KR101019151B1 - 인쇄회로기판 및 그 제조방법 - Google Patents
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Abstract
인쇄회로기판 및 그 제조방법이 개시된다. 전자 소자가 실장되는 인쇄회로기판으로서, 일면에 회로패턴 및 패드가 형성된 기판, 패드가 노출되도록 기판의 일면에 형성된 솔더 레지스트층, 솔더 레지스트층에 잉크젯 인쇄 방식으로 형성되며 기판과 전자 소자 사이에 주입되는 언더필 용액의 흐름을 제어하도록 전자 소자가 실장되는 위치에 상응하여 배치되는 댐을 포함하는 인쇄회로기판 및 그 제조방법은, 정밀도 높은 댐을 형성함으로써 언더필 용액의 흐름성을 효과적으로 제어하고 반도체 패키지의 전체 크기를 줄일 수 있다.
언더필, 패키지 기판, 댐
Description
본 발명은 인쇄회로기판 및 그 제조방법에 관한 것이다.
최근 반도체 기술의 발전과 반도체 패키지가 집적화되고 더 많은 기능을 요구함에 따라 반도체 칩을 실장하는 기판 위에 한 개의 칩 외에도 다수의 칩, 캐패시터 그리고 레지스터 등의 반도체 칩들을 함께 실장하는 것이 빈번히 적용되고 있다. 이와 함께 제품의 소형화를 위해 반도체 칩들을 실장하는 인쇄회로기판으로 플립칩 패키지(FCCSP) 제품의 채용이 급증하고 있으나 반도체 칩 실장 시 사용되는 언더필(Underfill) 용액의 흐름성 제어 문제로 플립칩 패키지(FCCSP) 제품을 포함한 반도체 패키지 크기 축소의 한계가 발생하고 있다.
예를 들면, 플립칩 패키지(FCCSP) 제품 위 칩 실장 시 인쇄회로기판과 반도체 칩 사이에 언더필 용액을 주입할 때, 언더필 용액의 흐름성을 효과적으로 제어할 수 없는 어려움이 있다. 이때 주입되는 언더필 용액이 와이어 본딩 또는 솔더볼 접합을 위해 필요한 패드를 침범하게 된다. 이에 따라 패드와 반도체 칩이 오염되는 문제가 발생할 수 있다.
본 발명은 잉크젯 방식으로 댐을 형성함으로써 언더필 용액 주입 시 패드의 오염을 방지하고 언더필 용액의 흐름성을 제어할 수 있는 하는 인쇄회로기판 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 전자 소자가 실장되는 인쇄회로기판을 제조하는 방법에 있어서, 일면에 회로패턴 및 패드가 형성된 기판을 제공하는 단계, 패드가 노출되도록 기판의 일면에 솔더 레지스트층을 형성하는 단계, 기판과 전자 소자 사이에 주입되는 언더필 용액의 흐름을 제어하도록 전자 소자가 실장되는 위치에 상응하여 배치되는 댐을 잉크젯 인쇄 방식으로 솔더 레지스트층에 형성하는 단계를 포함하는 인쇄회로기판 제조방법이 제공된다.
그리고 댐의 단면은 상부가 볼록하게 만곡된 형상일 수 있다.
기판의 일면에 솔더 레지스트층을 형성하는 단계는 잉크젯 인쇄 방식으로 수행될 수 있다.
댐을 형성하는 단계 이전에, 솔더 레지스트층의 표면을 플라즈마 처리하는 단계가 더 수행될 수 있다.
댐을 형성하는 단계는 솔더 레지스트층에 고분자 잉크를 잉크젯 방식으로 인쇄하는 단계, 고분자 잉크를 경화시키는 단계로 수행될 수 있다.
그리고 고분자 잉크는 아크릴레이트계 화합물 또는 왁스 성분을 포함할 수 있다.
기판의 일면에 솔더 레지스트층을 형성하는 단계 이후에, 패드에 잉크젯 인쇄 방식으로 도전성 물질을 인쇄함으로써 패드와 전자 소자를 연결하는 댐 기둥을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
댐을 형성하는 단계와 댐 기둥을 형성하는 단계는 동일 공정 상에서 수행될 수 있으며, 댐 기둥은 댐 보다 높게 형성된다.
또한, 본 발명의 다른 측면에 따르면, 전자 소자가 실장되는 인쇄회로기판으로서, 일면에 회로패턴 및 패드가 형성된 기판, 패드가 노출되도록 기판의 일면에 형성된 솔더 레지스트층, 솔더 레지스트층에 잉크젯 인쇄 방식으로 형성되며, 기판과 전자 소자 사이에 주입되는 언더필 용액의 흐름을 제어하도록 전자 소자가 실장되는 위치에 상응하여 배치되는 댐을 포함하는 인쇄회로기판이 제공된다.
댐의 단면은 상부가 볼록하게 만곡된 형상일 수 있다.
그리고 솔더 레지스트층은 잉크젯 인쇄 방식으로 형성될 수 있다.
그리고 전술한 인쇄회로기판은 패드에 잉크젯 인쇄 방식으로 도전성 물질을 인쇄함으로써 형성되며, 패드와 전자 소자를 연결하는 댐 기둥을 더 포함할 수 있다.
그리고 댐 기둥은 댐 보다 높게 형성될 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면 정밀도 높은 댐을 형성함으로써 언더필 용액의 흐름성을 효과적으로 제어하고 반도체 패키지의 전체 크기를 줄일 수 있다.
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
이하, 본 발명에 따른 인쇄회로기판 및 그 제조방법의 실시예를 첨부도면을 참조하여 상세히 설명하기로 하며, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄회로기판 제조방법을 나타낸 순서도이고, 도 2 내지 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄회로기판 제조공정을 나타낸 흐름도이다. 도 2 내지 도 5를 참조하면, 기판(10), 회로패턴(12), 패드(14), 솔더 레지스트층(20), 댐(30), 잉크젯 헤드(40)이 도시되어 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 도 2와 같이 일면에 회로패턴(12) 및 패드(14)가 형성된 기판(10)을 제공한다(S100). 회로패턴 및 패드는 절연 기판 위에 형성될 수 있다. 회로패턴 및 패드는 기판(10)에서 요구되는 전자 신호의 전달 흐름에 따라 설계된다. 즉 회로패턴과 패드는 도전성 물질로 형성되어, 각각 전자 신호의 전달 통로와 전기적 연결 부분이 된다.
그리고 나서 도 3과 같이 기판(10)의 일면에 솔더 레지스트층(20)을 형성한다(S200). 솔더 레지스트층은 기판 표면 위에 솔더볼(50) 접합 또는 전자 소자의 실장 시 회로패턴(12) 사이의 쇼트를 방지하는 역할을 한다. 절연성 물질인 솔더 레지스트층이 회로패턴을 커버함으로써 회로패턴(12)의 전기적 신뢰성이 확보된다.
그리고 솔더 레지스트층(20)은 외부와의 전기적 연결이 필요한 패드(14)가 외부로 노출될 수 있도록 형성된다. 패드(14)는 전자 소자와 솔더볼(50) 접합 또는 와이어 본딩이 이루어지는 부분이다. 따라서 외부 전자 소자는 외부로 노출된 패드(14)를 통하여 기판(10) 내부의 회로패턴(12)과 전기적으로 연결될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면 도 3과 같이 솔더 레지스트층은 잉크젯 인쇄 방식을 이용하여 솔더 레지스트 잉크를 기판(10)의 일면에 분사함으로써 형성될 수 있다. 도 3에 도시된 바와 같이 잉크젯 헤드(40)를 통하여 솔더 레지스트 잉크가 분사된다. 분사된 솔더 레지스트 잉크가 경화함으로써 기판(10)의 일면에 솔더 레지스트층(20)이 형성될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에서와 같이 솔더 레지스트층(20)을 잉크젯 인쇄 방식으로 형성함으로써 원하는 부위에만 정밀하게 솔더 레지스트층을 형성할 수 있는 장점이 있다. 본 실시예에 따르면 잉크젯 헤드(40)를 사용하여 패드(14) 이외의 부분에 솔더 레지스트 잉크를 정밀하게 분사할 수 있다. 따라서 솔더 레지스트층(20)에 의해 커버되지 않도록 설계된 미세한 패드 부분을 정확하게 노출시킬 수 있다.
한편 본 발명의 일 실시예에서는 솔더 레지스트층(20)을 잉크젯 인쇄방식으로 형성하는 과정을 도 3과 같이 설명하였지만, 솔더 레지스트 잉크를 기판(10)의 표면 전부에 도포한 후, 솔더 레지스트 잉크를 선택적으로 노광하고 현상함으로써 패드(14) 부분만 개방시키는 방식도 가능할 것이다. 즉 포토 리소그래피 공정을 통한 솔더 레지스트층 형성 및 패드 개방 방식도 본 발명의 사상 및 권리범위에 속한다.
그리고 솔더 레지스트층(20)을 형성한 후 댐(30)을 형성하는 데, 본 발명의 일 실시예에 따르면 댐을 형성하기 전에 솔더 레지스트층(20) 표면을 플라즈마 처 리할 수 있다(S300). 표면 처리 공정을 수행함으로써 댐의 단차 발생을 막을 수 있다. 솔더 레지스트층의 표면 처리 공정에 대해서는 도 11 내지 도 13을 참조하여 후술한다.
그리고 나서 도 4과 같이 솔더 레지스트층(20)에 댐(30)을 형성한다(S400). 댐은 잉크젯 인쇄 방식으로 형성될 수 있다. 댐은 솔더 레지스트층에 일정한 패턴 및 모양으로 형성되어, 언더필 용액의 흐름을 제어하는 역할을 한다. 예를 들어 언더필 용액의 주입 시 언더필 용액이 범람하는 것을 방지하는 역할을 한다. 언더필 용액은 인쇄회로기판과 이에 실장되는 전자 소자 사이의 갭(gap)에 주입된다. 언더필 용액이 주입되고 경화됨으로써 인쇄회로기판과 전자 소자의 접속 공간이 보강된다.
즉 댐(30)은 전자 소자와 판의 접속을 보강하기 위하여 주입되는 언더필(Underfill) 용액의 범람을 방지하도록 전자 소자가 실장되는 위치에 상응하여 형성될 수 있다. 댐이 전자 소자의 외측에 형성된 경우, 댐은 언더필 용액 주입과정에서 댐 바깥쪽에 노출된 패드(14)가 언더필 용액에 의해 오염되는 것을 막는 역할을 한다.
그리고 전자 소자 내측에 댐(30)을 형성하여, 전자 소자 하면의 일정 부분까지만 언더필 용액이 주입되도록 조절할 수 있다. 즉 전자 소자 또는 기판의 특성에 따라 전자 소자 하면의 전면에 언더필 용액이 주입될 필요가 없는 경우, 전자 소자 내측에 댐을 형성할 수 있다.
전자 소자의 실장 위치 및 언더필 용액의 주입 위치 등을 고려하여 댐(30)이 전자 소자의 외측 또는 내측에 형성되도록 설계한다. 또한 댐이 전자 소자의 외측 및 내측 모두에 형성되도록 설계할 수 도 있다.
본 실시예에 따르면 도 3과 같이 댐(30)을 형성하는 단계는 다음과 같이 수행된다. 먼저 솔더 레지스트층에 고분자 잉크를 잉크젯 방식으로 인쇄한다. 고분자 잉크를 잉크젯 헤드(40)에 주입하고 잉크젯 헤드를 통하여 고분자 잉크를 원하는 패턴대로 솔더 레지스트층(20)에 인쇄한다.
고분자 잉크는 버블젯(Bubble Jet) 또는 피에조 일렉트릭 젯(Piezo-electric Jet) 분사 방식으로 잉크젯 헤드(40)를 통하여 분사된다. 피에조 방식은 전압이 인가되어 진동하는 압전체를 이용하여 잉크를 분사하는 방식으로, 전압 인가되었을 때 길이가 길어진 압전체가 잉크를 가압하고, 이로 인해 잉크가 밖으로 분사되는 원리를 이용한다. 그리고 버블젯(Bubble Jet) 방식은 열판에 의해 가해지는 순간적인 고온을 이용하여 잉크 내부의 물을 기화시킴으로써 잉크를 분사시킨다.
여기에서 댐(30)을 형성하기 위해 잉크젯 인쇄에 사용되는 고분자 잉크는 아크릴레이트계 화합물 또는 왁스 성분을 포함할 수 있다. 아크릴레이트계 화합물 또는 왁스 성분을 중량 %로 70% 내지 100%를 함유한 잉크가 사용될 수 있다.
고분자 잉크를 댐(30) 형상으로 인쇄한 다음, 인쇄된 고분자 잉크를 경화시킨다. 고분자 잉크는 자외선에 노출됨으로써 경화된다. 또는 열에 의해 경화될 수도 있으며, 자외선과 열에 함께 노출됨으로써 경화될 수도 있다.
전술한 방법을 통하여 도 5와 같이 다양한 패턴과 높이로 형성된 댐(30)을 만들 수 있다. 잉크젯 인쇄 방법을 이용함으로써 설계 의도에 따라 댐의 패턴과 높 이, 그리고 댐의 너비를 조절하는 것이 가능하다. 즉 복잡하면서도 미세한 구조의 댐을 용이하게 형성할 수 있다.
도 6 내지 도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄회로기판의 댐(30)을 나타낸 단면도이다. 도 6 내지 도 10을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따라 미세한 단위로 높이가 조절된 댐(30)의 단면이 도시되어 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 댐(30) 형성 공정에서 잉크젯 인쇄 방식에 사용되는 고분자 잉크의 조성물 및 농도, 그리고 잉크젯 헤드(40)의 잉크 분사량 등은 설계 의도에 따라 조절될 수 있다.
댐(30) 형성 공정 후, 실장되는 전자 소자의 높이 및 언더필 용액의 특성에 따라 댐의 높이 및 너비는 변경가능하다. 따라서 인쇄회로기판의 제조 시 댐 설계의 제약을 줄일 수 있다.
그리고 도 6 내지 도 10을 참조하면 댐(30)의 단면은 상부가 볼록하게 만곡된 형상으로 형성된다. 잉크젯 헤드(40)에 의해 분사되는 잉크가 가지고 있는 점성의 특성상 댐의 단면은 볼록하게 아치형을 나타내며 형성된다. 분사되는 고분자 잉크의 조성 및 분사량에 따라 댐(30)은 반구형 내지 종 형상으로 형성될 수 있다.
그리도 댐(30)은 언더필 용액과 반발적 특성을 보유한 재질로 형성될 수 있다. 댐을 형성하기 위한 고분자 잉크에 언더필 용액과 반발적 특성을 보유한 물질을 첨가한다. 이렇게 형성된 댐(30)은 언더필 용액과 접하게 되는데, 댐의 단면이 상부가 볼록하게 만곡된 형상으로 형성됨에 따라 언더필 용액이 댐과 반발되는 면적을 넓힐 수 있다.
댐(30)이 언더필 용액과 반발적 특성을 갖도록 형성하고, 그 면적을 최대화 함으로써 언더필 용액의 범람을 효과적으로 방지할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 댐(30)을 형성하는 단계 이전에 댐이 형성되는 솔더 레지스트층(20) 표면을 플라즈마 처리(70)할 수 있다. 솔더 레지스트층 표면 처리 공정(S300)에 대해서 이하 도 11 내지 도 13을 참조하여 설명한다.
기판(10)의 일면에 형성된 솔더 레지스트층(20)의 표면은 도 11에 도시된 바와 같이 거칠게 조도가 형성되어 있다. 미세한 크기로 볼 때 솔더 레지스트층의 표면은 측정 위치에 따라 높이가 다르게 형성되어 있다. 이러한 솔더 레지스트층 표면에서 각 위치 차이에 따라 발생하는 단차는 댐(30)의 높이에 또한 영향을 주게 된다.
따라서 도 12와 같이 솔더 레지스트층(20) 표면의 조도를 경감시키는 표면처리 공정을 수행한다. 본 실시예에 따르면 표면 처리 공정은 솔더 레지스트층(20)에 고온 고압의 플라즈마 처리 진행함으로써 수행될 수 있다. 또한 이러한 표면 처리 공정은 자외선(UV) 에너지, 열에너지 또는 질소 가스(N2 Gas)에 의해 물리 화학적 표면변화를 야기시킬 수 있는 공정들로 수행될 수도 있다.
그리고 나서 13과 같이 표면 처리된 솔더 레지스트층(20)에 댐(30)을 형성함으로써 댐의 단차 발생을 없앨 수 있다. 댐은 일정한 높이로 형성되어 언더필 용액의 범람을 모든 영역에서 동일하게 차단할 수 있다. 즉 본 실시예에 따르면 고분자 잉크 및 잉크젯 헤드(40)의 분사량이 동일한 조건인 경우에 댐을 예측 가능한 높이로 정교하게 형성할 수 있는 효과가 있다.
한편, 댐(30)이 형성된 후에 전술한 표면 처리 공정을 통해 물리 화학적 성질이 변화된 솔더 레지스트층(20) 표면을 다시 복원시키는 공정이 더 수행될 수도 있다. 전술한 표면 처리 공정과 유사한 방식으로 자외선(UV) 에너지, 열에너지 또는 질소 가스(N2 Gas)에 의해 물리 화학적으로 표면을 복원시킨다. 이러한 과정을 통해 댐(30)이 형성되지 않은 솔더 레지스트층(20)의 성질은 다시 복원되고, 전자 소자의 실장 또는 언더필 용액의 주입 시 발생할 수 있는 플라즈마 처리 등에 의한 영향을 없앨 수 있다.
그리고 본 발명의 일 실시예에 따르면 기판(10)에 솔더 레지스트층을 형성 한 후, 패드(14)에 댐 기둥(32)을 형성하는 공정을 수행할 수 있다. 댐 기둥(32)은 댐과 동일하게 잉크젯 인쇄 방식으로 형성될 수 있다.
그리고 댐 기둥(32)을 형성하는 공정은 댐 형성 공정과 동일 공정 상에서 수행될 수 있다. 즉 양 공정 모두 동일한 잉크젯 방식을 통하여 잉크젯 헤드(40)에 의해 분사되는 잉크의 양을 조절하여 수행된다. 따라서 댐 기둥(32)은 댐(30)의 중간 또는 끝단에 댐(30) 보다 높은 형상으로 노출된 패드(14) 위에 형성될 수 있다. 또한 댐 기둥(32)은 댐(30)과 이격되어 독립적으로 형성될 수도 있다.
댐 기둥(32)은 댐(30) 보다 높게 형성되어 전자 소자와 패드를 연결하도록 형성된다. 본 실시예에 따르면 전자 소자와 연결되며 패드(14) 위에 형성되는 댐 기둥은, 도전성 물질로 형성되어 있다. 즉 댐 기둥은 패드에 잉크젯 인쇄 방식으로 도전성 물질을 인쇄함으로써 형성될 수 있다. 따라서 댐 기둥은 전자 소자와 기판(10)을 전기적으로 연결할 수 있게 된다.
댐 형성 시 보다 많은 양의 도전성 물질 잉크를 노출된 패드(14) 위에 분사한다. 그리고 도전성 물질의 잉크를 경화시킴으로써 댐 기둥이 형성될 수 있다. 전자 소자는 댐 기둥에 의해 지지될 뿐만 아니라, 댐 기둥을 통하여 기판(10)과 전기적으로 연결된다.
이하 도 14 내지 도 17을 참조하여, 본 발명의 실시예에 따른 인쇄회로기판을 설명한다.
도 14은 본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄회로기판을 나타낸 사시도이고, 도 15은 본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄회로기판을 나타낸 단면도이고, 도 16은 본 발명의 다른 실시예에 따른 인쇄회로기판을 나타낸 단면도이며, 도 17는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 인쇄회로기판을 나타낸 단면도이다.
도 14 및 도 15에 도시된 바와 같이 잉크젯 인쇄 방식으로 형성된 댐(30)은 전자 소자(2) 외측에 형성되어, 전자 소자(2) 외측에 위치하는 패드(14)의 오염을 방지한다. 도 15와 같이 언더필 용액(60)은 댐(30)에 의해 가로막히고, 전자 소자(2) 내측으로 흘러 전자 소자와 기판(10) 사이의 갭을 충전한다.
또한 본 발명의 다른 실시예에 따르면, 도 16에 도시된 바와 같이 전자 소자(2)의 외측과 내측에 모두 댐(30)을 형성하여, 기판(10)과 전자 소자(2) 사이의 공간 중 일부분만 언더필 용액(60)이 주입될 수 있도록 조절할 수 있다. 전자 소자(2) 외측과 내측에 댐(30)을 형성함으로써 전자 소자(2) 아래쪽 패드(14)의 오염 도 방지된다. 즉 기판(10)과 전자 소자(2) 사이에 보강이 필요한 최소한의 부분에만 언더필 용액(60)을 주입하는 것이 가능하다.
그리고 도 17과 같이 패드(14)에 댐 기둥(32)을 잉크젯 인쇄 방식으로 형성할 수 있다. 댐 기둥(32)은 도전성 물질로 형성되어, 전자 소자(2)와 접하게 된다. 패드(14)에 형성되어 전자 소자(2)와 연결되는 댐 기둥(32)을 통해 전자 소자는 기판(10)과 전기적으로 연결된다. 또한 댐 기둥(32)은 전자 소자(2)를 지지하도록 형성될 수도 있다.
그리고 도 15 내지 도 17에 도시된 바와 같이 댐(30)의 단면은 상부가 볼록하게 만곡된 형상으로 형성되고, 댐과 언더필 용액(60)의 반발적 특성을 이용하여 언더필 용액(60)의 넘침이 효과적으로 방지될 수 있음은 전술한 바와 같다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
전술한 실시예 외의 많은 실시예들이 본 발명의 특허청구범위 내에 존재한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄회로기판 제조방법을 나타낸 순서도.
도 2 내지 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄회로기판 제조공정을 나타낸 흐름도.
도 6 내지 도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄회로기판의 댐을 나타낸 단면도.
도 11 내지 도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄회로기판 제조방법의 솔더 레지스트층 표면 처리 공정을 나타낸 흐름도.
도 14은 본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄회로기판을 나타낸 사시도.
도 15은 본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄회로기판을 나타낸 단면도.
도 16은 본 발명의 다른 실시예에 따른 인쇄회로기판을 나타낸 단면도.
도 17는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 인쇄회로기판을 나타낸 단면도.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
2: 전자 소자 10: 기판
12: 회로패턴 14: 패드
20: 솔더 레지스트층 30: 댐
32: 댐 기둥 40: 잉크젯 헤드
50: 솔더볼 60: 언더필 용액
70: 플라즈마 처리 표면
Claims (13)
- 전자 소자가 실장되는 인쇄회로기판을 제조하는 방법에 있어서,일면에 회로패턴 및 패드가 형성된 기판을 제공하는 단계;상기 패드가 노출되도록, 상기 기판의 일면에 잉크젯 방식으로 솔더 레지스트 잉크를 선택적으로 분사하고 경화시켜 솔더 레지스트층을 형성하는 단계;상기 기판과 상기 전자 소자 사이에 주입되는 언더필 용액의 범람을 방지하도록, 상기 전자 소자가 실장되는 위치에 상응하여 상기 솔더 레지스트층에 고분자 잉크를 잉크젯 방식으로 적층하는 단계; 및상기 고분자 잉크를 경화시켜 댐을 형성하는 단계를 포함하는 인쇄회로기판 제조방법.
- 제1항에 있어서,상기 댐의 단면은 상부가 볼록하게 만곡된 형상인 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판 제조방법.
- 삭제
- 제1항에 있어서,상기 댐을 형성하는 단계 이전에,상기 솔더 레지스트층의 표면을 플라즈마 처리하는 단계를 더 포함하는 인쇄회로기판 제조방법.
- 삭제
- 제1항에 있어서,상기 고분자 잉크는 아크릴레이트계 화합물 또는 왁스 성분을 포함하는 것을특징으로 하는 인쇄회로기판 제조방법.
- 제1항에 있어서,상기 기판의 일면에 솔더 레지스트층을 형성하는 단계 이후에,상기 패드에 잉크젯 인쇄 방식으로 도전성 물질을 인쇄함으로써 상기 패드와 상기 전자 소자를 연결하는 댐 기둥을 형성하는 단계를 더 포함하는 인쇄회로기판 제조방법.
- 제7항에 있어서,상기 댐을 형성하는 단계와 상기 댐 기둥을 형성하는 단계는 동일 공정 상에서 수행되는 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판 제조방법.
- 제7항에 있어서,상기 댐 기둥은 상기 댐 보다 높은 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판 제조방법.
- 전자 소자가 실장되는 인쇄회로기판으로서,일면에 회로패턴 및 패드가 형성된 기판;잉크젯 방식으로 형성되며 상기 패드가 노출되도록 상기 기판의 일면에 선택적으로 형성된 솔더 레지스트층; 및상기 솔더 레지스트층에 잉크젯 방식으로 적층된 고분자 잉크를 경화시켜 형성되며, 상기 전자 소자가 실장되는 위치에 상응하여 배치되어 상기 기판과 상기 전자 소자 사이에 주입되는 언더필 용액의 범람을 방지하는 댐을 포함하는 인쇄회로기판.
- 제10항에 있어서,상기 댐의 단면은 상부가 볼록하게 만곡된 형상인 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판.
- 제10항에 있어서,상기 패드에 잉크젯 인쇄 방식으로 도전성 물질을 인쇄함으로써 형성되며, 상기 패드와 상기 전자 소자를 연결하는 댐 기둥을 더 포함하는 인쇄회로기판.
- 제12항에 있어서,상기 댐 기둥은 상기 댐 보다 높은 것을 특징으로 하는 인쇄회로기판.
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Families Citing this family (16)
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JP2011501870A (ja) * | 2007-05-08 | 2011-01-13 | オッカム ポートフォリオ リミテッド ライアビリティ カンパニー | はんだの無い電子組立体及びそれらの製造方法 |
KR101067216B1 (ko) * | 2010-05-24 | 2011-09-22 | 삼성전기주식회사 | 인쇄회로기판 및 이를 구비하는 반도체 패키지 |
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KR101229591B1 (ko) * | 2010-12-02 | 2013-02-04 | 엘지이노텍 주식회사 | 인쇄회로기판 및 인쇄회로기판 제조방법 |
US9025339B2 (en) * | 2011-12-29 | 2015-05-05 | Stmicroelectronics Pte Ltd. | Adhesive dam |
KR20140019173A (ko) * | 2012-08-06 | 2014-02-14 | 삼성전기주식회사 | 솔더 코팅볼을 이용한 패키징 방법 및 이에 따라 제조된 패키지 |
US8994176B2 (en) * | 2012-12-13 | 2015-03-31 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Methods and apparatus for package with interposers |
US9627229B2 (en) * | 2013-06-27 | 2017-04-18 | STATS ChipPAC Pte. Ltd. | Semiconductor device and method of forming trench and disposing semiconductor die over substrate to control outward flow of underfill material |
KR20160022603A (ko) * | 2014-08-20 | 2016-03-02 | 삼성전기주식회사 | 플립칩 패키지 및 그 제조 방법 |
US9281339B1 (en) * | 2014-09-17 | 2016-03-08 | Sunasic Technologies, Inc. | Method for mounting chip on printed circuit board |
US9760754B2 (en) * | 2015-07-06 | 2017-09-12 | Sunasic Technologies Inc. | Printed circuit board assembly forming enhanced fingerprint module |
US9798088B2 (en) * | 2015-11-05 | 2017-10-24 | Globalfoundries Inc. | Barrier structures for underfill blockout regions |
US10586716B2 (en) | 2017-06-09 | 2020-03-10 | Advanced Semiconductor Engineering, Inc. | Semiconductor device package |
US20190157222A1 (en) * | 2017-11-20 | 2019-05-23 | Nxp Usa, Inc. | Package with isolation structure |
CN114096074B (zh) * | 2021-10-29 | 2024-04-12 | 江苏迪盛智能科技有限公司 | 电路板和电路板中保护层的喷墨方法 |
CN117135822A (zh) * | 2023-02-15 | 2023-11-28 | 荣耀终端有限公司 | 电路板组件和电子设备 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11238760A (ja) * | 1998-02-24 | 1999-08-31 | Oki Business Co Ltd | 半導体素子実装構造 |
JP2004179578A (ja) * | 2002-11-29 | 2004-06-24 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 配線基板及びその製造方法 |
KR20070017671A (ko) * | 2005-08-08 | 2007-02-13 | 삼성전기주식회사 | 플립칩 반도체 패키지 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6806578B2 (en) * | 2000-03-16 | 2004-10-19 | International Business Machines Corporation | Copper pad structure |
US6800946B2 (en) * | 2002-12-23 | 2004-10-05 | Motorola, Inc | Selective underfill for flip chips and flip-chip assemblies |
TWI288142B (en) * | 2003-05-09 | 2007-10-11 | Taiyo Ink Mfg Co Ltd | Photocuring/thermosetting ink jet composition and printed wiring board using same |
US20050121310A1 (en) * | 2003-12-03 | 2005-06-09 | Intel Corporation | Method and substrate to control flow of underfill |
JP4535969B2 (ja) * | 2005-08-24 | 2010-09-01 | 新光電気工業株式会社 | 半導体装置 |
-
2008
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11238760A (ja) * | 1998-02-24 | 1999-08-31 | Oki Business Co Ltd | 半導体素子実装構造 |
JP2004179578A (ja) * | 2002-11-29 | 2004-06-24 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 配線基板及びその製造方法 |
KR20070017671A (ko) * | 2005-08-08 | 2007-02-13 | 삼성전기주식회사 | 플립칩 반도체 패키지 |
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