia separata), 트리코플시아속, 헬리오티스속, 헬리코벨파속 등의 밤나방류,

배추흰나비 (Pieris rapae) 등의 흰나비류류,

아독소피에스속, 복숭아순나방 (Grapholita molesta), 코드린가 (Cydia pomonella) 등의 잎말이나방류,

복숭아심식나방 (Carposina niponensis) 등의 심식나방류,

리오네티아속 등의 굴나방류,

리만트리아속, 유프로틱스속 등의 독나방류,

배추좀나방 (Plutella xylostella) 등의 스가류,

목화붉은벌레 (Pectinophora gossypieIla) 등의 뿔나방류,

미국흰불나방 (Hyphantria cunea) 등의 불나방류,

옷좀나방 (Tinea translucens), 티네올라 비셀리에라 (Tineola bisselliella) 등의 곡식좀나방류 등.

쌍시목 해충:

빨간집모기 (Culex pipiens pallens), 작은 빨간집모기 (Culex tritaeniorhynchus), 열대집모기 (Culex quinquefasciatus) 등의 집모기류,

이집트숲모기 (Aedes aegypti), 흰줄숲모기 (Aedes albopictus) 등의 에데스속, 중국얼룩날개모기 (Anopheles sinensis) 등의 얼룩날개모기류,

유스리 모기류, 집파리 (Musca domestica), 왕 큰 집파리 (Muscina stabulans) 등의 집파리류,

흑파리류,

쉬파리류,

딸집파리류,

씨파리 (Deliaplatura), 고자리파리 (Delia antiqua) 등의 꽃파리류,

벼룩파리류,

초파리류,

나방파리류,

파리매류,

등에류,

침파리류,

아메리카잎굴파리류 등.

초시목 해충:

서부옥수수뿌리잎벌레 (Diabrotica virgifera virgifera), 남부옥수수뿌리잎벌레 (Diabrotica undecimpunctata howardi) 등의 옥수수뿌리잎벌레류,

구리풍뎅이 (Anomala cuprea), 오리나무풍뎅이 (Anomala rufocuprea) 등의 풍뎅이류,

어리쌀바구미 (Sitophilus zeamais), 벼물바구미 (Lissorhoptrus oryzophilus), 팥바구미 (Callosobruchuys chienensis) 등의 바구미류,

갈색거저리 (Tenebrio molitor), 거짓쌀도둑거저리 (Tribolium castaneum) 등의 거저리류,

오이잎벌레 (Aulacophora femoralis), 벼룩잎벌레 (Phyl1otreta striolata), 콜로라도잎벌레 (Leptinotarsa decemlineata) 등의 잎벌레류,

권련벌레류, 이십팔점박이무당벌레 (Epilachna vigintioctopunctata)등의 에피라크나류,

넓적나무좀류,

개나무좀류,

장수하늘소류,

청딱지개미반날개 (Paederus fuscipes) 등.

바퀴목 해충:

독일바퀴 (Blattella germanica), 먹바퀴 (Periplaneta fuliginosa), 이질바퀴 (Periplaneta americana), 다갈색바퀴 (Periplaneta brunnea), 잔날개바퀴 (Blatta orientalis) 등.

엉겅퀴말목 해충:

꽃노랑총채벌레 (Thrips palmi), 파총채벌레 (Thrips tabaci), 귤꽃노랑총채벌레 (Frankliniella occidentalis) 등.

막시목 해충:

꼬마개미 등의 개미류,

말벌류,

호리허리벌류,

왜무잎벌 (Athalia japonica) 등의 잎벌류 등.

직시목 해충:

딱따구리류,

메뚜기류 등.

은시목 해충:

고양이벼룩 (Ctenocephalides felis), 개벼룩 (Ctenocephalidescanis), 사람벼룩 (Pulex irritans), 케오피스벼룩 (Xenopsylla cheopis) 등.

이목 해충:

머릿니 (Pediculus humanus corporis), 사면발이 (Phthirus pubis), 소이 (Haematopinus eurysternus), 양이 (Dalmalinia ovis) 등.

흰개미목 해충:

일본흰개미 (Reticulitermes speratus), 집흰개미 (Coptotermes formosanus) 등.

진드기목 해충:

점박이응애 (Tetranychus urticae), 귤응애 (Panonychus citri), 올리고니커스속 등의 응애류, 귤녹응애 (Aculops pelekassi) 등의 마디응애류,

차먼지응애 (Polyphagotarsonemus latus) 등의 먼지응애류,

꼬마응애류,

긴털응애류,

작은소진드기 (Haemaphysalis longicornis), 개피참진드기 (Haemaphysalis flava), 타이완 참진드기 (Dermacentor taiwanicus), 일본참진드기 (Ixodes ovatus), 산림진드기 (Ixodes persulcatus), 꼬리소진드기 (Boophilus microplus), 개진드기 (Rhipicephalus sanguineus) 등의 참진드기류,

털가루진드기 (Tyrophagus putrescentiae)등의 가루진드기류,

북아메리카 집먼지진드기 (Dermatophagoides farinae), 유럽 집먼지진드기 (Dermatophagoides ptrenyssnus) 등의 집먼지진드기류,

짧은빗살발톱진드기 (Cheyletus eruditus), 발톱진드기 (Cheyletus malaccensis), 미나미 발톱진드기 (Cheyletus moorei) 등의 발톱진드기류,

닭진드기류 등.

본 발명의 유해 절지동물 방제 조성물은, 본 발명 화합물과 불활성인 담체를 함유한다. 일반적으로는, 본 발명 화합물과, 고체 담체, 액체 담체, 가스상 담체 및/또는 사료 (유독 사료 기재) 등을 혼합하여, 필요에 따라 계면활성제, 그 밖의 제제용 보조제를 첨가하여 얻어지는 제제이다. 제제로서는, 오일제, 유제, 플로어블제, 수화제, 입제, 분제, 마이크로캡슐제 등의 형태를 들 수 있고, 상기 제제는, 유독 사료, 시트로 가공되어 사용되는 경우도 있다. 본 발명의 유해 절족 방제제로 한다. 본 발명의 유해 절지동물 방제제는, 본 발명 화합물을 통상 0.01∼95중량% 함유한다.

제제화시에 사용되는 고체담체로서는, 예를 들어 점토류 (카올린크레이, 규조토, 벤토나이트, 후바사미 클레이, 산성 백토 등), 합성 함수산화규소, 탤크, 세라믹, 그 밖의 무기광물 (세리사이트, 석영, 황, 활성탄, 탄산칼슘, 수화 실리카 등), 화학 비료 (황산암모늄, 인산암모늄, 질산암모늄, 우레아, 염산암모늄 등) 등의 미분말 및 입상물 등을 들 수 있다.

액체 담체로서는, 예를 들어 물, 알코올류 (메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올, 부탄올, 헥산올, 벤질알코올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 페녹시에탄올 등), 케톤류 (아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논 등), 방향족 탄화수소류 (톨루엔, 자일렌, 에틸벤젠, 도데실벤젠, 페닐자일릴에탄, 메틸나프탈렌 등), 지방족 탄화수소류 (헥산, 시클로헥산, 등유, 경유 등), 에스테르류 (아세트산에틸, 아세트산부틸, 미리스틴산이소프로필, 올레산에틸, 아디프산디이소프로필, 아디프산디이소부틸, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등), 니트릴류 (아세토니트릴, 이소부티로니트릴 등), 에테르류 (디이소프로필에테르, 1,4-디옥산, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에틸, 3-메톡시-3-메틸-1-부탄올 등), 산아미드류 (N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 등), 할로겐화 탄화수소류 (디클로로메탄, 트리클로로에탄, 4염화탄소 등), 술폭시드류 (디메틸술폭시드 등), 탄산프로필렌 및 식물유 (대두유, 면실유 등) 을 들 수 있다.

가스상 담체로서는, 예를 들어 플루오로카본, 부탄가스, LPG (액화 석유 가스), 디메틸에테르 및 탄산 가스를 들 수 있다.

계면활성제로서는, 예를 들어 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌알킬아릴에테르, 폴리에틸렌글리콜지방산에스테르 등의 비이온 계면활성제, 및 알킬술폰산염, 알킬벤젠술폰산염, 알킬황산염 등의 음이온 계면활성제를 들 수 있다.

그 밖의 제제용 보조제로서는, 고착제, 분산제, 착색제 및 안정제 등, 구체적으로는 예를 들어 카세인, 젤라틴, 당류 (전분, 아라비아고무, 셀룰로오스 유도체, 알긴산 등), 리그닌 유도체, 벤토나이트, 합성 수용성 고분자 (폴리비닐알코올, 폴리비닐피롤리돈, 폴리아크릴산류 등), PAP (산성인산이소프로필), BHT (2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀), BHA (2-tert-부틸-4-메톡시페놀과 3-tert-부틸-4-메톡시페놀의 혼합물) 을 들 수 있다.

본 발명의 유해 절지동물 방제법 방법은, 통상, 본 발명 화합물을 유해 절지동물에 직접 및/또는 유해 절지동물의 서식지 (식물체, 토양, 가옥내, 동물체 등) 에 시용함으로써 행하여진다. 본 발명 화합물은 통상, 본 발명의 유해 절지동물 방제제의 형태로 사용된다.

본 발명의 유해 절지동물 방제제를 농업분야의 유해 절지동물 방제에 사용하는 경우, 그 시용량은 10000㎡ 당의 본 발명 화합물량으로 통상 1∼10,000g 이다. 본 발명의 유해 절지동물 방제제가 유제, 수화제, 플로어블제 (flowable agent) 등으로 제제화되어 있는 경우에는, 통상 유효 성분 농도가 0.01∼10000ppm 이 되 도록 물로 희석하여 시용하고, 입제, 분제 등은 통상 그대로 시용한다.

이것들의 제제나 제제의 물 희석액은, 유해 절지동물 또는 유해 절지동물으로부터 보호해야 할 작물 등의 식물에 직접 살포 처리해도 되고, 또한 경작지의 토양에 생식하는 유해 절지동물를 방제하기 위해서, 그 토양에 처리해도 된다.

또한, 시트 형상이나 끈 형상으로 가공한 수지 제제를 작물에 감거나, 작물 근방에 펼치거나, 뿌리의 주변 토양에 뿌리는 등의 방법에 의해 처리할 수도 있다.

본 발명의 유해 절지동물 방제제를 가옥 내에 서식하는 유해 절지동물 (예를 들어, 파리, 모기, 바퀴벌레) 의 방제에 사용하는 경우, 그 시용량은, 면 상에 처리하는 경우에는 처리면적 1㎡ 당 본 발명 화합물량으로 통상 0.01∼1000㎎ 이고, 공간에 처리하는 경우에는 처리공간 1m³ 당 본 발명 화합물량으로 통상 0.01∼500㎎ 이다. 본 발명의 유해 절지동물 방제제가 유제, 수화제, 플로어블제 등으로 제제화되어 있는 경우에는, 통상 유효 성분 농도가 0.1∼1000ppm 이 되도록 물로 희석하여 시용하고, 오일제, 에어졸제, 훈연제, 유독 사료제 등은 그대로 시용한다.

본 발명의 유해 절지동물 방제제에는 다른 유해 절지동물 방제제, 살선충제, 살균제, 제초제, 식물성장조절제, 공력제 (synergist), 비료, 토양개량제, 동물용 사료 등을 함유하고 있어도 된다.

이러한 유해 절지동물 방제제, 살선충제의 유효성분으로서는, 예를 들어 페니트로티온, 페티온, 피리다펜티온, 다이아지논, 클로르피리포스, 클로르피리포스메틸, 아세페이트, 메티다티온, 디술포톤, DDVP, 술프로포스, 시아노포스, 디옥사벤조포스, 디메토에이트, 펜토에이트, 말라티온, 트리클로르폰, 아진포스메틸, 모노크로토포스, 에티온, 프로페노포스, 메틸파라티온, 이속사티온 등의 유기인계화합물, BPMC, 벤프라카르브, 프로폭술, 카르보술판, 카르바릴, 메토밀, 에티오펜카르브, 알디카르브, 옥사밀, 페노티오카르브, 티오디카르브, 알라니카르브 등의 카바메이트계 화합물, 에토펜프록스, 펜발레레이트, 에스펜발레레이트, 펜프로파트린, 시페르메트린, 알파시페르메트린, 제타시페르메트린, 페르메트린, 시할로트린, 람다시할로트린, 델타시할로트린, 시플루트린, 베타시플루트린, 시클로프로트린, 플루발리네이트, 플루시트리네이트, 비펜트린, 아크리나트린, 트랄로메트린, 시라플루오펜 등의 피레트로이드 화합물, 아세트아미프리드, 니텐피람, 티아메톡시암, 티아클로프리드 등의 네오니코티노이드계 화합물, 칼탑, 티오시크람, 벤슬탑 등의 네라이스톡신 유도체, 엔드술판, γ-BHC, 1,1-비스(클로로페닐)-2,2,2-트리클로로에탄올 등의 염소화 탄화수소 화합물, 클로르플루아즈론, 테플루벤즈론, 플루페녹스론, 루페뉴론 등의 벤조일페닐우레아계 화합물, 테부페노지드, 크로마페노지드, 메톡시페노지드, 할로페노지드 등의 페닐히드라지드 유도체, 아미트라즈, 클로르디메포름 등의 포름아미딘 유도체, 디아펜티우론 등의 티오우레아 유도체, 부프로페진, 클로르페나필, 스피노사드 및 그 유도체, 에마멕틴벤조산염, 인독사카르브, 피메트로진, 페닐피라졸 유도체, 브로모프로필레이트, 테트라디폰, 키노메티오네이트, 프로팔기트, 펜부타주석 산화물, 사이헥사틴, 헥사티아족스, 크로펜테진, 피리다벤, 펜피록시메이트, 테부펜피라드, 피리미디펜, 페나자킨, 비페나제이트, 아세키노실, 스피로디크로펜, 스피로메시펜, 폴리낙틴 복합체 [테트라낙틴, 디낙틴, 트리낙틴], 밀베멕틴, 에바멕틴, 및 아자디락틴을 들 수 있다.

이하, 제조예, 제제예, 시험예 등에 의해 본 발명을 더욱 자세히 설명하는데, 본 발명은 이것들의 예에 한정되지 않는다.

본 발명 화합물의 제조예를 나타낸다.

제조예 1

식 (i)

로 표시되는 화합물 200㎎ 을 N,N-디메틸포름아미드 3㎖ 에 용해하고, 탄산칼륨 100㎎ 및 1,1,3-트리클로로프로펜 100㎎ 을 첨가하여, 70℃ 에서 1시간 교반하였다. 그 후, 반응혼합물을 실온까지 냉각시키고, 반응혼합물에 물 및 10% 염산을 첨가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 물 및 포화식염수로 차례로 세정하여, 황산마그네슘으로 건조시킨 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카겔 칼럼 크로마토그래피에 넣고, 식 (1)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (1) 이라고 한다.) 190㎎ 을 얻었다.

제조예 2

식 (ii)

로 표시되는 화합물 440㎎ 을 N,N-디메틸포름아미드 5㎖ 에 용해하여, 탄산칼륨 220㎎ 및 1,1,3-트리클로로프로펜 210㎎ 을 첨가하여, 70℃ 에서 1시간 교반하였다. 그 후, 반응혼합물을 실온까지 냉각시키고, 반응혼합물에 물 및 10% 염산을 첨가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 물 및 포화식염수로 차례로 세정하여, 황산마그네슘으로 건조시킨 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카겔 컬럼 크로마토그래피에 넣고, 식 (2)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (2) 라고 한다.) 480㎎ 을 얻었다.

제조예 3

본 발명 화합물 (1) 200㎎ 을 피리딘 5㎖ 에 용해하여, 빙냉 하에서 메톡시아민염산염 45㎎ 을 첨가하여, 실온에서 2시간 교반하였다. 그 후, 반응혼합물을 감압하 농축하였다. 잔사에 물 및 10% 염산을 첨가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 물 및 포화식염수로 차례로 세정하여, 황산마그네슘으로 건조시킨 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카겔 칼럼 크로마토그래피에 넣고, 식 (3)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (3) 이라 한다.) 200㎎ 을 얻었다.

제조예 4

메톡시아민염산염 대신에 에톡시아민염산염 50㎎ 을 사용한 것 외에는 제조예 3 과 동일하게 하여, 식 (4)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (4) 라고 한다.) 170㎎ 을 얻었다.

제조예 5

메톡시아민염산염 대신에 이소프로폭시아민염산염 62㎎ 을 사용한 것 외에는 제조예 3 과 동일하게 하여, 식 (5)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (5) 라고 한다.) 140㎎ 을 얻었다.

제조예 6

본 발명 화합물 (1) 을 248㎎, 메톡시아민염산염 대신에 tert-부톡시아민염산염 80㎎ 을 사용한 것 외에는 제조예 3 과 동일하게 하여, 식 (6)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (6) 이라 한다.) 270㎎ 을 얻었다.

제조예 7

메톡시아민염산염 대신에 펜틸옥시아민염산염 77㎎ 을 사용한 것 외에는 제조예 3 과 동일하게 하여, 식 (7)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (7) 이라 한다.) 130㎎ 을 얻었다.

제조예 8

메톡시아민염산염 대신에 2-프로피오닐옥시아민염산염 60㎎ 을 사용한 것 외에는 제조예 3 과 동일하게 하여, 식 (8)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (8) 이라 한다.) 140㎎ 을 얻었다.

제조예 9

메톡시아민염산염 대신에 알릴옥시아민염산염 55㎎ 을 사용한 것 외에는 제조예 3 과 동일하게 하여, 식 (9)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (9) 라고 한다.) 200㎎ 을 얻었다.

제조예 10

메톡시아민염산염 대신에 3,3-디클로로-2-프로페닐옥시아민염산염 100㎎ 을 사용한 것 외에는 제조예 3 과 동일하게 하여, 식 (10)

으로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (10) 이라 한다.) 130㎎ 을 얻었다.

제조예 11

메톡시아민염산염 대신에 벤질옥시아민염산염 75㎎ 을 사용한 것 외에는 제조예 3 과 동일하게 하여, 식 (11)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (11) 이라 한다.) 165㎎ 을 얻었다.

제조예 12

메톡시아민염산염 대신에 (E)-2-부테닐옥시아민염산염 55㎎ 을 사용한 것 외에는 제조예 3 과 동일하게 하여, 식 (12)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (12) 라고 한다.) 90㎎ 을 얻었다.

제조예 13

본 발명 화합물 (2) 로 표시되는 화합물 190㎎ 을 피리딘 5㎖ 에 용해하여, 빙냉 하에서 메톡시아민염산염 43㎎ 을 첨가하여, 실온에서 2시간 교반하였다. 그 후, 반응혼합물을 감압하 농축하였다. 잔사에 물 및 10% 염산을 첨가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 물 및 포화식염수로 차례로 세정하여, 황산마그네슘으로 건조시킨 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카겔 칼럼 크로마토그래피에 넣고, 식 (13)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (13) 이라고 한다.) 150㎎ 을 얻었다.

제조예 14

본 발명 화합물 (2) 를 180㎎, 메톡시아민염산염 대신에 에톡시아민염산염 50㎎ 을 사용한 것 외에는 제조예 3 과 동일하게 하여, 식 (14)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (14) 라고 한다.) 160㎎ 을 얻었다.

제조예 15

식 (iii)

로 표시되는 화합물 190㎎ 을 N,N-디메틸포름아미드 2㎖ 에 용해하고, 실온에서 탄산칼륨 80㎎, 1,1,3-트리클로로프로펜 80㎎ 을 첨가하여 80℃ 에서 1시간 교반하였다. 그 후, 반응혼합물을 실온까지 냉각시키고 나서, 반응혼합물에 물 및 10% 염산을 첨가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 물 및 포화식염수로 차례로 세정하여, 황산마그네슘으로 건조시킨 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카겔 칼럼 크로마토그래피에 넣고, 식 (15)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (15) 라고 한다.) 150㎎ 을 얻었다.

제조예 16

식 (iv)

로 표시되는 화합물 170㎎ 을 N,N-디메틸포름아미드 3㎖ 에 용해하여, 실온에서 탄산칼륨 80㎎, 1,3-디클로로-2-부텐 70㎎ 을 첨가하여 80℃ 에서 1시간 교반하였다. 그 후, 반응혼합물을 실온까지 냉각시키고 나서, 반응혼합물에 물 및 10% 염산을 첨가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 물 및 포화식염수로 차례로 세정하여, 황산마그네슘으로 건조시킨 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카겔 칼럼 크로마토그래피에 넣고, 식 (16)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (16) 으로 한다.) 160㎎ 을 얻었다.

제조예 17

1,3-디클로로-2-부텐 대신에 1,3-디클로로프로펜 60㎎ 을 사용한 것 외에는 제조예 16 과 동일하게 하여, 식 (17)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (17) 이라 한다.) 130㎎ 을 얻었다.

제조예 18

본 발명 화합물 (1) 114㎎ 을 피리딘 3㎖ 에 용해하여, 빙냉 하에서 히드록실아민염산염 25㎎ 을 첨가하여, 실온에서 30분간 교반하였다. 그 후, 반응혼 합물을 감압하 농축하였다. 잔사에 물 및 10% 염산을 첨가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 물 및 포화식염수로 차례로 세정하여, 황산마그네슘으로 건조시킨 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카겔 칼럼 크로마토그래피에 넣고, 식 (18)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (18) 이라 한다.) 80㎎ 을 얻었다.

제조예 19

본 발명 화합물 (1) 을 370㎎, 메톡시아민염산염 대신에 프로폭시아민염산염 110㎎ 을 사용한 것 외에는 제조예 3 과 동일하게 하여, 식 (19)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (19) 라고 한다.) 400㎎ 을 얻었다.

제조예 20

본 발명 화합물 (1) 을 150㎎, 메톡시아민염산염 대신에 네오펜틸옥시아민염산염 60㎎ 을 사용한 것 외에는 제조예 3 과 동일하게 하여, 식 (20)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (20) 이라 한다.) 130㎎ 을 얻었다.

제조예 21

본 발명 화합물 (1) 을 150㎎, 메톡시아민염산염 대신에 3-메틸-2-부테닐옥시아민염산염 60㎎ 을 사용한 것 외에는 제조예 3 과 동일하게 하여, 식 (21)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (21) 이라 한다.) 150㎎ 을 얻었다.

제조예 22

본 발명 화합물 (1) 을 150㎎, 메톡시아민염산염 대신에 1-메틸-2-프로피닐 옥시아민염산염 50㎎ 을 사용한 것 외에는 제조예 3 과 동일하게 하여, 식 (22)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (22) 라고 한다.) 110㎎ 을 얻었다.

제조예 23

본 발명 화합물 (1) 을 150㎎, 메톡시아민염산염 대신에 1-메틸프로폭시아민염산염 50㎎ 을 사용한 것 외에는 제조예 3 과 동일하게 하여, 식 (23)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (23) 이라 한다.) 170㎎ 을 얻었다.

제조예 24

본 발명 화합물 (1) 을 150㎎, 메톡시아민염산염 대신에 1,2-디메틸프로폭시아민염산염 70㎎ 을 사용한 것 외에는 제조예 3 과 동일하게 하여, 식 (24)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (24) 라고 한다.) 160㎎ 을 얻었다.

제조예 25

본 발명 화합물 (1) 을 150㎎, 메톡시아민염산염 대신에 2-플루오로에톡시아민염산염 50㎎ 을 사용한 것 외에는 제조예 3 과 동일하게 하여, 식 (25)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (25) 라고 한다.) 130㎎ 을 얻었다.

제조예 26

본 발명 화합물 (1) 을 150㎎, 메톡시아민염산염 대신에 3,3,3-트리플루오로프로폭시아민염산염 70㎎ 을 사용한 것 외에는 제조예 3 과 동일하게 하여, 식 (26)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (26) 이라 한다.) 140㎎ 을 얻었다.

제조예 27

본 발명 화합물 (1) 을 150㎎, 메톡시아민염산염 대신에 4,4,4-트리플루오로부톡시아민염산염 70㎎ 을 사용한 것 외에는 제조예 3 과 동일하게 하여, 식 (27)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (27) 이라 한다.) 120㎎ 을 얻었다.

제조예 28

본 발명 화합물 (1) 을 150㎎, 메톡시아민염산염 대신에 3-클로로-2-프로페닐옥시아민염산염 70㎎ 을 사용한 것 외에는 제조예 3 과 동일하게 하여, 식 (28)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (28) 이라 한다.) 를 이성체의 혼합물로서 160㎎ 을 얻었다.

제조예 29

본 발명 화합물 (1) 을 150㎎, 메톡시아민염산염 대신에 3,3-디브로모-2-프로페닐옥시아민염산염 110㎎ 을 사용한 것 외에는 제조예 3 과 동일하게 하여, 식 (29)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (29) 라고 한다.) 220㎎ 을 얻었다.

제조예 30

본 발명 화합물 (1) 을 150㎎, 메톡시아민염산염 대신에 부톡시아민염산염 60㎎ 을 사용한 것 외에는 제조예 3 과 동일하게 하여, 식 (30)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (30) 이라 한다.) 160㎎ 을 얻었다.

제조예 31

본 발명 화합물 (18) 200㎎ 을 N,N-디메틸포름아미드 2㎖ 에 용해하여, 실온에서 탄산칼륨 120㎎, 브로모아세토니트릴 110㎎ 을 첨가하여 40℃ 에서 5 시간 교반하였다. 그 후, 반응혼합물을 실온까지 냉각시키고 나서, 묽은 염산에 부어, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 물 및 포화식염수로 차례로 세정하여, 황산마그네슘으로 건조시킨 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카겔 칼럼 크로마토그래피에 넣고, 식 (31)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (31) 이라 한다.) 80㎎ 을 얻었다.

제조예 32

본 발명 화합물 (1) 을 3.50g, 메톡시아민염산염 대신에 2,2,2-트리플루오로에톡시아민염산염 1.35g 을 사용한 것 외에는 제조예 3 과 동일하게 하여, 식 (32)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (32) 라고 한다.) 3.85g 을 얻었다.

제조예 33

본 발명 화합물 (18) 150㎎ 을 N,N-디메틸포름아미드 2㎖ 에 용해하고, 실온에서 탄산칼륨 90㎎, 1-브로모-2-메틸프로판 90㎎ 을 첨가하여 70℃ 에서 10시간 교반하였다. 그 후, 반응혼합물을 실온까지 냉각시키고 나서, 묽은 염산에 부어, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 물 및 포화식염수로 차례로 세정하여, 황산마그네슘으로 건조시킨 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카겔 컬럼 크로마토그래피에 넣고, 식 (33)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (33) 이라 한다.) 40㎎ 을 얻었다.

제조예 34

수소화나트륨 (60% 유성) 90㎎ 을 헥산 5㎖ 에 현탁시켜, 실온에서 5-클로로-1,3-디메틸-1H-피라졸-4-카르복시알데히드 460㎎ 을 첨가하였다. 그 후, 환류시키면서 식 (v)

로 표시되는 화합물 500㎎ 을 적하하여, 다시 5시간 환류시켰다. 그 후 반응혼합물에 포화염화암모늄수용액을 첨가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 묽은 염산, 물 및 포화식염수로 차례로 세정하여, 황산마그네슘으로 건조시킨 후, 감압 하 농축하였다. 잔사를 실리카겔 칼럼 크로마토그래피에 넣고, 식 (34)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (34) 라고 한다.) 260㎎ 을 얻었다.

제조예 35

본 발명 화합물 (34) 150㎎ 을 피리딘 2㎖ 에 용해하여, 빙냉 하에서 2-프로피오닐옥시아민염산염 40㎎ 을 첨가하여, 실온에서 5시간 교반하였다. 그 후, 반응혼합물을 감압하 농축하였다. 잔사에 묽은 염산을 첨가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 물 및 포화식염수로 차례로 세정하여, 황산마그네슘으로 건조시킨 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카겔 칼럼 크로마토그래피에 넣고, 식 (35)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (35) 라고 한다.) 150㎎ 을 얻었다.

제조예 36

본 발명 화합물 (18) 200㎎ 을 N,N-디메틸포름아미드 2㎖ 에 용해하여, 실온에서 탄산칼륨 80㎎, 2,3-디클로로프로펜 60㎎ 을 첨가하여 70℃ 에서 10시간 교반하였다. 그 후, 반응혼합물을 실온까지 냉각시키고 나서, 묽은 염산에 부어, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 물 및 포화식염수로 차례로 세정하여, 황산마그네슘으로 건조시킨 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카겔 칼럼 크로마토그래피에 넣고, 식 (36)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (36) 이라 한다.) 130㎎ 을 얻었다.

제조예 37

본 발명 화합물 (18) 200㎎ 을 N,N-디메틸포름아미드 2㎖ 에 용해하여, 실온에서 탄산칼륨 90㎎, 2-클로로에틸메탄술폰산에스테르 110㎎ 을 첨가하여 70℃ 에서 10시간 교반하였다. 그 후, 반응혼합물을 실온까지 냉각시키고 나서, 묽은 염산에 부어, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 물 및 포화식염수로 차례로 세정하여, 황산마그네슘으로 건조시킨 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카겔 칼럼 크로마토그래피에 넣고, 식 (37)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (37) 이라 한다.) 90㎎ 을 얻었다.

제조예 38

식 (vi)

로 표시되는 화합물 270㎎ 을 N,N-디메틸포름아미드 2㎖ 에 용해하여, 실온에서 탄산칼륨 150㎎, 1,1,3-트리클로로프로펜 140㎎ 을 첨가하여 실온에서 10시간 교반하였다. 그 후, 반응혼합물을 묽은 염산에 부어, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 물 및 포화식염수로 차례로 세정하여, 황산마그네슘으로 건조시킨 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카겔 칼럼 크로마토그래피에 넣고, 식 (38)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (38) 이라 한다.) 350㎎ 을 얻었다.

제조예 39

본 발명 화합물 (38) 160㎎ 을 피리딘 2㎖ 에 용해하여, 실온에서 2-프로피오닐옥시아민염산염 50㎎ 을 첨가하여, 실온에서 10시간 교반하였다. 그 후, 반응혼합물을 감압하 농축하였다. 잔사에 묽은 염산을 첨가하여, 아세트산에틸 로 추출하였다. 유기층을 물 및 포화식염수로 차례로 세정하여, 황산마그네슘으로 건조시킨 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카겔 칼럼 크로마토그래피에 넣고, 식 (39)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (36) 이라 한다.) 170㎎ 을 얻었다.

제조예 40

본 발명 화합물 (18) 300㎎ 을 N,N-디메틸포름아미드 3㎖ 에 용해하여, 실온에서 탄산칼륨 100㎎, 1-브로모-2-부틴 110㎎ 을 첨가하여 40℃ 에서 10시간 교반하였다. 그 후, 반응혼합물을 실온까지 냉각시키고 나서, 묽은 염산에 부어, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 물 및 포화식염수로 차례로 세정하여, 황산마그네슘으로 건조시킨 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카겔 칼럼 크로마토그래피에 넣고, 식 (40)

로 표시되는 화합물 (이하, 본 발명 화합물 (40) 이라 한다.) 250㎎ 을 얻었다.

다음으로 본 발명의 제조중간체의 제조에 관하여, 참고제조예로서 나타낸다.

참고제조예 1

식 (i) 로 표시되는 화합물 330㎎ 을 피리딘 3㎖ 에 용해하여, 빙냉 하에서 메톡시아민염산염 100㎎ 을 첨가하여, 실온에서 2시간 교반하였다. 그 후, 반응혼합물을 감압하 농축하였다. 잔사에 물 및 10% 염산을 첨가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 물 및 포화식염수로 차례로 세정하여, 황산마그네슘로 건조시킨 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카겔 칼럼 크로마토그래피에 넣고, 식 (iv) 로 표시되는 화합물 290㎎ 을 얻었다.

참고제조예 2

식 (vii)

로 표시되는 화합물 240㎎ 을 피리딘 3㎖ 에 용해하여, 빙냉 하에서 메톡시아민염산염 64㎎ 을 첨가하여, 실온에서 2시간 교반하였다. 그 후, 반응혼합물을 감 압하 농축하였다. 잔사에 물 및 10% 염산을 첨가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 물 및 포화식염수로 차례로 세정하여, 황산마그네슘으로 건조시킨 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카겔 칼럼 크로마토그래피에 넣고, 식 (iii) 으로 표시되는 화합물 260㎎ 을 얻었다.

참고제조예 3

4,4'-디히드록시디페닐에테르 300㎎ 을 N,N-디메틸포름아미드 5㎖ 에 용해하여, 빙냉 하에서 수소화나트륨 (60% 유성) 120㎎ 을 첨가하여, 실온에서 10분간 교반하였다. 그 후, 70℃ 에서 교반하면서, 5-클로로-1,3-디메틸-1H-피라졸-4-카르복시알데히드 230㎎ 의 N,N-디메틸포름아미드 3㎖ 용액을 10분간에 걸쳐 적하하여, 다시 70℃ 에서 2시간 교반하였다. 그 후, 반응혼합물을 실온까지 냉각시키고, 반응혼합물에 물 및 10% 염산을 첨가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 물 및 포화식염수로 차례로 세정하여, 황산마그네슘으로 건조시킨 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카겔 칼럼 크로마토그래피에 넣고, 식 (i) 로 표시되는 화합물 260㎎ 을 얻었다.

참고제조예 4

4,4'-디히드록시디페닐에테르 500㎎ 을 N,N-디메틸포름아미드 5㎖ 에 용해하 여, 빙냉 하에서 수소화나트륨 (60% 유성) 200㎎ 을 첨가하여, 실온에서 10분간 교반하였다. 그 후, 70℃ 에서 교반하면서, 5-클로로-3-에틸-1-메틸-1H-피라졸-4-카르복시알데히드 410㎎ 의 N,N-디메틸포름아미드 5㎖ 용액을 10분간에 걸쳐 적하하여, 다시 70℃ 에서 2시간 교반하였다. 그 후, 반응혼합물을 실온까지 냉각시키고, 반응혼합물에 물 및 10% 염산을 첨가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 물 및 포화식염수로 차례로 세정하여, 황산마그네슘으로 건조시킨 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카겔 칼럼 크로마토그래피에 넣고, 식 (ii) 로 표시되는 화합물 460㎎ 을 얻었다.

참고제조예 5

4,4'-디히드록시디페닐에테르 570㎎ 을 N,N-디메틸포름아미드 5㎖ 에 용해하여, 빙냉 하에서 수소화나트륨 (60% 유성) 170㎎ 을 첨가하여, 실온에서 1 0분간 교반하였다. 그 후, 70℃ 에서 교반하면서, 5-클로로-1-메틸-3-트리플루오로메틸-1H-피라졸-4-카르복시알데히드 570㎎ 의 N,N-디메틸포름아미드 5㎖ 용액을 10분간에 걸쳐 적하하여, 다시 70℃ 에서 2시간 교반하였다. 그 후, 반응혼합물을 실온까지 냉각시키고, 반응혼합물에 물 및 10% 염산을 첨가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 물 및 포화식염수로 차례로 세정하여, 황산마그네슘으로 건조시킨 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카겔 칼럼 크로마토그래피에 넣고, 식 (vii) 로 표시되는 화합물 440㎎ 을 얻었다.

참고제조예 6

4,4'-디히드록시디페닐에테르 560㎎ 을 N,N-디메틸포름아미드 10㎖ 에 용해하여, 빙냉 하에서 수소화나트륨 (60% 유성) 140㎎ 을 첨가하여, 70℃ 에서 1시간 교반하였다. 그 후, 70℃ 에서 교반하면서, 1-(5-클로로-1,3-디메틸-1H-피라졸-4-릴)-에타논 400㎎ 의 N,N-디메틸포름아미드 5㎖ 용액을 15분간에 걸쳐 적하하여, 다시 70℃ 에서 6시간 교반하였다. 그 후, 반응혼합물을 실온까지 냉각시키고, 반응혼합물에 묽은 염산을 첨가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 물 및 포화식염수로 차례로 세정하여, 황산마그네슘으로 건조시킨 후, 감압하 농축하였다. 잔사를 실리카겔 칼럼 크로마토그래피에 넣고, 식 (vi) 로 표시되는 화합물 340㎎ 을 얻었다.

다음으로 제제예를 나타낸다. 또, 부는 중량부를 나타낸다.

제제예 1

본 발명 화합물 (1)∼(40) 의 각각 10부를, 자일렌 35부와 N,N-디메틸포름아미드 35부의 혼합물에 용해하여, 폴리옥시에틸렌스티릴페닐에테르 14부 및 도데실벤젠술폰산칼슘 6부를 첨가하여, 충분히 교반 혼합하여 각각의 10% 유제를 얻는다.

제제예 2

본 발명 화합물 (1)∼(40) 의 각각 20부를, 라우릴황산나트륨 4부, 리그닌술폰산칼슘 2부, 합성 함수산화규소 미분말 20부 및 규조토 54부를 혼합한 것 속에 첨가하여, 충분히 교반 혼합하여 각각의 20% 수화제를 얻는다.

제제예 3

본 발명 화합물 (1)∼(40) 의 각각 2부에, 합성 함수산화규소 미분말 1부, 리그닌술폰산칼슘 2부, 벤토나이트 30부 및 카올린크레이 65부를 첨가하여 충분히 교반 혼합한다. 이어서 이것들의 혼합물에 적당량의 물을 첨가하여, 다시 교반하여, 증립기로 제립하여, 통풍 건조시켜 각각의 2% 입제를 얻는다.

제제예 4

본 발명 화합물 (1)∼(40) 의 각각 1부를 적당량의 아세톤에 용해하고, 이것에 합성 함수산화규소 미분말 5부, PAP 0.3부 및 후바사미 크레이 93.7부를 첨가하여, 충분히 교반 혼합하고, 아세톤을 증발제거하여 각각의 1% 분제를 얻는다.

제제예 5

본 발명 화합물 (1)∼(40) 의 각각 10부 ; 폴리옥시에틸렌알킬에테르술페이트암모늄염 50부를 함유하는 화이트카본 35부 ; 및 물 55부를 혼합하여, 습식분쇄법으로 미분쇄함으로써, 각각의 10% 플로어블제를 얻는다.

제제예 6

본 발명 화합물 (1)∼(40) 의 각각 0.1부를 자일렌 5부 및 트리클로로에탄 5부에 용해하고, 이것을 탈취 등유 89.9부에 혼합하여 각각의 0.1% 오일제를 얻는다.

제제예 7

본 발명 화합물 (1)∼(40) 의 각각 10㎎ 을 아세톤 0.5㎖ 에 용해하여, 이 용액을, 동물용 고형 사료 분말 (사육번식용 고형 사료 분말 CE-2, 일본쿠레아주식회사 상품) 5g 에 처리하여, 균일하게 혼합한다. 이어서 아세톤을 증발 건조시켜 각각의 유독 사료를 얻는다.

다음으로, 본 발명 화합물의 유해 절지동물 방제 효력을 시험예에 의해 나타낸다.

시험예 1

본 발명 화합물 (2)∼(15), (17)∼(33), (36)∼(40) 및 후기 비교화합물의 각각을 제제예 5 에 따라 제제화하였다. 이 제제를 본 발명 화합물 또는 비교화합물 농도가 500ppm 이 되도록 물로 희석하였다.

또한, 플라스틱 컵에 심은 덩굴 없는 강남콩의 어린 싹 (파종 7일후, 초생엽 전개기) 에 약 20 마리의 점박이응애 자성충을 놓아, 1일간 방치하였다. 이 어린 싹에, 상기 희석액 30㎖ 를 각각 살포 처리하였다.

살포 8일 후 및 13일 후에 그 덩굴 없는 강남콩잎 위의 생존 진드기 수를 조사하여, 다음 식에 의해 방제율을 산출하였다.

방제율 (%) = 100×{1-(처리구의 생존 진드기 수)/(무처리구의 생존 진드기 수)}

그 결과, 본 발명 화합물 (2)∼(15), (17)∼(33) 및 (36)∼(40) 을 처리한 각각의 식물에 있어서의 8일 후 및 13일 후의 방제율은 모두 90% 이상이었다. 비교화합물을 처리한 식물에 있어서의 8일 후 및 13일 후의 방제율은 30% 미만이었다.

비교화합물

일본 공개특허공보 소63-183564호 제21페이지 화합물번호 189 의 화합물

시험예 2

본 발명 화합물 (3), (4), (6)∼(10), (12)∼(33), (36), (37), (39) 및(40) 의 각각을 제제예 5 에 따라서 제제화하였다. 이 제제를 본 발명 화합물 농도가 500ppm 이 되도록 물로 희석하였다.

또한, 지름 5.5cm 의 폴리에틸렌 컵 내에 인공사료 (실크메이트2S : 일본농산공업주식회사 제조) 9g 을 놓고, 이 인공사료에 상기 물희석액 1㎖ 를 스며 들게 하였다. 이어서, 폴리에틸렌 컵 속에 사과애모무늬잎말이나방 초령 유충 30 마리를 놓았다. 7일 후에 그 생사를 확인하여, 사충률을 구하였다.

그 결과, 본 발명 화합물 (3), (4), (6)∼(10), (12)∼(33), (36), (37), (39) 및 (40) 을 처리한 인공사료에 있어서의 사충률은 모두 90% 이상이었다.

본 발명 화합물을 사용함으로써, 유해 절지동물을 방제할 수 있다.

Claims

식 (a)

[식 중, R¹ 은 C1-C4 알킬기 또는 트리플루오로메틸기를 나타내고, R² 는 C1-C4 알킬기를 나타내고, R³ 은 수소원자 또는 C1-C6 알킬기를 나타내고; R⁴ 는 할로겐원자, C1-C3 알킬기, C1-C3 알콕시기, C1-C3 할로알킬기 또는 C1-C3 할로알콕시기를 나타내고, m 은 0∼4 의 정수를 나타내고, m 이 2∼4 의 정수를 나타내는 경우에는 각각의 R⁴ 는 동일하거나 상이해도 되고; R⁵ 는 할로겐원자, C1-C3 알킬기, C1-C3 알콕시기, C1-C3 할로알킬기 또는 C1-C3 할로알콕시기를 나타내고, n 은 0∼4 의 정수를 나타내고, n 이 2∼4 의 정수를 나타내는 경우에는 각각의 R⁵ 는 동일하거나 상이해도 되고; R⁶ 및 R⁷ 은 동일 또는 상이하고, 수소원자, 할로겐원자 또는 메틸기를 나타내고, X 는 산소원자 또는 R⁸O-N 으로 표시되는 기를 나타내고, R⁸ 은 수소원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기, C3-C6 알케닐기, C3-C6 할로알케닐기, C3-C6 알키닐기, C3-C6 할로알키닐기, C2-C5 시아노알킬기 또는 벤질기 (상기 벤질기는 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기, C2-C5 알콕시카르보닐기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 된다) 를 나타낸다]

로 표시되는 피라졸 화합물.
제 1 항에 있어서, 식 (a) 에 있어서, R³ 이 수소원자인 피라졸 화합물.
제 1 항에 있어서, 식 (a) 에 있어서, R³ 이 C1-C6 알킬기인 피라졸 화합물.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 식 (a) 에 있어서, X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 수소원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기, C3-C6 알케닐기, C3-C6 할로알케닐기, C3-C6 알키닐기, C3-C6 할로알키닐기, C2-C5 시아노알킬기 또는 벤질기 (상기 벤질기는 할로겐 원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기, C2-C5 알콕시카르보닐기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 된다) 인 피라졸 화합물.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 식 (a) 에 있어서, X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 수소원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기, C3-C6 알케닐기, C3-C6 할로알케닐기, C3-C6 알키닐기, C3-C6 할로알키닐기 또는 C2-C5 시아노알킬기인 피라졸 화합물.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 식 (a) 에 있어서, X 가 R⁸O-N 으로 표시되는 기이고, R⁸ 이 벤질기 (상기 벤질기는 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기, C2-C5 알콕시카르보닐기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 된다) 인 피라졸 화합물.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 식 (a) 에 있어서, X 가 산소원자인 피라졸 화합물.
제 1 항에 있어서, 식 (a) 에 있어서, R⁶ 이 할로겐원자인 피라졸 화합물.
제 1 항에 있어서, 식 (a) 에 있어서, R⁶ 및 R⁷ 이 할로겐원자인 피라졸 화합물.
제 1 항에 있어서, 식 (a) 에 있어서, R⁶ 및 R⁷ 이 염소원자인 피라졸 화합물.
제 1 항에 있어서, 식 (a) 에 있어서, R⁴ 및 R⁵ 가 할로겐원자, C1-C3 알킬기, C1-C3 알콕시기 또는 트리플루오로메틸기이고, m 및 n 이 0∼2 의 정수인 피라졸 화합물.
제 1 항에 기재된 피라졸 화합물의 유효량을 함유하는 유해 절지동물 방제 조성물.
제 1 항에 기재된 피라졸 화합물의 유효량을 유해 절지동물 또는 유해 절지동물의 서식지에 사용하는 유해 절지동물의 방제방법.
삭제
식 (b)

[식 중, R¹ 은 C1-C4 알킬기 또는 트리플루오로메틸기를 나타내고, R² 는 C1-C4 알킬기를 나타내고, R³ 은 수소원자 또는 C1-C6 알킬기를 나타내고; R⁴ 는 할로겐원자, C1-C3 알킬기, C1-C3 알콕시기, C1-C3 할로알킬기 또는 C1-C3 할로알콕시기를 나타내고, m 은 0∼4 의 정수를 나타내고, m 이 2∼4 의 정수를 나타내는 경우에는 각각의 R⁴ 는 동일하거나 상이해도 되고;

R⁵ 는 할로겐원자, C1-C3 알킬기, C1-C3 알콕시기, C1-C3 할로알킬기 또는 C1-C3 할로알콕시기를 나타내고, n 은 0∼4 의 정수를 나타내고, n 이 2∼4 의 정수를 나타내는 경우에는 각각의 R⁵ 는 동일하거나 상이해도 되고;

X 는 산소원자 또는 R⁸O-N 으로 표시되는 기를 나타내고, R⁸ 은 수소원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기, C3-C6 알케닐기, C3-C6 할로알케닐기, C3-C6 알키닐기, C3-C6 할로알키닐기, C2-C5 시아노알킬기 또는 벤질기 (상기 벤질기는 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기, C2-C5 알콕시카르보닐기, 트리플루오로메틸기 또는 트리플루오로메톡시기로 치환되어 있어도 된다) 를 나타낸다]

로 표시되는 화합물.