KR101010421B1 - 중합성 조성물 및 이것을 이용한 수지 및 광학부품 - Google Patents

Abstract

하기 일반식(1)로 표시되는 화합물과 티올 화합물을 함유하는 중합성 조성물.

[화1]

(상기 일반식(1) 중, M은, 금속원자를 나타내고, X₁ 및 X₂는 각각 독립하여 황원자 또는 산소원자를 나타내고, R₁은 2가의 유기기를 나타내고, M은 0 또는 1 이상의 정수를 나타내고, p는 1 이상 n 이하의 정수를 나타내고, n은 금속원자 M의 가수를 나타내고, Y는 각각 독립하여 무기 또는 유기 잔기를 나타내고, n-p가 2 이상인 경우, Y는 서로 결합하여, 금속원자 M을 포함하는 환을 형성하고 있어도 좋다.)

Description

중합성 조성물 및 이것을 이용한 수지 및 광학부품{POLYMERIZABLE COMPOSITION, AND RESIN AND OPTICAL PART USING THE SAME}

본 발명은, 중합성 조성물, 상기 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 수지, 및 상기 수지로 이루어지는 광학부품에 관한 것이다.

무기 유리는, 투명성이 뛰어나고, 광학 이방성이 작은 등의 여러 가지 제 물성이 뛰어난 것으로부터, 투명성 재료로서 넓은 분야에서 사용되고 있다. 그러나, 무겁고 파손하기 쉬우며, 성형 가공하여 제품을 얻을 때의 생산성이 나쁜 등의 단점이 있어, 무기 유리에 대신하는 소재로서 투명성 유기 고분자 재료(광학용 수지)가 사용되고 있다. 이들의 광학용 수지로부터 얻어지는 광학부품으로서는, 예를 들어, 시력 교정용 안경 렌즈나 디지털 카메라 등의 촬영기기용 렌즈 등의 플라스틱 렌즈 등이 있어, 실용화되어 보급을 하고 있다. 특히, 시력 교정용 안경 렌즈의 용도에 있어서는, 무기 유리제의 렌즈와 비교하여 경량이며, 깨지기 어렵고, 염색이 가능하여 패션성이 풍부하다는 등의 장점을 살려 널리 사용되고 있다.

종래, 안경 렌즈에 이용되는 광학용 수지로서 디에틸렌글리콜비스알릴카르보네이트를 가열하에 주형 중합하여 얻어지는 가교형 수지(통칭, DAC 수지)가 실용화 되어 있고, 투명성, 내열성이 양호하고 색수차가 낮다는 특징으로부터, 범용의 시 력 교정용 플라스틱 안경 렌즈용도에 있어서 가장 많이 사용되어 왔다. 그러나, 굴절률이 낮기(nd=1.50)때문에 플라스틱 렌즈의 중심 두께나 주변의 두께(코바 두께)가 커지게 되어, 착용감, 패션성이 뒤떨어지는 등의 문제가 있고, 이들 문제를 해결할 수 있는 고굴절률의 플라스틱 렌즈용 수지가 요구되어 개발이 행해졌다.

그 흐름 중에 있어서, 디이소시아네이트 화합물과 폴리티올 화합물을 주형 중합시켜 얻어지는 황원자를 함유하는 폴리티오우레탄은, 투명성, 내충격성이 뛰어나고, 고굴절률(nd=1.6~1.7)이고, 또한, 색수차도 비교적 낮은 등의 극히 뛰어난 특징을 실현하여, 얇은 두께, 경량의 고품질의 시력 교정용 플라스틱 안경 렌즈의 용도로 사용되어 오고 있다.

한편, 더욱 높은 굴절률을 가지는 광학용 수지를 추구하는 흐름 중에서, 에피설피드기를 가지는 화합물(특허문헌 1, 특허문헌 2)이나 티에탄기를 가지는 화합물(특허문헌 3)을 중합시켜 얻어지는 투명성 수지나 Se함유 화합물을 중합시켜 얻어지는 수지(특허문헌 4) 등 몇 가지 제안이 되고 있다. 그러나, 에피설피드기를 가지는 화합물을 중합시켜 얻어지는 투명성 수지에 있어서는 기계 물성의 점에서, 티에탄기를 가지는 화합물에 있어서는, 그 중합성의 점에서, Se 등의 금속 함유 화합물을 중합시켜 얻어지는 수지에 있어서는 안전성을 더욱 향상시키는 점에서, 각각 새로운 개량이 요망되고 있다. 또한 최근에는, 플라스틱 렌즈로서 필요한 제 특성(투명성, 열적 특성, 기계적 특성 등)을 가지면서, 또한, 굴절률(nd)이, 예를 들어 1.7을 넘는, 더욱 고굴절률의 광학용 수지가 요구되어 개발이 행해지고 있다. 이러한 환경하에, 금속 함유 티에탄 화합물이 새롭게 발견되어, 굴절률(nd) 1.7을 넘는 고굴절률의 광학용 수지가 제안되고 있다(특허문헌 5).

특허문헌 1 : 일본 특허공개공보 평9-110979호

특허문헌 2 : 일본 특허공개공보 평11-322930호

특허문헌 3 : 일본 특허공개공보 2003-327583호

특허문헌 4 : 일본 특허공개공보 평11-140046호

특허문헌 5 : 국제공개 제2005-095490호 팜플렛

발명의 개시

발명이 해결하고자 하는 과제

본 발명은, 플라스틱 렌즈 등의 광학부품에 필요한 제 특성(투명성, 열적 특성, 기계적 특성 등)을 가지면서, 또한, 굴절률(nd) 1.7을 넘는 매우 높은 굴절률을 제공하는, 중합성 조성물, 상기 조성물을 중합하여 얻어지는 수지 및 상기 수지로 이루어지는 광학부품 및 렌즈를 제공한다.

과제를 해결하기 위한 수단

본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해서, 금속 함유 티에탄 화합물에 관해서 예의 검토한 결과, 금속 함유 티에탄 화합물과 티올 화합물을 공중합시킴으로써, 얻어지는 수지의 굴절률, 기계 물성 및 색상의 밸런스를 향상시킬 수 있는 것을 발견하여, 본 발명에 도달했다.

즉, 본 발명은,

[1] 하기 일반식(1)로 표시되는 화합물과 티올 화합물을 함유하는 중합성 조성물；

[화1]

(상기 일반식(1) 중, M은, 금속원자를 나타내고, X₁ 및 X₂는 각각 독립하여 황원자 또는 산소원자를 나타내고, R₁은 2가의 유기기를 나타내고, M은 0 또는 1 이상의 정수를 나타내고, p는 1 이상 n 이하의 정수를 나타내고, n은 금속원자 M의 가수를 나타내고, Y는 각각 독립하여 무기 또는 유기 잔기를 나타내고, n-p가 2 이상인 경우, Y는 서로 결합하여, 금속원자 M을 포함하는 환을 형성하고 있어도 좋다.)

[2] [1]에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물에 있어서, m=0인, 중합성 조성물；

[3] [1]에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물에 있어서, m=0이고, X₁이 황원자인, 중합성 조성물；

[4] [3]에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 상기 티올 화합물이, 3-메르캅토티에탄, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸 및 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인, 중합성 조성물；

[5] [3]에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물이, 하기 일반식(13)으로 표시되는 화합물인, 중합성 조성물；

[화2]

(상기 일반식(13) 중, M은 장주기형 주기표의 14족 원소이다. n은, 각각, 상기 일반식(1)에 있어서의 n과 같다. p는 2 이상 (n-1)이하의 정수이다.

n-p가 1인 경우, R₂는, 치환기를 가져도 좋은 탄소수 1 이상 3 이하의 직쇄상 혹은 분기쇄를 가지는 알킬기를 나타낸다.

n-p가 2 이상인 경우, 복수의 R₂는, 각각 독립하여, 치환기를 가져도 좋은 탄소수 1 이상 3 이하의 직쇄상 혹은 분기쇄를 가지는 알킬기를 나타낸다. 또한, 복수의 R₂가 서로 결합하여 M을 포함하는 환을 형성하여도 좋고, 이 경우, 환을 형성하는 알킬쇄는 탄소수 1 이상 3 이하이며, 환을 구성하는 부분에는, 황원자를 포함하지 않는다.)

[6] [5]에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 상기 티올 화합물이, 3-메르캅토티에탄, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸 및 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인, 중합성 조성물；

[7] [5]에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 상기 일반식(13)으로 표시되는 화합물에 있어서, 상기 금속원자가 Sn 원자인, 중합성 조성물；

[8] [3]에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 에피설피드 화합물을 더 포함하는, 중합성 조성물；

[9] [8]에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 상기 에피설피드 화합물이, 비스(2,3-에피티오프로필)설피드 및 비스(2,3-에피티오프로필)디설피드의 어느 하나인, 중합성 조성물；

[10] [3]에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 단체황을 더 포함하는, 중합성 조성물；

[11] [3]에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 분자구조 중에 금속원자를 포함하지 않는 티에탄 화합물을 더 포함하는, 중합성 조성물；

[12] [11]에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 상기 분자구조 중에 금속원자를 포함하지 않는 티에탄 화합물이, 비스(3-티에타닐)디설피드인, 중합성 조성물；

[13] [3]에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 에폭시 화합물을 더 포함하는, 중합성 조성물；

[14] [13]에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 상기 에폭시 화합물이, 시클로헥산디메탄올디글리시딜에테르 및 비스페놀F 글리시딜에테르의 어느 하나인, 중합성 조성물；

[15] [3]에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 이소(티오)시아네이트 화합물을 더 포함하는, 중합성 조성물；

[16] [15]에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 상기 이소(티오)시아네이트 화합물이, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)비시클로[2.2.1]헵탄, 2,6-비스(이소시아네이토메틸)비시클로[2.2.1]헵탄, 또는 이들의 혼합물인, 중합성 조성물；

[17] [3]에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 탄소-탄소 이중결합을 가지는 화합물을 더 포함하는, 중합성 조성물；

[18] [17]에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 상기 탄소-탄소 이중결합을 가지는 화합물이, 트리알릴이소시아누레이트인, 중합성 조성물；

[19] [1]에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물에 있어서 n=p, m=0, X₁이 황원자인, 중합성 조성물；

[20] [19]에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물에 있어서, 상기 금속원자가 Sn 원자인, 중합성 조성물；

[21] [19]에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 상기 티올 화합물이, 3-메르캅토티에탄, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸 및 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인, 중합성 조성물；

[22] [1]에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물에 있어서, 상기 금속원자가, 장주기형 주기표의 4족, 12족, 13족, 14족 및 15족의 어느 하나인, 중합성 조성물；

[23] [22]에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물에 있어서, 상기 금속원자가 Sn 원자인, 중합성 조성물；

[24] [23]에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 상기 티올 화합물이, 3-메르캅토티에탄, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸 및 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인, 중합성 조성물；

[25] [1]에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 상기 티올 화합물이, 3-메르캅토티에탄, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸 및 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인, 중합성 조성물；

[26] [1]에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물의 함유량이, 50중량% 이상인, 중합성 조성물；

[27] [1]에 기재된 중합성 조성물에 있어서,

당해 중합성 조성물 중의 티올기의 몰비가, 당해 중합성 조성물 중의 이소(티오)시아네이트기, 에폭시기, 에피설피드기, 탄소-탄소 이중결합 및 금속원자를 포함하지 않는 티에탄 화합물 중의 티에타닐기의 합계에 대해서, 0.7 이상인, 중합성 조성물；

[28] [1]에 기재된 중합성 조성물을 주형 중합하는 공정을 포함하는, 수지의 제조방법；

[29] [1]에 기재된 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 수지；및

[30] [29]에 기재된 수지로 이루어지는 광학부품；

이다.

발명의 효과

본 발명의 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 수지는, 높은 투명성, 양호한 내열성과 기계적 강도를 가지면서도, 또한, 굴절률(nd) 1.7을 넘는 고굴절률을 가지고 있고, 예를 들어, 플라스틱 렌즈 등의 광학부품에 사용되는 수지로서 유용하다.

발명을 실시하기 위한 최선의 형태

이하, 본 발명을 상세하게 설명한다.

또, 이하의 설명에 있어서, 본 발명에 있어서의 중합성 조성물의 성분이 복수의 관능기를 가질 때의 관능기의 우선순위는, 이하로 한다.

(i)티올기

(ii)이소시아네이트기

(iii)에폭시기

(iv)에피설피드기

(v)탄소-탄소 이중결합

(vi)티에타닐기

예를 들어, 이하에 있어서, 티올기와 티에타닐기를 가지는 화합물에 관해서는, 티올 화합물의 항에서 설명한다. 또한, 예를 들어 에폭시기와 탄소-탄소 이중결합을 가지고 있는 화합물에 관해서는, 에폭시 화합물의 항에서 설명한다.

본 발명에 있어서의 중합성 조성물은, 하기 일반식(1)로 표시되는 금속 함유 티에탄 화합물 및 티올 화합물을 함유한다.

이하, 각 성분에 관해서, 구체예를 이용하여 설명하지만, 본 발명은, 이하의 예시 화합물로 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 발명에 있어서, 각 성분에 관해서, 예시 화합물을 단독으로 이용하여도 좋고, 복수 조합시켜 이용하여도 좋다.

우선, 금속 함유 티에탄 화합물에 관해서 설명한다. 이 화합물은, 하기 일반식(1)로 표시된다.

[화3]

(상기 일반식(1) 중, M은, 금속원자를 나타내고, X₁ 및 X₂는 각각 독립하여 황원자 또는 산소원자를 나타내고, R₁은 2가의 유기기를 나타내고, m은 0 또는 1 이상의 정수를 나타내고, p는 1 이상 n 이하의 정수를 나타내고, n은 금속원자 M의 가수를 나타내고, Y는 각각 독립하여 무기 또는 유기 잔기를 나타내고, n-p가 2 이상인 경우, Y는 서로 결합하여, 금속원자 M을 포함하는 환을 형성하고 있어도 좋다.)

처음에, 상기 일반식(1)에 있어서의 M에 관해서 설명한다. 상기 일반식(1)에 있어서, M은, 금속원자를 나타낸다. M으로서, 예를 들어 Cu 원자, Au 원자, Ag 원자 등의 장주기형 주기표(이하, 동일.)의 11족 원소；

Zn 원자 등의 12족의 원소；

Al 원자 등의 13족의 원소；

Zr 원자, Ti 원자 등의 4족의 원소；

Sn 원자, Si 원자, Ge 원자, Pb 원자 등의 14족의 원소；

Bi 원자 등의 15족의 원소；및

Fe 원자, Pt 원자 등의 8 또는 10족의 원소를 들 수 있다.

M은, 바람직하게는,

Sn 원자, Si 원자, Ge 원자, Pb 원자 등의 14족의 원소；

Zr 원자, Ti 원자 등의 4족의 원소；

Al 원자 등의 13족의 원소；또는

Zn 원자 등의 12족의 원소이고, 더욱 바람직하게는 Sn 원자, Si 원자, Ge 원자 등의 14족의 원소 또는 Zr 원자, Ti 원자 등의 4족의 원소이고, 보다 한층 바람직하게는 Sn 원자이다.

다음에, 상기 일반식(1) 중의, 티에타닐기를 포함해 M에 결합하는 기에 관해서 설명한다. 상기 일반식(1)에 있어서, X₁ 및 X₂는, 각각 독립하여 황원자 또는 산소원자를 나타낸다. 본 발명의 소망하는 효과인 고굴절률인 것을 감안하면, X₁ 및 X₂로서, 황원자는 보다 바람직하다.

상기 일반식(1)에 있어서, R₁은 2가의 유기기를 나타낸다.

이들의 2가의 유기기로서는, 쇄상 또는 환상 지방족기, 방향족기 및 방향족-지방족기를 들 수 있고, 바람직하게는, 탄소수 1 이상 20 이하의 쇄상 지방족기, 탄소수 3 이상 20 이하의 환상 지방족기, 탄소수 5 이상 20 이하의 방향족기, 탄소수 6 이상 20 이하의 방향족-지방족기이다.

R₁은, 보다 구체적으로는, 이들의 2가의 유기기가 쇄상 또는 환상 지방족기, 방향족기 또는 방향족-지방족기로서, 바람직하게는,

메틸렌기, 에틸렌기, 1,2-디클로로에틸렌기, 트리메틸렌기, 테트라메틸렌기, 펜타메틸렌기, 시클로펜틸렌기, 헥사메틸렌기, 시클로헥실렌기, 헵타메틸렌기, 옥타메틸렌기, 노나메틸렌기, 데카메틸렌기, 운데카메틸렌기, 도데카메틸렌기, 트리데카메틸렌기, 테트라데카메틸렌기, 펜타데카메틸렌기 등의 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 또는 무치환의 쇄상 또는 환상 지방족기；

페닐렌기, 클로로페닐렌기, 나프틸렌기, 인데닐렌기, 안트라세닐렌기, 플루오레닐렌기 등의 치환 또는 무치환의 탄소수 5 이상 20 이하의 방향족기；또는

-C₆H₄-CH₂-기, -CH₂-C₆H₄-CH₂-기, -CH₂-C₆H₃(Cl)-CH₂-기, -C₁₀H₆-CH₂-기, -CH₂-C₁₀H₆-CH₂-기, -CH₂CH₂-C₆H₄-CH₂CH₂-기 등의 치환 또는 무치환의 탄소수 6 이상 20 이하의 방향족-지방족기이다.

R₁은, 보다 바람직하게는 메틸렌기, 에틸렌기, 1,2-디클로로에틸렌기, 트리메틸렌기, 시클로펜틸렌기, 시클로헥실렌기 등의 탄소수 1 이상 6 이하의 치환 또는 무치환의 쇄상 또는 환상 지방족기；

페닐렌기, 클로로페닐렌기, 나프틸렌기, 인데닐렌기, 안트라세닐렌기, 플루오레닐렌기 등의 치환 또는 무치환의 탄소수 5 이상 15 이하의 방향족기；또는

-C₆H₄-CH₂-기, -CH₂-C₆H₄-CH₂-기, -CH₂-C₆H₃(Cl)-CH₂-기, -C₁₀H₆-CH₂-기, -CH₂-C₁₀H₆-CH₂-기, -CH₂CH₂-C₆H₄-CH₂CH₂-기 등의 치환 또는 무치환의 탄소수 6 이상 15 이하의 방향족-지방족기이다.

이들의 2가의 유기기는, 기 중에 탄소원자, 수소원자 이외의 헤테로원자를 함유하고 있어도 좋다. 이들의 헤테로원자로서는, 산소원자 또는 황원자를 들 수 있지만, 본 발명의 소망의 효과를 고려하면, 황원자인 것이 바람직하다.

상기 일반식(1)에 있어서, m은 0 또는 1 이상의 정수를 나타낸다. 이들의 M은, 바람직하게는, 0 이상 4 이하의 정수이고, 보다 바람직하게는, 0 이상 2 이하의 정수이고, 더욱 바람직하게는, 정수 0 또는 1이다.

또한, 상기 일반식(1) 중의, 티에타닐기를 포함하고 M에 결합하는 기에 있어서, 보다 한층 바람직하게는, m=0이며, 또한 X₁이 황원자이다. 이 때, 상기 일반식(1)은, 하기 일반식(12)으로 표시된다.

[화4]

(상기 일반식(12) 중, M, Y, p 및 n은, 각각, 상기 일반식(1)에 있어서의 M, Y, p 및 n와 같다.)

또, 상기 일반식(12)에 있어서, 바람직하게는 n=p이며, 더욱 바람직하게는 n=p 또한 M이 Sn이다.

다음에, 상기 일반식(1) 중, M에 결합하는 -(Y)_n-p기에 관해서 설명한다.

상기 일반식(1)에 있어서, n은 금속원자 M의 가수를 나타낸다.

또한, p는 1 이상 n 이하의 정수를 나타낸다. 이러한 p는, 바람직하게는, n, n-1 또는 n-2이며, 보다 바람직하게는, n 또는 n-1이다.

상기 일반식(1)에 있어서, Y는, 각각 독립하여 무기 또는 유기 잔기를 나타낸다.

상기 일반식(1)로 표시되는 화합물이 복수의 Y를 포함할 때, 복수의 Y는, 각각 독립하여 무기 또는 유기 잔기를 나타낸다. 요컨대, 복수의 Y는 같은 기이더라도 좋고, 다른 기이더라도 좋다. 더욱 구체적으로는, 복수의 Y가 각각 서로 다르더라도 좋고, 복수의 Y 중 일부가 공통의 기이더라도 좋고, 복수의 Y의 모두가 같은 기이더라도 좋다.

Y를 구성하는 무기 또는 유기 잔기로서는, 특별히 제한되는 것은 아니지만, 예를 들어, 수소원자, 할로겐원자, 수산기, 티올기, 치환 또는 무치환의 알킬기, 치환 또는 무치환의 아릴기, 치환 또는 무치환의 아랄킬기, 치환 또는 무치환의 알콕시기, 치환 또는 무치환의 알킬티오기, 치환 또는 무치환의 아릴옥시기, 치환 또는 무치환의 아릴티오기가 표시된다.

이들 중, 할로겐원자, 치환 또는 무치환의 알킬기, 치환 또는 무치환의 아릴기, 치환 또는 무치환의 아랄킬기, 치환 또는 무치환의 알콕시(알킬옥시)기, 치환 또는 무치환의 알킬티오기, 치환 또는 무치환의 아릴옥시기, 치환 또는 무치환의 아릴티오기에 관해서 이하 설명한다.

할로겐원자의 구체예로서, 불소원자, 염소원자, 브롬원자 및 요오드원자를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 알킬기의 구체예로서, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, n-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, 등의 총 탄소수 1 이상 10 이하의 직쇄 알킬기；

이소프로필기, 이소부틸기, sec-부틸기, 이소펜틸기, sec-펜틸기, 1-메틸펜틸기, 2-메틸펜틸기, 3-메틸펜틸기, 4-메틸펜틸기, 1-에틸부틸기, 2-에틸부틸기, 1-메틸헥실기, 2-메틸헥실기, 3-메틸헥실기, 4-메틸헥실기, 5-메틸헥실기, 1-에틸펜틸기, 2-에틸펜틸기, 3-에틸펜틸기, 1-n-프로필부틸기, 1-iso-프로필부틸기, 1-iso-프로필-2-메틸프로필기, 1-메틸헵틸기, 2-메틸헵틸기, 3-메틸헵틸기, 4-메틸헵틸기, 5-메틸헵틸기, 6-메틸헵틸기, 1-에틸헥실기, 2-에틸헥실기, 3-에틸헥실기, 4-에틸헥실기, 1-n-프로필펜틸기, 2-n-프로필펜틸기, 1-iso-프로필펜틸기, 2-iso-프로필펜틸기, 1-n-부틸부틸기, 1-iso-부틸부틸기, 1-sec-부틸부틸기, 1-tert-부틸부틸기, 2-tert-부틸부틸기, tert-부틸기, tert-펜틸기, 1,1-디메틸부틸기, 1,2-디메틸부틸기, 1,3-디메틸부틸기, 2,3-디메틸부틸기, 1-에틸-2-메틸프로필기, 1,1-디메틸펜틸기, 1,2-디메틸펜틸기, 1,3-디메틸펜틸기, 1,4-디메틸펜틸기, 2,2-디메틸펜틸기, 2,3-디메틸펜틸기, 2,4-디메틸펜틸기, 3,3-디메틸펜틸기, 3,4-디메틸펜틸기, 1-에틸-1-메틸부틸기, 1-에틸-2-메틸부틸기, 1-에틸-3-메틸부틸기, 2-에틸-1-메틸부틸기, 2-에틸-3-메틸부틸기, 1,1-디메틸헥실기, 1,2-디메틸헥실기, 1,3-디메틸헥실기, 1,4-디메틸헥실기, 1,5-디메틸헥실기, 2,2-디메틸헥실기, 2,3-디메틸헥실기, 2,4-디메틸헥실기, 2,5-디메틸헥실기, 3,3-디메틸헥실기, 3,4-디메틸헥실기, 3,5-디메틸헥실기, 4,4-디메틸헥실기, 4,5-디메틸헥실기, 1-에틸-2-메틸펜틸기, 1-에틸-3-메틸펜틸기, 1-에틸-4-메틸펜틸기, 2-에틸-1-메틸펜틸기, 2-에틸-2-메틸펜틸기, 2-에틸-3-메틸펜틸기, 2-에틸-4-메틸펜틸기, 3-에틸-1-메틸펜틸기, 3-에틸-2-메틸펜틸기, 3-에틸-3-메틸펜틸기, 3-에틸-4-메틸펜틸기, 1-n-프로필-1-메틸부틸기, 1-n-프로필-2-메틸부틸기, 1-n-프로필-3-메틸부틸기, 1-iso-프로필-1-메틸부틸기, 1-iso-프로필-2-메틸부틸기, 1-iso-프로필-3-메틸부틸기, 1,1-디에틸부틸기, 1,2-디에틸부틸기, 1,1,2-트리메틸프로필기, 1,2,2-트리메틸프로필기, 1,1,2-트리메틸부틸기, 1,1,3-트리메틸부틸기, 1,2,3-트리메틸부틸기, 1,2,2-트리메틸부틸기, 1,3,3-트리메틸부틸기, 2,3,3-트리메틸부틸기, 1,1,2-트리메틸펜틸기, 1,1,3-트리메틸펜틸기, 1,1,4-트리메틸펜틸기, 1,2,2-트리메틸펜틸기, 1,2,3-트리메틸펜틸기, 1,2,4-트리메틸펜틸기, 1,3,4-트리메틸펜틸기, 2,2,3-트리메틸펜틸기, 2,2,4-트리메틸펜틸기, 2,3,4-트리메틸펜틸기, 1,3,3-트리메틸펜틸기, 2,3,3-트리메틸펜틸기, 3,3,4-트리메틸펜틸기, 1,4,4-트리메틸펜틸기, 2,4,4-트리메틸펜틸기, 3,4,4-트리메틸펜틸기, 1-에틸-1,2-디메틸부틸기, 1-에틸-1,3-디메틸부틸기, 1-에틸-2,3-디메틸부틸기, 2-에틸-1,1-디메틸부틸기, 2-에틸-1,2-디메틸부틸기, 2-에틸-1,3-디메틸부틸기, 2-에틸-2,3-디메틸부틸기 등의 총 탄소수 3 이상 10 이하의 분기 알킬기；및

시클로펜틸기, 시클로헥실기, 메틸시클로펜틸기, 메톡시시클로펜틸기, 메톡시시클로헥실기, 메틸시클로헥실기, 1,2-디메틸시클로헥실기, 1,3-디메틸시클로헥실기, 1,4-디메틸시클로헥실기, 에틸시클로헥실기 등의 총 탄소수 5 이상 10 이하의 포화 환상 알킬기를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 아릴기의 구체예로서, 페닐기, 나프틸기, 안트라닐기, 시클로펜타디에닐기 등의 총 탄소수 20 이하의 방향족 탄화수소；

2-메틸페닐기, 3-메틸페닐기, 4-메틸페닐기, 2-에틸페닐기, 프로필페닐기, 부틸페닐기, 헥실페닐기, 시클로헥실페닐기, 옥틸페닐기, 2-메틸-1-나프틸기, 3-메틸-1-나프틸기, 4-메틸-1-나프틸기, 5-메틸-1-나프틸기, 6-메틸-1-나프틸기, 7-메틸-1-나프틸기, 8-메틸-1-나프틸기, 1-메틸-2-나프틸기, 3-메틸-2-나프틸기, 4-메틸-2-나프틸기, 5-메틸-2-나프틸기, 6-메틸-2-나프틸기, 7-메틸-2-나프틸기, 8-메틸-2-나프틸기, 2-에틸-1-나프틸기, 2,3-디메틸페닐기, 2,4-디메틸페닐기, 2,5-디메틸페닐기, 2,6-디메틸페닐기, 3,4-디메틸페닐기, 3,5-디메틸페닐기, 3,6-디메틸페닐기, 2,3,4-트리메틸페닐기, 2,3,5-트리메틸페닐기, 2,3,6-트리메틸페닐기, 2,4,5-트리메틸페닐기, 2,4,6-트리메틸페닐기, 3,4,5-트리메틸페닐기 등의 총 탄소수 20 이하의 알킬치환 아릴기；

2-메톡시페닐기, 3-메톡시페닐기, 4-메톡시페닐기, 2-에톡시페닐기, 프로폭시페닐기, 부톡시페닐기, 헥실옥시페닐기, 시클로헥실옥시페닐기, 옥틸옥시페닐기, 2-메톡시-1-나프틸기, 3-메톡시-1-나프틸기, 4-메톡시-1-나프틸기, 5-메톡시-1-나프틸기, 6-메톡시-1-나프틸기, 7-메톡시-1-나프틸기, 8-메톡시-1-나프틸기, 1-메톡시-2-나프틸기, 3-메톡시-2-나프틸기, 4-메톡시-2-나프틸기, 5-메톡시-2-나프틸기, 6-메톡시-2-나프틸기, 7-메톡시-2-나프틸기, 8-메톡시-2-나프틸기, 2-에톡시-1-나프틸기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환된 총 탄소수 20 이하의 모노알콕시아릴기；

2,3-디메톡시페닐기, 2,4-디메톡시페닐기, 2,5-디메톡시페닐기, 2,6-디메톡시페닐기, 3,4-디메톡시페닐기, 3,5-디메톡시페닐기, 3,6-디메톡시페닐기, 4,5-디메톡시-1-나프틸기, 4,7-디메톡시-1-나프틸기, 4,8-디메톡시-1-나프틸기, 5,8-디메톡시-1-나프틸기, 5,8-디메톡시-2-나프틸기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환된 총 탄소수 20 이하의 디알콕시아릴기；

2,3,4-트리메톡시페닐기, 2,3,5-트리메톡시페닐기, 2,3,6-트리메톡시페닐기, 2,4,5-트리메톡시페닐기, 2,4,6-트리메톡시페닐기, 3,4,5-트리메톡시페닐기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환된 총 탄소수 20 이하의 트리알콕시아릴기；및

클로로페닐기, 디클로로로페닐기, 트리클로로페닐기, 브로모페닐기, 디브로모페닐기, 요오도페닐기, 플루오로페닐기, 클로로나프틸기, 브로모나프틸기, 디플루오로페닐기, 트리플루오로페닐기, 테트라플루오로페닐기, 펜타플루오로페닐기 등의 할로겐원자가 치환된 총 탄소수 20 이하의 아릴기를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 아랄킬기의 구체예로서, 벤질기, 페네틸기, 페닐프로필기, 나프틸에틸기, 또는, 치환 또는 무치환의 아릴기의 구체예로 든 아릴기를 측쇄에 가지는 메틸기, 에틸기, 프로필기를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 알킬옥시기의 구체예로서, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, iso-프로폭시기, n-부톡시기, iso-부톡시기, tert-부톡시기, n-펜틸옥시기, iso-펜틸옥시기, n-헥실옥시기, iso-헥실옥시기, 2-에틸헥실옥시기, 3,5,5-트리메틸헥실옥시기, n-헵틸옥시기, n-옥틸옥시기, n-노닐옥시기 등의 총 탄소수 1 이상 10 이하의 직쇄 또는 분기의 알콕시기；

시클로펜틸옥시기, 시클로헥실옥시기 등 총 탄소수 5 이상 10 이하의 시클로알콕시기；

메톡시메톡시기, 에톡시메톡시기, 에톡시에톡시기, n-프로폭시메톡시기, iso-프로폭시메톡시기, n-프로폭시에톡시기, iso-프로폭시에톡시기, n-부톡시에톡시기, iso-부톡시에톡시기, tert-부톡시에톡시기, n-펜틸옥시에톡시기, iso-펜틸옥시에톡시기, n-헥실옥시에톡시기, iso-헥실옥시에톡시기, n-헵틸옥시에톡시기 등의 총 탄소수 2 이상 10 이하의 알콕시알콕시기；및

벤질옥시기 등의 아랄킬옥시기를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 알킬티오기의 구체예로서, 메틸티오기, 에틸티오기, n-프로필티오기, iso-프로필티오기, n-부틸티오기, iso-부틸티오기, sec-부틸티오기, t-부틸티오기, n-펜틸티오기, iso-펜틸티오기, n-헥실티오기, iso-헥실티오기, 2-에틸헥실티오기, 3,5,5-트리메틸헥실티오기, n-헵틸티오기, n-옥틸티오기, n-노닐 티오기 등의 총 탄소수 1 이상 10 이하의 직쇄 또는 분기의 알킬티오기；

시클로펜틸티오기, 시클로헥실티오기 등 총 탄소수 5 이상 10 이하의 시클로알킬티오기；

메톡시에틸티오기, 에톡시에틸티오기, n-프로폭시에틸티오기, iso-프로폭시에틸티오기, n-부톡시에틸티오기, iso-부톡시에틸티오기, tert-부톡시에틸티오기, n-펜틸옥시에틸티오기, iso-펜틸옥시에틸티오기, n-헥실옥시에틸티오기, iso-헥실옥시에틸티오기, n-헵틸옥시에틸티오기 등의 총 탄소수 2 이상 10 이하의 알콕시알킬티오기；

벤질티오기 등의 아랄킬티오기；및

메틸티오에틸티오기, 에틸티오에틸티오기, n-프로필티오에틸티오기, iso-프로필티오에틸티오기, n-부틸티오에틸티오기, iso-부틸티오에틸티오기, tert-부틸티오에틸티오기, n-펜틸티오에틸티오기, iso-펜틸티오에틸티오기, n-헥실티오에틸티오기, iso-헥실티오에틸티오기, n-헵틸티오에틸티오기 등의 총 탄소수 2 이상 10 이하의 알킬티오알킬티오기를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 아릴옥시기의 구체예로서, 페닐옥시기, 나프틸옥시기, 안트라닐옥시기, 2-메틸페닐옥시기, 3-메틸페닐옥시기, 4-메틸페닐옥시기, 2-에틸페닐옥시기, 프로필페닐옥시기, 부틸페닐옥시기, 헥실페닐옥시기, 시클로헥실페닐옥시기, 옥틸페닐옥시기, 2-메틸-1-나프틸옥시기, 3-메틸-1-나프틸옥시기, 4-메틸-1-나프틸옥시기, 5-메틸-1-나프틸옥시기, 6-메틸-1-나프틸옥시기, 7-메틸-1-나프틸옥시기, 8-메틸-1-나프틸옥시기, 1-메틸-2-나프틸옥시기, 3-메틸-2-나프틸옥시기, 4-메틸-2-나프틸옥시기, 5-메틸-2-나프틸옥시기, 6-메틸-2-나프틸옥시기, 7-메틸-2-나프틸옥시기, 8-메틸-2-나프틸옥시기, 2-에틸-1-나프틸옥시기, 2,3-디메틸페닐옥시기, 2,4-디메틸페닐옥시기, 2,5-디메틸페닐옥시기, 2,6-디메틸페닐옥시기, 3,4-디메틸페닐옥시기, 3,5-디메틸페닐옥시기, 3,6-디메틸페닐옥시기, 2,3,4-트리메틸페닐옥시기, 2,3,5-트리메틸페닐옥시기, 2,3,6-트리메틸페닐옥시기, 2,4,5-트리메틸페닐옥시기, 2,4,6-트리메틸페닐옥시기, 3,4,5-트리메틸페닐옥시기 등의 총 탄소수 20 이하의 무치환 또는 알킬치환 아릴옥시기；

2-메톡시페닐옥시기, 3-메톡시페닐옥시기, 4-메톡시페닐옥시기, 2-에톡시페닐옥시기, 프로폭시페닐옥시기, 부톡시페닐옥시기, 헥실옥시페닐옥시기, 시클로헥실옥시페닐옥시기, 옥틸옥시페닐옥시기, 2-메톡시-1-나프틸옥시기, 3-메톡시-1-나프틸옥시기, 4-메톡시-1-나프틸옥시기, 5-메톡시-1-나프틸옥시기, 6-메톡시-1-나프틸옥시기, 7-메톡시-1-나프틸옥시기, 8-메톡시-1-나프틸옥시기, 1-메톡시-2-나프틸옥시기, 3-메톡시-2-나프틸옥시기, 4-메톡시-2-나프틸옥시기, 5-메톡시-2-나프틸옥시기, 6-메톡시-2-나프틸옥시기, 7-메톡시-2-나프틸옥시기, 8-메톡시-2-나프틸옥시기, 2-에톡시-1-나프틸옥시기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환된 총 탄소수 20 이하의 모노알콕시아릴옥시기；

2,3-디메톡시페닐옥시기, 2,4-디메톡시페닐옥시기, 2,5-디메톡시페닐옥시기, 2,6-디메톡시페닐옥시기, 3,4-디메톡시페닐옥시기, 3,5-디메톡시페닐옥시기, 3,6-디메톡시페닐옥시기, 4,5-디메톡시-1-나프틸옥시기, 4,7-디메톡시-1-나프틸옥시기, 4,8-디메톡시-1-나프틸옥시기, 5,8-디메톡시-1-나프틸옥시기, 5,8-디메톡시-2-나프틸옥시기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환된 총 탄소수 20 이하의 디알콕시아릴옥시기；

2,3,4-트리메톡시페닐옥시기, 2,3,5-트리메톡시페닐옥시기, 2,3,6-트리메톡시페닐옥시기, 2,4,5-트리메톡시페닐옥시기, 2,4,6-트리메톡시페닐옥시기, 3,4,5-트리메톡시페닐옥시기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환된 총 탄소수 20 이하의 트리알콕시아릴옥시기；및

클로로페닐옥시기, 디클로로로페닐옥시기, 트리클로로페닐옥시기, 브로모페닐옥시기, 디브로모페닐옥시기, 요오도페닐옥시기, 플루오로페닐옥시기, 클로로나프틸옥시기, 브로모나프틸옥시기, 디플루오로페닐옥시기, 트리플루오로페닐옥시기, 테트라플루오로페닐옥시기, 펜타플루오로페닐옥시기 등의 할로겐원자가 치환된 총 탄소수 20 이하의 아릴옥시기를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 아릴티오기의 구체예로서, 페닐티오기, 나프틸티오기, 안트라닐티오기, 2-메틸페닐티오기, 3-메틸페닐티오기, 4-메틸페닐티오기, 2-에틸페닐티오기, 프로필페닐티오기, 부틸페닐티오기, 헥실페닐티오기, 시클로헥실페닐티오기, 옥틸페닐티오기, 2-메틸-1-나프틸티오기, 3-메틸-1-나프틸티오기, 4-메틸-1-나프틸티오기, 5-메틸-1-나프틸티오기, 6-메틸-1-나프틸티오기, 7-메틸-1-나프틸티오기, 8-메틸-1-나프틸티오기, 1-메틸-2-나프틸티오기, 3-메틸-2-나프틸티오기, 4-메틸-2-나프틸티오기, 5-메틸-2-나프틸티오기, 6-메틸-2-나프틸티오기, 7-메틸-2-나프틸티오기, 8-메틸-2-나프틸티오기, 2-에틸-1-나프틸티오기, 2,3-디메틸페닐티오기, 2,4-디메틸페닐티오기, 2,5-디메틸페닐티오기, 2,6-디메틸페닐티오기, 3,4-디메틸페닐티오기, 3,5-디메틸페닐티오기, 3,6-디메틸페닐티오기, 2,3,4-트리메틸페닐티오기, 2,3,5-트리메틸페닐티오기, 2,3,6-트리메틸페닐티오기, 2,4,5-트리메틸페닐티오기, 2,4,6-트리메틸페닐티오기, 3,4,5-트리메틸페닐티오기 등의 총 탄소수 20 이하의 무치환 또는 알킬치환 아릴티오기；

2-메톡시페닐티오기, 3-메톡시페닐티오기, 4-메톡시페닐티오기, 2-에톡시페닐티오기, 프로폭시페닐티오기, 부톡시페닐티오기, 헥실옥시페닐티오기, 시클로헥실옥시페닐티오기, 옥틸옥시페닐티오기, 2-메톡시-1-나프틸티오기, 3-메톡시-1-나프틸티오기, 4-메톡시-1-나프틸티오기, 5-메톡시-1-나프틸티오기, 6-메톡시-1-나프틸티오기, 7-메톡시-1-나프틸티오기, 8-메톡시-1-나프틸티오기, 1-메톡시-2-나프틸티오기, 3-메톡시-2-나프틸티오기, 4-메톡시-2-나프틸티오기, 5-메톡시-2-나프틸티오기, 6-메톡시-2-나프틸티오기, 7-메톡시-2-나프틸티오기, 8-메톡시-2-나프틸티오기, 2-에톡시-1-나프틸티오기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환된 총 탄소수 20 이하의 모노알콕시아릴티오기；

2,3-디메톡시페닐티오기, 2,4-디메톡시페닐티오기, 2,5-디메톡시페닐티오기, 2,6-디메톡시페닐티오기, 3,4-디메톡시페닐티오기, 3,5-디메톡시페닐티오기, 3,6-디메톡시페닐티오기, 4,5-디메톡시-1-나프틸티오기, 4,7-디메톡시-1-나프틸티오기, 4,8-디메톡시-1-나프틸티오기, 5,8-디메톡시-1-나프틸티오기, 5,8-디메톡시-2-나프틸티오기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환된 총 탄소수 20 이하의 디알콕시아릴티오기；

2,3,4-트리메톡시페닐티오기, 2,3,5-트리메톡시페닐티오기, 2,3,6-트리메톡시페닐티오기, 2,4,5-트리메톡시페닐티오기, 2,4,6-트리메톡시페닐티오기, 3,4,5-트리메톡시페닐티오기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환된 총 탄소수 20 이하의 트리알콕시아릴티오기；및

클로로페닐티오기, 디클로로로페닐티오기, 트리클로로페닐티오기, 브로모페닐티오기, 디브로모페닐티오기, 요오도페닐티오기, 플루오로페닐티오기, 클로로나프틸티오기, 브로모나프틸티오기, 디플루오로페닐티오기, 트리플루오로페닐티오기, 테트라플루오로페닐티오기, 펜타플루오로페닐티오기 등의 할로겐원자가 치환된 총 탄소수 20 이하의 아릴티오기 등을 들 수 있다. Y는 이들에 한정되는 것은 아니다.

이들의 Y에 있어서, 바람직한 예를 이하에 나타낸다.

바람직한 예로서, 예를 들어 수소원자를 들 수 있다.

또한, Y의 바람직한 예 중, 할로겐원자로서, 염소원자, 브롬원자, 요오드원자를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 알킬기로서, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, n-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, 등의 총 탄소수 1 이상 6 이하의 직쇄 알킬기；

이소프로필기, 이소부틸기, sec-부틸기, 이소펜틸기, sec-펜틸기, 1-메틸펜틸기, 2-메틸펜틸기, 3-메틸펜틸기, 4-메틸펜틸기, 1-에틸부틸기, 2-에틸부틸기, tert-부틸기, tert-펜틸기, 1,1-디메틸부틸기, 1,2-디메틸부틸기, 1,3-디메틸부틸기, 2,3-디메틸부틸기, 등의 총 탄소수 3 이상 6 이하의 분기 알킬기；및

시클로펜틸기, 시클로헥실기, 등의 총 탄소수 5 이상 6 이하의 포화 환상 알킬기를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 아릴기로서, 페닐기, 나프틸기, 시클로펜타디에닐기 등의 총 탄소수 12 이하의 방향족 탄화수소；

2-메틸페닐기, 3-메틸페닐기, 4-메틸페닐기, 2-에틸페닐기, 프로필페닐기, 부틸페닐기, 2,3-디메틸페닐기, 2,4-디메틸페닐기, 2,5-디메틸페닐기, 2,6-디메틸페닐기, 3,4-디메틸페닐기, 3,5-디메틸페닐기, 3,6-디메틸페닐기, 2,3,4-트리메틸페닐기, 2,3,5-트리메틸페닐기, 2,3,6-트리메틸페닐기, 2,4,5-트리메틸페닐기, 2,4,6-트리메틸페닐기, 3,4,5-트리메틸페닐기 등의 총 탄소수 12 이하의 알킬치환 아릴기；

2-메톡시페닐기, 3-메톡시페닐기, 4-메톡시페닐기, 2-에톡시페닐기, 프로폭시페닐기, 부톡시페닐기, 등의 탄소수 6 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환된 총 탄소수 12 이하의 모노알콕시아릴기；

2,3-디메톡시페닐기, 2,4-디메톡시페닐기, 2,5-디메톡시페닐기, 2,6-디메톡시페닐기, 3,4-디메톡시페닐기, 3,5-디메톡시페닐기, 3,6-디메톡시페닐기 등의 탄소수 6 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환된 총 탄소수 12 이하의 디알콕시아릴기；및

클로로페닐기, 디클로로로페닐기, 트리클로로페닐기, 브로모페닐기, 디브로모페닐기, 요오도페닐기, 플루오로페닐기, 클로로나프틸기, 브로모나프틸기, 디플루오로페닐기, 트리플루오로페닐기, 테트라플루오로페닐기, 펜타플루오로페닐기 등의 할로겐원자가 치환된 총 탄소수 12 이하의 아릴기를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 아랄킬기로서, 벤질기, 페네틸기, 페닐프로필기 등의 총 탄소수 12 이하의 아랄킬기를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 알킬옥시기로서, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, iso-프로폭시기, n-부톡시기, iso-부톡시기, tert-부톡시기, n-펜틸옥시기, iso-펜틸옥시기, n-헥실옥시기, iso-헥실옥시기 등의 총 탄소수 1 이상 6 이하의 직쇄 또는 분기의 알콕시기；

시클로펜틸옥시기, 시클로헥실옥시기 등 총 탄소수 5 또는 6의 시클로알콕시기；및

메톡시메톡시기, 에톡시메톡시기, 에톡시에톡시기, n-프로폭시메톡시기, iso-프로폭시메톡시기, n-프로폭시에톡시기, iso-프로폭시에톡시기, n-부톡시에톡시기, iso-부톡시에톡시기, tert-부톡시에톡시기 등의 총 탄소수 2 이상 6 이하의 알콕시알콕시기를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 알킬티오기로서, 메틸티오기, 에틸티오기, n-프로필티오기, iso-프로필티오기, n-부틸티오기, iso-부틸티오기, sec-부틸티오기, t-부틸티오기, n-펜틸티오기, iso-펜틸티오기, n-헥실티오기, iso-헥실티오기 등의 총 탄소수 1 이상 6 이하의 직쇄 또는 분기의 알킬티오기；

시클로펜틸티오기, 시클로헥실티오기 등 총 탄소수 5 또는 6의 시클로알킬티오기；

메톡시에틸티오기, 에톡시에틸티오기, n-프로폭시에틸티오기, iso-프로폭시에틸티오기, n-부톡시에틸티오기, iso-부톡시에틸티오기, tert-부톡시에틸티오기 등의 총 탄소수 2 이상 6 이하의 알콕시알킬티오기；및

메틸티오에틸티오기, 에틸티오에틸티오기, n-프로필티오에틸티오기, iso-프로필티오에틸티오기, n-부틸티오에틸티오기, iso-부틸티오에틸티오기, tert-부틸티오에틸티오기 등의 총 탄소수 2 이상 6 이하의 알킬티오알킬티오기를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 아릴옥시기로서, 페닐옥시기, 나프틸옥시기, 2-메틸페닐옥시기, 3-메틸페닐옥시기, 4-메틸페닐옥시기, 2-에틸페닐옥시기, 프로필페닐옥시기, 부틸페닐옥시기, 헥실페닐옥시기, 시클로헥실페닐옥시기, 2,4-디메틸페닐옥시기, 2,5-디메틸페닐옥시기, 2,6-디메틸페닐옥시기, 3,4-디메틸페닐옥시기, 3,5-디메틸페닐옥시기, 3,6-디메틸페닐옥시기, 2,3,4-트리메틸페닐옥시기, 2,3,5-트리메틸페닐옥시기, 2,3,6-트리메틸페닐옥시기, 2,4,5-트리메틸페닐옥시기, 2,4,6-트리메틸페닐옥시기, 3,4,5-트리메틸페닐옥시기 등의 총 탄소수 12 이하의 무치환 또는 알킬치환 아릴옥시기；

2-메톡시페닐옥시기, 3-메톡시페닐옥시기, 4-메톡시페닐옥시기, 2-에톡시페닐옥시기, 프로폭시페닐옥시기, 부톡시페닐옥시기, 헥실옥시페닐옥시기, 시클로헥실옥시페닐옥시기 등의 탄소수 6 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환된 총 탄소수 12 이하의 모노알콕시아릴옥시기；

2,3-디메톡시페닐옥시기, 2,4-디메톡시페닐옥시기, 2,5-디메톡시페닐옥시기, 2,6-디메톡시페닐옥시기, 3,4-디메톡시페닐옥시기, 3,5-디메톡시페닐옥시기, 3,6-디메톡시페닐옥시기 등의 탄소수 6 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환된 총 탄소수 12 이하의 디알콕시아릴옥시기；및

클로로페닐옥시기, 디클로로로페닐옥시기, 트리클로로페닐옥시기, 브로모페닐옥시기, 디브로모페닐옥시기, 요오도페닐옥시기, 플루오로페닐옥시기, 클로로나프틸옥시기, 브로모나프틸옥시기, 디플루오로페닐옥시기, 트리플루오로페닐옥시기, 테트라플루오로페닐옥시기, 펜타플루오로페닐옥시기 등의 할로겐원자가 치환된 총 탄소수 12 이하의 아릴옥시기를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 아릴티오기로서, 페닐티오기, 나프틸티오기, 2-메틸페닐티오기, 3-메틸페닐티오기, 4-메틸페닐티오기, 2-에틸페닐티오기, 프로필페닐티오기, 부틸페닐티오기, 헥실페닐티오기, 시클로헥실페닐티오기, 2,4-디메틸페닐티오기, 2,5-디메틸페닐티오기, 2,6-디메틸페닐티오기, 3,4-디메틸페닐티오기, 3,5-디메틸페닐티오기, 3,6-디메틸페닐티오기, 2,3,4-트리메틸페닐티오기, 2,3,5-트리메틸페닐티오기, 2,3,6-트리메틸페닐티오기, 2,4,5-트리메틸페닐티오기, 2,4,6-트리메틸페닐티오기, 3,4,5-트리메틸페닐티오기 등의 총 탄소수 12 이하의 무치환 또는 알킬치환 아릴티오기；

2-메톡시페닐티오기, 3-메톡시페닐티오기, 4-메톡시페닐티오기, 2-에톡시페닐티오기, 프로폭시페닐티오기, 부톡시페닐티오기, 헥실옥시페닐티오기, 시클로헥실옥시페닐티오기 등의 탄소수 6 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환된 총 탄소수 12 이하의 모노알콕시아릴티오기；

2,3-디메톡시페닐티오기, 2,4-디메톡시페닐티오기, 2,5-디메톡시페닐티오기, 2,6-디메톡시페닐티오기, 3,4-디메톡시페닐티오기, 3,5-디메톡시페닐티오기, 3,6-디메톡시페닐티오기, 4,5-디메톡시-1-나프틸티오기, 4,7-디메톡시-1-나프틸티오기, 4,8-디메톡시-1-나프틸티오기, 5,8-디메톡시-1-나프틸티오기, 5,8-디메톡시-2-나프틸티오기 등의 탄소수 6 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환된 총 탄소수 12 이하의 디알콕시아릴티오기；

클로로페닐티오기, 디클로로로페닐티오기, 트리클로로페닐티오기, 브로모페닐티오기, 디브로모페닐티오기, 요오도페닐티오기, 플루오로페닐티오기, 클로로나프틸티오기, 브로모나프틸티오기, 디플루오로페닐티오기, 트리플루오로페닐티오기, 테트라플루오로페닐티오기, 펜타플루오로페닐티오기 등의 할로겐원자가 치환된 총 탄소수 12 이하의 아릴티오기를 들 수 있다.

Y의 보다 바람직한 예를 이하에 나타낸다.

Y의 보다 바람직한 예로서, 예를 들어 수소원자를 들 수 있다.

또한, 할로겐원자로서 염소원자 및 브롬원자를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 알킬기로서, 메틸기, 에틸기, iso-프로필기 등의 총 탄소수 1 이상 3 이하의 직쇄 또는 분기 알킬기를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 아릴기로서, 페닐기, 나프틸기, 시클로펜타디에닐기 등의 총 탄소수 12 이하의 방향족 탄화수소；

2-메틸페닐기, 3-메틸페닐기, 4-메틸페닐기, 2-에틸페닐기, 프로필페닐기, 2,3-디메틸페닐기, 2,4-디메틸페닐기, 2,5-디메틸페닐기, 2,6-디메틸페닐기, 3,4-디메틸페닐기, 3,5-디메틸페닐기, 3,6-디메틸페닐기 등의 총 탄소수 9 이하의 알킬치환 아릴기；

2-메톡시페닐기, 3-메톡시페닐기, 4-메톡시페닐기, 2-에톡시페닐기, 프로폭시페닐기 등의 탄소수 3 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환된 총 탄소수 9 이하의 모노알콕시아릴기；및

클로로페닐기, 디클로로로페닐기, 트리클로로페닐기, 브로모페닐기, 디브로모페닐기, 클로로나프틸기, 브로모나프틸기 등의 할로겐원자가 치환된 총 탄소수 12 이하의 아릴기를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 아랄킬기로서, 벤질기, 페네틸기, 페닐프로필기 등의 총 탄소수 9 이하의 아랄킬기를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 알킬옥시기로서, 메톡시기, 에톡시기, iso-프로폭시기 등의 총 탄소수 1 이상 3 이하의 직쇄 또는 분기의 알콕시기；및

시클로펜틸옥시기, 시클로헥실옥시기 등 총 탄소수 5 또는 6의 시클로알콕시기를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 알킬티오기로서, 메틸티오기, 에틸티오기, n-프로필티오기, iso-프로필티오기 등의 총 탄소수 1 이상 3 이하의 직쇄 또는 분기의 알킬티오기；

시클로펜틸티오기, 시클로헥실티오기 등 총 탄소수 5 또는 6의 시클로알킬티오기；및

메틸티오에틸티오기, 에틸티오에틸티오기, n-프로필티오에틸티오기, iso-프로필티오에틸티오기, n-부틸티오에틸티오기, iso-부틸티오에틸티오기, tert-부틸티오에틸티오기 등의 총 탄소수 2 이상 6 이하의 알킬티오알킬티오기를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 아릴옥시기로서, 페닐옥시기, 나프틸옥시기, 2-메틸페닐옥시기, 3-메틸페닐옥시기, 4-메틸페닐옥시기, 2-에틸페닐옥시기, 프로필페닐옥시기, 2,4-디메틸페닐옥시기, 2,5-디메틸페닐옥시기, 2,6-디메틸페닐옥시기, 3,4-디메틸페닐옥시기, 3,5-디메틸페닐옥시기, 3,6-디메틸페닐옥시기 등의 총 탄소수 9 이하의 무치환 또는 알킬치환 아릴옥시기；

2-메톡시페닐옥시기, 3-메톡시페닐옥시기, 4-메톡시페닐옥시기, 2-에톡시페닐옥시기, 프로폭시페닐옥시기 등의 탄소수 3 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환된 총 탄소수 9 이하의 모노알콕시아릴옥시기；및

클로로페닐옥시기, 디클로로로페닐옥시기, 트리클로로페닐옥시기, 브로모페닐옥시기, 디브로모페닐옥시기, 클로로나프틸옥시기, 브로모나프틸옥시기 등의 할로겐원자가 치환된 총 탄소수 12 이하의 아릴옥시기를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 아릴티오기로서, 페닐티오기, 2-메틸페닐티오기, 3-메틸페닐티오기, 4-메틸페닐티오기, 2-에틸페닐티오기, 프로필페닐티오기, 2,4-디메틸페닐티오기, 2,5-디메틸페닐티오기, 2,6-디메틸페닐티오기, 3,4-디메틸페닐티오기, 3,5-디메틸페닐티오기, 3,6-디메틸페닐티오기 등의 총 탄소수 9 이하의 무치환 또는 알킬치환 아릴티오기；

2-메톡시페닐티오기, 3-메톡시페닐티오기, 4-메톡시페닐티오기, 2-에톡시페닐티오기, 프로폭시페닐티오기 등의 탄소수 3 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환된 총 탄소수 9 이하의 모노알콕시아릴티오기；및

클로로페닐티오기, 디클로로로페닐티오기, 트리클로로페닐티오기, 브로모페닐티오기, 디브로모페닐티오기, 클로로나프틸티오기, 브로모나프틸티오기 등의 할로겐원자가 치환된 총 탄소수 12 이하의 아릴티오기를 들 수 있다.

또한, n-p가 2 이상인 정수의 경우, Y는 서로 결합하여, 금속원자 M을 개재하여 환상구조로 되어도 상관 없다. 즉, 복수의 Y가 결합하여 금속원자 M을 포함하는 환을 형성하고 있어도 좋다.

상기 일반식(1) 중, M에 결합하는 -(Y)_n-p기에 있어서, 바람직하게는, Y가 (S-R₂)(S는 황원자이고, R₂는, 후술하는 일반식(5)에 있어서의 R₂와 같다.)이고, 또한, p는 2 이상 (n-1) 이하의 정수이다. 이 구성에 있어서, 더욱이 m=0 또한 X₁이 황원자인 것이 바람직하다. 또한, 이 구성에 있어서, 더욱이 m=0, X₁이 황원자이고, 또한 M이 14족 원소인 것이 보다 바람직하다. 또, 이 때 상기 일반식(1)은, 후술하는 일반식(13)에 나타내는 화합물로 된다.

또한, 상기 일반식(1) 중, Y가 (S-R₂)인 티에탄 화합물의 바람직한 예로서, 하기 일반식(5)로 표시되는 화합물을 들 수 있다.

[화5]

(상기 일반식(5) 중, M은 장주기형 주기표의 14족 원소이다. X₁ 및 n은, 각각, 상기 일반식(1)에 있어서의 X₁ 및 n과 같다. p는 2 이상 (n-1) 이하의 정수이다.

n-p가 1인 경우, R₂는, 치환기를 가져도 좋은 탄소수 1 이상 3 이하의 직쇄상 혹은 분기쇄를 가지는 알킬기를 나타낸다.

n-p가 2 이상인 경우, 복수의 R₂는, 각각 독립하여, 치환기를 가져도 좋은 탄소수 1 이상 3 이하의 직쇄상 혹은 분기쇄를 가지는 알킬기를 나타낸다. 또한, 복수의 R₂가 서로 결합하여 M을 포함하는 환을 형성하여도 좋고, 이 경우, 환을 형성하는 알킬쇄는 탄소수 1 이상 3 이하이며, 환을 구성하는 부분에는, 황원자를 포함하지 않는다.)

상기 일반식(5)에 있어서, M은, Sn 원자, Si 원자, Ge 원자, Pb 원자 등의 14족의 원소를 나타낸다. M은, 바람직하게는, Sn 원자, Pb 원자 등의 고주기의 14족의 금속원소이고, 더욱 바람직하게는 Sn 원자이다.

상기 일반식(5)에 있어서도, 수지의 굴절률을 향상시키는 관점으로부터는, X₁이 황원자인 것이 바람직하다. 이 때, 상기 일반식(5)는, 하기 일반식(13)이 된다.

[화6]

(상기 일반식(13) 중, M, p, n 및 R₂는, 각각, 상기 일반식(5)에 있어서의 M, p, n 및 R₂와 같다.)

상기 일반식(13)에 있어서도, 상기 일반식(5)과 마찬가지로, M은 바람직하게는 Sn 원자이다.

상기 일반식(5)에 있어서, n은 금속원자 M의 가수를 나타낸다. 또한, 상기 일반식(5)에 있어서, p는, (M의 가수-1) 이하의 양의 정수이다. 즉, p는 2 이상 (n-1) 이하의 정수이다.

상기 일반식(5)에 있어서, R₂는, 치환기를 가져도 좋은 탄소수 1 이상 3 이하의 직쇄상 혹은 분기쇄를 가지는 알킬기를 나타낸다.

n-p가 2 이상인 경우, R₂는, 각각 독립하여 치환기를 가져도 좋은 탄소수 1 이상 3 이하의 직쇄상 혹은 분기쇄를 가지는 알킬기를 나타낸다. 복수의 R₂는, 같은 기이더라도 좋고, 전부 또는 일부가 다른 기이더라도 좋다. 또한, 복수의 R₂가 서로 결합하여, M을 포함하는 환을 형성하여도 좋다. 이 경우, 환을 형성하는 알킬쇄는 탄소수 1 이상 3 이하이며, 황원자는, M에 직접 결합하고 있는 것만이다. 즉, R₂ 중, 환을 구성하는 부분에는 황원자를 포함하지 않는다.

상기 일반식(5)로 표시되는 화합물 중에서도 바람직한 예의 하나로서, 이하의 태양을 들 수 있다. 즉, R₂가 환을 형성하지 않는 경우, R₂로서, 구체적으로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 즉 탄소수 1 이상 3 이하의 알킬기를 들 수 있다. 또한 환을 형성한 경우, 환을 형성하는 알킬쇄로서는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 즉 탄소수 1 이상 3 이하의 알킬렌기를 들 수 있다. M을 포함하는 환은, 구체적으로는, 4원환으로부터 6원환이다. 또, M을 포함하는 환이 4원환일 때에, 2개의 R₂ 중 하나는, 구체적으로는 단일결합이다.

더욱 구체적으로는, 환을 형성하지 않는 경우, R₂는 메틸기이고, 또한 환을 형성하는 경우는 환을 형성하는 알킬쇄는 에틸렌기이다.

다음에, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물의 구체예를 나타낸다. 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물은, 이하에 나타내는 표 1~표 17에 구체적으로 예시되지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 표 1~표 17은, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물의 구체예를 나타내는 표이다. 또, 표 1~표 17에 있어서, 「CMPD. No.」란, 화합물 No.이다.

또한, 표 1~표 17에 있어서는, Y₁, Y₂, Y₃은 M에 결합하는 Y의 총 수가 3개 이하, 즉, n-p의 값이 3 이하인 경우의 Y를 나타낸다. 구체적으로는 n-p=1의 경우, Y는 Y₁만이다. n-p=2의 경우, 화합물은 Y로서 Y₁ 및 Y₂를 포함하고, 이들은 같은 기이더라도 좋고, 다른 기이더라도 좋다. 또한, n-p=3의 경우, 화합물은 Y로서 Y₁, Y₂ 및 Y₃를 포함하고, 이들은 각각 같은 기이더라도 좋고, 다른 기이더라도 좋다.

또한, 표 중, n-p가 2인 경우에, Y₁으로부터 Y₂에 걸쳐서 하나의 기가 기재된 화합물에 있어서는, 2개의 Y가 서로 결합하여 금속원자 M을 포함하는 환을 형성하고 있다.

또한, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물의 구체예로서, 그 밖에, 이하의 표 18에 나타내는 화합물을 들 수 있다. 표 18 중의 화합물은, 모두, 상기 일반식(5)로 표시되는 화합물이다.

표 1~표 18에 나타낸 화합물 중, 구체적으로는, 상기 일반식(1)에 있어서, m=0의 화합물이 이용된다.

또한, 더욱 구체적으로는, m=0으로서 X₁이 황원자의 화합물이 이용된다. 이와 같은 화합물로서, 예를 들어 표 1~표 18에 나타낸 화합물 중, CMPD. No.1-1, 1-35, 1-37, 1-39, 1-41, 1-43, 1-45, 1-47, 1-49, 1-51, 1-53, 1-55, 1-57, 1-59, 1-61, 1-63, 1-65, 1-67, 1-69, 1-71, 1-73, 1-75, 1-141, 1-175, 1-177, 1-179, 1-181, 1-183, 1-185, 1-187, 1-189, 1-191, 1-193, 1-227, 1-229, 1-231, 1-233, 1-235, 1-237, 1-239, 1-241, 1-243, 1-245, 1-247, 1-249, 1-267, 1-269, 1-287, 1-289, 1-291, 1-293, 1-295, 1-297, 1-299 및 1-301~1-313을 들 수 있다.

또한, 표 1~표 18에 나타낸 화합물 중, 바람직한 예로서, 상기 일반식(1)에 있어서, n=p인 것을 들 수 있고, 더욱 바람직하게는, n=p, m=0 또한 X₁이 황원자인 것이다. 이와 같은 화합물로서, 예를 들어 표 1~표 17에 나타낸 화합물 중, CMPD. No.1-1, 1-141, 1-193, 1-245, 1-247, 1-267, 1-287, 1-289를 들 수 있다. 또한, 이 중, 더욱 금속원자 M이, 장주기형 주기표의 4족, 12족, 13족, 14족 및 15족 중 어떤 원소인 것이 더욱 바람직하고, 금속원자 M이 Sn 원자인 것이 보다 한층 바람직하다.

또한, 표 1~표 18에 나타낸 화합물 중, 바람직한 것의 다른 예로서, 상기 일반식(5)로 표시되는 화합물을 들 수 있다. 이와 같은 화합물로서는, 표 4에 나타낸 화합물 중, CMPD. No.1-65, 67, 71 및 73, 및 표 18에 나타낸 화합물 중, CMPD. No.1-301~1-313을 들 수 있다.

또한, 상기 일반식(1)에 있어서, n-p가 2 이상인 경우, 즉 상기 일반식(1)에 나타낸 화합물이 분자 내에 2 이상인 Y를 포함하는 화합물인 예로서, 그 밖에, 하기식에 나타내는 화합물을 들 수 있다. 하기 화합물에서는, 3개의 Y가 모두 다른 기가 되고 있다.

[화7]

다음에, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물의 제조방법을 설명한다.

상기 일반식(1)로 표시되는 화합물은, 대표적으로는, 하기 일반식(2)로 표시되는 금속원자 M의 할로겐화물과, 하기 일반식(3)으로 표시되는 티에탄기를 가지는 히드록시 화합물 또는 티올 화합물과의 반응에 의해 제조된다.

[화8]

(상기 일반식(2) 중, M, n, p 및 Y는, 각각, 상기 일반식(1)에 있어서의 M, n, p 및 Y와 동일하고, Z는 할로겐원자를 나타낸다.)

[화9]

(상기 일반식(3) 중, X₁, X₂, R₁ 및 M은, 각각, 상기 일반식(1)에 있어서의 X₁, X₂, R₁ 및 m과 같다.)

또한, 상기 일반식(5)로 표시되는 화합물에 관해서도, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물의 제조방법에 준한 방법으로 제조할 수 있다.

예를 들어, 하기 일반식(6)으로 표시되는 할로겐화물과, 상기 일반식(3)으로 표시되는 티에탄기를 가지는 히드록시 화합물 또는 티올 화합물과의 반응에 의해 제조된다.

[화10]

(상기 일반식(6) 중, M, p, n 및 R₂는, 각각, 상기 일반식(5)에 있어서의 M, p, n 및 R₂와 같고, Z는 할로겐원자를 나타낸다.)

또한, 상기 일반식(6)에 있어서 n=p인 할로겐화물과, 상기 일반식(3)으로 표시되는 티에탄기를 가지는 히드록시 화합물 또는 티올 화합물과, 하기 일반식(7)로 표시되는 티올 화합물을 동시에 반응하여도 제조된다.

R₂-SH (7)

(상기 일반식(7) 중, R₂는, 상기 일반식(5)에 있어서의 R₂와 같다.)

또한, 상기 일반식(6)에 있어서 n=p인 할로겐화물과 상기 일반식(3)으로 표시되는 티에탄기를 가지는 히드록시 화합물 또는 티올 화합물을 미리 반응시켜 얻어진 화합물과, 상기 일반식(7)로 표시되는 티올 화합물을 반응하는 것에 의해서도 제조된다.

상기 일반식(2), (6) 및 (7)로 표시되는 화합물은, 공업용 원료 또는 연구용 시약으로서 입수 가능하다.

또한, 상기 일반식(3)으로 표시되는 화합물은 공지 화합물로서, 예를 들어, 특허문헌 3(일본 특허공개공보 2003-327583호)에 기재된 방법에 준해 제조된다.

상기 일반식(2)로 표시되는 금속원자 M의 할로겐화물과, 상기 일반식(3)으로 표시되는 티에탄기를 가지는 히드록시 화합물 또는 티올 화합물과의 반응은 무용매로 행해도 좋고, 혹은, 반응에 불활성인 용매의 존재하에 행해도 좋다.

이들의 용매로서는, 반응에 불활성인 용매이면 특별히 한정되는 것이 아니고, 석유에테르, 헥산, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸린 등의 탄화수소계 용매；

디에틸에테르, 테트라히드로푸란, 디에틸글리콜디메틸에테르 등의 에테르계용매；

아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤계 용매；

아세트산에틸, 아세트산부틸, 아세트산아밀 등의 에스테르계 용매；

염화메틸렌, 클로로포름, 클로로벤젠, 디클로로로벤젠 등의 함염소계 용매；

N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디메틸이미다졸리디논, 디메틸설폭시드 등의 비프로톤성 극성 용매；

테트라히드로티오펜, 티오펜, 설포란, 트리메틸렌설피드, 디에틸설피드, 디-n-프로필설피드, 디-t-부틸설피드, 3-메르캅토티에탄, 비스(2-메르캅토에틸)설피드 등의 함황계 용매；및

물 등이 예시된다.

상기 일반식(2)와 (3)으로 표시되는 화합물과의 반응 온도는, 특별히 제한되는 것은 아니지만, 통상, -78℃ 이상 200℃ 이하의 범위이고, 바람직하게는, -78℃ 이상 100℃ 이하이다.

또한, 반응 시간은 반응 온도에 따라 영향받지만, 통상, 몇분부터 100시간이다.

상기 일반식(2)와 (3)으로 표시되는 화합물과의 반응에 있어서, 상기 일반식(2)로 표시되는 화합물과 상기 일반식(3)으로 표시되는 화합물의 사용량은, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 통상, 상기 일반식(2)로 표시되는 화합물 중에 함유 되는 할로겐원자 1몰에 대해서, 상기 일반식(3)으로 표시되는 화합물의 사용량은, 0.01몰 이상 100몰 이하이다. 바람직하게는, 0.1몰 이상 50몰 이하이며, 보다 바람직하게는, 0.5몰 이상 20몰 이하이다.

상기 일반식(2)와 (3)으로 표시되는 화합물과의 반응을 실시할 때에, 반응을 효율좋게 행하기 위해서, 생성하는 할로겐화 수소의 포촉제로서 알칼리성 화합물을 이용하는 것은 바람직하다.

이들의 염기성 화합물로서, 예를 들어, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화리튬, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산리튬, 중탄산나트륨, 중탄산칼륨, 중탄산리튬, 수산화마그네슘, 수산화칼슘 등의 무기염기；및

피리딘, 트리에틸아민, 디메틸아닐린, 디에틸아닐린, 1,8-디아자비시클로[5,4,0]-7-운데센 등의 유기염기가 예시된다.

다음에, 티올 화합물에 관해서, 구체예를 들어 설명한다.

본 발명에 있어서 사용되는 티올 화합물이란, 분자 내에 1개 이상 티올기(SH기)를 함유하는 화합물이다. 티올 화합물로서, 예를 들어 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물과 상용하는 것이면 어떠한 구조를 가지는 화합물이라도 사용할 수 있다.

티올 화합물로서, 구체적으로는, 1가의 티올 화합물로서는, 메틸메르캅탄, 에틸메르캅탄, 프로필메르캅탄, 부틸메르캅탄, 옥틸메르캅탄, 도데실메르캅탄, tert-도데실메르캅탄, 헥사데실메르캅탄, 옥타데실메르캅탄, 시클로헥실메르캅탄, 벤질메르캅탄, 에틸페닐메르캅탄, 2-메르캅토메틸-1,3-디티오란, 2-메르캅토메틸-1,4-디티안, 1-메르캅토-2,3-에피티오프로판, 1-메르캅토메틸티오-2,3-에피티오프로판, 1-메르캅토에틸티오-2,3-에피티오프로판, 3-메르캅토티에탄, 2-메르캅토티에탄, 3-메르캅토메틸티오티에탄, 2-메르캅토메틸티오티에탄, 3-메르캅토에틸티오티에탄, 2-메르캅토에틸티오티에탄 등의 지방족 메르캅탄 화합물, 티오페놀, 메르캅토톨루엔 등의 방향족 메르캅탄 화합물, 및 2-메르캅토에탄올, 3-메르캅토-1,2-프로판디올 등의 메르캅토기 이외에 히드록시기를 함유하는 화합물을 들 수 있다.

또한, 다관능 티올(폴리티올) 화합물로서는, 1,1-메탄디티올, 1,2-에탄디티올, 1,1-프로판디티올, 1,2-프로판디티올, 1,3-프로판디티올, 2,2-프로판디티올, 1,6-헥산디티올, 1,2,3-프로판트리티올, 1,1-시클로헥산디티올, 1,2-시클로헥산디티올, 2,2-디메틸프로판-1,3-디티올, 3,4-디메톡시부탄-1,2-디티올, 2-메틸시클로헥산-2,3-디티올, 1,1-비스(메르캅토메틸)시클로헥산, 티오말산비스(2-메르캅토에틸에스테르), 2,3-디메르캅토-1-프로판올(2-메르캅토아세테이트), 2,3-디메르캅토-1-프로판올(3-메르캅토프로피오네이트), 디에틸렌글리콜비스(2-메르캅토아세테이트), 디에틸렌글리콜비스(3-메르캅토프로피오네이트), 1,2-디메르캅토프로필메틸에테르, 2,3-디메르캅토프로필메틸에테르, 2,2-비스(메르캅토메틸)-1,3-프로판디티올, 비스(2-메르캅토에틸)에테르, 에틸렌글리콜비스(2-메르캅토아세테이트), 에틸렌글리콜비스(3-메르캅토프로피오네이트), 트리메티롤프로판비스(2-메르캅토아세테이트), 트리메티롤프로판비스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨테트라키스(2-메르캅토아세테이트), 펜타에리스리톨테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 테트라키스(메르캅토메틸)메탄, 1,1,1,1-테트라키스(메르캅토메틸)메탄 등의 지방족 폴리티올 화합물；

1,2-디메르캅토벤젠, 1,3-디메르캅토벤젠, 1,4-디메르캅토벤젠, 1,2-비스(메르캅토메틸)벤젠, 1,3-비스(메르캅토메틸)벤젠, 1,4-비스(메르캅토메틸)벤젠, 1,2-비스(메르캅토에틸)벤젠, 1,3-비스(메르캅토에틸)벤젠, 1,4-비스(메르캅토에틸)벤젠, 1,2,3-트리메르캅토벤젠, 1,2,4-트리메르캅토벤젠, 1,3,5-트리메르캅토벤젠, 1,2,3-트리스(메르캅토메틸)벤젠, 1,2,4-트리스(메르캅토메틸)벤젠, 1,3,5-트리스(메르캅토메틸)벤젠, 1,2,3-트리스(메르캅토에틸)벤젠, 1,2,4-트리스(메르캅토에틸)벤젠, 1,3,5-트리스(메르캅토에틸)벤젠, 2,5-톨루엔디티올, 3,4-톨루엔디티올, 1,3-디(p-메톡시페닐)프로판-2,2-디티올, 1,3-디페닐프로판-2,2-디티올, 페닐메탄-1,1-디티올, 2,4-디(p-메르캅토페닐)펜탄 등의 방향족 폴리티올 화합물；

1,2-비스(메르캅토에틸티오)벤젠, 1,3-비스(메르캅토에틸티오)벤젠, 1,4-비스(메르캅토에틸티오)벤젠, 1,2,3-트리스(메르캅토메틸티오)벤젠, 1,2,4-트리스(메르캅토메틸티오)벤젠, 1,3,5-트리스(메르캅토메틸티오)벤젠, 1,2,3-트리스(메르캅토에틸티오)벤젠, 1,2,4-트리스(메르캅토에틸티오)벤젠, 1,3,5-트리스(메르캅토에틸티오)벤젠 등, 및 이들의 상기 알킬화물 등의 메르캅토기 이외에 황원자를 함유하는 방향족 폴리티올 화합물；

비스(메르캅토메틸)설피드, 비스(메르캅토메틸)디설피드, 비스(메르캅토에틸)설피드, 비스(메르캅토에틸)디설피드, 비스(메르캅토프로필)설피드, 비스(메르캅토메틸티오)메탄, 비스(2-메르캅토에틸티오)메탄, 비스(3-메르캅토프로필티오)메탄, 1,2-비스(메르캅토메틸티오)에탄, 1,2-비스(2-메르캅토에틸티오)에탄, 1,2-비스(3-메르캅토프로필)에탄, 1,3-비스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로판, 1,3-비스(3-메르캅토프로필티오)프로판, 1,2,3-트리스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,2,3-트리스(2-메르캅토에틸티오)프로판, 1,2,3-트리스(3-메르캅토프로필티오)프로판, 1,2-비스[(2-메르캅토에틸)티오]-3-메르캅토프로판, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 테트라키스(메르캅토메틸티오메틸)메탄, 테트라키스(2-메르캅토에틸티오메틸)메탄, 테트라키스(3-메르캅토프로필티오메틸)메탄, 비스(2,3-디메르캅토프로필)설피드, 비스(1,3-디메르캅토프로필)설피드, 2,5-디메르캅토-1,4-디티안, 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안, 2,5-디메르캅토메틸-2,5-디메틸-1,4-디티안, 비스(메르캅토메틸)디설피드, 비스(메르캅토에틸)디설피드, 비스(메르캅토프로필)디설피드, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄 등의 메르캅토기 이외에 황원자를 함유하는 지방족 폴리티올 화합물, 및 이들의 티오글리콜산 및 메르캅토프로피온산의 에스테르；

히드록시메틸설피드비스(2-메르캅토아세테이트), 히드록시메틸설피드비스(3-메르캅토프로피오네이트), 히드록시에틸설피드비스(2-메르캅토아세테이트), 히드록시에틸설피드비스(3-메르캅토프로피오네이트), 히드록시프로필설피드비스(2-메르캅토아세테이트), 히드록시프로필설피드비스(3-메르캅토프로피오네이트), 히드록시메틸디설피드비스(2-메르캅토아세테이트), 히드록시메틸디설피드비스(3-메르캅토프로피오네이트), 히드록시에틸디설피드비스(2-메르캅토아세테이트), 히드록시에틸디설피드비스(3-메르캅토프로피오네이트), 히드록시프로필디설피드비스(2-메르캅토아세테이트), 히드록시프로필디설피드비스(3-메르캅토프로피오네이트), 2-메르캅토에틸에테르비스(2-메르캅토아세테이트), 2-메르캅토에틸에테르비스(3-메르캅토프로피오네이트), 1,4-디티안-2,5-디올비스(2-메르캅토아세테이트), 1,4-디티안-2,5-디올비스(3-메르캅토프로피오네이트), 티오디글리콜산비스(2-메르캅토에틸에스테르), 티오디프로피온산비스(2-메르캅토에틸에스테르), 4,4-티오디부틸산비스(2-메르캅토에틸에스테르), 디티오디글리콜산비스(2-메르캅토에틸에스테르), 디티오디프로피온산비스(2-메르캅토에틸에스테르), 4,4-디티오디부틸산비스(2-메르캅토에틸에스테르), 티오디글리콜산비스(2,3-디메르캅토프로필에스테르), 티오디프로피온산비스(2,3-디메르캅토프로필에스테르), 디티오글리콜산비스(2,3-디메르캅토프로필에스테르), 디티오디프로피온산비스(2,3-디메르캅토프로필에스테르) 등의 메르캅토기 이외에 황원자와 에스테르 결합을 함유하는 지방족 폴리티올 화합물；

3,4-티오펜디티올, 2,5-디메르캅토-1,3,4-티아디아졸 등의 메르캅토기 이외에 황원자를 함유하는 복소환 화합물；

그리세린디(메르캅토아세테이트), 1-히드록시-4-메르캅토시클로헥산, 2,4-디메르캅토페놀, 2-메르캅토하이드로퀴논, 4-메르캅토페놀, 3,4-디메르캅토-2-프로판올, 1,3-디메르캅토-2-프로판올, 2,3-디메르캅토-1-프로판올, 1,2-디메르캅토-1,3-부탄디올, 펜타에리스리톨트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨모노(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨비스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨트리스(티오글리콜레이트), 디펜타에리스리톨펜타키스(3-메르캅토프로피오네이트), 히드록시메틸-트리스(메르캅토에틸티오메틸)메탄, 1-히드록시에틸티오-3-메르캅토에틸티오벤젠 등의 메르캅토기 이외에 히드록시기를 함유하는 화합물；

1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,1,2,2-테트라키스(메르캅토메틸티오)에탄, 4,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티아시클로헥산, 1,1,5,5-테트라키스(메르캅토메틸티오)-3-티아펜탄, 1,1,6,6-테트라키스(메르캅토메틸티오)-3,4-디티아헥산, 2,2-비스(메르캅토메틸티오)에탄티올, 2-(4,5-디메르캅토-2-티아펜틸)-1,3-디티아시클로펜탄, 2,2-비스(메르캅토메틸)-1,3-디티아시클로펜탄, 2,5-비스(4,4-비스(메르캅토메틸티오)-2-티아부틸)-1,4-디티안, 2,2-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-프로판디티올, 3-메르캅토메틸티오-1,7-디메르캅토-2,6-디티아헵탄, 3,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,9-디메르캅토-2,5,8-트리티아노난, 4,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,9-디메르캅토-2,5,8-트리티아노난, 3-메르캅토메틸티오-1,6-디메르캅토-2,5-디티아헥산, 2-(2,2-비스(메르캅토메틸티오)에틸)-1,3-디티에탄, 1,1,9,9-테트라키스(메르캅토메틸티오)-5-(3,3-비스(메르캅토메틸티오)-1-티아프로필)3,7-디티아노난, 트리스(2,2-비스(메르캅토메틸티오)에틸)메탄, 트리스(4,4-비스(메르캅토메틸티오)-2-티아부틸)메탄, 테트라키스(2,2-비스(메르캅토메틸티오)에틸)메탄, 테트라키스(4,4-비스(메르캅토메틸티오)-2-티아부틸)메탄, 3,5,9,11-테트라키스(메르캅토메틸티오)-1,13-디메르캅토-2,6,8,12-테트라티아트리데칸, 3,5,9,11,15,17-헥사키스(메르캅토메틸티오)-1,19-디메르캅토-2,6,8,12,14,18-헥사티아노나데칸, 9-(2,2-비스(메르캅토메틸티오)에틸)-3,5,13,15-테트라키스(메르캅토메틸티오)-1,17-디메르캅토-2,6,8,10,12,16-헥사티아헵타데칸, 3,4,8,9-테트라키스(메르캅토메틸티오)-1,11-디메르캅토-2,5,7,10-테트라티아운데칸, 3,4,8,9,13,14-헥사키스(메르캅토메틸티오)-1,16-디메르캅토-2,5,7,10,12,15-헥사티아헥사데칸, 8-{비스(메르캅토메틸티오)메틸}-3,4,12,13-테트라키스(메르캅토메틸티오)-1,15-디메르캅토-2,5,7,9,11,14-헥사티아펜타데칸, 4,6-비스{3,5-비스(메르캅토메틸티오)-7-메르캅토-2,6-디티아헵틸티오}-1,3-디티안, 4-{3,5-비스(메르캅토메틸티오)-7-메르캅토-2,6-디티아헵틸티오}-6-메르캅토메틸티오-1,3-디티안, 1,1-비스{4-(6-메르캅토메틸티오)-1,3-디티아닐티오}-3,3-비스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,3-비스{4-(6-메르캅토메틸티오)-1,3-디티아닐티오}-1,3-비스(메르캅토메틸티오)프로판, 1-{4-(6-메르캅토메틸티오)-1,3-디티아닐티오}-3-{2,2-비스(메르캅토메틸티오)에틸}-7,9-비스(메르캅토메틸티오)-2,4,6,10-테트라티아운데칸, 1-{4-(6-메르캅토메틸티오)-1,3-디티아닐티오}-3-{2-(1,3-디티에타닐)}메틸-7,9-비스(메르캅토메틸티오)-2,4,6,10-테트라티아운데칸, 1,5-비스{4-(6-메르캅토메틸티오)-1,3-디티아닐티오}-3-{2-(1,3-디티에타닐)}메틸-2,4-디티아펜탄, 4,6-비스[3-{2-(1,3-디티에타닐)}메틸-5-메르캅토-2,4-디티아펜틸티오]-1,3-디티안, 4,6-비스{4-(6-메르캅토메틸티오)-1,3-디티아닐티오}-1,3-디티안, 4-{4-(6-메르캅토메틸티오)-1,3-디티아닐티오}-6-{4-(6-메르캅토메틸티오)-1,3-디티아닐티오}-1,3-디티안, 3-{2-(1,3-디티에타닐)}메틸-7,9-비스(메르캅토메틸티오)-1,11-디메르캅토-2,4,6,10-테트라티아운데칸, 9-{2-(1,3-디티에타닐)}메틸-3,5,13,15-테트라키스(메르캅토메틸티오)-1,17-디메르캅토-2,6,8,10,12,16-헥사티아헵타데칸, 3-{2-(1,3-디티에타닐)}메틸-7,9,13,15-테트라키스(메르캅토메틸티오)-1,17-디메르캅토-2,4,6,10,12,16-헥사티아헵타데칸, 3,7-비스{2-(1,3-디티에타닐)}메틸-1,9-디메르캅토-2,4,6,8-테트라티아노난, 4-{3,4,8,9-테트라키스(메르캅토메틸티오)-11-메르캅토-2,5,7,10-테트라티아운데실}-5-메르캅토메틸티오-1,3-디티오란, 4,5-비스{3,4-비스(메르캅토메틸티오)-6-메르캅토-2,5-디티아헥실티오}-1,3-디티오란, 4-{3,4-비스(메르캅토메틸티오)-6-메르캅토-2,5-디티아헥실티오}-5-메르캅토메틸티오-1,3-디티오란, 4-{3-비스(메르캅토메틸티오)메틸-5,6-비스(메르캅토메틸티오)-8-메르캅토-2,4,7-트리티아옥틸}-5-메르캅토메틸티오-1,3-디티오란, 2-[비스{3,4-비스(메르캅토메틸티오)-6-메르캅토-2,5-디티아헥실티오}메틸]-1,3-디티에탄, 2-{3,4-비스(메르캅토메틸티오)-6-메르캅토-2,5-디티아헥실티오}메르캅토메틸티오메틸-1,3-디티에탄, 2-{3,4,8,9-테트라키스(메르캅토메틸티오)-11-메르캅토-2,5,7,10-테트라티아운데실티오}메르캅토메틸티오메틸-1,3-디티에탄, 2-{3-비스(메르캅토메틸티오)메틸-5,6-비스(메르캅토메틸티오)-8-메르캅토-2,4,7-트리티아옥틸}메르캅토메틸티오메틸-1,3-디티에탄, 4,5-비스[1-{2-(1,3-디티에타닐)}-3-메르캅토-2-티아프로필티오]-1,3-디티오란, 4-[1-{2-(1,3-디티에타닐)}-3-메르캅토-2-티아프로필티오]-5-{1,2-비스(메르캅토메틸티오)-4-메르캅토-3-티아부틸티오}-1,3-디티오란, 2-[비스{4-(5-메르캅토메틸티오-1,3-디티오라닐)티오}]메틸-1,3-디티에탄, 4-{4-(5-메르캅토메틸티오-1,3-디티오라닐)티오}-5-[1-{2-(1,3-디티에타닐)}-3-메르캅토-2-티아프로필티오]-1,3-디티오란, 또한 이들의 올리고머 등의 디티오아세탈 혹은 디티오케탈 골격을 가지는 화합물；

트리스(메르캅토메틸티오)메탄, 트리스(메르캅토에틸티오)메탄, 1,1,5,5-테트라키스(메르캅토메틸티오)-2,4-디티아펜탄, 비스[4,4-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티아부틸](메르캅토메틸티오)메탄, 트리스[4,4-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티아부틸]메탄, 2,4,6-트리스(메르캅토메틸티오)-1,3,5-트리티아시클로헥산, 2,4-비스(메르캅토메틸티오)-1,3,5-트리티아시클로헥산, 1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)-2-티아프로판, 비스(메르캅토메틸)메틸티오-1,3,5-트리티아시클로헥산, 트리스[(4-메르캅토메틸-2,5-디티아시클로헥실-1-일)메틸티오]메탄, 2,4-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티아시클로펜탄, 2-메르캅토에틸티오-4-메르캅토메틸-1,3-디티아시클로펜탄, 2-(2,3-디메르캅토프로필티오)-1,3-디티아시클로펜탄, 4-메르캅토메틸-2-(2,3-디메르캅토프로필티오)-1,3-디티아시클로펜탄, 4-메르캅토메틸-2-(1,3-디메르캅토-2-프로필티오)-1,3-디티아시클로펜탄, 트리스[2,2-비스(메르캅토메틸티오)-1-티아에틸]메탄, 트리스[3,3-비스(메르캅토메틸티오)-2-티아프로필]메탄, 트리스[4,4-비스(메르캅토메틸티오)-3-티아부틸]메탄, 2,4,6-트리스[3,3-비스(메르캅토메틸티오)-2-티아프로필]-1,3,5-트리티아시클로헥산, 테트라키스[3,3-비스(메르캅토메틸티오)-2-티아프로필]메탄 등, 또한 이들의 올리고머 등의 오르토 트리티오포름산에스테르 골격을 가지는 화합물；

3,3'-디(메르캅토메틸티오)-1,5-디메르캅토-2,4-디티아펜탄, 2,2'-디(메르캅토메틸티오)-1,3-디티아시클로펜탄, 2,7-디(메르캅토메틸)-1,4,5,9-테트라티아스피로[4,4]노난, 3,9-디메르캅토-1,5,7,11-테트라티아스피로[5,5]운데칸, 또한 이들의 올리고머 등 오르토 테트라티오탄산에스테르 골격을 가지는 화합물 등을 들 수 있지만, 이들의 예시 화합물에만 한정되는 것은 아니다. 이들 예시 화합물은, 단독으로도 2종류 이상 혼합하여 사용해도 좋다.

이들 티올 화합물 중, 얻어지는 수지의 광학 물성, 특히 압베수를 고려하면, 방향족계보다도 지방족계의 티올 화합물을 선택하는 쪽이 바람직하다. 더욱이, 광학 물성, 특히 굴절률의 요구를 고려하면, 설피드 결합 및/또는 디설피드 결합 등의 티올기 이외에 황원자를 가지는 화합물을 선택하면, 보다 한층 바람직하다. 얻어지는 수지의 내열성을 고려하여 3차원 가교성을 올리는 관점에서는, 에피티오기나 티에타닐기 등의 중합성기를 가지는 티올 화합물이나, 티올기를 3개 이상 가지는 화합물을 1종 이상 선택하면 특히 바람직하다.

이상의 관점에서 바람직한 티올로서는, 3-메르캅토티에탄, 1-메르캅토-2,3-에피티오프로판, 1-메르캅토메틸티오-2,3-에피티오프로판, 1-메르캅토에틸티오-2,3-에피티오프로판, 3-메르캅토티에탄, 2-메르캅토티에탄, 3-메르캅토메틸티오티에탄, 2-메르캅토메틸티오티에탄, 3-메르캅토에틸티오티에탄, 2-메르캅토에틸티오티에탄, 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 1,1,1,1-테트라키스(메르캅토메틸)메탄, 1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,1,2,2-테트라키스(메르캅토메틸티오)에탄, 4,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티안, 2-(2,2-비스(메르캅토메틸티오)에틸)-1,3-디티에탄이다.

더욱 바람직하게는, 3-메르캅토티에탄, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 1,1,1,1-테트라키스(메르캅토메틸)메탄, 1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,1,2,2-테트라키스(메르캅토메틸티오)에탄, 4,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티안, 2-(2,2-비스(메르캅토메틸티오)에틸)-1,3-디티에탄이다. 또한, 2가의 티올 화합물을 선택하는 경우는, 중합성기를 가지는 티올 화합물 및/또는 3가 이상의 티올 화합물과 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다.

티올 화합물은, 더욱 구체적으로는, 3-메르캅토티에탄, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸 및 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상이다.

또한, 티올 화합물과 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물과의 바람직한 조합으로서 예를 들어, 이하의 것을 들 수 있다.

(i) 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물이, 상기 일반식(13)으로 표시되는 화합물이고, 또한, 티올 화합물이, 3-메르캅토티에탄, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸 및 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인 조합,

(ii) 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물에 있어서 n=p, m=0, X₁이 황원자이고, 또한, 티올 화합물이, 3-메르캅토티에탄, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸 및 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인 조합, 및

(iii) 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물에 있어서, 상기 금속원자가 Sn 원자이고, 또한, 티올 화합물이, 3-메르캅토티에탄, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸 및 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인 조합.

이들 티올 화합물의 사용량으로서는, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물과 티올 화합물의 합계를 100중량부로 했을 때, 티올 화합물의 사용량이 너무 적으면, 색상의 개선 및 기계 강도의 향상의 효과가 작아서 바람직하지 않은 경우가 있다. 또한, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물과 티올 화합물의 합계를 100중량부로 했을 때, 티올 화합물의 사용량이 너무 많으면, 내열성의 저하가 현저하여 바람직하지 않은 경우가 있다.

따라서, 티올 화합물의 사용량은 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물과 티올 화합물의 합계를 100중량부로 했을 때, 1중량부 이상 50중량부 이하 사용하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 티올 화합물의 사용량은 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물과 티올 화합물의 합계를 100중량부로 했을 때, 1중량부 이상 25중량부 이하이다.

본 발명의 중합성 조성물은, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물과 티올 화합물을 포함하기 때문에, 예를 들어, 얻어지는 수지의 기계 물성 및 색상을 향상시킬 수 있다.

또, 본 발명의 중합성 조성물은, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물로서 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물이며, 또한, 다른 복수의 화합물을 병용해도 상관 없다.

또한, 본 발명의 중합성 조성물은, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물 및 티올 화합물을 필수 성분으로서 포함하고, 단체황을 더 포함하고 있어도 좋다. 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물과 티올 화합물로 이루어지는 중합성 조성물에 단체황을 더 첨가하는 것은, 한층 더 고굴절률화가 가능하게 되기 때문에 바람직한 형태의 하나이다. 이 때, 필요에 따라서, 중합촉매를 더 함유해도 좋다. 또한, 이 때, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물에 있어서 m=0이며, X₁이 황원자이어도 좋다.

본 발명에 있어서 중합성 조성물에 사용되는 단체황이란, 무기황이고, 본 발명에 있어서의 수지 조성물 또는 이것을 이용한 투명 수지에 사용하는 것으로서는, 그 순도는 바람직하게는 98% 이상이며, 보다 바람직하게는 99% 이상, 더욱 바람직하게는 99.5% 이상의 것이다. 순도를 높이기 위해서, 휘발성분을 제거하는 방법도 바람직한 경우가 있다.

또한, 단체황의 성상으로서는, 예를 들어 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물에 용해 가능한 형상이면 좋지만, 바람직하게는 분말상, 더욱 바람직하게는 미분말상이다.

본 발명에 있어서, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물과 티올 화합물을 포함하는 중합성 조성물에 대해서, 예를 들어 보다 한층 고굴절률의 수지를 얻는 경우에 단체황을 첨가해도 좋다.

중합성 조성물 중의 황 첨가량으로서는, 고굴절률의 관점으로부터, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물과 티올 화합물 및 황의 합계를 100중량부로 했을 때, 단체황의 첨가량이 너무 적으면, 굴절률의 향상 효과가 작아서 바람직하지 않은 경우가 있다. 또한, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물과 티올 화합물 및 황의 합계를 100중량부로 했을 때, 단체황의 첨가량이 너무 많으면, 탁함의 관점으로부터 바람직하지 않은 경우가 있다.

따라서, 상기 점으로부터, 단체황의 첨가량은, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물과 티올 화합물 및 단체황의 합계를 100중량부로 했을 때, 5중량부 이상 50중량부 이하 사용하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 단체황의 첨가량은 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물과 티올 화합물 및 단체황의 합계를 100중량부로 했을 때, 5중량부 이상 25중량부 이하이다.

본 발명의 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물과 단체황의 혼합방법으로서는, 예를 들어 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물과 티올 화합물과의 혼합물에 단체황을 첨가한 후, 교반하여 용해시키면 좋지만, 그 때, 필요에 따라서 온도를 높이거나 하는 것은 바람직한 방법이다. 또한, 후에 기재하는 다른 중합성 화합물이나 중합촉매 등에 첨가하여 용해시켜도 좋고, 모두 동일 용기 내에서 동시에 교반하에서 혼합하여도, 단계적으로 첨가 혼합하여도, 몇 가지 성분을 따로 따로 혼합 후, 동일 용기 내에서 재혼합하여도 상관 없다.

본 발명의 중합성 조성물은, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물, 티올 화합물, 및 탄소-탄소 이중결합을 가지는 화합물을 함유하고, 필요에 따라서, 중합촉매를 더 함유하여 이루어지는 구성으로 하여도 좋다. 또한, 이 때, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물에 있어서 m=0이며, X₁이 황원자이어도 좋다.

본 발명에 사용되는 탄소-탄소 이중결합을 가지는 화합물은 분자 내에 1개 이상의 탄소-탄소 이중결합을 함유하는 화합물이다. 탄소-탄소 이중결합을 가지는 화합물로서, 예를 들어 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물과 상용(相溶)하는 것이면 어떠한 구조를 가지는 화합물이라도 사용할 수 있지만, 바람직하게는 탄소-탄소 이중결합을 2개 이상 함유하는 화합물이다.

탄소-탄소 이중결합을 가지는 화합물로서, 구체적으로는, 벤질아크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 부톡시에틸아크릴레이트, 부톡시메틸메타크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 시클로헥실메타크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시메틸메타크릴레이트, 글리시딜아크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트, 페녹시에틸아크릴레이트, 페녹시에틸메타크릴레이트, 페닐메타크릴레이트, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 디에틸글리콜디아크릴레이트, 디에틸글리콜디메타크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디메타크릴레이트, 에틸렌글리콜비스글리시딜아크릴레이트, 에틸렌글리콜비스글리시딜메타크릴레이트, 비스페놀A디아크릴레이트, 비스페놀A디메타크릴레이트, 2,2-비스(4-아크록시에톡시페닐)프로판, 2,2-비스(4-메타크록시에톡시페닐)프로판, 2,2-비스(4-아크록시디에톡시페닐)프로판, 2,2-비스(4-메타크록시디에톡시페닐)프로판, 비스페놀F디아크릴레이트, 비스페놀F디메타크릴레이트, 1,1-비스(4-아크록시에톡시페닐)메탄, 1,1-비스(4-메타크록시에톡시페닐)메탄, 1,1-비스(4-아크록시디에톡시페닐)메탄, 1,1-비스(4-메타크록시디에톡시페닐)메탄, 디메티롤트리시클로데칸디아크릴레이트, 트리메티롤프로판트리아크릴레이트, 트리메티롤프로판트리메타크릴레이트, 글리세롤디아크릴레이트, 글리세롤디메타크릴레이트, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라메타크릴레이트, 메틸티오아크릴레이트, 메틸티오메타크릴레이트, 페닐티오아크릴레이트, 벤질티오메타크릴레이트, 크시릴렌디티올디아크릴레이트, 크시릴렌디티올디메타크릴레이트, 메르캅토에틸설피드 디아크릴레이트, 메르캅토에틸설피드디메타크릴레이트 등의 (메타)아크릴레이트 화합물；

알릴글리시딜에테르, 디알릴프탈레이트, 디알릴테레프탈레이트, 디알릴이소프탈레이트, 디알릴카르보네이트, 디에틸렌글리콜비스알릴카르보네이트, 트리알릴이소시아누레이트 등의 알릴 화합물；

스티렌, 클로로스티렌, 메틸스티렌, 브로모스티렌, 디브로모스티렌, 디비닐벤젠, 3,9-디비닐스피로비(m-디옥산), 디비닐설피드, 디비닐디설피드 등의 비닐 화합물；

디이소프로페닐벤젠 등을 들 수 있지만, 예시 화합물에만 제한되는 것은 아니다. 또한, 이들은 단독으로도 2종류 이상을 혼합하여 사용하여도 상관 없다. 탄소-탄소 이중결합을 가지는 화합물로서, 바람직하게는 트리알릴이소시아누레이트를 이용할 수 있다.

탄소-탄소 이중결합을 가지는 화합물의 사용량으로서는, 사용하는 화합물의 구조 및 티올 화합물의 구조나 사용량에 따라 다르지만, 얻어지는 수지의 굴절률을 고려하면, 중합성 조성물 전체에 대해서, 25중량% 이하 함유하면 바람직하다. 23중량% 이하이면 보다 바람직하고, 20중량% 이하이면 더욱 바람직하다. 얻어지는 수지의 색상을 고려하면, 2.5중량% 이상이면 바람직하다.

또한, 티올 화합물과 탄소-탄소 이중결합을 가지는 화합물의 사용량 비로서는, 티올 화합물 중의 티올기와, 탄소-탄소 이중결합을 가지는 화합물 중의 탄소-탄소 이중결합과의 관능기 비(즉 SH기/탄소-탄소 이중결합)는, 수지 색상의 관점으로부터는, 0.7 이상이 바람직하다. 더욱 바람직하게는 0.9 이상 5 이하이며, 보다 바람직하게는 0.9 이상 3 이하이다. 이 관능기 비가 너무 작으면 얻어지는 수지의 투명성이 저하하여 바람직하지 않은 경우가 있고, 또한 너무 크면 얻어지는 수지의 내열성이 저하하기 때문에 바람직하지 않은 경우가 있다.

중합성 조성물이 탄소-탄소 이중결합을 가지는 화합물을 더 포함할 때, 본 발명의 중합성 조성물 중에 포함되는 중합성 화합물의 총 중량에 차지하는, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물의 함유량은, 특별히 한정하는 것은 아니고, 통상, 10중량% 이상이다.

상기 일반식(1)로 표시되는 화합물의 함유량이 증가하는 것에 따라 고굴절률 화 재료가 얻어지는 경향이 있는 것으로부터, 바람직하게는, 30중량% 이상이며, 보다 바람직하게는, 50중량% 이상이며, 더욱 바람직하게는, 70중량% 이상이다.

다만, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물의 함유량이 너무 많으면 상대적으로 티올 화합물 및 탄소-탄소 이중결합을 가지는 화합물의 함유량이 저하하기 때문에, 수지의 색상을 향상시키고, 기계 강도의 저하를 억제하는 관점으로부터는, 중합성 조성물 중의 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물의 함유량을 95중량% 이하로 하는 것이 바람직하다.

또한, 중합성 조성물이 탄소-탄소 이중결합을 가지는 화합물을 더 포함할 때, 티올 화합물의 사용량으로서는, 사용하는 화합물의 구조 및, 탄소-탄소 이중결합을 가지는 화합물의 구조나 사용량에 따라 다르지만, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물은 높은 굴절률을 가지는 수지를 제공하기 때문에, 일반적으로 티올 화합물의 첨가는 얻어지는 수지의 굴절률의 저하를 의미한다. 따라서, 얻어지는 수지의 굴절률을 고려하면, 본 발명의 중합성 조성물 전체에 대해서, 35중량% 이하 함유하는 것이 바람직하다. 30중량% 이하이면 보다 바람직하고, 25중량% 이하이면 더욱 바람직하다. 얻어지는 수지의 색상을 감안하면, 2.5중량% 이상이면 바람직하다.

본 발명의 중합성 조성물은, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물과 티올 화합물, 및 이소(티오)시아네이트 화합물을 가지는 화합물을 함유하고, 필요에 따라서, 중합촉매를 함유하여 이루어지는 구성으로 하여도 좋다. 또한, 이 때, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물에 있어서 m=0이며, X₁이 황원자이어도 좋다.

본 발명에 있어서 사용되는 이소(티오)시아네이트 화합물은, 분자 내에 1개이상의 이소(티오)시아네이트기(NCO기 및/또는 NCS기)를 함유하는 화합물이다. 이소(티오)시아네이트 화합물은, 더욱 구체적으로는, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물과 상용하는 것을 나타내고, 바람직하게는 이소(티오)시아네이트기가 2개 이상의 폴리이소(티오)시아네이트 화합물이다.

이소시아네이트 화합물의 구체예로서는, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 2,2-디메틸펜탄디이소시아네이트, 2,2,4-트리메틸헥산디이소시아네이트, 부텐디이소시아네이트, 1,3-부타디엔-1,4-디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 1,6,11-운데카트리이소시아네이트, 1,3,6-헥사메틸렌트리이소시아네이트, 1,8-디이소시아네이토-4-이소시아네이토메틸옥탄, 비스(이소시아네이토에틸)카르보네이트, 비스(이소시아네이토에틸)에테르, 리진디이소시아네이토메틸에스테르, 리진트리이소시아네이트, m-크시릴렌디이소시아네이트, p-크시릴렌디이소시아네이트, 비스(이소시아네이토에틸)벤젠, 비스(이소시아네이토프로필)벤젠, α,α,α',α'-테트라메틸크시릴렌디이소시아네이트, 비스(이소시아네이토부틸)벤젠, 비스(이소시아네이토메틸)나프탈렌, 비스(이소시아네이토메틸)디페닐에테르, 비스(이소시아네이토에틸)프탈레이트, 메시티릴렌트리이소시아네이트, 2,6-디(이소시아네이토메틸)푸란 등의 지방족 폴리이소시아네이트 화합물；

이소포론디이소시아네이트, 비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 시클로헥산디이소시아네이트, 메틸시클로헥산디이소시아네이트, 디시클로헥실디메틸메탄디이소시아네이트, 2,2-디메틸디시클로헥실메탄 디이소시아네이트, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)비시클로-[2,2,1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아네이토메틸)비시클로-[2,2,1]-헵탄, 3,8-비스(이소시아네이토메틸)트리시클로데칸, 3,9-비스(이소시아네이토메틸)트리시클로데칸, 4,8-비스(이소시아네이토메틸)트리시클로데칸, 4,9-비스(이소시아네이토메틸)트리시클로데칸, 1,1'-메틸렌비스(4-이소시아네이토시클로헥산) 등의 지환족 폴리이소시아네이트 화합물；

페닐렌디이소시아네이트, 토릴렌디이소시아네이트, 에틸페닐렌디이소시아네이트, 이소프로필페닐렌디이소시아네이트, 디메틸페닐렌디이소시아네이트, 디에틸페닐렌디이소시아네이트, 디이소프로필페닐렌디이소시아네이트, 트리메틸벤젠트리이소시아네이트, 벤젠트리이소시아네이트, 비페닐디이소시아네이트, 톨루이딘디이소시아네이트, 4,4-디페닐메탄디이소시아네이트, 3,3-디메틸디페닐메탄-4,4-디이소시아네이트, 비벤질-4,4-디이소시아네이트, 비스(이소시아네이토페닐)에틸렌, 3,3-디메톡시비페닐-4,4-디이소시아네이트, 페닐이소시아네이토에틸이소시아네이트, 헥사히드로벤젠디이소시아네이트, 헥사히드로디페닐메탄-4,4-디이소시아네이트 등의 방향족 폴리이소시아네이트 화합물；

비스(이소시아네이토메틸)설피드, 비스(이소시아네이토에틸)설피드, 비스(이소시아네이토프로필)설피드, 비스(이소시아네이토헥실)설피드, 비스(이소시아네이토메틸)설폰, 비스(이소시아네이토메틸)디설피드, 비스(이소시아네이토에틸)디설피드, 비스(이소시아네이토프로필)디설피드, 비스(이소시아네이토메틸티오)메탄, 비스(이소시아네이토에틸티오)메탄, 비스(이소시아네이토에틸티오)에탄, 비스(이소시아네이토메틸티오)에탄, 1,5-디이소시아네이토-2-이소시아네이토메틸-3-티아펜탄 등의 황함유 지방족 폴리이소시아네이트 화합물；

디페닐설피드-2,4-디이소시아네이트, 디페닐설피드-4,4-디이소시아네이트, 3,3-디메톡시-4,4-디이소시아네이토디벤질티오에테르, 비스(4-이소시아네이토메틸벤젠)설피드, 4,4-메톡시벤젠티오에틸렌글리콜-3,3-디이소시아네이트 등의 방향족 설피드계 폴리이소시아네이트 화합물；

디페닐디설피드-4,4-디이소시아네이트, 2,2-디메틸디페닐디설피드-5,5-디이소시아네이트, 3,3-디메틸디페닐디설피드-5,5-디이소시아네이트, 3,3-디메틸디페닐디설피드-6,6-디이소시아네이트, 4,4-디메틸디페닐디설피드-5,5-디이소시아네이트, 3,3-디메톡시디페닐디설피드-4,4-디이소시아네이트, 4,4-디메톡시디페닐디설피드-3,3-디이소시아네이트 등의 방향족 디설피드계 이소시아네이트 화합물, 2,5-디이소시아네이토티오펜, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)티오펜 등의 황함유 복소환 폴리이소시아네이트 화합물 등을 들 수 있다.

이소시아네이트 화합물로서, 그 외에도, 2,5-디이소시아네이토테트라히드로티오펜, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)테트라히드로티오펜, 3,4-비스(이소시아네이토메틸)테트라히드로티오펜, 2,5-디이소시아네이토-1,4-디티안, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)-1,4-디티안, 4,5-디이소시아네이토-1,3-디티오란, 4,5-비스(이소시아네이토메틸)-1,3-디티오란, 4,5-비스(이소시아네이토메틸)-2-메틸-1,3-디티오란 등을 들 수 있지만, 예시 화합물로 한정되는 것은 아니다.

또한, 이들의 염소 치환체, 브롬 치환체 등의 할로겐 치환체, 알킬 치환체, 알콕시 치환체, 니트로 치환체나 다가알코올과의 프레폴리머형 변성체, 카르보디이미드 변성체, 우레아 변성체, 뷰렛 변성체, 다이머화 혹은 트리머화 반응 생성물 등도 사용할 수 있다.

또한, 이소티오시아네이트 화합물의 구체예로서는, 메틸이소티오시아네이트, 에틸이소티오시아네이트, n-프로필티오이소시아네이트, 이소프로필이소티오시아네이트, n-부틸이소티오시아네이트, sec-부틸이소티오시아네이트, tert-부틸이소티오시아네이트, 펜틸이소티오시아네이트, 헥실이소티오시아네이트, 헵틸이소티오시아네이트, 옥틸이소티오시아네이트, 데실이소티오시아네이트, 라우릴이소티오시아네이트, 미리스틸이소티오시아네이트, 옥타데실이소티오시아네이트, 3-펜틸이소티오시아네이트, 2-에틸헥실이소티오시아네이트, 2,3-디메틸시클로헥실이소티오시아네이트, 2-메톡시페닐이소티오시아네이트, 4-메톡시페닐이소티오시아네이트, α-메틸벤질이소티오시아네이트, 페닐에틸이소티오시아네이트, 페닐이소티오시아네이트, o-, m-, 혹은 p-토릴이소티오시아네이트, 시클로헥실이소티오시아네이트, 벤질이소티오시아네이트, 이소티오시아네이트메틸비시클로헵탄 등의 단관능 이소티오시아네이트 화합물(이소티오시아네이트기를 1개 가지는 화합물)；

1,6-디이소티오시아네이토헥산, p-페닐렌이소프로필리덴디이소티오시아네이트 등의 지방족 폴리이소티오시아네이트 화합물；

시클로헥산디이소티오시아네이트, 디이소티오시아네이토메틸비시클로헵탄 등의 지환족 폴리이소티오시아네이트 화합물；

1,2-디이소티오시아네이토벤젠, 1,3-디이소티오시아네이토벤젠, 1,4-디이소티오시아네이토벤젠, 2,4-디이소티오시아네이토톨루엔, 2,5-디이소티오시아네이토-m-크실렌, 4,4-디이소티오시아네이토-1,1-비페닐, 1,1-메틸렌비스(4-이소티오시아네이토벤젠), 1,1-메틸렌비스(4-이소티오시아네이토-2-메틸벤젠), 1,1-메틸렌비스(4-이소티오시아네이토-3-메틸벤젠), 1,1-(1,2-에탄디일)비스(이소티오시아네이토벤젠), 4,4-디이소티오시아네이토벤조페논, 4,4-디이소티오시아네이토-3,3-디메틸벤조페논, 디페닐에테르-4,4-디이소티오시아네이트, 디페닐아민-4,4-디이소티오시아네이트 등의 방향족 폴리이소티오시아네이트 화합물；

또한, 1,3-벤젠디카르보닐디이소티오시아네이트, 1,4-벤젠디카르보닐디이소티오시아네이트, (2,2-피리딘)-4,4-디카르보닐디이소티오시아네이트 등의 카르보닐폴리이소티오시아네이트 화합물 등을 들 수 있지만, 예시 화합물로 한정되는 것은 아니다.

또한, 이소티오시아네이트기 외에 1개 이상의 황원자를 함유하는 이소티오시아네이트 화합물의 구체예로서는, 티오비스(3-이소티오시아네이토프로판), 티오비스(2-이소티오시아네이토에탄), 디티오비스(2-이소티오시아네이토에탄) 등의 황함유 지방족 폴리이소티오시아네이트 화합물；

1-이소티오시아네이토-4-[(2-이소티오시아네이토)설포닐]벤젠, 티오비스(4-이소티오시아네이토벤젠), 설포닐비스(4-이소티오시아네이토벤젠), 디티오비스(4-이소티오시아네이토벤젠) 등의 황함유 방향족 폴리이소티오시아네이트 화합물；

2,5-디이소티오시아네이토티오펜, 2,5-디이소티오시아네이토-1,4-디티안 등의 황함유 복소환 폴리이소티오시아네이트 화합물 등을 들 수 있지만, 예시 화합물로 한정되는 것은 아니다.

더욱이, 이들의 염소 치환체, 브롬 치환체 등의 할로겐 치환체, 알킬 치환체, 알콕시 치환체, 니트로 치환체나 다가알코올과의 프레폴리머형 변성체, 카르보디이미드 변성체, 우레아 변성체, 뷰렛 변성체, 다이머화 혹은 트리머화 반응 생성물 등도 사용할 수 있다.

더욱이, 이소시아네이트기를 가지는 이소티오시아네이트 화합물도 들 수 있다. 구체적으로는, 1-이소시아네이토-6-이소티오시아네이토헥산, 1-이소시아네이토-4-이소티오시아네이토시클로헥산 등의 지방족 혹은 지환족 화합물；

1-이소시아네이토-4-이소티오시아네이토벤젠, 4-메틸-3-이소시아네이토-1-이소티오시아네이토벤젠 등의 방향족 화합물；

2-이소시아네이토-4,6-디이소티오시아네이토-1,3,5-트리아진 등의 복소환 화합물；또한,

4-이소시아네이토-4'-이소티오시아네이토디페닐설피드, 2-이소시아네이토-2'-이소티오시아네이토디에틸디설피드 등의 이소티오시아네이트기 이외에도 황원자를 함유하는 화합물 등이지만, 예시 화합물로 한정되는 것은 아니다.

더욱이, 이들의 염소 치환체, 브롬 치환체 등의 할로겐 치환체, 알킬 치환체, 알콕시 치환체, 니트로 치환체나 다가알코올과의 프레폴리머형 변성체, 카르보디이미드 변성체, 우레아 변성체, 뷰렛 변성체, 다이머화 혹은 트리머화 반응 생성물 등도 사용할 수 있다.

이들 화합물 중, 얻어지는 수지의 강도의 관점에서 가장 바람직한 화합물로서는, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)비시클로[2.2.1]헵탄, 2,6-비스(이소시아네이토메틸)비시클로[2.2.1]헵탄, 비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산, 시클로헥산디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 1,1'-메틸렌비스(4-이소시아네이토시클로헥산), m-크시릴렌디이소시아네이트, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)-1,4-디티안으로 이루어지는 화합물 군으로부터 적어도 1종 선택된 화합물이고, 보다 한층 바람직한 화합물은, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)비시클로[2.2.1]헵탄, 2,6-비스(이소시아네이토메틸)비시클로[2.2.1]헵탄이다.

본 발명의 이소(티오)시아네이트 화합물의 사용량으로서는, 사용하는 화합물의 구조 및, 티올 화합물의 구조나 사용량에 따라 다르지만, 얻어지는 수지의 굴절률을 고려하면, 본 발명의 중합성 조성물 전체에 대해서, 25중량% 이하 함유하면 바람직하다. 23중량% 이하이면 보다 바람직하고, 20중량% 이하이면 더욱 바람직하다. 얻어지는 수지의 색상 및 기계 강도를 고려하면, 2.5중량% 이상인 것이 바람직하다.

티올 화합물과 이소(티오)시아네이트 화합물의 사용량 비로서는, 티올 화합물 중의 티올기와 이소(티오)시아네이트 화합물 중의 이소(티오)시아네이트기와의 관능기 비(SH기/(NCO기＋NCS기))는, 수지 색상의 관점으로부터는, 0.7 이상이 바람직하다. 더욱 바람직하게는 0.9 이상 5 이하이며, 보다 바람직하게는 0.9 이상 3 이하이다. 이 관능기 비가 너무 작으면 얻어지는 수지의 기계 강도가 저하하여 바람직하지 않은 경우가 있고, 너무 크면 얻어지는 수지의 내열성이 저하하기 때문에바람직하지 않은 경우가 있다.

중합성 조성물이 이소(티오)시아네이트 화합물을 더 포함할 때, 본 발명의 중합성 조성물 중에 포함되는 중합성 화합물의 총 중량에 차지하는, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물의 함유량은, 특별히 한정하는 것은 아니고, 통상, 10중량% 이상이다.

상기 일반식(1)로 표시되는 화합물의 함유량이 증가하는 것에 따라, 고굴절률화 재료가 얻어지는 경향이 있는 것으로부터 바람직하게는, 30중량% 이상이며, 보다 바람직하게는, 50중량% 이상이며, 더욱 바람직하게는, 70중량% 이상이다.

다만, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물의 함유량이 너무 많으면 상대적으로 티올 화합물 및 이소(티오)시아네이트 화합물의 함유량이 저하하기 때문에, 수지의 색상을 향상시키고, 기계 강도의 저하를 억제하는 관점으로부터는, 중합성 조성물 중의 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물의 함유량을 95중량% 이하로 하는 것이 바람직하다.

또한, 중합성 조성물이 이소(티오)시아네이트 화합물을 더 포함할 때, 티올 화합물의 사용량으로서는, 사용하는 화합물의 구조 및, 이소(티오)시아네이트 화합물의 구조나 사용량에 따라 다르지만, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물은 높은 굴절률을 가지는 수지를 제공하기 때문에, 일반적으로 티올 화합물의 첨가는 얻어지는 수지의 굴절률의 저하를 의미한다. 따라서, 얻어지는 수지의 굴절률을 고려하면, 본 발명의 중합성 조성물 전체에 대해서, 35중량% 이하 함유하는 것이 바람직하다. 30중량% 이하이면 보다 바람직하고, 25중량% 이하이면 더욱 바람직하다. 얻어지는 수지의 색상, 기계 강도를 감안하면, 2.5중량% 이상이면 바람직하다.

본 발명의 중합성 조성물은, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물과 티올 화합물, 및 에폭시 화합물 및/또는 에피설피드 화합물을 가지는 화합물을 함유하고, 필요에 따라서, 중합촉매를 함유하여 이루어지는 구성으로 하여도 좋다. 또한, 이 때, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물에 있어서 m=0이며, X₁이 황원자이어도 좋다.

에폭시 화합물 및 에피설피드 화합물은, 각각, 분자 내에 1개 이상의 에폭시기 및 에피설피드기를 함유한다. 또한, 에폭시 화합물 및 에피설피드 화합물은, 예를 들어 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물과 상용하는 것이면 어떠한 구조를 가지는 화합물에서도 사용할 수 있지만, 바람직하게는 에폭시기 및/또는 에피설피드기를 합계 2개 이상 함유하는 화합물이다.

구체적으로는, 에폭시 화합물로서, 비스페놀A 글리시딜에테르, 비스페놀F 글리시딜에테르 등의 다가 페놀 화합물과 에피할로히드린 화합물과의 축합반응에 의해 얻어지는 페놀계 에폭시 화합물；

수첨 비스페놀A 글리시딜에테르, 수첨 비스페놀F 글리시딜에테르, 시클로헥산디메탄올 등의 다가알코올 화합물과 에피할로히드린 화합물과의 축합에 의해 얻어지는 알코올계 에폭시 화합물；

3,4-에폭시시클로헥실메틸-3',4'-에폭시시클로헥산카르복실레이트나 1,2-헥사히드로프탈산디글리시딜에스테르 등의 다가 유기산 화합물과 에피할로히드린 화합물과의 축합에 의해 얻어지는 글리시딜에스테르계 에폭시 화합물；

1급 및 2급 아민 화합물과 에피할로히드린 화합물과의 축합에 의해 얻어지는 아민계 에폭시 화합물 등을 들 수 있다. 또한, 그 외, 4-비닐-1-시클로헥산디에폭시드 등의 비닐시클로헥센디에폭시드 등 지방족 다가 에폭시 화합물 등을 들 수 있다.

설피드기 함유 에폭시 화합물과 에테르기 함유 에폭시 화합물의 구체적 화합물 예로서는, 비스(2,3-에폭시프로필)설피드, 비스(2,3-에폭시프로필)디설피드, 비스(2,3-에폭시프로필티오)메탄, 1,2-비스(2,3-에폭시프로필티오)에탄, 1,2-비스(2,3-에폭시프로필티오)프로판, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오)프로판, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2-메틸프로판, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필티오)부탄, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2-메틸부탄, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오)부탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필티오)펜탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2-메틸펜탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필티오)-3-티아펜탄, 1,6-비스(2,3-에폭시프로필티오)헥산, 1,6-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2-메틸헥산, 3,8-비스(2,3-에폭시프로필티오)-3,6-디티아옥탄, 1,2,3-트리스(2,3-에폭시프로필티오)프로판, 2,2-비스(2,3-에폭시프로필티오)-1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)프로판, 2,2-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-1-(2,3-에폭시프로필티오)부탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2-(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3-티아펜탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2,4-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3-티아펜탄, 1-(2,3-에폭시프로필티오)-2,2-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-4-티아헥산, 1,5,6-트리스(2,3-에폭시프로필티오)-4-(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3-티아헥산, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필티오)-4-(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필티오)-4,5-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필티오)-4,4-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2,5-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2,4,5-트리스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,1,1-트리스[[2-(2,3-에폭시프로필티오)에틸]티오메틸]-2-(2,3-에폭시프로필티오)에탄, 1,1,2,2-테트라키스[[2-(2,3-에폭시프로필티오)에틸]티오메틸]에탄, 1,11-비스(2,3-에폭시프로필티오)-4,8-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에폭시프로필티오)-4,7-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에폭시프로필티오)-5,7-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸 등의 쇄상 지방족의 2,3-에폭시프로필티오 화합물；

1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필티오)시클로헥산, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)시클로헥산, 2,5-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스[[2-(2,3-에폭시프로필티오)에틸]티오메틸]-1,4-디티안, 2,5-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-2,5-디메틸-1,4-디티안 등의 환상 지방족의 2,3-에폭시프로필티오 화합물；

1,2-비스(2,3-에폭시프로필티오)벤젠, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오)벤젠, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필티오)벤젠, 1,2-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)벤젠, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)벤젠, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)벤젠, 비스[4-(2,3-에폭시프로필티오)페닐]메탄, 2,2-비스[4-(2,3-에폭시프로필티오)페닐]프로판, 비스[4-(2,3-에폭시프로필티오)페닐]설피드, 비스[4-(2,3-에폭시프로필티오)페닐]설폰, 4,4'-비스(2,3-에폭시프로필티오)비페닐 등의 방향족 2,3-에폭시프로필티오 화합물；

에틸렌옥사이드, 프로필렌옥사이드, 글리시돌, 에피클로르히드린 등의 단관능 에폭시 화합물(에폭시기를 1개 가지는 화합물)；

비스(2,3-에폭시프로필)에테르, 비스(2,3-에폭시프로필옥시)메탄, 1,2-비스(2,3-에폭시프로필옥시)에탄, 1,2-비스(2,3-에폭시프로필옥시)프로판, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필옥시)프로판, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-2-메틸프로판, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필옥시)부탄, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-2-메틸부탄, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필옥시)부탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필옥시)펜탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-2-메틸펜탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-3-티아펜탄, 1,6-비스(2,3-에폭시프로필옥시)헥산, 1,6-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-2-메틸헥산, 3,8-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-3,6-디티아옥탄, 1,2,3-트리스(2,3-에폭시프로필옥시)프로판, 2,2-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-1,3-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)프로판, 2,2-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-1-(2,3-에폭시프로필옥시)부탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-2-(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3-티아펜탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-2,4-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3-티아펜탄, 1-(2,3-에폭시프로필옥시)-2,2-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-4-티아헥산, 1,5,6-트리스(2,3-에폭시프로필옥시)-4-(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3-티아헥산, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-4-(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-4,5-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-4,4-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-2,5-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-2,4,5-트리스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,1,1-트리스[[2-(2,3-에폭시프로필옥시)에틸]티오메틸]-2-(2,3-에폭시프로필옥시)에탄, 1,1,2,2-테트라키스[[2-(2,3-에폭시프로필옥시)에틸]티오메틸]에탄, 1,11-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-4,8-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-4,7-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-5,7-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3,6,9-트리티아운데칸 등의 쇄상 지방족의 2,3-에폭시프로필옥시 화합물；

1,3-비스(2,3-에폭시프로필옥시)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필옥시)시클로헥산, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)시클로헥산, 2,5-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스[[2-(2,3-에폭시프로필옥시)에틸]티오메틸]-1,4-디티안, 2,5-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-2,5-디메틸-1,4-디티안 등의 환상 지방족의 2,3-에폭시프로필옥시 화합물；및,

1,2-비스(2,3-에폭시프로필옥시)벤젠, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필옥시)벤젠, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필옥시)벤젠, 1,2-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)벤젠, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)벤젠, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)벤젠, 비스[4-(2,3-에폭시프로필옥시)페닐]메탄, 2,2-비스[4-(2,3-에폭시프로필옥시)페닐]프로판, 비스[4-(2,3-에폭시프로필옥시)페닐]설피드, 비스[4-(2,3-에폭시프로필옥시)페닐]설폰, 4,4'-비스(2,3-에폭시프로필옥시)비페닐 등의 방향족 2,3-에폭시프로필옥시 화합물 등을 들 수 있지만, 예시 화합물에만 한정되는 것은 아니다.

이들 예시한 에폭시 화합물 중, 바람직하게는, 비스(2,3-에폭시프로필)디설피드, 4-비닐-1-시클로헥산디에폭시드, 비스페놀Aㆍ비스페놀F 글리시딜에테르 등의 다가 페놀 화합물과 에피할로히드린 화합물과의 축합반응에 의해 얻어지는 페놀계 에폭시 화합물；

수첨 비스페놀Aㆍ비스페놀F 글리시딜에테르 등의 다가알코올 화합물과 에피할로히드린 화합물과의 축합에 의해 얻어지는 알코올계 에폭시 화합물；

3,4-에폭시시클로헥실메틸-3',4'-에폭시시클로헥산카르복실레이트나 1,2-헥사히드로프탈산디글리시딜에스테르 등의 다가 유기산 화합물과 에피할로히드린 화합물과의 축합에 의해 얻어지는 글리시딜에스테르계 에폭시 화합물；

1급 및 2급 디아민 화합물과 에피할로히드린 화합물과의 축합에 의해 얻어지는 아민계 에폭시 화합물 등을 들 수 있다. 또한, 그 외, 비닐시클로헥센디에폭시드 등 지방족 다가 에폭시 화합물 등을 들 수 있고, 보다 바람직하게는, 비스(2,3-에폭시프로필)디설피드, 시클로헥산디메탄올디글리시딜에테르, 비스페놀A 글리시딜에테르, 비스페놀F 글리시딜에테르이다. 더욱 바람직하게는, 시클로헥산디메탄올디글리시딜에테르 및 비스페놀F 글리시딜에테르이다.

에피설피드 화합물로서, 구체적으로는, 비스(1,2-에피티오에틸)설피드, 비스(1,2-에피티오에틸)디설피드, 비스(에피티오에틸티오)메탄, 비스(에피티오에틸티오)벤젠, 비스[4-(에피티오에틸티오)페닐]설피드, 비스[4-(에피티오에틸티오)페닐]메탄 등의 에피티오에틸티오 화합물；

비스(2,3-에피티오프로필)설피드, 비스(2,3-에피티오프로필)디설피드, 비스(2,3-에피티오프로필티오)메탄, 1,2-비스(2,3-에피티오프로필티오)에탄, 1,2-비스(2,3-에피티오프로필티오)프로판, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오)프로판, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2-메틸프로판, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필티오)부탄, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2-메틸부탄, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오)부탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필티오)펜탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2-메틸펜탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필티오)-3-티아펜탄, 1,6-비스(2,3-에피티오프로필티오)헥산, 1,6-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2-메틸헥산, 3,8-비스(2,3-에피티오프로필티오)-3,6-디티아옥탄, 1,2,3-트리스(2,3-에피티오프로필티오)프로판, 2,2-비스(2,3-에피티오프로필티오)-1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)프로판, 2,2-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-1-(2,3-에피티오프로필티오)부탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2-(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3-티아펜탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2,4-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3-티아펜탄, 1-(2,3-에피티오프로필티오)-2,2-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-4-티아헥산, 1,5,6-트리스(2,3-에피티오프로필티오)-4-(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3-티아헥산, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필티오)-4-(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필티오)-4,5-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필티오)-4,4-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2,5-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2,4,5-트리스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,1, 1-트리스[[2-(2,3-에피티오프로필티오)에틸]티오메틸]-2-(2,3-에피티오프로필티오)에탄, 1,1,2,2-테트라키스[[2-(2,3-에피티오프로필티오)에틸]티오메틸]에탄, 1,11-비스(2,3-에피티오프로필티오)-4,8-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에피티오프로필티오)-4,7-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에피티오프로필티오)-5,7-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸 등의 쇄상 지방족의 2,3-에피티오프로필티오 화합물；

1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필티오)시클로헥산, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)시클로헥산, 2,5-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스[[2-(2,3-에피티오프로필티오)에틸]티오메틸]-1,4-디티안, 2,5-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-2,5-디메틸-1,4-디티안 등의 환상 지방족의 2,3-에피티오프로필티오 화합물；

1,2-비스(2,3-에피티오프로필티오)벤젠, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오)벤젠, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필티오)벤젠, 1,2-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)벤젠, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)벤젠, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)벤젠, 비스[4-(2,3-에피티오프로필티오)페닐]메탄, 2,2-비스[4-(2,3-에피티오프로필티오)페닐]프로판, 비스[4-(2,3-에피티오프로필티오)페닐]설피드, 비스[4-(2,3-에피티오프로필티오)페닐]설폰, 4,4'-비스(2,3-에피티오프로필티오)비페닐 등의 방향족 2,3-에피티오프로필티오 화합물；

에틸렌설피드, 프로필렌설피드, 메르캅토프로필렌설피드, 메르캅토부텐설피드, 에피티오클로르히드린 등의 단관능 에피설피드 화합물(에피설피드기를 1개 가지는 화합물)；

비스(2,3-에피티오프로필)에테르, 비스(2,3-에피티오프로필옥시)메탄, 1,2-비스(2,3-에피티오프로필옥시)에탄, 1,2-비스(2,3-에피티오프로필옥시)프로판, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필옥시)프로판, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-2-메틸프로판, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필옥시)부탄, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-2-메틸부탄, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필옥시)부탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필옥시)펜탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-2-메틸펜탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-3-티아펜탄, 1,6-비스(2,3-에피티오프로필옥시)헥산, 1,6-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-2-메틸헥산, 3,8-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-3,6-디티아옥탄, 1,2,3-트리스(2,3-에피티오프로필옥시)프로판, 2,2-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-1,3-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)프로판, 2,2-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-1-(2,3-에피티오프로필옥시)부탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-2-(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3-티아펜탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-2,4-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3-티아펜탄, 1-(2,3-에피티오프로필옥시)-2,2-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-4-티아헥산, 1,5,6-트리스(2,3-에피티오프로필옥시)-4-(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3-티아헥산, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-4-(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-4,5-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-4,4-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-2,5-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-2,4,5-트리스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,1,1-트리스[[2-(2,3-에피티오프로필옥시)에틸]티오메틸]-2-(2,3-에피티오프로필옥시)에탄, 1,1,2,2-테트라키스[[2-(2,3-에피티오프로필옥시)에틸]티오메틸]에탄, 1,11-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-4,8-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-4,7-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-5,7-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3,6,9-트리티아운데칸 등의 쇄상 지방족의 2,3-에피티오프로필옥시 화합물；

1,3-비스(2,3-에피티오프로필옥시)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필옥시)시클로헥산, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)시클로헥산, 2,5-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스[[2-(2,3-에피티오프로필옥시)에틸]티오메틸]-1,4-디티안, 2,5-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-2,5-디메틸-1,4-디티안 등의 환상 지방족의 2,3-에피티오프로필옥시 화합물；및,

1,2-비스(2,3-에피티오프로필옥시)벤젠, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필옥시)벤젠, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필옥시)벤젠, 1,2-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)벤젠, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)벤젠, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)벤젠, 비스[4-(2,3-에피티오프로필옥시)페닐]메탄, 2,2-비스[4-(2,3-에피티오프로필옥시)페닐]프로판, 비스[4-(2,3-에피티오프로필옥시)페닐]설피드, 비스[4-(2,3-에피티오프로필옥시)페닐]설폰, 4,4'-비스(2,3-에피티오프로필옥시)비페닐 등의 방향족 2,3-에피티오프로필옥시 화합물 등을 들 수 있지만, 예시 화합물에만 한정되는 것은 아니다.

이들 예시 화합물 중 바람직한 화합물로서는, 비스(1,2-에피티오에틸)설피드, 비스(1,2-에피티오에틸)디설피드, 비스(2,3-에피티오프로필)설피드, 비스(2,3-에피티오프로필티오)메탄 및 비스(2,3-에피티오프로필)디설피드이고, 보다 바람직한 화합물로서는 비스(1,2-에피티오에틸)설피드, 비스(1,2-에피티오에틸)디설피드, 비스(2,3-에피티오프로필)설피드 및 비스(2,3-에피티오프로필)디설피드이다. 또한, 보다 한층 바람직한 화합물은, 비스(2,3-에피티오프로필)설피드 및 비스(2,3-에피티오프로필)디설피드이다.

에폭시 화합물 및/또는 에피설피드 화합물의 사용량으로서는, 사용하는 화합물의 구조 및, 티올 화합물의 구조나 사용량에 따라 다르지만, 얻어지는 수지의 굴절률을 고려하면, 본 발명의 중합성 조성물 전체에 대해서, 25중량% 이하 함유하면 바람직하다. 23중량% 이하이면 보다 바람직하고, 20중량% 이하이면 더욱 바람직하다. 얻어지는 수지의 색상 및 기계 강도를 고려하면, 2.5중량% 이상이면 바람직하다.

에폭시 화합물 및/또는 에피설피드 화합물은, 어느쪽이든 한쪽, 혹은 양쪽 모두를 병용하여 사용할 수 있고, 그 양의 비는 특별히 한정되는 것은 아니다. 또한, 에폭시 화합물로서 다른 에폭시 화합물, 또는, 에피설피드 화합물로서 다른 에피설피드 화합물을 복수 병용하는 것도 가능하다. 다만, 고굴절률의 수지를 얻기 위해서는, 에피설피드 화합물의 사용이 바람직하다.

티올 화합물과 에폭시 화합물 및/또는 에피설피드 화합물의 사용량 비로서는, 티올 화합물 중의 티올기와, 에폭시 화합물 및/또는 에피설피드 화합물 중의 에폭시기 및/또는 에피설피드기와의 관능기 비(SH기/(에폭시기＋에피설피드기))는, 수지 색상의 관점으로부터는, 0.7 이상이 바람직하다. 더욱 바람직하게는 0.9 이상 5 이하이며, 보다 바람직하게는 0.9 이상 3 이하이다. 이 관능기 비가 너무 작으면, 수지의 기계 강도가 저하하여 바람직하지 않은 경우가 있고, 너무 크면 얻어지는 수지의 내열성이 저하하기 때문에 바람직하지 않은 경우가 있다.

중합성 조성물이 에폭시 화합물 및/또는 에피설피드 화합물을 더 포함할 때, 본 발명의 중합성 조성물 중에 포함되는 중합성 화합물의 총 중량에 차지하는, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물의 함유량은, 특별히 한정하는 것은 아니고, 통상, 10중량% 이상이다.

상기 일반식(1)로 표시되는 화합물의 함유량이 증가하는 것에 따라 고굴절률 화 재료가 얻어지는 경향이 있는 것으로부터 바람직하게는, 30중량% 이상이며, 보다 바람직하게는, 50중량% 이상이며, 더욱 바람직하게는, 70중량% 이상이다.

다만, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물의 함유량이 너무 많으면 상대적에 티올 화합물 및 에폭시 화합물 및/또는 에피설피드 화합물의 함유량이 저하하기 때문에, 수지의 색상을 향상시키고, 기계 강도의 저하를 억제하는 관점에서는, 중합성 조성물 중의 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물의 함유량을 95중량% 이하로 하는 것이 바람직하다.

또한, 중합성 조성물이 에폭시 화합물 및/또는 에피설피드 화합물을 더 포함할 때, 티올 화합물의 사용량으로서는, 사용하는 화합물의 구조 및, 에폭시 화합물 및/또는 에피설피드 화합물의 구조나 사용량에 따라 다르지만, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물은 높은 굴절률을 가지는 수지를 제공하기 때문에, 일반적으로 티올 화합물의 첨가는 얻어지는 수지의 굴절률의 저하를 의미한다. 따라서, 얻어지는 수지의 굴절률을 고려하면, 본 발명의 중합성 조성물 전체에 대해서, 35중량% 이하 함유하는 것이 바람직하다. 30중량% 이하이면 보다 바람직하고, 25중량% 이하이면 더욱 바람직하다. 얻어지는 수지의 색상, 기계 강도를 감안하면, 2.5중량% 이상이면 바람직하다.

본 발명의 중합성 조성물은, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물과 티올 화합물, 및 금속 비함유 티에탄 화합물을 가지는 화합물을 함유하고, 필요에 따라서, 중합촉매를 함유하여 이루어지는 구성으로 하여도 좋다. 또한, 이 때, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물에 있어서 m=0이며, X₁이 황원자이어도 좋다.

본 발명에 사용되는 금속 비함유 티에탄 화합물은, 분자구조 중에 금속원자를 포함하지 않는 티에탄 화합물이다. 구체적으로는, 하기 일반식(8)로 표시되는 화합물이고, 분자 내에 1개 이상의 티에타닐기를 함유하고, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물과 상용하는 것이면 어떠한 구조를 가지는 화합물이라도 사용할 수 있다.

[화11]

(상기 일반식(8) 중, Q는, 반응성 말단기를 가지는 직쇄, 분기 또는 환상의 탄소수 1 이상 10 이하의 알킬기 및 그 티아체, 아릴기, 아랄킬기, R₃은 티아화되어 있어도 좋은 치환 또는 무치환의 탄소수 1 이상 10 이하의 2가의 탄화수소기를 나타낸다. n은 0 이상 3 이하의 정수를 나타낸다.)

이하, 상기 일반식(8)로 표시되는 화합물에 관해서 설명한다.

상기 일반식(8)에 있어서, Q는, 반응성 말단기를 가지는 직쇄, 분기 또는 환상의 탄소수 1 이상 10 이하의 알킬기 및 그 티아체, 아릴기, 아랄킬기를 나타낸다.

상기 일반식(8)에 있어서, R₃은 티아화되어 있어도 좋은 치환 또는 무치환의 탄소수 1 이상 10 이하의 2가의 탄화수소기를 나타낸다.

상기 일반식(8)에 있어서, n은 0 이상 3 이하의 정수를 나타낸다. 또, n이 2보다 클 때에, 복수의 R₃은, 각각 독립하여 티아화되어 있어도 좋은 치환 또는 무치환의 탄소수 1 이상 10 이하의 2가의 탄화수소기를 나타낸다.

상기 일반식(8)로 표시되는 화합물의 구체예로서는, 비스(3-티에타닐)설피드, 비스(3-티에타닐티오메틸)설피드, 비스(3-티에타닐)디설피드 등의 황함유 환상 설피드 또는 디설피드 화합물；

1,1-비스(3-티에타닐티오)메탄, 1,2-비스(3-티에타닐티오)에탄, 1,2-비스(3-티에타닐티오)프로판, 1,3-비스(3-티에타닐티오)프로판, 1,2,3-트리스(3-티에타닐티오)프로판, 1,3-비스(3-티에타닐티오)-2-메틸프로판, 1,4-비스(3-티에타닐티오)부탄, 1,4-비스(3-티에타닐티오)-2-메틸부탄, 1,3-비스(3-티에타닐티오)부탄, 1,5-비스(3-티에타닐티오)펜탄, 1,5-비스(3-티에타닐티오)-2-메틸펜탄, 1,5-비스(3-티에타닐티오)-3-티아펜탄, 1,6-비스(3-티에타닐티오)헥산, 1,6-비스(3-티에타닐티오)-2-메틸헥산, 3,8-비스(3-티에타닐티오)-3,6-디티아옥탄, 1,2,3-트리스(3-티에타닐티오)프로판, 2,2-비스(3-티에타닐티오)-1,3-비스(3-티에타닐티오메틸)프로판, 2,2-비스(3-티에타닐티오)-1-(3-티에타닐티오메틸)부탄, 1,5-비스(3-티에타닐티오)-2-(3-티에타닐티오메틸)-3-티아펜탄, 1,5-비스(3-티에타닐티오)-2,4-비스(3-티에타닐티오메틸)-3-티아펜탄, 1-(3-티에타닐티오)-2,2-비스(3-티에타닐티오메틸)-4-티아헥산, 1,5,6-트리스(3-티에타닐티오)-4-(3-티에타닐티오메틸)-3-티아헥산, 1,8-비스(3-티에타닐티오)-4-(3-티에타닐티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(3-티에타닐티오)-4,5-비스(3-티에타닐티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(3-티에타닐티오)-4,4-비스(3-티에타닐티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(3-티에타닐티오)-2,5-비스(3-티에타닐티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(3-티에타닐티오)-2,4,5-트리스(3-티에타닐티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,1,1-트리스[[2-(3-티에타닐티오)에틸]티오메틸]-2-(3-티에타닐티오)에탄, 1,1,2,2-테트라키스[[2-(3-티에타닐티오)에틸]티오메틸]에탄, 1,11-비스(3-티에타닐티오)-4,8-비스(3-티에타닐티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(3-티에타닐티오)-4,7-비스(3-티에타닐티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(3-티에타닐티오)-5,7-비스(3-티에타닐티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,1,3,3-테트라키스(3-티에타닐티오메틸티오)프로판, 1,1,2,2-테트라키스(3-티에타닐티오메틸티오)에탄, 3-(3-티에타닐티오메틸)-1,5-디(3-티에타닐티오)-2,4-디티아펜탄 등의 쇄상 지방족의 3-티에타닐티오 화합물；

1,3-비스(3-티에타닐티오)시클로헥산, 1,4-비스(3-티에타닐티오)시클로헥산, 1,3-비스(3-티에타닐티오메틸)시클로헥산, 1,4-비스(3-티에타닐티오메틸)시클로헥산, 2,5-비스(3-티에타닐티오메틸)-1,4-디티안, 4,6-비스(3-티에타닐티오메틸)-1,3-디티안, 4,5-비스(3-티에타닐티오메틸)-1,3-디티오란, 2,4-비스(3-티에타닐티오메틸)-1,3-디티에탄, 2,5-비스[[2-(3-티에타닐티오)에틸]티오메틸]-1,4-디티안, 2,5-비스(3-티에타닐티오메틸)-2,5-디메틸-1,4-디티안, 2,2-비스(3-티에타닐티오메틸)-1,3-디티오란 등의 환상 지방족의 3-티에타닐티오 화합물；

1,2-비스(3-티에타닐티오)벤젠, 1,3-비스(3-티에타닐티오)벤젠, 1,4-비스(3-티에타닐티오)벤젠, 1,2-비스(3-티에타닐티오메틸)벤젠, 1,3-비스(3-티에타닐티오메틸)벤젠, 1,4-비스(3-티에타닐티오메틸)벤젠, 비스[4-(3-티에타닐티오)페닐]메탄, 2,2-비스[4-(3-티에타닐티오)페닐]프로판, 비스[4-(3-티에타닐티오)페닐]설피드, 비스[4-(3-티에타닐티오)페닐]설폰, 4,4'-비스(3-티에타닐티오)비페닐 등의 방향족 3-티에타닐티오 화합물 등을 들 수 있다.

또한 좌우 비대칭인 화합물로서, 1,3-비스(3-티에타닐티오)프로판-1-온, 1,3-비스(3-티에타닐티오)-2-메틸프로판-1-온 등을 들 수 있지만, 이들의 예시 화합물에만 한정되는 것은 아니다.

예시 화합물 중, 바람직한 화합물로서는, 비스(3-티에타닐)설피드, 비스(3-티에타닐티오메틸)설피드, 비스(3-티에타닐)디설피드, 1,1-비스(3-티에타닐티오)메탄, 1,2-비스(3-티에타닐티오)에탄, 1,2,3-트리스(3-티에타닐티오)프로판, 1,8-비스(3-티에타닐티오)-4-(3-티에타닐티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,11-비스(3-티에타닐티오)-4,8-비스(3-티에타닐티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(3-티에타닐티오)-4,7-비스(3-티에타닐티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(3-티에타닐티오)-5,7-비스(3-티에타닐티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 2,5-비스(3-티에타닐티오메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스[[2-(3-티에타닐티오)에틸]티오메틸]-1,4-디티안, 2,5-비스(3-티에타닐티오메틸)-2,5-디메틸-1,4-디티안, 4,5-비스(3-티에타닐티오메틸)-1,3-디티오란, 2,4-비스(3-티에타닐티오메틸)-1,3-디티에탄, 2,2-비스(3-티에타닐티오메틸)-1,3-디티오란이며, 보다 바람직한 화합물로서는, 비스(3-티에타닐)설피드, 비스(3-티에타닐티오메틸)설피드, 비스(3-티에타닐)디설피드, 1,1-비스(3-티에타닐티오)메탄, 2,2-비스(3-티에타닐티오메틸)-1,3-디티오란이며, 더욱 바람직하게는 비스(3-티에타닐)디설피드이다.

금속 비함유 티에탄 화합물의 사용량으로서는, 사용하는 화합물의 구조 및, 티올 화합물의 구조나 사용량에 따라 다르지만, 얻어지는 수지의 굴절률을 고려하면, 본 발명의 중합성 조성물 전체에 대해서, 25중량% 이하 함유하면 바람직하다. 23중량% 이하이면 보다 바람직하고, 20중량% 이하이면 더욱 바람직하다. 얻어지는 수지의 색상 및 기계 강도를 고려하면, 2.5중량% 이상이면 바람직하다.

금속 비함유 티에탄 화합물은, 금속 비함유 티에탄 화합물로서 다른 금속 비함유 티에탄 화합물을 복수 병용하는 일도 가능하다. 그 양의 비는 특별히 한정되는 것은 아니다.

티올 화합물과 금속 비함유 티에탄 화합물의 사용량 비로서는, 티올 화합물 중의 티올기와, 금속 비함유 티에탄 화합물 중의 티에타닐기와의 관능기 비(SH기/티에타닐기)는, 수지 색상의 관점으로부터는, 0.7 이상이 바람직하다. 더욱 바람직하게는 0.9 이상 5 이하이며, 보다 바람직하게는 0.9 이상 3 이하이다. 이 관능기 비가 너무 작으면 얻어지는 수지의 기계 강도가 저하하여 바람직하지 않은 경우가 있고, 너무 크면 얻어지는 수지의 내열성이 저하하기 때문에 바람직하지 않은 경우가 있다.

중합성 조성물이 금속 비함유 티에탄 화합물을 더 포함할 때, 본 발명의 중합성 조성물 중에 포함되는 중합성 화합물의 총 중량에 차지하는, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물의 함유량은, 특별히 한정하는 것은 아니고, 통상, 10중량% 이상이다.

상기 일반식(1)로 표시되는 화합물의 함유량이 증가하는 것에 따라 고굴절률화 재료가 얻어지는 경향이 있는 것으로부터 바람직하게는, 30중량% 이상이며, 보다 바람직하게는, 50중량% 이상이며, 더욱 바람직하게는, 70중량% 이상이다.

다만, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물 함유량이 너무 많으면 상대적으로 티올 화합물 및 금속 비함유 티에탄 화합물의 함유량이 저하하기 때문에, 수지의 색상을 향상시키고, 기계 강도의 저하를 억제하는 관점으로부터는, 중합성 조성물 중의 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물의 함유량을 95중량% 이하로 하는 것이 바람직하다.

또한, 금속 비함유 티에탄 화합물을 더 포함할 때, 티올 화합물의 사용량으로서는, 사용하는 화합물의 구조 및, 금속원자를 포함하지 않는 티에탄 화합물의 구조나 사용량에 따라 다르지만, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물은 높은 굴절률을 가지는 수지를 제공하기 때문에, 일반적으로 티올 화합물의 첨가는 얻어지는 수지의 굴절률의 저하를 의미한다. 따라서, 얻어지는 수지의 굴절률을 고려하면, 본 발명의 중합성 조성물 전체에 대해서, 35중량% 이하 함유하는 것이 바람직하다. 30중량% 이하이면 보다 바람직하고, 25중량% 이하이면 더욱 바람직하다. 얻어지는 수지의 색상, 기계 강도를 감안하면, 2.5중량% 이상이면 바람직하다.

또, 본 발명의 중합성 조성물은, 상기 성분을 1종 포함하고 있어도 좋고, 2종 이상 포함하고 있어도 좋다. 예를 들어, 중합성 조성물이, 상기 탄소-탄소 이중결합을 가지는 화합물, 이소(티오)시아네이트 화합물, 에폭시 화합물 및/또는 에피설피드 화합물 및 분자구조 중에 금속원자를 포함하지 않는 티에탄 화합물 중 적어도 1종과 단체황을 포함해도 좋다. 이렇게 하면, 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 수지를 보다 한층 고굴절률화할 수 있다.

이 때의 황 첨가량으로서는, 고굴절률의 관점으로부터, 황의 첨가량이 너무 적으면, 굴절률의 향상 효과가 작아서 바람직하지 않은 경우가 있다. 또한, 황의 첨가량이 너무 많으면, 탁함의 관점으로부터 바람직하지 않은 경우가 있다. 따라서, 황의 첨가량은 본 발명의 중합성 조성물 전량에 대해서, 5중량% 이상 50중량% 이하 사용하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는, 5중량% 이상 25중량% 이하이다.

또한, 본 발명의 중합성 조성물에 있어서, 굴절률, 기계 물성 및 색상의 밸런스를 보다 한층 향상시키는 관점으로부터는, 중합성 조성물 중의 티올기의 몰비가, 중합성 조성물 중의 이소(티오)시아네이트기, 에폭시기, 에피설피드기, 탄소-탄소 이중결합 및 금속원자를 포함하지 않는 티에탄 화합물 중의 티에타닐기의 합계에 대해서, 1 이상이어도 좋다. 즉, SH기/(NCO기 및/또는 NCS기＋에폭시기＋에피설피드기＋탄소-탄소 이중결합＋티에타닐기)로 표시되는 몰비가 1 이상이어도 좋다.

본 발명의 중합성 조성물은, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물 및 티올 화합물을 필수 성분으로서 함유하고, 필요에 따라서, 후술하는 중합촉매를 함유하여 이루어진다.

본 발명에 있어서, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물 중에는 특별히 중합촉매를 필요로 하지 않고, 자기촉매적으로 중합반응이 진행하는 화합물이 있기 때문에, 중합촉매는 필요에 따라서 이용된다.

이 경우에도, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물로서, 또한, 다른 복수의 화합물을 병용해도 상관 없다.

본 발명의 중합성 조성물 중에 포함되는 중합성 화합물의 총 중량에 차지하는, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물의 함유량은, 특별히 한정하는 것은 아니지만, 통상, 10중량% 이상이며, 고굴절률화의 관점으로부터, 바람직하게는, 30중량% 이상이며, 보다 바람직하게는, 50중량% 이상이며, 더욱 바람직하게는, 70중량% 이상이다.

또한, 일반식(1)로 표시되는 화합물 이외의 성분은, 중합성 조성물을 이용한 수지의 굴절률을 낮추는 요인이 되는 경우가 많기 때문에, 굴절률이 높은 수지를 얻는 관점으로부터, 중합성 화합물의 총 중량에 차지하는 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물의 함유량을 50중량% 이상으로 하는 것이 바람직하다.

본 발명에 있어서 필요에 따라서 이용되는 중합촉매는, 통상, 공지의 티에탄기 함유 화합물을 중합할 때의 방법을 이용하여 경화시키는 것이 가능하다. 경화 수지를 얻기 위한 중합촉매 등의 종류나 양, 단량체의 종류나 비율은, 중합성 조성물을 구성하는 화합물의 구조에 따라 달라서, 일괄하여 한정할 수 없지만, 중합촉매의 종류로서는 아민류, 포스핀류, 유기산 및 그 염, 에스테르, 무수물류, 무기산, 4급 암모늄염류, 4급 포스포늄염류, 3급 설포늄염류, 2급 요오도늄염류, 루이스산류, 라디칼중합촉매류, 양이온중합촉매류 등이 통상 이용된다.

중합촉매의 구체예로서는, 트리에틸아민, 트리n-부틸아민, 트리n-헥실아민, N,N-디이소프로필에틸아민, 트리에틸렌디아민, 트리페닐아민, N,N-디메틸에탄올아민, N,N-디에틸에탄올아민, N,N-디부틸에탄올아민, 트리에탄올라민, N-에틸디에탄올아민, N,N-디메틸벤질아민, N,N-디에틸벤질아민, 트리벤질아민, N-메틸디벤질아민, N,N-디메틸시클로헥실아민, N,N-디에틸시클로헥실아민, N,N-디메틸부틸아민, N-메틸디시클로헥실아민, N,N-디시클로헥실메틸아민, N-메틸몰포린, N-이소프로필몰폴린, 피리딘, 퀴놀린, N,N-디메틸아닐린, N,N-디에틸아닐린, α-, β-, 혹은 γ-피콜린, 2,2'-비피리딜, 1,4-디메틸피페라진, 디시안디아미드, 테트라메틸에틸렌 디아민, 헥사메틸렌테트라민, 1,8-디아자비시클로(5,4,0)-7-운데센, 2,4,6-트리스(N,N-디메틸아미노메틸)페놀 등의 지방족 및 방향족 3급 아민류；

트리메틸포스핀, 트리에틸포스핀, 트리n-프로필포스핀, 트리이소프로필포스핀, 트리n-부틸포스핀, 트리페닐포스핀, 트리벤질포스핀, 1,2-비스(디페닐포스피노)에탄, 1,2-비스(디메틸포스피노)에탄 등의 포스핀류；

트리플루오로아세트산, 트리클로로아세트산, 트리플루오로아세트산무수물, 트리플루오로아세트산에틸, 트리플루오로아세트산소다, 트리할로게노아세트산 및 그 에스테르, 무수물 및 염；

p-톨루엔설폰산, 메탄설폰산, 트리플루오로메탄설폰산, 트리플루오로메탄설폰산무수물, 트리플루오로메탄설폰산에틸, 트리플루오로메탄설폰산소다 등의 트리할로게노메탄설폰산 및 그 에스테르, 무수물 및 염；

염산, 황산, 질산 등의 무기산；

테트라메틸암모늄클로라이드, 테트라부틸암모늄클로라이드, 테트라부틸암모늄브로마이드 등의 4급 암모늄염；

테트라메틸포스포늄클로라이드, 테트라부틸포스포늄클로라이드, 테트라부틸포스포늄브로마이드 등의 4급 포스포늄염；

트리메틸설포늄브로마이드, 트리부틸설포늄브로마이드 등의 3급 설포늄염；

디페닐요오도늄브로마이드 등의 2급 요오도늄염；

디메틸주석디클로라이드, 디부틸주석디클로라이드, 디부틸주석디라우레이트, 디부틸주석디아세테이트, 테트라클로로주석, 디부틸주석옥사이드, 디아세톡시테트라부틸디스타녹산, 염화아연, 아세틸아세톤아연, 염화알루미늄, 불화알루미늄, 트리페닐알루미늄, 아세틸아세톤알루미늄, 이소프로폭시알루미늄, 테트라클로로티탄 및 그 착체, 테트라요오도티탄, 디클로로티타늄디이소프로폭사이드, 티타늄이소프로폭사이드 등의 티탄계 알콕사이드；

아세트산칼슘；

삼불화붕소, 삼불화붕소디에틸에테르 착체, 삼불화붕소피페리딘 착체, 삼불화붕소에틸아민 착체, 삼불화붕소아세트산 착체, 삼불화붕소인산 착체, 삼불화붕소 t-부틸메틸에테르 착체, 삼불화붕소디부틸에테르 착체, 삼불화붕소 THF(테트라히드로푸란) 착체, 삼불화붕소메틸설피드 착체, 삼불화붕소페놀 착체 등의 삼불화붕소의 각종 착체 및 삼염화붕소의 각종 착체 등의 트리할로겐화 붕소 화합물 및 그 컴플렉스 등의 루이스산；

2,2'-아조비스(2-시클로프로필프로피오니트릴), 2,2'-아조비스(4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, n-부틸-4,4'-비스(t-부틸퍼옥시)발러레이트, t-부틸퍼옥시벤조에이트 등의 라디칼 중합촉매；및

디페닐요오도늄헥사플루오로인산, 디페닐요오도늄헥사플루오로비산, 디페닐요오도늄헥사플루오로안티몬, 트리페닐설포늄테트라플루오로붕산, 트리페닐설포늄헥사플루오로인산, 트리페닐설포늄헥사플루오로비산 등의 양이온 중합촉매를 들 수 있지만, 이들의 예시 화합물에만 한정되는 것은 아니다.

상기 중합촉매는 단독으로도 2종 이상을 혼합하여 이용하여도 좋고, 이들 중합촉매 중, 반응성이 다른 2종 이상의 것을 병용하면, 모노머의 핸들링성, 얻어지는 수지의 광학 물성, 색상, 투명성, 광학 변형(맥리)이 향상하는 경우가 있기 때문에, 바람직한 경우가 있다.

중합촉매로서 예시한 상기 화합물 중, 바람직한 것은, 디메틸주석디클로라이드, 디부틸주석디클로라이드, 디부틸주석디라우레이트, 디부틸주석디아세테이트, 테트라클로로주석, 디부틸주석옥사이드, 디아세톡시테트라부틸디스타녹산 등의 유기주석 화합물, 트리플루오로아세트산, 트리클로로아세트산, 트리플루오로아세트산무수물, 트리플루오로아세트산에틸, 트리플루오로아세트산소다, 트리할로게노아세트산 및 그 에스테르, 무수물 및 염；

p-톨루엔설폰산, 메탄설폰산, 트리플루오로메탄설폰산, 트리플루오로메탄설폰산 무수물, 트리플루오로메탄설폰산에틸, 트리플루오로메탄설폰산소다 등의 트리할로게노메탄설폰산 및 그 에스테르, 무수물 및 염；

삼불화붕소, 삼불화붕소디에틸에테르 착체, 삼불화붕소피페리딘 착체, 삼불화붕소에틸아민 착체, 삼불화붕소아세트산 착체, 삼불화붕소인산 착체, 삼불화붕소 t-부틸메틸에테르 착체, 삼불화붕소디부틸에테르 착체, 삼불화붕소 THF 착체, 삼불화붕소메틸설피드 착체, 삼불화붕소페놀 착체 등의 삼불화붕소의 각종 착체 및 삼염화붕소의 각종 착체 등의 트리할로겐화 붕소 화합물 및 그 컴플렉스 등의 루이스산이고, 보다 바람직한 것은, 디메틸주석디클로라이드, 트리플루오로메탄설폰산 및 그 무수물, 에스테르, 염 및 삼불화붕소의 각종 착체；및

2,2'-아조비스(2-시클로프로필프로피오니트릴), 2,2'-아조비스(4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, n-부틸-4,4'-비스(t-부틸퍼옥시)발러레이트, t-부틸퍼옥시벤조에이트 등의 라디칼 중합촉매이다.

본 발명에 있어서 중합성 조성물의 중합촉매의 첨가량은, 중합성 조성물의 총 중량에 대해서 0.0001중량% 이상 10중량% 이하의 범위로 이용되고, 바람직하게는 0.001중량% 이상 10중량% 이하, 보다 바람직하게는 0.01중량% 이상 5중량% 이하, 가장 바람직하게는 0.01중량% 이상 1중량% 이하의 범위로 사용된다.

중합촉매의 첨가량을 상기 범위로 하는 것에 의해, 더욱 양호하게 경화한 수지의 제조가 가능하고, 포트라이프가 더욱 확실히 유지되고, 또한, 얻어지는 수지의 투명성, 광학 물성이 더욱 양호한 것이 얻어지는 경우가 있다.

중합촉매는, 중합성 조성물 또는 그 일부의 화합물에 직접 첨가해도 좋고, 다른 화합물에 용해 또는 분산시키고 나서 첨가해도 좋지만, 다른 화합물에 용해 또는 분산시키고 나서 첨가하는 것이 바람직한 결과를 제공하는 경우가 있다. 더욱이, 중합촉매를 첨가하는 경우, 질소 분위기하 또는 건조가스 분위기하에서 행하면 바람직한 결과를 제공하는 경우가 있다. 더욱이, 얻어지는 수지의 성능을 보다 끌어내기 위해서는, 수지 중에 잔존하는 미반응 관능기의 양을, 수지 총 중량에 대해서 0.5중량% 이하로 하면 바람직한 결과가 얻어지는 경우가 있고, 보다 바람직하게는, 0.4중량% 이하이다.

본 발명의 중합성 조성물은, 본 발명의 소망하는 효과를 손상하지 않는 범위에 있어서, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물 이외의, 다른 중합성 화합물을 함유해도 좋다.

이러한 중합성 화합물로서는, 공지의 각종 중합성 모노머 또는 중합성 올리고머를 들 수 있고, 예를 들어, (메타)아크릴산에스테르 화합물, 비닐 화합물, 에폭시 화합물, 에피설피드 화합물, 옥세탄 화합물, 티에탄 화합물 등을 들 수 있다.

본 발명의 중합성 조성물 중에 포함되는 중합성 화합물의 총 중량에 차지하는, 이들 다른 중합성 화합물의 함유량은, 특별히 제한은 없지만, 통상, 이들의 다른 중합성 화합물을 첨가함으로써 굴절률은 저하하는 것으로부터, 고굴절률 재료를 얻는 관점으로부터, 통상, 90중량% 이하이며, 바람직하게는, 70중량% 이하이며, 보다 바람직하게는, 50중량% 이하이며, 더욱 바람직하게는, 30중량% 이하이다. 또, 본 발명의 중합성 조성물 중에 다른 중합성 화합물이 포함되는 경우, 다른 중합성 화합물의 함유량의 하한에 관해서도 특히 제한은 없다.

본 발명에 따른 중합성 조성물에 있어서의 필수의 구성요건은, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물과 티올 화합물을 함유하는 중합성 조성물이다.

본 발명의 중합성 조성물을 경화하여 이루어지는 수지의 굴절률, 압베수 등의 광학 물성의 새로운 조정이나, 색상, 내광성이나 내후성, 내열성, 내충격성, 경도, 비중, 선팽창 계수, 중합 수축률, 흡수성, 흡습성, 내약품성, 점탄성 등의 제 물성을 조정, 투과율이나 투명성의 조정, 중합성 조성물의 점도, 그 외 보존이나 수송 방법의 취급성을 조정하기 위한 등, 수지의 개량이나 취급성을 개량하는 목적으로, 본 발명의 중합성 조성물에 정제나 세정, 보온, 보냉, 여과, 감압 처리 등의 유기 화합물을 합성할 때에 일반적으로 이용되는 방법, 조작을 실시하거나, 또는, 공지의 화합물 등을 안정제나 수지 개질제로서 더하거나 하는 것은 양호한 수지를 얻는 목적에서 바람직한 경우가 있다. 장기의 보존 안정성이나, 중합 안정성, 열안정성 등의 안정성 향상을 위해서 가해지는 것으로서는, 중합지연제나 중합금지제, 탈산소제, 산화방지제 등의 화합물을 들 수 있다.

중합성 조성물을 정제하는 것은, 경화하여 얻어지는 수지의 투명성을 개량하거나, 색상을 개량하기 위한 것이나 순도를 높이기 위해서 이용되는 방법이다. 본 발명에 있어서 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물을 함유하는 중합성 조성물을 정제하는 방법은, 공지의 방법, 예를 들어, 재결정, 컬럼크로마토그래프법(실리카겔법이나 활성탄법, 이온교환수지법 등), 추출 등의 어떠한 방법을 어떠한 타이밍에서 행하여도 좋고, 일반적으로 정제하여 얻어지는 조성물을 경화시켜 얻어지는 수지의 투명성이나 색상이 개량되어 있으면 좋다.

중합성 조성물을 세정하는 방법은, 경화하여 얻어지는 수지의 투명성을 개량 하거나 색상을 개량하는데 이용되는 방법이지만, 중합성 조성물을 합성하여 취출할 때에 또는 합성 후의 취출한 후 등의 타이밍에서 극성 및/또는 비극성 용매로 세정하고, 수지의 투명성을 저해하는 물질, 예를 들어, 중합성 조성물을 합성할 때에 사용되는 또는, 부생하는 무기염, 예를 들어, 암모늄염 등을 제거하는 또는 감량하는 방법을 들 수 있다. 이용하는 용매는, 세정되는 중합성 조성물 그 자체나 중합성 조성물을 함유하는 용액의 극성 등에 따라 일괄하여 한정은 할 수 없지만, 제거하고 싶은 성분을 용해 가능하고, 또한, 세정되는 중합성 조성물 그 자체나 중합성 조성물을 함유하는 용액과 상용하기 어려운 것이 바람직하고, 1종류 뿐만 아니라, 2종류 이상을 혼합하여 사용하여도 좋다. 여기에서 제거되는 성분은 목적이나 용도에 따라 다르지만, 가능한 한 적게 하여 두는 것이 바람직하고, 통상 5000ppm 이하, 보다 바람직하게는 1000ppm 이하로 하면 양호한 결과가 얻어지는 경우가 있다.

중합성 조성물을 보온ㆍ보냉ㆍ여과하는 방법은, 경화하여 얻어지는 수지의 투명성을 개량하거나, 색상을 개량하는데 이용되는 방법이지만, 중합성 조성물을 합성하여 취출할 때에 또는 합성 후의 취출한 후 등의 타이밍에서 행하는 것이 일반적이다. 보온 방법으로서는, 예를 들어, 중합성 조성물이 보관 중에 결정화하고, 핸들링이 나빠졌을 경우에, 중합성 조성물 및 중합성 조성물을 경화시켜서 이루어지는 수지의 성능이 저하하지 않는 범위로 가열 용해하는 방법을 들 수 있다. 가열 하는 온도범위나 가열 용해하는 방법은, 취급되는 중합성 조성물을 구성하는 화합물의 구조에 따라 일괄하여 제한할 수 없지만, 통상, 응고점＋50℃ 이내의 온도에서 행해지고, 바람직하게는 ＋20℃ 이내이며, 교반 가능한 장치에서 기계적으로 교반하거나, 조성물에 불활성인 가스로 버블링하는 것으로 내액을 움직여서 용해하는 방법 등을 들 수 있다. 보냉은 중합성 조성물의 보존 안정성을 높이는 목적으로 통상 행해지지만, 예를 들어 중합성 조성물의 융점이 높은 경우에는, 결정화 후의 취급성을 향상시키기 위해, 보관온도를 고려하면 좋다. 보냉 온도는 취급되는 중합성 조성물을 구성하는 화합물의 구조, 보존 안정성에 따라 일괄하여 제한할 수 없지만, 통상은, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물을 함유하는 중합성 조성물의 안정성을 유지할 수 있는 온도 이하에서 보존할 필요가 있다.

또한, 본 발명에 있어서 중합성 조성물이, 광학용도에 이용하는 중합성 조성물의 경우, 그 매우 높은 투명성이 요구되는 것으로부터, 통상 중합성 조성물을 공경이 작은 필터로 여과하면 좋다. 여기에서 이용하는 필터의 공경은 통상 0.05㎛ 이상 10㎛ 이하로 행해지지만, 조작성이나 성능을 고려하면, 바람직하게는, 0.05㎛ 이상 5㎛ 이하이며, 보다 바람직하게는 0.1㎛ 이상 5㎛ 이하이다. 본 발명의 중합성 조성물도 예외 없이 여과하면 양호한 결과가 얻어지는 경우가 많다. 여과하는 온도에 관해서는, 응고점 부근의 저온에서 행하면 더욱 바람직한 결과가 얻어지는 경우가 있지만, 여과 중에 응고가 진행하는 경우는, 여과 작업에 지장을 초래하지 않는 온도에서 행하면 좋은 경우가 있다.

감압 처리는, 일반적으로 중합성 조성물을 경화시켜 이루어지는 수지의 성능을 저하시키는 용매나 용존 가스, 악취를 없애는데 행해지는 방법이다. 용존 용매는 일반적으로 얻어지는 수지의 굴절률 저하나 내열성 저하를 초래하는 경우가 있기 때문에, 가능한 한 제거하면 좋다. 용존 용매의 허용치는, 취급되는 중합성 조성물을 구성하는 화합물의 구조, 용존하는 용매의 구조에 따라 일괄하여 한정할 수 없지만, 통상 1% 이하로 하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는, 5000ppm 이하이다. 용존 가스는 중합의 간섭을 억제하는 관점 및 얻어지는 수지에 기포가 혼입 하는 것을 억제하는 관점으로부터, 제거하는 쪽이 바람직하다. 특히, 수증기 등의 수분을 의미하는 가스에 관해서는, 특히 건조가스로 버블링하는 등으로 하여 제거하는 것이 바람직하다. 용존량에 관해서는, 중합성 조성물을 구성하는 화합물의 구조, 용존하는 가스의 물성 및 구조, 종류에 따라 설정할 수 있다.

본 발명의 중합성 조성물의 제조방법으로서, 대표적으로는, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물과 티올 화합물과, 적절한 단체황 등의 다른 성분을 이용하고, 더욱 소망에 의해 상기의 공지의 각종 중합성 화합물을 병용하여, 더욱 필요에 따라서 상기 중합촉매를 첨가한 후, 혼합, 용해시키는 방법 등을 들 수 있다.

본 발명의 중합성 조성물을 경화하여 성형할 때에는, 목적에 따라서, 공지의 성형법과 같이, 안정제, 수지 개질제, 사슬 연장제, 가교제, HALS계를 대표로 하는 광안정제, 벤조트리아졸계를 대표로 하는 자외선 흡수제, 힌더드 페놀계를 대표로 하는 산화방지제, 착색 방지제, 안트라퀴논계 분산염료를 대표로 하는 염료나 블루잉제, 충전제, 실리콘계를 대표로 하는 외부 이형제 또는 산성 인산에스테르, 4급 암모늄염 혹은 4급 포스포늄염 등의 계면활성제를 대표로 하는 내부 이형제, 밀착성 향상제 등의 여러 가지의 물질을 첨가해도 좋다. 여기에서, 내부 이형제는, 전술의 각종 촉매 중 이형 효과를 나타내는 것을 포함한다.

상기의 첨가 가능한 각종 첨가제의 첨가량은, 각각의 첨가제의 종류, 구조, 효과에 따라 달라서 일괄하여 제한할 수는 없지만, 통상, 중합성 조성물의 총 중량에 대해서 0.001중량% 이상 10중량% 이하의 범위로 이용되고, 바람직하게는 0.01중량% 이상 5중량% 이하의 범위로 사용된다. 염료에 관해서는, 1ppb 이상 100ppm 이하의 범위로 사용하면 바람직하다. 이들의 범위 내이면, 더욱 양호하게 경화한 수지의 제조가 가능하고, 얻어지는 수지의 투명성, 광학 물성이 더욱 양호한 것으로 되는 경우가 있다.

다음에, 본 발명에 있어서의 수지에 관해서 설명한다.

본 발명에 있어서의 수지 및 당해 수지로 이루어지는 광학부품은, 상기 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 것이다. 또한, 본 발명에 있어서의 수지의 제조방법은, 본 발명에 있어서의 중합성 조성물을 중합하는 공정을 포함한다. 이러한 방법으로서, 플라스틱 렌즈를 제조할 때에 이용되는 공지의 각종 방법을 들 수 있지만, 대표적으로는, 주형 중합을 들 수 있다.

즉, 전술의 방법에 의해 제조된 본 발명의 중합성 조성물을, 필요에 따라서, 감압하에서의 탈법 처리나 필터 여과를 행한 후, 얻어진 중합성 조성물을 성형용 몰드에 주입하여, 필요에 따라서 가열하여 중합을 행한다. 이 경우, 저온으로부터 고온으로 서서히 가열하여 중합하는 것이 바람직하다.

상술의 성형용 몰드는, 예를 들어, 폴리에틸렌, 에틸렌-아세트산 비닐 공중합체, 폴리염화비닐 등으로 이루어지는 가스켓을 개재한 경면 연마한 2매의 주형에 의해 구성된다. 주형은, 대표적으로는, 유리와 유리의 조합이며, 그 밖에 유리와 플라스틱판, 유리와 금속판 등의 조합의 주형을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 또한, 성형용 몰드는 2매의 주형을 폴리에스테르 점착 테이프 등의 테이프 등으로 고정한 것이어도 좋다. 필요에 따라서, 주형에 대해서 이형 처리 등 공지의 처리방법을 행해도 좋다.

주형 중합을 행하는 경우, 중합온도는 중합개시제의 종류 등 중합조건에 의해서 영향받으므로, 한정되는 것은 아니지만, 통상, -50℃ 이상 200℃ 이하이며, 바람직하게는, -20℃ 이상 170℃ 이하이며, 보다 바람직하게는, 0℃ 이상 150℃ 이하이다.

중합시간은, 중합온도에 의해서 영향받지만, 통상, 0.01시간 이상 200시간 이하이며, 바람직하게는, 0.05시간 이상 100시간 이하이다. 또한 필요에 따라서, 정온이나 승온, 강온 등의 몇 가지의 온도를 조합시켜 중합을 행하는 것도 가능하다.

또한, 본 발명의 중합성 조성물은, 전자빔, 자외선이나 가시광선 등의 활성 에너지선을 조사하는 것에 의해서도 중합을 행할 수 있다. 이 때에는, 필요에 따라서, 활성 에너지선에 의해서 중합 개시하는 라디칼 중합촉매나 양이온 중합촉매가 이용된다.

얻어진 수지의 내열성이 너무 낮으면, 일상에 있어서의 안경 렌즈로서의 사용으로 열 변형 등의 불량이 발생하는 경우가 있다. 또한 역으로, 내열성이 너무 높은 경우는, 예를 들어, 수지의 염색이 불가능하게 되는 등의 불량이 생기는 경우가 있다. 염색성을 고려하여, 얻어진 수지의 내열성은, 유리전이온도(Tg)가 100℃ 이상 150℃ 이하인 것이 바람직하다.

여기에서, Tg는, TMA(Thermal Mechanical Analysis：열기계 측정)페네트레이션법에 의해 측정하여, TMA 곡선의 교점으로부터 구해진 온도이고, 열변형 개시온도에 상당한다.

얻어진 수지 및 이 수지로 이루어지는 광학렌즈는, 경화 후, 필요에 따라서, 어닐링 처리를 실시해도 좋다. 더욱이 필요에 따라서, 반사방지, 고경도 부여, 내마모성 향상, 방담성(防曇性) 부여 혹은 패션성 부여의 목적으로, 표면 연마, 대전방지 처리, 하드코트 처리, 무반사 코트 처리, 염색처리, 조광처리(예를 들어, 포토크로믹렌즈화 처리 등) 등 공지의 각종 물리적 또는 화학적 처리를 실시해도 좋다.

또한, 얻어진 수지 및 이 수지로 이루어지는 광학렌즈는, 필요에 따라서, 편면 또는 양면에 코팅층을 실시하여 이용하여도 좋다. 이하, 광학렌즈를 예로 들어 설명한다. 코팅층으로서는, 프라이머층, 하드 코트층, 반사방지막층, 방담 코트막층, 방오염층, 발수층 등을 들 수 있다. 이들의 코팅층은 각각 단독으로 이용하여도 좋고, 복수의 코팅층을 다층화하여 사용해도 좋다. 양면에 코팅층을 실시하는 경우, 각각의 면에 동일한 코팅층을 실시하여도, 다른 코팅층을 실시하여도 좋다.

이들의 코팅층에는, 렌즈의 성능을 높이기 위한 공지의 첨가제를 병용해도 좋다. 첨가제로서 구체적으로는, 자외선으로부터 렌즈나 눈을 지키는 목적으로 자외선 흡수제；

적외선으로부터 눈을 지키는 목적으로 적외선 흡수제；

렌즈의 내후성의 향상을 목적으로 광안정제나 산화방지제；

렌즈의 패션성을 높이는 목적으로 염료나 안료 등을 이용하여도 좋고, 더욱이 포토크로믹 염료나 포토크로믹 안료, 대전방지제, 그 외의 각종 첨가제를 이용하여도 좋다. 또한, 도포에 의한 코팅을 행하는 층에 관해서는, 도포성의 개선을 목적으로 한 각종 레벨링제를 사용해도 좋다.

프라이머층은, 통상, 후술하는 하드 코트층과 광학렌즈와의 사이에 형성된다. 프라이머층은, 그 위에 형성하는 하드 코트층과 렌즈와의 밀착성을 향상시키는 것을 목적으로 하는 코팅층이며, 경우에 따라 내충격성을 향상시키는 것도 가능하다.

프라이머층에는, 얻어진 광학렌즈에 대한 밀착성이 높은 것이면 어떠한 소재라도 사용할 수 있지만, 통상, 우레탄계 수지, 에폭시계 수지, 폴리에스테르계 수지, 멜라닌계 수지, 폴리비닐아세탈을 주성분으로 하는 프라이머 조성물 등이 사용된다. 프라이머 조성물에는 조성물의 점도를 조정하는 목적으로 렌즈에 영향을 미치지 않는 적당한 용제를 이용하여도 좋다. 물론, 무용제로 사용해도 좋다.

프라이머 조성물은 도포법, 건식법의 어느 방법에 의해서도 형성할 수 있다. 도포법을 이용하는 경우, 렌즈에 스핀코트, 딥 코트 등의 공지의 도포 방법으로 도포된 후, 고화시키는 것에 의해 프라이머층이 형성된다. 건식법으로 행하는 경우는, CVD법이나 진공 증착법 등의 공지의 건식법으로 형성된다. 프라이머층을 형성할 때에, 밀착성의 향상을 목적으로 하여, 필요에 따라서 렌즈의 표면에, 알칼리처리, 플라즈마 처리, 자외선 처리 등의 전처리를 행하여 두어도 좋다.

하드 코트층은, 렌즈 표면에 내찰상성, 내마모성, 내습성, 내온수성, 내열성, 내후성 등 기능을 제공하는 것을 목적으로 한 코팅층이다.

하드 코트층에는, 일반적으로는, 경화성을 가지는 유기규소 화합물과 Si, Al, Sn, Sb, Ta, Ce, La, Fe, Zn, W, Zr, In 및 Ti의 원소군으로부터 선택되는 1종의 원소를 포함하는 산화물 미립자 및/또는 이들 원소군으로부터 선택된 2종 이상의 원소의 복합 산화물로 구성되는 미립자를 포함하는 하드 코트 조성물이 사용된다. 산화물 미립자 및/또는 복합 산화물로 구성되는 미립자는, 하드 코트 조성물 중에 1종 이용하여도 좋고, 2종 이상을 조합시켜 이용하여도 좋다. 하드 코트 조성물에는, 상기 성분 이외에 아민류, 아미노산류, 금속 아세틸아세토네이트 착체, 유기산 금속염, 과염소산류, 과염소산류의 염, 산류, 금속염화물 및 다관능성 에폭시 화합물의 적어도 어느 하나를 포함하는 것이 바람직하다. 하드 코트 조성물에는 렌즈에 영향을 미치지 않는 적당한 용제를 이용하여도 좋다. 물론, 무용제로 사용해도 좋다.

하드 코트층은, 통상, 하드 코트 조성물을 스핀 코트, 딥 코트 등 공지의 도포 방법으로 도포한 후, 경화하여 형성된다. 경화방법으로서는, 열경화, 자외선이나 가시광선 등의 에너지선 조사에 의한 경화방법 등을 들 수 있다. 간섭줄무늬의 발생을 억제하기 위해서, 하드 코트층의 굴절률은, 렌즈와의 굴절률의 차이가 ±(플러스 마이너스) 0.1의 범위에 있는 것이 바람직하다.

반사 방지층은, 통상, 필요에 따라서 상기 하드 코트층 위에 형성된다. 반사 방지층에는 무기계 및 유기계가 있고, 무기계의 경우, SiO₂, TiO₂ 등의 무기산화물을 이용하고, 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온플레이팅법, 이온빔 어시스트법, CVD법 등의 건식법에 의해 형성된다. 유기계의 경우, 유기규소 화합물과 내부 공동을 가지는 실리카계 미립자를 포함하는 조성물을 이용하고, 습식에 의해 형성된다.

반사 방지층에는, 단층의 것 및 다층의 것이 있고, 단층으로 이용하는 경우는 하드 코트층의 굴절률보다 굴절률이 적어도 0.1 이상 낮아지게 되는 것이 바람직하다. 더 효과적으로 반사방지 기능을 발현하려면, 다층막 반사방지막으로 하는 것이 바람직하고, 그 경우, 저굴절률막과 고굴절률막을 서로 번갈아 적층한다. 이 경우에도, 저굴절률막과 고굴절률막과의 굴절률 차이는, 0.1 이상인 것이 바람직하다. 고굴절률막으로서는, ZnO, TiO₂, CeO₂, Sb₂O₅, SnO₂, ZrO₂, Ta₂O₅ 등의 막이 있고, 저굴절률막으로서는, SiO₂막 등을 들 수 있다.

반사방지막층 위에는, 필요에 따라 방담 코트막층, 방오염층, 발수층을 형성 시켜도 좋다. 방담 코트층, 방오염층, 발수층을 형성하는 방법으로서는, 반사방지 기능에 악영향을 가져오는 것이 아니면, 그 처리방법, 처리 재료 등에 관해서는 특별히 한정되지 않고, 공지의 방담 코트 처리방법, 방오염 처리방법, 발수 처리방법, 재료를 사용할 수 있다.

예를 들어, 방담 코트, 방오염 처리방법으로는, 표면을 계면활성제로 덮는 방법, 표면에 친수성의 막을 부가하여 친수성으로 하는 방법, 표면을 미세한 요철로 덮어 흡수성을 높이는 방법, 광촉매 활성을 이용하여 흡수성으로 하는 방법, 초발수성 처리를 실시하여 물방울의 부착을 방지하는 방법 등을 들 수 있다.

또, 발수 처리방법으로는, 불소 함유 실란 화합물 등을 증착이나 스퍼터에 의해서 발수 처리층을 형성하는 방법이나, 불소 함유 실란 화합물을 용매에 용해 한 뒤, 코팅하여 발수 처리층을 형성하는 방법 등을 들 수 있다.

또한, 얻어진 수지 및 이 수지로 이루어지는 광학렌즈는, 패션성이나 포토크로믹성의 부여 등을 목적으로 하여, 목적에 따른 색소를 이용하고, 염색하여 사용해도 좋다. 이하, 광학렌즈의 염색을 예로 설명한다.

광학렌즈의 염색은 공지의 염색방법으로 실시 가능하지만, 통상, 이하에 나타내는 몇 가지 방법으로 실시된다.

(a) 렌즈를 염색액에 침지하는 방법,

(b) 색소를 함유하는 코팅제를 이용하여 코팅하는 방법, 또는 염색 가능한 코팅층을 설치하고, 그 코팅층을 염색하는 방법,

(c) 원료 모노머에 염색 가능한 재료를 함유시켜 중합하는 방법, 및

(d) 승화성 색소를 가열하여 승화시키는 방법.

(a)의 방법은, 일반적으로는, 사용하는 색소를 용해 또는 균일하게 분산시킨 염료 중에, 소정의 광학면에 만들어진 렌즈 생지를 침지(염색 공정)한 후, 필요에 따라서 렌즈를 가열하여 색소를 고정화(염색 후 어닐링 공정)하는 방법이다.

염색 공정에 이용되는 색소는, 예를 들어 공지의 색소로 특별히 한정되지 않지만, 통상은, 유용염료 혹은 분산염료가 사용된다. 염색 공정에서 사용되는 용제는, 이용하는 색소가 용해 가능 혹은 균일하게 분산 가능한 것이면 특별히 한정되지 않는다.

이 염색 공정에서는, 필요에 따라서 염료에 색소를 분산시키기 위한 계면활성제나, 염착을 촉진하는 캐리어를 첨가해도 좋다.

염색 공정은, 색소 및 필요에 따라서 첨가되는 계면활성제를 물 또는 물과 유기용매와의 혼합물 중에 분산시켜 염색욕을 조제하고, 이 염색욕 중에 광학렌즈를 침지하고, 소정 온도로 소정 시간 염색을 행한다. 염색 온도 및 시간은, 소망의 착색 농도에 따라 변동하지만, 통상, 120℃ 이하에서 수 분~수십 시간 정도로 좋고, 염색욕의 염료 농도는 0.01~10중량% 정도로 실시된다. 또한, 염색이 곤란한 경우는 가압하에서 행해도 좋다. 필요에 따라서 실시되는 염색 후 어닐링 공정은, 염색된 렌즈 생지에 가열 처리를 행하는 공정이다. 가열 처리는, 염색 공정에서 염색된 렌즈 생지의 표면에 남은 물을 용제 등으로 제거하거나, 용매를 풍건하거나 한 후에, 예를 들어 대기 분위기의 적외선 가열로(加熱爐), 혹은 저항가열로 등의 로 중에 소정 시간 체류시킨다. 염색 후 어닐링 공정은, 염색된 렌즈 생지의 탈색을 방지하는(탈색 방지 처리) 것과 함께, 염색시에 렌즈 생지의 내부에 침투한 수분의 제거가 행해진다.

(b)의 방법은, 플라스틱 렌즈 소재에 직접 염색하는 것이 아니라, 색소를 분산 또는 용해한 유기 코팅액을 플라스틱 렌즈에 도포한 후, 경화 처리하는 것에 의해, 염색된 코팅층을 렌즈 표면에 형성하는 방법, 혹은 플라스틱 렌즈 표면에 염색 가능한 코팅층을 형성하고 나서 (a)의 방법을 채택하는, 즉, 염색액 중에 플라스틱 렌즈를 침지하고, 가열하는 것에 의해 염색하는 방법이다.

(c)의 방법은, 플라스틱 렌즈의 원료 모노머에 미리 염료를 용해하고 나서 중합하는 방법이다. 사용하는 색소는 원료 모노머에 균일하게 용해 또는 광학적 성질을 손상하지 않을 정도로 분산할 수 있는 것이면 특별히 한정되지 않는다.

(d)의 방법의 예로서는, 이하의 (d1)~(d3)을 들 수 있다.

(d1) 고형 승화성 색소를 승화시켜 플라스틱 렌즈를 염색하는 방법,

(d2) 승화성 색소를 포함하는 용액을 도포하여 이루어지는 기체를 플라스틱 렌즈에 비접촉 상태로 대향시키고, 기체 및 렌즈를 가열하는 것에 의해 염색하는 방법, 및

(d3) 승화성 색소를 함유하는 착색층과 점착층으로 이루어지는 전사층을 플라스틱 렌즈에 전사한 후, 가열하는 것에 의해 염색하는 방법.

본 발명의 수지 및 이 수지로 이루어지는 광학렌즈에 관해서는, 어떤 방법으로 염색해도 좋다. 사용하는 색소는 승화성을 가지고 있는 색소이면 특별히 한정되지 않는다.

또한 본 발명의 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 수지 경화물 및 광학 부재는, 높은 투명성, 양호한 내열성과 기계적 강도를 가지면서, 또한, 굴절률(nd) 1.7을 넘는 고굴절률을 가지고 있다.

본 발명에 있어서의 광학부품으로서는, 예를 들어, 시력 교정용 안경 렌즈, 촬상 기기용 렌즈, 액정 프로젝터용 프레넬 렌즈, 렌티큘러 렌즈, 콘택트렌즈 등의 각종 플라스틱 렌즈；

발광다이오드(LED)용 봉지재；

광도파로；

광학렌즈나 광도파로의 접합에 이용하는 광학용 접착제；

광학렌즈 등에 이용하는 반사방지막；

기판, 도광판, 필름, 시트 등의 액정표시장치 부재에 이용하는 투명성 코팅 또는 투명성 기판 등을 들 수 있다.

이와 같이, 본 발명의 중합성 화합물을 중합하여 얻어지는 수지는, 높은 투명성, 양호한 내열성과 기계적 강도를 가지면서, 또한, 굴절률(nd) 1.7을 넘는 고굴절률을 가지고 있고, 예를 들어, 플라스틱 렌즈 등의 광학부품에 이용되는 수지로서 유용하다. 또한, 본 발명의 중합성 조성물은, 예를 들어 지극히 높은 굴절률을 가지는 투명 수지용의 원료 모노머 조성물로서 유용하다.

이상, 본 발명의 실시형태에 관해서 서술했지만, 이들은 본 발명의 예시이며, 상기 이외의 여러가지 구성을 채용할 수도 있다.

예를 들어, 본 발명의 중합성 조성물은, 금속 티에탄 화합물로서, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물이, 하기 일반식(9)로 표시되는 화합물이더라도 좋다.

[화12]

(상기 일반식(9) 중, p, X₁ 및 Y는, 각각, 상기 일반식(1)에 있어서의 p, X₁ 및 Y와 같다. r은 0 이상 4 이하의 정수를 나타낸다. p＋r=5 또는 3이다.)

상기 일반식(9)에 있어서도, 수지의 굴절률을 더욱 향상시키는 관점에서는, X₁이 황원자인 것이 바람직하다.

상기 일반식(9)에 있어서, p는, Bi의 가수(價數) 이하의 양의 정수이고, Bi의 가수는, 3 또는 5이다. 즉, p는 1 이상 5 이하의 정수이다. r은 0 이상 4 이하의 정수이다.

p＋r은, Bi의 가수 즉 5 또는 3이다. 후술하는 중합성 조성물 중의 중합성 화합물로서 이용했을 때의 중합에 관여하는 관능기 수를 많이 하는 관점에서는, p＋r이 5인 것이 바람직하다.

또한, 상기 일반식(9)에 있어서, 구체적으로는 p=3이며, 더욱 구체적으로는, X₁이 황원자이고, p=3, r=0이다. 이 때, 상기 일반식(9)로 표시되는 화합물은, 하기식으로 표시되는 화합물이 된다.

[화13]

상기 일반식(9)에 있어서, r=1의 경우, Y는 무기 또는 유기 잔기를 나타낸다. 또한, r이 2 이상인 정수의 경우, 복수의 Y는, 각각 독립하여 무기 또는 유기 잔기를 나타낸다. 복수의 Y는, 같은 기이더라도 좋고, 전부 또는 일부가 다른 기이더라도 좋다. 또한, 복수의 Y가 서로 결합하여, Bi 원자를 포함하는 환을 형성하고 있어도 좋다.

Y가 환을 형성하지 않는 경우, Y로서 구체적으로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 즉 탄소수 1 이상 3 이하의 알킬기를 들 수 있다.

또한 환을 형성한 경우, 환을 형성하는 알킬쇄로서는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 즉 탄소수 1 이상 3 이하의 알킬렌기를 들 수 있다. Bi를 포함하는 환은, 구체적으로는, 4원환으로부터 6원환이다.

더욱 구체적으로는, 환을 형성하지 않는 경우, Y는 메틸기이고, 또한 환을 형성하는 경우는 환을 형성하는 알킬쇄는 에틸렌기이다.

상기 일반식(9)로 표시된 티에탄 화합물은, 대표적으로는, 하기 일반식(10)로 표시되는 Bi의 할로겐화물과, 하기 일반식(11)로 표시되는 티에탄기를 가지는 히드록시 화합물 또는 티올 화합물과의 반응에 의해, 상술의 상기 일반식(1)로 표시된 화합물의 제조방법에 준하여 제조된다.

[화14]

(상기 일반식(10) 중, p, r 및 Y는, 각각, 상기 일반식(9)에 있어서의 p, r 및 Y와 같고, W는 할로겐원자를 나타낸다.)

[화15]

(상기 일반식(11) 중, X₁은, 상기 일반식(9)에 있어서의 X₁와 같다.)

본 발명은, 이하의 태양도 포함한다.

(1-1) 일반식(1)'로 표시되는 화합물과 티올 화합물을 함유하는 중합성 조성물；

[화16]

(식 중, M은, 금속원자를 나타내고, X₁ 및 X₂는 각각 독립하여 황원자 또는 산소원자를 나타내고, R₁은 2가의 유기기를 나타내고, m은 0 또는 1 이상의 정수를 나타내고, p는 1~n의 정수를 나타내고, q는 1~(n-p)의 정수를 나타내고, n은 금속원자 M의 가수를 나타내고, Yq는 각각 독립하여 무기 또는 유기 잔기를 나타내고, q가 2 이상인 경우, Yq는 서로 결합하여, 금속원자 M을 개재하여 환상구조로 되어도 좋다)

(1-2) 티올 화합물의 함유량이 1~50중량%인 (1-1)에 기재된 중합성 조성물；

(1-3) 황을 더 함유하는 (1-1) 또는 (1-2)에 기재된 중합성 조성물；

(1-4) 티올 화합물의 함유량이 1~50중량%이며, 황의 함유량이 5~50중량%인 (1-3)에 기재된 중합성 조성물；

(1-5) 금속원자가 Sn 원자, Si 원자, Zr 원자, Ge 원자, Ti 원자, Zn 원자, Al 원자, Fe 원자, Cu 원자, Pt 원자, Pb 원자, Au 원자 또는 Ag 원자인 (1-1)~(1-4)의 어느 하나에 기재된 중합성 조성물；

(1-6) 금속원자가 Sn 원자, Si 원자, Zr 원자, Ti 원자, Ge 원자, Al 원자, Pb 원자 또는 Zn 원자인 (1-1)~(1-4)의 어느 하나에 기재된 중합성 조성물；및

(1-7) (1-1)~(1-6)의 어느 하나에 기재된 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 수지

(1-8) (1-7)에 기재된 수지로 이루어지는 광학부품(재).

(2-1) 상기 일반식(1)'로 표시되는 화합물과 티올 화합물 및, 탄소-탄소 이중결합을 가지는 화합물을 함유하는 중합성 조성물；

(2-2) 일반식(1)'로 표시되는 화합물의 함유량이 50중량% 이상인 (2-1)에 기재된 중합성 조성물；

(2-3) 티올 화합물 중의 티올기와 탄소-탄소 이중결합을 가지는 화합물 중의 탄소-탄소 이중결합과의 관능기 비(SH기/탄소-탄소 이중결합)가 1 이상인 (2-1) 또는 (2-2)에 기재된 중합성 조성물；

(2-4) 금속원자가 Sn 원자, Si 원자, Zr 원자, Ge 원자, Ti 원자, Zn 원자, Al 원자, Fe 원자, Cu 원자, Pt 원자, Pb 원자, Au 원자 또는 Ag 원자인 (2-1)~(2-3)의 어느 하나에 기재된 중합성 조성물；

(2-5) 금속원자가 Sn 원자, Si 원자, Zr 원자, Ti 원자, Ge 원자, Al 원자, Pb 원자 또는 Zn 원자인 (2-1)~(2-3)의 어느 하나에 기재된 중합성 조성물；

(2-6) (2-1)~(2-5)의 어느 하나에 기재된 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 수지；및

(2-7) (2-6)에 기재된 수지로 이루어지는 광학부품(재).

(3-1) 상기 일반식(1)'로 표시되는 화합물과 티올 화합물과 이소(티오)시아네이트 화합물을 함유하는 중합성 조성물；

(3-2) 일반식(1)'로 표시되는 화합물의 함유량이 50중량% 이상인 (3-1)에 기재된 중합성 조성물；

(3-3) 티올 화합물 중의 티올기와, 이소(티오)시아네이트 화합물 중의 이소(티오)시아네이트기와의 관능기 비(SH기/(NCO기 및/또는 NCS기))가 1 이상인 (3-1) 또는 (3-2)에 기재된 중합성 조성물；

(3-4) 금속원자가 Sn 원자, Si 원자, Zr 원자, Ge 원자, Ti 원자, Zn 원자, Al 원자, Fe 원자, Cu 원자, Pt 원자, Pb 원자, Au 원자 또는 Ag 원자인 (3-1)~(3-3)의 어느 하나에 기재된 중합성 조성물；

(3-5) 금속원자가 Sn 원자, Si 원자, Zr 원자, Ti 원자, Ge 원자, Al 원자, Pb 원자 또는 Zn 원자인 (3-1)~(3-3)의 어느 하나에 기재된 중합성 조성물；

(3-6) (3-1)~(3-5)의 어느 하나에 기재된 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 수지；및

(3-7) (3-6)에 기재된 수지로 이루어지는 광학부품(재).

(4-1) 상기 일반식(1)'로 표시되는 화합물과 티올 화합물, 및, 에폭시 화합물 및/또는 에피설피드 화합물을 함유하는 중합성 조성물；

(4-2) 일반식(1)'로 표시되는 화합물의 함유량이 50중량% 이상인 (4-1)에 기재된 중합성 조성물；

(4-3) 티올 화합물 중의 티올기와 에폭시 화합물 및/또는 에피설피드 화합물 중의 에폭시기 및/또는 에피설피드기와의 관능기 비(SH기/(에폭시기 및/또는 에피설피드기))가 1 이상인 (4-1) 또는 (4-2)에 기재된 중합성 조성물；

(4-4) 일반식(1)'로 표시되는 화합물에 있어서, m=0인 (4-1)~(4-3)의 어느 하나에 기재된 중합성 조성물；

(4-5) 일반식(1)'로 표시되는 화합물에 있어서, m=0, X₁이 황원자인 (4-1)~(4-3)의 어느 하나에 기재된 중합성 조성물；

(4-6) 일반식(1)'로 표시되는 화합물에 있어서, n=p, m=0, X₁이 황원자인 (4-1)~(4-3)의 어느 하나에 기재된 중합성 조성물；

(4-7) 일반식(1)'로 표시되는 화합물에 있어서, 금속원자 M이 주기율표의 2B, 3B, 4A, 4B족인 (4-1)~(4-6)의 어느 하나에 기재된 중합성 조성물；

(4-8) 일반식(1)'로 표시되는 화합물에 있어서, 금속원자 M이 Sn 원자인 (4-1)~(4-6)의 어느 하나에 기재된 중합성 조성물；

(4-9) 티올 화합물이 3-메르캅토티에탄, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안의 어느 하나인 (4-1)~(4-8)의 어느 하나에 기재된 중합성 조성물；

(4-10) 에폭시 화합물이, 시클로헥산디메탄올디글리시딜에테르, 비스페놀F 글리시딜에테르의 어느 하나인 (4-1)~(4-9)의 어느 하나에 기재된 중합성 조성물；

(4-11) 에피설피드 화합물이, 비스(2,3-에피티오프로필)설피드, 비스(2,3-에피티오프로필)디설피드의 어느 하나인 (4-1)~(4-9)의 어느 하나에 기재된 중합성 조성물；

(4-12) (4-1)~(4-11)의 어느 하나에 기재된 중합성 조성물을 주형 중합하는 것을 특징으로 하는 수지의 제조방법；

(4-13) (4-1)~(4-11)의 어느 하나에 기재된 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 수지；및,

(4-14) (4-13)에 기재된 수지로 이루어지는 광학부품.

(5-1) 상기 일반식(1)'로 표시되는 화합물과 티올 화합물, 및, 일반식(8)로 표시되는 금속 비함유 티에탄 화합물을 함유하는 중합성 조성물；

[화17]

(식 중, Q는, 반응성 말단기를 가지는 직쇄, 분기 또는 환상의 탄소수 1~10의 알킬기 및 그 티아체, 아릴기, 아랄킬기, R₃은 티아화되어 있어도 좋은 치환 또는 무치환의 탄소수 1~10의 2가의 탄화수소기를 나타낸다. n은 0~3의 정수를 나타낸다.)

(5-2) 일반식(1)'로 표시되는 화합물의 함유량이 50중량% 이상인 (5-1)에 기재된 중합성 조성물；

(5-3) 티올 화합물 중의 티올기와 금속 비함유 티에탄 화합물 중의 티에타닐기와의 관능기 비(SH기/티에타닐기)가 1 이상인 (5-1) 또는 (5-2)에 기재된 중합성 조성물；

(5-4) 일반식(1)'로 표시되는 화합물에 있어서, m=0인 (5-1)~(5-3)의 어느 하나에 기재된 중합성 조성물；

(5-5) 일반식(1)'로 표시되는 화합물에 있어서, m=0, X₁이 황원자인 (5-1)~(5-3)의 어느 하나에 기재된 중합성 조성물；

(5-6) 일반식(1)'로 표시되는 화합물에 있어서, n=p, m=0, X₁이 황원자인 (5-1)~(5-3)의 어느 하나에 기재된 중합성 조성물；

(5-7) 일반식(1)'로 표시되는 화합물에 있어서, 금속원자 M이 주기율표의 2B, 3B, 4A, 4B족인 (5-1)~(5-6)의 어느 하나에 기재된 중합성 조성물；

(5-8) 일반식(1)'로 표시되는 화합물에 있어서, 금속원자 M이 Sn 원자인 (5-1)~(5-6)의 어느 하나에 기재된 중합성 조성물；

(5-9) 티올 화합물이 3-메르캅토티에탄, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안의 어느 하나인 (5-1)~(5-8)의 어느 하나에 기재된 중합성 조성물；

(5-10) 일반식(8)로 표시되는 금속 비함유 티에탄 화합물이, 비스(3-티에타닐)디설피드인 (5-1)~(5-9)의 어느 하나에 기재된 중합성 조성물；

(5-11) (5-1)~(5-10)의 어느 하나에 기재된 중합성 조성물을 주형 중합하는 것을 특징으로 하는 수지의 제조방법；

(5-12) (5-1)~(5-10)의 어느 하나에 기재된 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 수지；및

(5-13) (5-12)에 기재된 수지로 이루어지는 광학부품.

이다.

이하, 제조예 및 실시예에 의해 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들의 실시예에 한정되는 것은 아니다.

또, 이하의 예에 있어서, 유리전이온도(Tg)는, TMA 페네트레이션법에 의해 측정하여, TMA 곡선의 교점으로부터 구한 온도이고, 열변형개시온도에 상당한다.

(참고 제조예 1)

특허문헌 3(일본 특허공개공보 2003-327583호)에 기재된 방법에 따라서, 3-티에탄올을 합성했다.

얻어진 3-티에탄올을 이용하여, 3-메르캅토티에탄을 더 합성했다. 즉, 교반 장치와 습도계를 구비한 반응기 중에, 티오요소 190g, 35% 염산수 253g 및 물 250g을 장입하여 교반하고 있는 반응액에, 3-티에탄올 156g을 1시간 걸려 적하했다. 30℃에서 24시간, 교반하여 반응을 행한 후, 24% 암모니아수 177g을 1시간 걸려 적하했다. 30℃에서 15시간 반응을 더 행한 후, 정치하여 유기층(하층)을 꺼내어, 조생성물 134g을 얻었다. 얻어진 조생성물을 감압하에 증류하여, 비점 40℃/106Pa의 유분을 모아, 무색 투명 액체의 목적물인 3-메르캅토티에탄을 얻었다.

(참고 제조예 2)

(표 1 중, 화합물(CMPD.) No.1-1로 표시되는 화합물의 제조)

3-메르캅토티에탄 11.15g(0.105몰)을 순수 50g 중에 장입하고, 계속하여, 10% NaOH 수용액 41.2g(0.103몰)을 실온하, 40분 걸려 적하 장입했다. 계속하여, 반응액을 30℃까지 승온하고, 10% 사염화주석의 수용액 65.2g(사염화주석 0.025몰에 상당)을 같은 온도에서 4시간 걸려 적하 삽입했다. 적하 종료 후, 같은 온도에 서 2시간 더 교반했다. 이 반응 혼합물에 클로로포름 100ml를 가하고, 유기층과 수층으로 분액했다. 유기층을 100ml의 순수로 2회 세정한 후, 무수황산나트륨을 이용하여 건조했다. 이 추출물로부터 용매를 증류제거하여 표 1 중, CMPD. No.1-1로 표시되는 화합물 13.40g(수율 99%)을 얻었다.

[화18]

(중합성 조성물의 조제와 그 중합에 의한 수지 경화물의 제조)

이하의 실시예 및 비교예에 있어서 제조한 수지 또는 광학부품(렌즈)의 물성 평가를 하기의 방법에 의해 행했다.

외관：육안 및 현미경 관찰에 의해 투명성, 광학적인 변형의 유무를 확인했다.

굴절률(ne)：풀푸리히 굴절계를 이용하여 20℃에서 측정했다.

내열성：TMA 페네트레이션법에 의해 유리전이온도 Tg를 측정했다.

Tg가 80℃ 이상인 경우를 「○」로 하고, Tg가 80℃ 미만인 경우는 「×」로 했다.

강도：중심 두께 1.3mm 두께의 렌즈에 드롭 볼 시험을 행했다. 구체적으로는, 127cm의 높이로부터 중량 8g의 철구를 낙하시켰다. 수지편이 비산하지 않았던 것을 「○」로 하고, 렌즈가 깨지거나, 철구가 관통한 것은 「×」로 했다.

색상：ASTM D1925에 준거하여, 그레타마크베스사제 분광 광도계 CE-7000A를 이용하여, 2mm 두께의 평판의 황색도(YI)를 측정했다.

(실시예 1-1)

40℃하, 유리 비이커에 참고 제조예 2에서 제조한 표 1 중, CMPD. No.1-1로 표시되는 화합물 95중량부 및 티올 화합물로서 3-메르캅토티에탄(티올 화합물 A) 5중량부를 칭량하여 취하고, 중합촉매를 첨가하지 않고 테플론(등록상표)제 필터로 여과한 후, 1.3kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때까지 충분히 탈기했다. 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중으로, 탈기 후의 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣어 20시간 중합을 행했다. 중합 중, 오븐 내를 60℃에서 120℃까지 다단계로 승온했다.

얻어진 수지의 성형편은 투명성이 양호하고, 변형이 없는 외관이 양호한 것이었다. 얻어진 수지의 평가 결과를 표 18에 나타낸다.

(실시예 1-2~1-11)

중합성 조성물의 배합을, 표 18에 나타낸 조성으로 변경한 것 이외에는 실시예 1-1에 준한 조작을 행했다. 조성 및 얻어진 수지의 평가 결과를 표 18에 나타낸다.

(비교예 1-1)

60℃하, 유리 비이커에 참고 제조예 2에서 제조한 표 1 중, CMPD. No.1-1로 표시되는 화합물 100중량부를 칭량하여 취하고, 중합촉매를 첨가하지 않고 테플론(등록상표)제 필터로 여과한 후, 1.3kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때 까지 충분히 탈기했다. 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중으로, 탈기 후의 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣어 20시간 중합을 행했다. 중합 중, 오븐 내를 70℃에서 120℃까지 다단계로 승온했다.

얻어진 수지의 성형편은 투명성이 양호하고, 변형이 없는 외관이 양호한 것이었지만, 황색으로 착색한 수지였다. 얻어진 수지의 평가 결과를 표 19에 나타낸다.

또, 표 19에 있어서는, 각 예에서 이용한 티올 화합물을 이하의 기호로 나타냈다.

A；3-메르캅토티에탄

B；4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄

C；4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸

D；2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안

이하의 실시예 및 비교예에 있어서는, 제조한 수지 또는 광학부품(렌즈)의 물성 평가를 하기의 방법에 의해 행했다.

외관：육안 및 현미경 관찰에 의해 투명성, 광학적인 변형의 유무를 확인했다.

굴절률：풀푸리히 굴절계를 이용하여 20℃에서 측정했다.

색상：ASTM D1925에 준거해, 그레타마크베스사제 분광 광도계 CE-7000A를 이용하여 2mm 두께의 평판의 황색도(YI)를 측정했다.

(실시예 2-1)

40℃하, 유리 비이커에 참고 제조예 2에서 제조한 표 1 중, CMPD. No.1-1로 표시되는 화합물 75중량부, 티올 화합물로서 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄(티올 화합물 A) 13중량부, 탄소-탄소 이중결합을 가지는 화합물로서 트리알릴이소시아누레이트(TAIC) 12중량부, 및 중합촉매로서 t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트(PBO) 0.02중량부를 칭량하여 취하고, 테플론(등록상표)제 필터로 여과한 후, 1.3kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때까지 충분히 탈기했다. 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중으로, 탈기 후의 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣어 20시간 중합을 행했다. 중합 중, 오븐 내를 60℃에서 120℃까지 다단계로 승온했다.

얻어진 수지의 성형편은 투명성이 양호하고, 변형이 없는 외관이 양호한 것이었다. 얻어진 수지의 평가 결과를 표 20에 나타낸다.

(실시예 2-2~2-4)

중합성 조성물의 배합을, 표 20에 나타낸 조성으로 변경한 것 이외에는 실시예 2-1에 준한 조작을 행했다. 조성 및 얻어진 수지의 평가 결과를 표 20에 나타낸다.

(비교예 2-1)

60℃하, 유리 비이커에 참고 제조예 2에서 제조한 표 1 중, CMPD. No.1-1로 표시되는 화합물 100중량부를 칭량하여 취하고, 중합촉매를 첨가하지 않고 테플론(등록상표)제 필터로 여과한 후, 1.3kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때까지 충분히 탈기했다. 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중으로, 탈기 후의 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣어 20시간 중합을 행했다. 중합 중, 오븐 내를 70℃에서 120℃까지 다단계로 승온했다.

얻어진 수지의 성형편은 투명성이 양호하고, 변형이 없는 외관이 양호한 것이었지만, 황색으로 착색한 수지였다. 조성 및 얻어진 수지의 평가 결과를 표 20에 나타낸다.

또, 표 20에 있어서는, 이하의 기호를 이용했다.

A；4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄

B；4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸

TAIC；트리알릴이소시아누레이트

PBO；t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트

이하의 실시예 및 비교예에 있어서는, 제조한 수지 또는 광학부품(렌즈)의 물성 평가를 하기의 방법에 의해 행했다.

외관：육안 및 현미경 관찰에 의해, 투명성, 광학적인 변형의 유무를 확인했다.

굴절률：풀푸리히 굴절계를 이용하여 20℃에서 측정했다.

강도：중심 두께 1.3mm 두께의 렌즈에 드롭 볼 시험을 행했다. 구체적으로는, 127cm의 높이로부터 중량 8g의 철구를 낙하시켰다. 수지편이 비산하지 않았던 것을 「○」로 하고, 렌즈가 깨지거나 철구가 관통한 것은 「×」로 했다.

색상：ASTM D1925에 준거해, 그레타마크베스사제 분광 광도계 CE-7000A를 이용하여 2mm 두께의 평판의 황색도(YI)를 측정했다.

(실시예 3-1)

40℃하, 유리 비이커에 참고 제조예 2에서 제조한 표 1 중, CMPD. No.1-1로 표시되는 화합물 80중량부, 티올 화합물로서 3-메르캅토티에탄(티올 화합물 A) 12중량부, 이소시아네이트 화합물로서 비스(이소시아네이토메틸)비시클로[2.2.1]헵탄(NBDI) 8중량부를 칭량하여 취하고, 중합촉매를 첨가하지 않고 테플론(등록상표)제 필터로 여과한 후, 1.3kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때까지 충분히 탈기했다. 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중으로, 탈기 후의 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣어 20시간 중합을 행했다. 중합 중, 오븐 내를 60℃에서 120℃까지 다단계로 승온했다.

또, 본 실시예에서 이용한 NBDI는, 2,5-비스(이소시아네이토메틸)비시클로[2.2.1]헵탄과 2,6-비스(이소시아네이토메틸)비시클로[2.2.1]헵탄의 혼합물이다.

얻어진 수지의 성형편은 투명성이 양호하고, 변형이 없는 외관이 양호한 것이었다. 얻어진 수지의 평가 결과를 표 21에 나타낸다.

(실시예 3-2~3-8)

중합성 조성물의 배합을, 표 21에 나타낸 조성으로 변경한 것 이외에는 실시예 3-1에 준한 조작을 행했다. 조성 및 얻어진 수지의 평가 결과를 표 21에 나타낸다.

(비교예 3-1)

60℃하, 유리 비이커에 참고 제조예 2에서 제조한 표 1 중, CMPD. No.1-1로 표시되는 화합물 100중량부를 칭량하여 취하고, 중합촉매를 첨가하지 않고 테플론(등록상표)제 필터로 여과한 후, 1.3kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때까지 충분히 탈기했다. 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중으로, 탈기 후의 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣어 20시간 중합을 행했다. 중합 중, 오븐 내를 70℃에서 120℃까지 다단계로 승온했다.

얻어진 수지의 성형편은 투명성이 양호하고, 변형이 없는 외관이 양호한 것이었지만, 황색으로 착색한 수지였다. 얻어진 수지의 평가 결과를 표 21에 나타낸다.

또, 표 21에 있어서는, 이하의 기호를 이용했다.

A；3-메르캅토티에탄

B；4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄

C；2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안

NBDI；비스(이소시아네이토메틸)비시클로[2.2.1]헵탄(2,5-비스(이소시아네이토메틸)비시클로[2.2.1]헵탄과 2,6-비스(이소시아네이토메틸)비시클로[2.2.1]헵탄의 혼합물.)

이하의 실시예(실시예 4-1~4-8) 및 비교예에 있어서는, 제조한 수지 또는 광학부품(렌즈)의 물성 평가를 하기의 방법에 의해 행했다.

외관：육안 및 현미경 관찰에 의해 투명성, 광학적인 변형의 유무를 확인했다.

굴절률：풀푸리히 굴절계를 이용하여 20℃에서 측정했다.

내열성：TMA 페네트레이션법에 의해 Tg를 측정했다. Tg가 80℃ 이상인 경우를 「○」로 하고, Tg가 80℃ 미만인 경우는 「×」로 했다.

강도：중심 두께 1.3mm 두께의 렌즈에 드롭 볼 시험을 행했다. 구체적으로는, 127cm의 높이로부터 중량 8g의 철구를 낙하시켰다. 수지편이 비산하지 않았던 것을 「○」로 하고, 렌즈가 깨지거나 철구가 관통한 것은 「×」로 했다.

색상：ASTM D1925에 준거해, 그레타마크베스사제 분광 광도계 CE-7000A를 이용하여, 2mm 두께의 평판의 황색도(YI)를 측정했다.

(실시예 4-1)

40℃하, 유리 비이커에 참고 제조예 2에서 제조한 표 1 중, CMPD. No.1-1로 표시되는 화합물 85중량부, 티올 화합물로서 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄(티올 화합물 A) 6중량부, 에폭시 화합물로서 시클로헥산디메탄올디글리시딜에테르(CHDMDG) 9중량부를 칭량하여 취하고, 중합촉매를 첨가하지 않고 테플론(등록상표)제 필터로 여과한 후, 1.3kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때까지 충분히 탈기했다. 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중으로, 탈기 후의 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣어 20시간 중합을 행했다. 중합 중, 오븐 내를 60℃에서 120℃까지 다단계로 승온했다.

얻어진 수지의 성형편은 투명성이 양호하고, 변형이 없는 외관이 양호한 것이었다. 얻어진 수지의 평가 결과를 표 22에 나타낸다.

(실시예 4-2~4-8)

중합성 조성물의 배합을, 표 22에 나타낸 조성으로 변경한 것 이외에는 실시예 4-1에 준한 조작을 행했다. 조성 및 얻어진 수지의 평가 결과를 표 22에 나타낸다.

(비교예 4-1)

60℃하, 유리 비이커에 참고 제조예 2에서 제조한 표 1 중, CMPD. No.1-1로 표시되는 화합물 100중량부를 칭량하여 취하고, 중합촉매를 첨가하지 않고 테플론(등록상표)제 필터로 여과한 후, 1.3kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때까지 충분히 탈기했다. 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중으로, 탈기 후의 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣어 20시간 중합을 행했다. 중합 중, 오븐 내를 70℃에서 120℃까지 다단계로 승온했다.

얻어진 수지의 성형편은 투명성이 양호하고, 변형이 없는 외관이 양호한 것이었지만, 황색으로 착색한 수지였다. 얻어진 수지의 평가 결과를 표 22에 나타낸다.

또, 표 22에 있어서는, 이하의 기호를 이용했다.

A；4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄

B；4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸

C；메르캅토에틸설피드

CHDMDG；시클로헥산디메탄올디글리시딜에테르

DGBF；비스페놀F 디글리시딜에테르

DGBA；비스페놀A 디글리시딜에테르

이하의 실시예(실시예 4-9~4-11) 및 비교예에 있어서는, 제조한 수지의 광학 물성(굴절률, 압베수), 내열성, 색상, 기계 물성은 이하의 시험 방법에 의해 평가 했다.

굴절률(ne), 압베수(νe)：풀푸리히 굴절계를 이용하여, 20℃에서 측정했다.

내열성：TMA 페네트레이션법(50g 하중, 핀 선 0.5mmφ, 승온속도 10℃/min)에서의 Tg(℃)를 내열성으로 했다.

색상：미놀타사제의 색채 색차계(CR-200)를 이용하여 수지 색상 YI값, 및 a*값, b*값을 측정했다. 수지 색상 YI값, 및 a*값, b*값은, 두께 5mm의 평판을 작성하여 측정했다.

3점 굴곡시험：SHIMADZU사제 오토그래프 AGS-J에 의해 측정했다.

(실시예 4-9)

참고 제조예 2에서 제조한 표 1 중, CMPD. No.1-1로 표시되는 화합물 75중량부, 티올 화합물로서 3-메르캅토티에탄(티올 화합물 A) 12.5중량부, 에피설피드 화합물로서 비스(2,3-에피티오프로필)디설피드 12.5중량부를, 75℃에서 가열 혼합 용해시켜 PTFA제 필터로 감압여과한 후, 3.9kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때까지 충분히 탈기했다. 계속하여, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중으로, 탈기 후의 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣어 46시간 중합을 행했다. 중합 중, 오븐 내를 70℃에서 130℃까지 다단계로 승온했다.

얻어진 수지의 성형편은 투명성이 양호하고, 변형이 없는 외관이 양호한 것이었다. 얻어진 수지의 평가 결과를 표 23에 나타낸다.

(실시예 4-10~4-12)

중합성 조성물의 배합을, 표 23에 나타낸 조성으로 변경한 것 이외에는 실시예 4-9에 준한 조작을 행했다. 조성 및 얻어진 수지의 평가 결과를 표 23에 나타낸다.

(비교예 4-2)

참고 제조예 2에서 제조한 표 1 중, CMPD. No.1-1로 표시되는 화합물 100중량부를, 85℃에서 가열 혼합 용해시켜 PTFA제 필터로 감압여과한 후, 3.9kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때까지 충분히 탈기했다. 계속하여, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중으로, 탈기 후의 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣어 22시간 중합을 행했다. 중합 중, 오븐 내를 85℃에서 130℃까지 다단계로 승온했다.

얻어진 수지의 성형편은 투명성이 양호하고, 변형이 없는 외관이 양호한 것이었다. 얻어진 수지의 평가 결과를 표 23에 나타낸다.

또, 표 23에 있어서는, 이하의 기호를 이용했다.

A：4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄

B：4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸

D：3-메르캅토티에탄

ETDS：비스(2,3-에피티오프로필)디설피드

이하의 실시예 및 비교예에 있어서는, 제조한 수지의 광학 물성(굴절률, 압베수), 내열성, 색상, 기계 물성을 이하의 시험 방법에 의해 평가했다.

굴절률(ne), 압베수(νe)：풀푸리히 굴절계를 이용하여 20℃에서 측정했다.

내열성：TMA 페네트레이션법(50g 하중, 핀 선 0.5mmφ, 승온속도 10℃/min)에서의 Tg(℃)를 내열성으로 했다.

색상：미놀타사제의 색채 색차계(CR-200)를 이용하여 수지 색상 YI값, 및 a*값, b*값을 측정했다. 수지 색상 YI값, 및 a*값, b*값은, 두께 5mm의 평판을 작성하여 측정했다.

3점 굴곡시험：SHIMADZU사제 오토그래프 AGS-J에 의해 측정했다.

(실시예 5-1)

참고 제조예 2에서 제조한 표 1 중, CMPD. No.1-1로 표시되는 화합물 85중량부, 티올 화합물로서 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄(티올 화합물 A) 7.5중량부, 금속 비함유 티에탄 화합물로서 비스(3-티에타닐)디설피드 7.5중량부를, 75℃에서 가열 혼합 용해시켜 PTFA제 필터로 감압여과한 후, 3.9kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때까지 충분히 탈기했다. 계속하여, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중으로, 탈기 후의 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣어 46시간 중합을 행했다. 중합 중, 오븐 내를 70℃에서 130℃까지 다단계로 승온했다.

얻어진 수지의 성형편은 투명성이 양호하고, 변형이 없는 외관이 양호한 것이었다. 얻어진 수지의 평가 결과를 표 24에 나타낸다.

(실시예 5-2~5-3)

중합성 조성물의 배합을, 표 24에 나타낸 조성으로 변경한 것 이외에는 실시예 5-1에 준한 조작을 행했다. 조성 및 얻어진 수지의 평가 결과를 표 24에 나타낸다.

(비교예 5-1)

참고 제조예 2에서 제조한 표 1 중, CMPD. No.1-1로 표시되는 화합물 100중량부를, 85℃에서 가열 혼합 용해시켜 PTFA제 필터로 감압여과한 후, 3.9kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때까지 충분히 탈기했다. 계속하여, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중으로, 탈기 후의 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣어 22시간 중합을 행했다. 중합 중, 오븐 내를 85℃에서 130℃까지 다단계로 승온했다.

얻어진 수지의 성형편은 투명성이 양호하고, 변형이 없는 외관이 양호한 것이었다. 얻어진 수지의 평가 결과를 표 24에 나타낸다.

또, 표 24에 있어서는, 이하의 기호를 이용했다.

A：4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄

B：4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸

TES：비스(3-티에타닐)디설피드

이하의 실시예 및 비교예에 있어서는, 수지의 광학 물성(굴절률, 압베수), 내열성, 색상, 기계 물성을 이하의 시험 방법에 의해 평가했다.

굴절률(ne), 압베수(νe)：풀푸리히 굴절계를 이용하여 20℃에서 측정했다.

내열성：TMA 페네트레이션법(50g 하중, 핀 선 0.5mmφ, 승온속도 10℃/min)D에서의 Tg(℃)를 내열성으로 했다.

색상：미놀타사제의 색채 색차계(CR-200)를 이용하여 수지 색상 YI값, 및 a*값, b*값을 측정했다. 수지 색상 YI값, 및 a*값, b*값은, 두께 5mm의 평판을 작성하여 측정했다.

3점 굴곡시험：SHIMADZU사제 오토그래프 AGS-J에 의해 측정했다.

(비교예 6-1)

참고 제조예 2에서 제조한 표 1 중, CMPD. No.1-1로 표시되는 화합물 100중량부를, 85℃에서 가열 혼합 용해시켜 PTFA제 필터로 감압여과한 후, 3.9kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때까지 충분히 탈기했다. 계속하여, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중으로, 탈기 후의 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣어 22시간 중합을 행했다. 중합 중, 오븐 내를 85℃에서 130℃까지 다단계로 승온했다.

얻어진 수지의 성형편은 투명성이 양호하고, 변형이 없는 외관이 양호한 것이었다. 얻어진 수지의 평가 결과를 표 25에 나타낸다.

(실시예 6-1)

참고 제조예 2에서 제조한 표 1 중, CMPD. No.1-1로 표시되는 화합물 85중량부, 티올 화합물로서 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄(티올 화합물 A) 15중량부를, 75℃에서 가열 혼합 용해시켜 PTFA제 필터로 감압여과한 후, 3.9kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때까지 충분히 탈기했다. 계속하여, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중으로, 탈기 후의 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣어 46시간 중합을 행했다. 중합 중, 오븐 내를 70℃에서 130℃까지 다단계로 승온했다.

얻어진 수지의 성형편은 투명성이 양호하고, 변형이 없는 외관이 양호한 것이었다. 얻어진 수지의 평가 결과를 표 25에 나타낸다.

(실시예 6-2~6-3)

중합성 조성물의 배합을, 표 25에 나타낸 조성으로 변경한 것 이외에는 실시예 6-1에 준한 조작을 행했다. 조성 및 얻어진 수지의 평가 결과를 표 25에 나타낸다.

또, 표 25에 있어서는, 이하의 기호를 이용했다.

No1-1：테트라키스(3-티에타닐티오)주석

A：4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄

B：3-메르캅토티에탄

DCH：디시클로헥실메틸아민

(실시예 6-4)

참고 제조예 2에서 제조한 표 1 중, CMPD. No.1-1로 표시되는 화합물 87.4중량부, 황 8.7중량부를 85℃에서 가열 용해시켰다. 계속하여, 85℃에서 비스(2-메르캅토에틸)설피드(티올 화합물 C) 3.9중량부를 첨가, 혼합시켜 PTFA제 필터로 감압여과한 후, 3.9kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때까지 충분히 탈기했다. 계속하여, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중으로, 탈기 후의 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣어 22시간 중합을 행했다. 중합 중, 오븐 내를 70℃에서 130℃까지 다단계로 승온했다.

얻어진 수지의 성형편은 투명성이 양호하고, 변형이 없는 외관이 양호한 것이었다. 얻어진 수지의 평가 결과를 표 26에 나타낸다.

(실시예 6-5)

참고 제조예 2에서 제조한 표 1 중, CMPD. No.1-1로 표시되는 화합물 91중량부 및 황 9중량부를 85℃에서 가열 용해시켰다. 이것을 PTFA제 필터로 감압여과한 후, 3.9kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때까지 충분히 탈기했다. 계속하여, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중으로, 탈기 후의 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣어 22시간 중합을 행했다. 중합 중, 오븐 내를 70℃에서 130℃까지 다단계로 승온했다.

얻어진 수지의 성형편은 투명성이 양호하고, 변형이 없는 외관이 양호한 것이었다. 얻어진 수지의 평가 결과를 표 26에 나타낸다.

또, 표 26에 있어서는, 이하의 기호를 이용했다.

No 1-1：테트라키스(3-티에타닐티오)주석

C：비스(2-메르캅토에틸)설피드

(참고 제조예 3)

3-메르캅토티에탄 13.7g(0.13몰)을 순수 21g 중에 장입하고, 계속하여, 31% NaOH 수용액 16.5g(0.13몰)을 실온하, 45분 걸려 적하 장입했다. 계속하여, 별개의 반응기에 에탄디티올 5.9g(0.06몰)과 순수 36.5g을 장입하여, 31% NaOH 수용액 16.5g(0.13몰)을 실온하, 45분 걸려 적하 장입했다. 이 에탄디티올나트륨염 수용액과 27.5% 사염화주석의 수용액 58.9g(사염화주석 0.06몰에 상당)을 방금 전의 3-메르캅토티에탄나트륨염 수용액 중에 1.5시간 걸려 동시에 적하 장입했다. 적하 종료 후, 같은 온도에서 2시간 더 교반했다. 이 반응 혼합물의 고체를 여과하여 취하여 해 수층을 제거했다. 고형물을 디클로로메탄 530g에 용해하고, 100g의 순수로 3회 세정한 후, PTFE 필터로 여과를 하여 불용물을 제거했다. 이 추출물로부터 용매를 증류제거하여, 비스(티에타닐티오)디티아스탄노란(Sn(EDT)(MTE)₂)로 표시되는 화합물(표 4 중, CMPD. No.1-71)을 24.8g(수율 65%) 얻었다.

(실시예 6-6)

참고 제조예 3에서 제조한 비스(티에타닐티오)디티아스탄노란(Sn(EDT)(MTE)₂) 90중량부, 티올 화합물로서 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄(티올 화합물 A) 10중량부를 실온에서 혼합하고, PTFA제 필터로 감압여과한 후, 50℃의 오븐 중에서 3.9kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때까지 충분히 탈기했다. 계속하여, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중으로, 탈기 후의 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣어 18시간 중합을 행했다. 중합 중, 오븐 내를 70℃로부터 100℃ 다단계로 승온했다.

얻어진 수지의 성형편은 투명성이 양호하고, 변형이 없는 외관이 양호한 것이었다. 얻어진 수지의 평가 결과를 표 27에 나타낸다.

(실시예 6-7~6-8)

중합성 조성물의 배합을, 표 27에 나타낸 조성으로 변경한 것 이외에는 실시예 6-6에 준한 조작을 행했다. 조성 및 얻어진 수지의 평가 결과를 표 27에 나타낸다.

또, 표 27에 있어서는, 이하의 기호를 이용했다.

A：3-메르캅토티에탄

D：비스(β-에피티오프로필)디설피드

(참고 제조예 4)

3-메르캅토티에탄 8.0g(0.075몰)을 순수 12.0g 중에 장입하고, 계속하여, 30% NaOH 수용액 9.8g(0.075몰)을 실온하, 45분 걸려 적하 장입했다. 계속하여, 13.6% 삼염화비스무스의 에탄올 용액 57.9g(삼염화비스무스 0.025몰에 상당)을 같은 온도에서 1.5시간 걸려 적하 삽입했다. 적하 종료 후, 같은 온도에서 2시간 더 교반했다. 이 반응 혼합물을 여과하여 고체물을 여과하여 취하여 디클로로메탄 500g에 용해, 불용물은 여과하여 제거했다. 유기층을 100g의 순수로 2회 세정한 후, PTFE 필터로 여과를 하여 불용물을 제거했다. 이 추출물로부터 용매를 증류제거하여 헥산을 장입하고, 헥산으로부터 여별하여, 트리스(메르캅토티에타닐)비스무스로 표시되는 하기식으로 나타내는 화합물 10.6g(수율 81%)을 얻었다.

이하에 화합물의 동정 데이터를 나타낸다.

¹H-NMR(용매：DMSOd-6, 내부 표준물질：TMS)；σ3.28(12H), σ5.77(3H).

¹³C-NMR(용매：DMSOd-6)；σ41.5.

IR(유니버설 ATR법)；2919, 1410, 1196, 931cm^-1.

FDMS；m/e 계산치 C₉H₁₅S₆Bi(M^＋)524, 실측치 524.

(실시예 7-1)

참고 제조예 4에서 제조한 트리스(메르캅토티에타닐)비스무스 75중량부, 티올 화합물로서 3-메르캅토티에탄 25중량부를, 85℃에서 가열 혼합 용해시킨 후, 3.9kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때까지 충분히 탈기했다. 계속하여, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중으로, 탈기 후의 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣어 70℃에서 46시간 중합을 행했다.

얻어진 수지의 성형편은 투명성이 양호하고, 변형이 없는 외관이 양호한 것이었다.

또한, 얻어진 수지의 굴절률을 측정한 결과, 굴절률 ne=1.855였다.

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31. 하기 일반식(1)로 표시되는 화합물과 티올 화합물과 에피설피드 화합물을 함유하는 중합성 조성물.

    [화1]

    

    (상기 일반식(1) 중, M은, 금속원자를 나타내고, X₁ 및 X₂는 각각 독립하여 황원자 또는 산소원자를 나타내고, R₁은 2가의 유기기를 나타내고, m은 0 또는 1 이상의 정수를 나타내고, p는 1 이상 n 이하의 정수를 나타내고, n은 금속원자 M의 가수를 나타내고, Y는 각각 독립하여 무기 또는 유기 잔기를 나타내고, n-p가 2 이상인 경우, Y는 서로 결합하여, 금속원자 M을 포함하는 환을 형성하고 있어도 좋다.)
32. 하기 일반식(1)로 표시되는 화합물과 티올 화합물과 분자구조 중에 금속원자를 포함하지 않는 티에탄 화합물을 함유하는 중합성 조성물.

    [화1]

    

    (상기 일반식(1) 중, M은, 금속원자를 나타내고, X₁ 및 X₂는 각각 독립하여 황원자 또는 산소원자를 나타내고, R₁은 2가의 유기기를 나타내고, m은 0 또는 1 이상의 정수를 나타내고, p는 1 이상 n 이하의 정수를 나타내고, n은 금속원자 M의 가수를 나타내고, Y는 각각 독립하여 무기 또는 유기 잔기를 나타내고, n-p가 2 이상인 경우, Y는 서로 결합하여, 금속원자 M을 포함하는 환을 형성하고 있어도 좋다.)
33. 하기 일반식(1)로 표시되는 화합물과 티올 화합물과 트리알릴이소시아누레이트를 함유하는 중합성 조성물.

    [화1]

    

    (상기 일반식(1) 중, M은, 금속원자를 나타내고, X₁ 및 X₂는 각각 독립하여 황원자 또는 산소원자를 나타내고, R₁은 2가의 유기기를 나타내고, m은 0 또는 1 이상의 정수를 나타내고, p는 1 이상 n 이하의 정수를 나타내고, n은 금속원자 M의 가수를 나타내고, Y는 각각 독립하여 무기 또는 유기 잔기를 나타내고, n-p가 2 이상인 경우, Y는 서로 결합하여, 금속원자 M을 포함하는 환을 형성하고 있어도 좋다.)
34. 제 31항 내지 제33항 중 어느 한항에 있어서, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물에 있어서, m=0인, 중합성 조성물.
35. 제 31항 내지 제33항 중 어느 한항에 있어서, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물에 있어서, m=0이고, X₁이 황원자인, 중합성 조성물.
36. 제 35항에 있어서, 상기 티올 화합물이, 3-메르캅토티에탄, 1-메르캅토-2,3-에피티오프로판, 1-메르캅토메틸티오-2,3-에피티오프로판, 1-메르캅토에틸티오-2,3-에피티오프로판, 2-메르캅토티에탄, 3-메르캅토메틸티오티에탄, 2-메르캅토메틸티오티에탄, 3-메르캅토에틸티오티에탄, 2-메르캅토에틸티오티에탄, 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 1,1,1,1-테트라키스(메르캅토메틸)메탄, 1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,1,2.2-테트라키스(메르캅토메틸티오)에탄, 4,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티안, 2-(2,2-비스(메르캅토메틸티오)에틸)-1,3-디티에탄 및 비스(2-메르캅토에틸)설피드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인, 중합성 조성물.
37. 제 35항에 있어서, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물이, 하기 일반식(13)으로 표시되는 화합물인, 중합성 조성물.

    [화2]

    

    (상기 일반식(13) 중, M은 장주기형 주기표의 14족 원소이다. n은, 각각, 상기 일반식(1)에 있어서의 n과 같다. p는 2 이상 (n-1) 이하의 정수이다.

    n-p가 1인 경우, R₂는, 탄소수 1 이상 3 이하의 직쇄상 혹은 분기쇄를 가지는 알킬기를 나타낸다.

    n-p가 2 이상인 경우, 복수의 R₂는, 각각 독립하여, 탄소수 1 이상 3 이하의 직쇄상 혹은 분기쇄를 가지는 알킬기를 나타낸다. 또한, 복수의 R₂가 서로 결합하여 M을 포함하는 환을 형성하여도 좋고, 이 경우, 환을 형성하는 알킬쇄는 탄소수 1 이상 3 이하이며, 환을 구성하는 부분에는, 황원자를 포함하지 않는다.)
38. 제 37항에 있어서, 상기 티올 화합물이, 3-메르캅토티에탄, 1-메르캅토-2,3-에피티오프로판, 1-메르캅토메틸티오-2,3-에피티오프로판, 1-메르캅토에틸티오-2,3-에피티오프로판, 2-메르캅토티에탄, 3-메르캅토메틸티오티에탄, 2-메르캅토메틸티오티에탄, 3-메르캅토에틸티오티에탄, 2-메르캅토에틸티오티에탄, 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 1,1,1,1-테트라키스(메르캅토메틸)메탄, 1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,1,2.2-테트라키스(메르캅토메틸티오)에탄, 4,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티안, 2-(2,2-비스(메르캅토메틸티오)에틸)-1,3-디티에탄 및 비스(2-메르캅토에틸)설피드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인, 중합성 조성물.
39. 제 37항에 있어서, 상기 일반식(13)으로 표시되는 화합물에 있어서, 상기 금속원자가 Sn 원자인, 중합성 조성물.
40. 제 31항에 있어서, 상기 에피설피드 화합물이, 비스(2,3-에피티오프로필)설피드 및 비스(2,3-에피티오프로필)디설피드의 어느 하나인, 중합성 조성물.
41. 제 32항에 있어서, 상기 분자구조 중에 금속원자를 포함하지 않는 티에탄 화합물이, 비스(3-티에타닐)디설피드인, 중합성 조성물.
42. 제 31항 내지 제33항 중 어느 한항에 있어서, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물에 있어서 n=p, m=0, X₁이 황원자인, 중합성 조성물.
43. 제 42항에 있어서, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물에 있어서, 상기 금속원자가 Sn 원자인, 중합성 조성물.
44. 제 42항에 있어서, 상기 티올 화합물이, 3-메르캅토티에탄, 1-메르캅토-2,3-에피티오프로판, 1-메르캅토메틸티오-2,3-에피티오프로판, 1-메르캅토에틸티오-2,3-에피티오프로판, 2-메르캅토티에탄, 3-메르캅토메틸티오티에탄, 2-메르캅토메틸티오티에탄, 3-메르캅토에틸티오티에탄, 2-메르캅토에틸티오티에탄, 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 1,1,1,1-테트라키스(메르캅토메틸)메탄, 1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,1,2.2-테트라키스(메르캅토메틸티오)에탄, 4,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티안, 2-(2,2-비스(메르캅토메틸티오)에틸)-1,3-디티에탄 및 비스(2-메르캅토에틸)설피드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인, 중합성 조성물.
45. 제 31항 내지 제33항 중 어느 한항에 있어서, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물에 있어서, 상기 금속원자가, 장주기형 주기표의 4족, 12족, 13족, 14족 및 15족의 어느 하나인, 중합성 조성물.
46. 제 45항에 있어서, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물에 있어서, 상기 금속원자가 Sn 원자인, 중합성 조성물.
47. 제 46항에 있어서, 상기 티올 화합물이, 3-메르캅토티에탄, 1-메르캅토-2,3-에피티오프로판, 1-메르캅토메틸티오-2,3-에피티오프로판, 1-메르캅토에틸티오-2,3-에피티오프로판, 2-메르캅토티에탄, 3-메르캅토메틸티오티에탄, 2-메르캅토메틸티오티에탄, 3-메르캅토에틸티오티에탄, 2-메르캅토에틸티오티에탄, 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 1,1,1,1-테트라키스(메르캅토메틸)메탄, 1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,1,2.2-테트라키스(메르캅토메틸티오)에탄, 4,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티안, 2-(2,2-비스(메르캅토메틸티오)에틸)-1,3-디티에탄 및 비스(2-메르캅토에틸)설피드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인, 중합성 조성물.
48. 제 31항 내지 제33항 중 어느 한항에 있어서, 상기 티올 화합물이, 3-메르캅토티에탄, 1-메르캅토-2,3-에피티오프로판, 1-메르캅토메틸티오-2,3-에피티오프로판, 1-메르캅토에틸티오-2,3-에피티오프로판, 2-메르캅토티에탄, 3-메르캅토메틸티오티에탄, 2-메르캅토메틸티오티에탄, 3-메르캅토에틸티오티에탄, 2-메르캅토에틸티오티에탄, 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 1,1,1,1-테트라키스(메르캅토메틸)메탄, 1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,1,2.2-테트라키스(메르캅토메틸티오)에탄, 4,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티안, 2-(2,2-비스(메르캅토메틸티오)에틸)-1,3-디티에탄 및 비스(2-메르캅토에틸)설피드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인, 중합성 조성물.
49. 제 31항 내지 제33항 중 어느 한항에 있어서, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물의 함유량이, 50중량% 이상인, 중합성 조성물.
50. 제 31항 내지 제33항 중 어느 한항에 있어서,

    당해 중합성 조성물 중의 티올기의 몰비가, 당해 중합성 조성물 중의 이소(티오)시아네이트기, 에폭시기, 에피설피드기, 탄소-탄소 이중결합 및 금속원자를 포함하지 않는 티에탄 화합물 중의 티에타닐기의 합계에 대해서, 0.7 이상인, 중합성 조성물.
51. 제 31항 내지 제33항 중 어느 한항에 기재된 중합성 조성물을 주형 중합하는 공정을 포함하는, 수지의 제조방법.
52. 제 31항 내지 제33항 중 어느 한항에 기재된 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 수지.
53. 제 52항에 기재된 수지로 이루어지는 광학부품.