KR100942354B1 - Apparatus for washing nozzle - Google Patents

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KR100942354B1
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요시노리 다카기
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다이니폰 스크린 세이조우 가부시키가이샤
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Abstract

장기간에 걸쳐 노즐을 충분히 청정하게 세정하는 것이 가능한 노즐 세정 장치를 제공하는 것으로서, 세정 블록(61)은, 한 쌍의 비산 방지판(73)과, 불활성 가스 분출용 슬릿(77, 78)을 구비한 4개의 불활성 가스 분출용 블록(75)과, 칸막이 판(74)과, 지지 부재에 지지된 하면 세정 브러시(82), 우측면 세정 브러시(83) 및 좌측면 세정 브러시(81)와, 제1 노즐(87), 제2 노즐(84) 및 제3 노즐(85, 86)을 지지하는 한쌍의 노즐용 블록(76)을 구비한다. 세정 블록(61)이 세정 영역에 배치되었을 때에는, 하면 세정 브러시(82)는 슬릿 노즐의 하단부 하면과, 우측면 세정 브러시(83)는 슬릿 노즐의 길이 방향을 향해 하단부 우측면과, 좌측면 세정 브러시(81)는 슬릿 노즐의 길이 방향을 향해 하단부 좌측면과, 각각, 접촉 가능한 위치에 배치되어 있다.To provide a nozzle cleaning apparatus capable of sufficiently cleaning a nozzle over a long period of time, the cleaning block 61 includes a pair of scattering preventing plates 73 and inert gas ejection slits 77 and 78. One of the four inert gas blowing blocks 75, the partition plate 74, the lower surface cleaning brush 82, the right side cleaning brush 83, and the left side cleaning brush 81 supported by the support member; A pair of nozzle blocks 76 supporting the nozzle 87, the second nozzle 84, and the third nozzles 85 and 86 are provided. When the cleaning block 61 is disposed in the cleaning area, the lower surface cleaning brush 82 has a lower surface of the lower end of the slit nozzle, and the right surface cleaning brush 83 has a lower right surface of the lower surface toward the longitudinal direction of the slit nozzle, and the left surface cleaning brush ( 81) is arrange | positioned in the position which can contact with a lower end left side toward the longitudinal direction of a slit nozzle, respectively.

Description

노즐 세정 장치{APPARATUS FOR WASHING NOZZLE}Nozzle cleaning device {APPARATUS FOR WASHING NOZZLE}

본 발명은, 길이가 긴 슬릿 노즐의 하단부에 형성된 슬릿 형상의 토출구로부터 처리액을 토출하는 처리액 공급 노즐을 세정하기 위한 노즐 세정 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a nozzle cleaning apparatus for cleaning a processing liquid supply nozzle for discharging the processing liquid from a slit-shaped discharge port formed at a lower end of an elongated slit nozzle.

반도체 웨이퍼나 액정 표시 패널용 유리 기판 혹은 반도체 제조 장치용 마스크 기판 등의 기판에 대해 포토레지스트 등의 처리액을 도포하는 도포 장치에 있어서, 길이가 긴 슬릿 노즐의 하단부에 형성된 슬릿 형상의 토출구로부터 처리액을 토출함으로써, 기판의 표면에 처리액을 도포한다. 이 도포 장치에 있어서는, 처리액의 도포에 의해 오염된 노즐을, 노즐 세정 장치에 의해 세정하는 구성으로 되어 있다.In a coating apparatus for applying a processing liquid such as a photoresist to a substrate such as a semiconductor wafer, a glass substrate for a liquid crystal display panel, or a mask substrate for a semiconductor manufacturing apparatus, the treatment is performed from a slit-shaped discharge port formed at a lower end of a long slit nozzle. By discharging the liquid, the processing liquid is applied to the surface of the substrate. In this coating device, it is a structure which wash | cleans the nozzle contaminated by application | coating of process liquid with a nozzle cleaning apparatus.

이러한 노즐 세정 장치로는, 예를 들면, 일본 특허 출원 공개 2005-262127호 공보에 기재된 것처럼, 노즐의 하단부에 세정액을 공급해 노즐을 세정하는 노즐 세정 장치가 사용되고 있다.As such a nozzle cleaning apparatus, for example, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-262127, a nozzle cleaning apparatus for supplying a cleaning liquid to the lower end of the nozzle and cleaning the nozzle is used.

또한, 일본 특허 공개 2004-122065호 공보에 기재된 것처럼, 세정액을 공급한 다공질 재료로 이루어진 불식(拂拭) 부재를 이용해 노즐을 세정하는 노즐 세정 장치도 제안되어 있다.Moreover, as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-122065, the nozzle cleaning apparatus which wash | cleans a nozzle using the cleaning member which consists of a porous material which supplied the cleaning liquid is also proposed.

특허 문헌 1에 기재된 바와같이, 세정액만에 의해 노즐을 세정하는 구성을 채용한 경우에는, 처리액의 종류에 따라서는 노즐을 충분히 세정할 수 없는 경우가 있다. 또한, 특허 문헌 2에 기재된 것처럼 다공질 재료로 이루어진 불식 부재를 사용한 경우에는, 불식 부재가 노즐과의 접촉에 의해 손상된다고 하는 문제가 발생한다.As described in Patent Literature 1, in the case of employing a configuration in which the nozzle is cleaned only by the cleaning liquid, the nozzle may not be sufficiently cleaned depending on the type of the processing liquid. In addition, in the case of using an eroding member made of a porous material as described in Patent Document 2, a problem occurs that the eroding member is damaged by contact with the nozzle.

본 발명은 상기 과제를 해결하기 위해서 이루어진 것으로서, 장기간에 걸쳐 노즐을 충분히 청정하게 세정하는 것이 가능한 노즐 세정 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.This invention is made | formed in order to solve the said subject, and an object of this invention is to provide the nozzle cleaning apparatus which can wash | clean a nozzle sufficiently cleanly over a long period.

청구항 1 기재의 발명은, 길이가 긴 슬릿 노즐의 하단부에 형성된 슬릿 형상의 토출구로부터 처리액을 토출하는 처리액 공급 노즐을 세정하기 위한 노즐 세정 장치로서, 상기 슬릿 노즐의 하단부 하면에 접촉 가능한 하면 세정 부재와, 상기 슬릿 노즐의 길이 방향을 향해 하단부 우측면에 접촉 가능한 우측면 세정 부재와, 상기 슬릿 노즐의 길이 방향에 대해 상기 우측면 세정 부재와는 다른 위치에 설치되고, 상기 슬릿 노즐의 길이 방향을 향해 하단부 좌측면에 접촉 가능한 좌측면 세정 부재를 가지는 세정 블록과, 상기 세정 블록을, 상기 하면 세정 부재, 상기 우측면 세정 부재 및 상기 좌측면 세정 부재에 의해 슬릿 노즐의 하단부를 세정하면서 이동하는 세정 영역과, 상기 하면 세정 부재, 우측면 세정 부재 및 좌측면 세정 부재가 슬릿 노즐로부터 이격된 대기 위치 사이에서 왕복 이동시키는 이동 기구와, 상기 세정 블록이 상기 세정 영역에 배치되었을 때에 상기 세정 블록에 있어서의 상기 슬릿 노즐을 사이에 두고 상기 우측면 세정 부재와 대향하는 위치에 설치되고, 상기 우측면 세정 부재를 향해 세정액을 토출 가능한 제1 노즐과, 상기 세정 블록이 상기 세정 영역에 배치되었을 때에 상기 세정 블록에 있어서의 상기 슬릿 노즐을 사이에 두고 상기 좌측면 세정 부재와 대향하는 위치에 설치되고, 상기 좌측면 세정 부재를 향해서 세정액을 토출 가능한 제2 노즐과, 세정 블록이 상기 세정 영역을 이동하고 있을 때와, 세정 블록이 상기 대기 위치에 배치되었을 때에, 상기 제1 노즐 및 상기 제2 노즐에 세정액을 공급하는 세정액 공급부를 구비한 것을 특징으로 한다.The invention according to claim 1 is a nozzle cleaning device for cleaning a processing liquid supply nozzle for discharging a processing liquid from a slit-shaped discharge port formed at a lower end of an elongated slit nozzle. A member, a right side cleaning member capable of contacting a lower end right side in the longitudinal direction of the slit nozzle, and a right side cleaning member in a position different from the right side cleaning member in the longitudinal direction of the slit nozzle, and having a lower end in the longitudinal direction of the slit nozzle. A cleaning block having a left side cleaning member capable of contacting with a left side, a cleaning area for moving the cleaning block while washing the lower end of the slit nozzle by the bottom cleaning member, the right side cleaning member, and the left side cleaning member; The lower surface cleaning member, the right side cleaning member, and the left side cleaning member are removed from the slit nozzle. A movement mechanism for reciprocating between spaced standby positions, and a position opposite to the right side cleaning member with the slit nozzle in the cleaning block interposed therebetween when the cleaning block is disposed in the cleaning region; A first nozzle capable of discharging the cleaning liquid toward the right side cleaning member and a position opposite to the left side cleaning member with the slit nozzle in the cleaning block interposed therebetween when the cleaning block is disposed in the cleaning region; And a second nozzle capable of discharging the cleaning liquid toward the left side cleaning member, when the cleaning block moves the cleaning region, and when the cleaning block is disposed in the standby position, the first nozzle and the second nozzle. It is characterized by including a cleaning liquid supply unit for supplying a cleaning liquid to the.

청구항 2 기재의 발명은, 청구항 1 기재의 발명에 있어서, 상기 하면 세정 부재를 향해 세정액을 토출 가능한 제3 노즐을 더 가지고, 상기 세정액 공급부는, 세정 블록이 상기 세정 영역을 이동하고 있을 때와, 세정 블록이 상기 대기 위치에 배치되었을 때에, 상기 제3 노즐에 세정액을 공급한다.Invention of Claim 2 has the 3rd nozzle which can discharge a cleaning liquid toward the said lower surface cleaning member in invention of Claim 1, The said cleaning liquid supply part is when the cleaning block is moving the said cleaning area, When the cleaning block is disposed in the standby position, the cleaning liquid is supplied to the third nozzle.

청구항 3 기재의 발명은, 청구항 1 또는 청구항 2 기재의 발명에 있어서, 상기 세정 블록에 있어서의 상기 우측면 세정 부재의 이동 방향의 뒤측에 배치되고, 상기 우측면 세정 부재에 의해 세정된 상기 슬릿 노즐의 하단부 우측면에 기체를 분출하는 우측면용 기체 분출 수단과, 상기 세정 블록에 있어서의 상기 좌측면 세정 부재의 이동 방향의 뒤측에 배치되고, 상기 좌측면 세정 부재에 의해 세정된 상기 슬릿 노즐의 하단부 좌측면에 기체를 분출하는 좌측면용 기체 분출 수단을 더 구비한다.Invention of Claim 3 is invention of Claim 1 or Claim 2 WHEREIN: The lower end part of the said slit nozzle arrange | positioned at the back side of the moving direction of the said right surface cleaning member in the said cleaning block, and was wash | cleaned by the said right surface cleaning member. On the right side gas blowing means for blowing gas to the right side, and on the rear side of the moving direction of the left side cleaning member in the cleaning block, and on the lower left side surface of the slit nozzle cleaned by the left surface cleaning member. A gas ejection means for the left side which ejects gas is further provided.

청구항 4 기재의 발명은, 청구항 3 기재의 발명에 있어서, 상기 우측면용 기체 분출 수단과, 상기 좌측면용 기체 분출 수단은, 각각, 상기 슬릿 노즐의 하단부를 향해 기체를 분출하는 슬릿 형상의 기체 분출공을 가진다.In the invention according to claim 4, in the invention according to claim 3, the gas ejection means for the right side and the gas ejection means for the left side each have a slit-shaped gas ejection hole for ejecting gas toward the lower end of the slit nozzle. Has

청구항 5 기재의 발명은, 청구항 1 기재의 발명에 있어서, 상기 세정 블록이 상기 대기 위치로 이동했을 때, 상기 세정 블록의 상부를 덮는 세정액의 비산 방지 커버를 더 구비한다.Invention of Claim 5 WHEREIN: In invention of Claim 1, when the said washing block moves to the said standby position, it further comprises the scattering prevention cover of the cleaning liquid which covers the upper part of the said washing block.

청구항 6 기재의 발명은, 청구항 1 기재의 발명에 있어서, 상기 하면 세정 부재, 우측면 세정 부재 및 좌측면 세정 부재는 브러시이다.In the invention according to claim 6, in the invention according to claim 1, the lower surface cleaning member, the right surface cleaning member, and the left surface cleaning member are brushes.

청구항 1 기재의 발명에 의하면, 세정 블록이 세정 영역을 이동할 때, 슬릿 노즐을 하면 세정 부재, 우측면 세정 부재 및 좌측면 세정 부재에 의해 충분히 청정하게 세정할 수 있고, 또한, 세정 블록이 대기 위치에 배치되었을 때에, 세정액에 의해 하면 세정 부재, 우측면세정 부재 및 좌측면 세정 부재를 세정할 수 있다. 이때, 우측면 세정 부재와 좌측면 세정 부재가 슬릿 노즐의 길이 방향에 대해 다른 위치에 설치되어 있으므로, 제1 노즐로부터 토출된 세정액과 상기 제 2노즐로부터 토출된 세정액이 충돌하는 것을 방지할 수 있다.According to the invention of claim 1, when the cleaning block moves the cleaning area, the cleaning block can be cleaned sufficiently by the cleaning member, the right side cleaning member, and the left side cleaning member when the slit nozzle is applied, and the cleaning block is in the standby position. When arranged, the lower surface cleaning member, the right side surface cleaning member, and the left side surface cleaning member can be cleaned by the cleaning liquid. At this time, since the right side cleaning member and the left side cleaning member are provided at different positions with respect to the longitudinal direction of the slit nozzle, the cleaning liquid discharged from the first nozzle and the cleaning liquid discharged from the second nozzle can be prevented from colliding.

청구항 2 기재의 발명에 의하면, 제1 노즐 및 제2 노즐로부터 토출된 세정액이 하면 세정 부재에 충분히 도달하지 않는 경우에 있어서도, 하면 세정 부재를 충분히 세정하는 것이 가능해진다.According to the invention of claim 2, even when the cleaning liquid discharged from the first nozzle and the second nozzle does not reach the lower surface cleaning member sufficiently, it becomes possible to sufficiently clean the lower surface cleaning member.

청구항 3 기재의 발명에 의하면, 노즐의 하단부에 부착된 세정액을 기체에 의해 제거하는 것이 가능해진다.According to invention of Claim 3, it becomes possible to remove the washing | cleaning liquid attached to the lower end part of a nozzle with gas.

청구항 4 기재의 발명에 의하면, 노즐의 하단부에 부착된 세정액을 보다 충분히 슬릿 형상의 기체에 의해 제거하는 것이 가능해진다.According to invention of Claim 4, it becomes possible to remove the washing | cleaning liquid adhering to the lower end part of a nozzle with a slit-shaped gas more fully.

청구항 5 기재의 발명에 의하면, 대기 위치에 있어서 세정액에 의해 하면 세정 부재, 우측면 세정 부재 및 좌측면 세정 부재를 세정할 때, 세정액이 외부로 비산하는 것을 유효하게 방지하는 것이 가능해진다.According to the invention of claim 5, when the bottom surface cleaning member, the right side surface cleaning member, and the left side surface cleaning member are cleaned by the cleaning liquid in the standby position, it is possible to effectively prevent the cleaning liquid from scattering to the outside.

청구항 6 기재의 발명에 의하면, 슬릿 노즐을 브러시에 의해 충분히 세정하는 것이 가능해지고, 또한, 그 수명을 길게 하는 것이 가능해진다.According to the invention of claim 6, the slit nozzle can be sufficiently washed with a brush, and the life thereof can be extended.

이하, 본 발명의 실시 형태를 도면에 의거해 설명한다. 도 1은 본 발명에 관한 노즐 세정 장치를 적용한 도포 장치의 사시도이며, 도 2는 그 측면도이다. 또한, 도 1에 있어서는, 프리디스펜스 기구(2) 및 노즐 세정 장치(6) 등의 도시를 생략한다. 또한, 도 2에 있어서는, 캐리지(4) 등의 도시를 생략한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described based on drawing. 1 is a perspective view of a coating device to which a nozzle cleaning device according to the present invention is applied, and FIG. 2 is a side view thereof. In addition, illustration of the predispensing mechanism 2, the nozzle cleaning apparatus 6, etc. is abbreviate | omitted in FIG. In addition, illustration of the carriage 4 etc. is abbreviate | omitted in FIG.

이 도포 장치는, 직사각형 형상을 이루는 액정 패널용 유리 기판(이하 「기판」이라고 한다)(W)에, 예를 들면, 컬러 레지스트로 호칭되는 안료를 포함하는 레지스트를 도포하기 위한 것이다This coating device is for apply | coating the resist containing the pigment called a color resist, for example to the glass substrate for liquid crystal panels (henceforth "substrate") W which forms a rectangular shape.

이 도포 장치는, 기판(W)을 지지하기 위한 스테이지(3)를 구비한다. 이 스테이지(3)는 직방체 형상을 가지는 석제이고, 그 상면은 수평면으로 되어 있고, 기판(W)의 지지면(30)으로 되어 있다. 지지면(30)에는 도시하지 않은 다수의 진공 흡착구가 분포해 형성되어 있고, 도포 장치에 있어서 기판(W)을 흡착 지지하는 구성으로 되어 있다. 또한, 도 1에 있어서 모식적으로 도시한 바와 같이, 지지면(30)에는, 도시하지 않은 구동 수단에 의해 상하로 승강 자유로운 복수의 리프트 핀(39)이 적절한 간격을 두고 설치되어 있다. 이 리프트 핀(39)은, 기판(W)의 반입, 반출 시에, 기판(W)을 그 하측방에서 지지하고, 스테이지(3)의 표면보다 상측방으로 상승시킨다. This coating apparatus is equipped with the stage 3 for supporting the board | substrate W. As shown in FIG. This stage 3 is a stone having a rectangular parallelepiped shape, the upper surface of which is a horizontal plane, and a support surface 30 of the substrate W. As shown in FIG. A large number of vacuum suction ports (not shown) are distributed and formed on the support surface 30, and it is a structure which adsorbs and supports the board | substrate W in an application device. In addition, as shown schematically in FIG. 1, the support surface 30 is provided with a plurality of lift pins 39 freely lifting up and down by driving means (not shown) at appropriate intervals. This lift pin 39 supports the board | substrate W at the lower side at the time of loading and unloading of the board | substrate W, and raises it upwards rather than the surface of the stage 3.

스테이지(3)의 상측방에는, 이 스테이지(3)의 양측 부분으로부터 대략 수평으로 걸쳐진 캐리지(4)가 설치되어 있다. 이 캐리지(4)는 슬릿 노즐(41)을 지지하기 위한 노즐 지지부(40)와, 이 노즐 지지부(40)의 양 단을 지지하는 좌우 한쌍의 승강 기구(43)를 구비한다. 또한, 스테이지(3)의 양 단부에는, 대략 수평 방향으로 평행하게 연장되는 한쌍의 주행 레일(31)이 설치된다. 이들 주행 레일(31)은, 캐리지(4)의 양 단부를 가이드함으로써, 캐리지(4)를, 도 1에 나타낸 X방향으로 왕복 이동시킨다.In the upper side of the stage 3, the carriage 4 extended substantially horizontally from the both side parts of this stage 3 is provided. This carriage 4 is equipped with the nozzle support part 40 for supporting the slit nozzle 41, and a pair of left and right lifting mechanisms 43 which support both ends of this nozzle support part 40. As shown in FIG. In addition, a pair of traveling rails 31 extending substantially parallel in the horizontal direction are provided at both ends of the stage 3. These traveling rails 31 reciprocate the carriage 4 in the X direction shown in FIG. 1 by guiding both ends of the carriage 4.

스테이지(3) 및 캐리지(4)의 양측 부분에는, 스테이지(3)의 양측 가장자리측에 따라, 각각 고정자(스테이터)(50a)와 이동자(50b)를 구비한 한쌍의 AC 코어리스 리니어 모터(이하, 간단히, 「리니어 모터」로 생략한다)(50)가 고정 설치 된다. 또한, 스테이지(3) 및 캐리지(4)의 양측 부분에는, 각각 스케일부와 검출자를 구비한 한쌍의 리니어 인코더(52)가 고정 설치된다. 리니어 인코더(52)는, 캐리지(4)의 위치를 검출한다.On both side portions of the stage 3 and the carriage 4, a pair of AC coreless linear motors having stators (stators) 50a and movers 50b, respectively, along the side edges of the stage 3 (hereinafter, referred to as "sides"). , Simply abbreviated as "linear motor" 50 is fixedly installed. In addition, a pair of linear encoders 52 each having a scale part and a detector are fixed to both side portions of the stage 3 and the carriage 4. The linear encoder 52 detects the position of the carriage 4.

도 2에 도시한 바와 같이, 스테이지(3)에 있어서의 지지면(30)의 측방에는, 프리디스펜스 기구(2)가 설치되어 있다. 이 프리디스펜스 기구(2)는, 저류조(21) 내에 저류된 세정액 중에 그 일부를 침지한 프리디스펜스 롤러(22)와, 닥터 블레이드(23)를 구비한다. 프리디스펜스 롤러(22)와 닥터 블레이드(23)는 Y방향에 대해, 슬릿 노즐(41)과 동등 이상의 길이를 가진다. 또한, 프리디스펜스 롤러(22)는, 도시하지 않은 모터의 구동에 의해 회전한다.As shown in FIG. 2, the pre-dispensing mechanism 2 is provided on the side of the support surface 30 in the stage 3. This predispensing mechanism 2 is equipped with the predispensing roller 22 which immersed one part in the washing | cleaning liquid stored in the storage tank 21, and the doctor blade 23. As shown in FIG. The predispensing roller 22 and the doctor blade 23 have the length equivalent to or more than the slit nozzle 41 with respect to the Y direction. In addition, the predispensing roller 22 rotates by the drive of the motor which is not shown in figure.

이 도포 장치에 있어서는, 처리 동작을 실행하기 전에, 프리디스펜스 롤러(22)의 상측방으로 이동한 슬릿 노즐(41)로부터 소량의 레지스트를 토출함으로써, 후술하는 노즐 세정 공정에 있어서 세정액을 함유한 레지스트를 슬릿 노즐(41)내에서 제거하는 공정을 실행하도록 한다.In this coating device, a resist containing a cleaning liquid in a nozzle cleaning step to be described later is discharged by discharging a small amount of resist from the slit nozzle 41 moved above the predispensing roller 22 before performing the processing operation. Is performed in the slit nozzle 41.

도 2에 도시한 바와 같이, 스테이지(3)에 있어서의 지지면(30)의 측방에는, 본 발명에 관한 노즐 세정 장치(6)가 설치되어 있다. 이 노즐 세정 장치(6)는 세정 블록(61)과 대기 포드(62)를 구비한다. 또한, 이 노즐 세정 장치(6)의 구성에 대해는 후술한다.As shown in FIG. 2, the nozzle cleaning device 6 according to the present invention is provided on the side of the support surface 30 in the stage 3. This nozzle cleaning device 6 includes a cleaning block 61 and an atmospheric pod 62. In addition, the structure of this nozzle cleaning apparatus 6 is mentioned later.

도 3은 슬릿 노즐(41)에 의한 레지스트의 공급 동작을 모식적으로 도시한 설명도이며, 도 4는 슬릿 노즐(41)을 일부 파단해 도시한 정면도이다.FIG. 3 is an explanatory diagram schematically showing a supply operation of the resist by the slit nozzle 41, and FIG. 4 is a front view showing the slit nozzle 41 partially broken.

이 슬릿 노즐(41)은, 그 길이 방향(도 3에 있어서의 지면에 수직인 방향／도 4에 있어서의 좌우 방향)으로 연장된 슬릿 형상의 토출구(44)를 가진다. 이 토출구(44)의 길이 방향의 길이는, 기판(W)에 있어서의 직사각형 형상의 소자 형성 부분 단변의 길이 이상의 길이이다. 레지스트 공급 배관(46)에 의해 공급된 레지스트(45)는, 도 3에 도시한 바와 같이, 이 슬릿 형상의 토출구(44)를 통해 기판(W)의 표면에 공급된다.This slit nozzle 41 has the slit-shaped discharge port 44 extended in the longitudinal direction (direction perpendicular | vertical to the paper surface in FIG. 3 / left-right direction in FIG. 4). The length of the discharge port 44 in the longitudinal direction is equal to or greater than the length of the rectangular side of the element formation portion in the substrate W. As shown in FIG. The resist 45 supplied by the resist supply pipe 46 is supplied to the surface of the substrate W through this slit-shaped discharge port 44 as shown in FIG. 3.

도포 장치에 의해 기판(W)에 레지스트를 도포하는 도포 동작에 대해 설명한다. 레지스트의 도포 동작을 실행하기 전의 상태에 있어서, 슬릿 노즐(41)은, 본 발명에 관한 노즐 세정 장치(6)와 대향하는 위치에 배치되어 있다. 이 때의 슬릿 노즐(41) 등의 상태에 대해는, 후에 상세하게 설명한다.The application | coating operation | movement which apply | coats a resist to the board | substrate W by an application | coating device is demonstrated. In the state before performing the application | coating operation | movement of a resist, the slit nozzle 41 is arrange | positioned in the position which opposes the nozzle cleaning apparatus 6 which concerns on this invention. The state, such as the slit nozzle 41 at this time, is demonstrated in detail later.

이 상태에 있어서, 레지스트의 도포 동작을 개시할 때는, 노즐 세정 장치(6) 상측방에 슬릿 노즐(41)을 대기시킨 상태에서, 슬릿 노즐(41)을 프리디스펜스 기구(2)의 상부까지 이동시켜, 프리디스펜스 동작을 실행시킨다.In this state, when starting the application | coating operation | movement of a resist, the slit nozzle 41 is moved to the upper part of the predispensing mechanism 2 in the state which waited the slit nozzle 41 above the nozzle cleaning apparatus 6. To execute the predispensing operation.

다음에, 슬릿 노즐(41)을 기판(W)의 일단 상측방까지 수평 이동시킨 후, 좌우 한쌍의 승강 기구에 의해, 슬릿 노즐(41)을 기판(W)으로의 도포 위치에 배치한다. 이때, 기판(W) 표면과 슬릿 노즐(41)의 토출구(44)의 간격은, 레지스트의 도포에 적합한 소정의 값으로 되어 있다.Next, after the slit nozzle 41 is horizontally moved up to one end of the substrate W, the slit nozzle 41 is disposed at the application position to the substrate W by a pair of left and right lifting mechanisms. At this time, the space | interval of the surface of the board | substrate W and the discharge port 44 of the slit nozzle 41 becomes a predetermined value suitable for application | coating of a resist.

이 상태에 있어서, 슬릿 노즐(41)에 있어서의 슬릿 형상의 토출구(44)로부터 레지스트를 토출시키는 동시에, 슬릿 노즐(41)을 기판(W)의 표면을 따라 수평 이동시킨다. 이 상태에 있어서는, 도 3에 도시한 바와 같이, 슬릿 노즐(41)에 있어서의 슬릿 형상의 토출구(44)로부터 토출된 레지스트(45)가 기판(W)의 표면에 박막상으로 도포된다.In this state, the resist is discharged from the slit-shaped discharge port 44 in the slit nozzle 41, and the slit nozzle 41 is horizontally moved along the surface of the substrate W. As shown in FIG. In this state, as shown in FIG. 3, the resist 45 discharged from the slit-shaped discharge port 44 in the slit nozzle 41 is apply | coated in the form of a thin film on the surface of the board | substrate W. As shown in FIG.

슬릿 노즐(41)에 있어서의 슬릿 형상의 토출구(44)가 기판(W)의 타단부와 대향하는 위치까지 이동하면, 슬릿 노즐(41)에 있어서의 슬릿 형상의 토출구(44)로부터의 레지스트의 토출을 정지시켜, 슬릿 노즐(41)을 노즐 세정 장치(6)의 상측방까 지 이동시킨다. 그 후, 후술하는 노즐 세정 공정을 실행한다.When the slit-shaped discharge port 44 in the slit nozzle 41 moves to a position facing the other end of the substrate W, the resist from the slit-shaped discharge port 44 in the slit nozzle 41 Discharge is stopped and the slit nozzle 41 is moved to the upper side of the nozzle cleaning apparatus 6. Then, the nozzle cleaning process mentioned later is performed.

다음으로, 본 발명에 관한 노즐 세정 장치(6)의 구성에 대해 설명한다. 도 5는, 본 발명에 관한 노즐 세정 장치(6)를 슬릿 노즐(41)과 함께 도시한 측면도이다.Next, the structure of the nozzle cleaning apparatus 6 which concerns on this invention is demonstrated. 5 is a side view showing the nozzle cleaning device 6 according to the present invention together with the slit nozzle 41.

이 노즐 세정 장치(6)는 상술한 슬릿 노즐(41)과 평행하게 설치된 레일(63)을 따라 이동 가능한 브래킷(64)과, 이 브래킷(64)과 연결된 동기 벨트(65)를 왕복 회전시킴으로써 브래킷(64)을 슬릿 노즐(41)과 평행하게 왕복 이동시키는 모터(66)와, 브래킷(64)의 상측방에 배치된 상술한 세정 블록(61)을 구비한다. 이 세정 블록(61)은, 슬릿 노즐(41)에 있어서의 슬릿 형상의 토출구(44) 부근을 불식하기 위한 것이다. 이 세정 블록(61)은, 모터(66)의 구동에 의해, 도 5에 있어서 실선으로 표시한 위치와 2점 쇄선으로 표시한 위치 사이를 왕복 이동한다.The nozzle cleaning device 6 reciprocally rotates the bracket 64 movable along the rail 63 provided in parallel with the slit nozzle 41 described above, and the synchronous belt 65 connected to the bracket 64. The motor 66 which reciprocates and moves the 64 in parallel with the slit nozzle 41, and the above-mentioned cleaning block 61 arrange | positioned above the bracket 64 are provided. This cleaning block 61 is for removing the vicinity of the slit-shaped discharge port 44 in the slit nozzle 41. This washing block 61 reciprocates between the position shown by the solid line in FIG. 5, and the position shown by the dashed-dotted line in FIG. 5 by the drive of the motor 66. FIG.

여기에서, 도 5에 있어서 실선으로 표시한 위치는, 후술하는 하면 세정 브러시(82), 우측면 세정 브러시(83) 및 좌측면 세정 브러시(81)가 슬릿 노즐(41)로부터 이격된 대기 위치이다. 또한, 도 5에 있어서의 이 대기 위치의 우측 위치는, 하면 세정 브러시(82), 우측면 세정 브러시(83) 및 좌측면 세정 브러시(81)에 의해 슬릿 노즐(41)의 하단부를 세정하는 세정 영역이다. 또한, 대기 위치로 이동한 세정 블록(61)의 상측방에는, 비산 방지 커버(71)가 설치되어 있다.Here, the position shown by the solid line in FIG. 5 is a standby position where the lower surface cleaning brush 82, the right side cleaning brush 83, and the left side cleaning brush 81 which are mentioned later are spaced apart from the slit nozzle 41. As shown in FIG. In addition, the right position of this waiting position in FIG. 5 is the washing | cleaning area which wash | cleans the lower end part of the slit nozzle 41 with the lower surface washing brush 82, the right side cleaning brush 83, and the left side cleaning brush 81. As shown in FIG. to be. Moreover, the scattering prevention cover 71 is provided in the upper side of the washing block 61 which moved to the standby position.

한편, 대기 포드(62)는, 레지스트를 도포하지 않은 상태에 있어서, 슬릿 노즐(41)에 있어서의 슬릿 형상의 토출구(44) 부근의 레지스트가 건조해 변질하는 것을 방지하기 위한 것이다. 이 대기 포드(62)의 내부에는, 예를 들면, 레지스트를 용해하는 용제 등이 저류되어 있다. 이 대기 포드(62)는, 에어 실린더(67)의 구동에 의해, 도 5에 있어서 이점 쇄선으로 표시하는 그 상단의 개구부가 슬릿 노즐(41)에 있어서의 슬릿 형상의 토출구(44)와 대향하는 상승 위치와, 실선으로 표시하는 하강 위치 사이를 승강 가능한 구성으로 되어 있다. 이 때문에, 슬릿 노즐(41)을 노즐 세정 장치(6)의 상측방에 대기시킨 상태에서 대기 포드(62)가 상승 위치를 취하면, 슬릿 노즐(41)의 토출구(44)는 대기 포드(62)에 의해서 닫혀진 공간에 노출하게 된다. 이때, 상기 공간은 용제의 증기가 포함되는 분위기로 충족되므로, 토출구(44) 부근의 레지스트가 건조하는 것이 방지된다.On the other hand, the atmospheric pod 62 is for preventing the resist near the slit-shaped discharge port 44 in the slit nozzle 41 from drying out and deteriorating in the state which does not apply resist. In the atmosphere pod 62, for example, a solvent for dissolving a resist is stored. This airy pod 62 is driven by the air cylinder 67 so that the opening of the upper end shown by the dashed-dotted line in FIG. 5 opposes the slit-shaped discharge port 44 in the slit nozzle 41. It is a structure which can raise and lower between a raise position and the falling position shown by a solid line. For this reason, when the atmospheric pod 62 takes a raise position in the state which made the slit nozzle 41 stand above the nozzle cleaning apparatus 6, the discharge port 44 of the slit nozzle 41 will be the atmospheric pod 62. Will be exposed to the closed space. At this time, since the space is satisfied with the atmosphere containing the vapor of the solvent, the resist near the discharge port 44 is prevented from drying.

다음으로, 상술한 세정 블록(61)의 구성에 대해 설명한다. 도 6은, 세정 블록(61)의 평면도이다. 또한, 도 7은, 이 세정 블록(61)을 분해하여 도시한 사시도이다. 또한, 도 8은, 이 세정 블록(61)에 의해 슬릿 노즐(41)을 세정하는 상태를 도시한 개요도이다. 또한, 도 7에 있어서는, 칸막이판(74)의 도시를 생략하고 있다.Next, the structure of the cleaning block 61 mentioned above is demonstrated. 6 is a plan view of the cleaning block 61. 7 is a perspective view showing the cleaning block 61 in a disassembled manner. 8 is a schematic diagram which shows the state which wash | cleans the slit nozzle 41 with this cleaning block 61. As shown in FIG. In addition, illustration of the partition plate 74 is abbreviate | omitted in FIG.

이 세정 블록(61)은, 한쌍의 비산 방지판(73)과, 불활성 가스 분출용 슬릿(77, 78)을 구비한 4개의 불활성 가스 분출용 블록(75)과, 칸막이 판(74)과, 지지 부재(79)(도 8참조)에 지지된 하면 세정 브러시(82), 우측면 세정 브러시(83) 및 좌측면 세정 브러시(81)와, 제1 노즐(87), 제2 노즐(84) 및 제3 노즐(85, 86)을 지지하는 한쌍의 노즐용 블록(76)을 구비한다. 이 세정 블록(61)은, 지지 암(72)에 의해 지지되어 있고, 이 세정 블록(61)의 하측방에는 세정액 등을 회수하는 드레인(96)이 설치되어 있다. 또한, 상술한 지지 부재(79)는, 자동 코어 조절용 용 수철부(80)를 통해 지지 암(72)에 고정되어 있다.The cleaning block 61 includes four inert gas ejection blocks 75 having a pair of scattering preventing plates 73, inert gas ejection slits 77 and 78, a partition plate 74, The lower surface cleaning brush 82, the right side cleaning brush 83, and the left side cleaning brush 81 supported by the support member 79 (see FIG. 8), the first nozzle 87, the second nozzle 84, and A pair of nozzle block 76 for supporting the third nozzles 85 and 86 is provided. This cleaning block 61 is supported by the support arm 72, and the drain 96 which collect | recovers a cleaning liquid etc. is provided in the lower side of this cleaning block 61. As shown in FIG. In addition, the above-mentioned support member 79 is being fixed to the support arm 72 via the spring part 80 for automatic core adjustment.

도 8에 도시한 바와 같이, 하면 세정 브러시(82)는, 세정 블록(61)이 세정 영역에 배치되었을 때, 슬릿 노즐(41)의 하단부 하면, 즉, 도 3에 도시한 토출구(44)가 형성된 영역에 접촉 가능하게 되어 있다. 또한, 우측면 세정 브러시(83)는 세정 블록(61)이 세정 영역에 배치되었을 때, 슬릿 노즐(41)의 길이 방향(세정 블록(61)의 진행 방향)을 향해 하단부 우측면에 접촉 가능하게 되어 있다. 또한, 좌측면 세정 브러시(81)는 세정 블록(61)이 세정 영역에 배치되었을 때, 슬릿 노즐(41)의 길이 방향을 향해 하단부 좌측면에 접촉 가능하게 되어 있다.As shown in FIG. 8, when the cleaning block 61 is disposed in the cleaning area, the lower surface cleaning brush 82 has the lower surface of the lower surface of the slit nozzle 41, that is, the discharge port 44 shown in FIG. 3. It is possible to contact the formed area. In addition, the right side cleaning brush 83 is able to contact the lower right side face toward the longitudinal direction of the slit nozzle 41 (the traveling direction of the cleaning block 61) when the cleaning block 61 is disposed in the cleaning region. . In addition, the left side cleaning brush 81 is able to contact the lower left side surface in the longitudinal direction of the slit nozzle 41 when the cleaning block 61 is disposed in the cleaning region.

도 9 및 도 10은, 하면 세정 브러시(82)의 사시도이다.9 and 10 are perspective views of the lower surface cleaning brush 82.

하면 세정 브러시(82)로는, 도 9에 도시한 직선상 브러시를 사용해도 되고, 또한, 도 10에 도시한 매립식 브러시를 사용해도 된다. 일반적으로, 슬릿 노즐(41)에 부착된 레지스트를 취하기 어려운 경우에는, 도 9에 도시한 직선상 브러시를 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 내구성을 중시하는 경우에는, 도 10에 도시한 매립식 브러시를 사용하는 것이 바람직하다. 브러시부의 재질로는, 내용제성이 있는 불소 수지계의 소재를 이용하는 것이 바람직하다. 이러한 브러시부를 구비한 브러시를 사용함으로써, 특허 문헌 2에 기재된 것과 같은 다공질 재료로 이루어진 불식 부재를 이용하는 경우에 비해, 그 내구성을 향상시키는 것이 가능해진다. 또한, 우측면 세정 브러시(83) 및 좌측면 세정 브러시(81)도 이 하면 세정 브러시(82)와 동일한 구성을 가진다.As the lower surface cleaning brush 82, the linear brush shown in FIG. 9 may be used, and the embedded brush shown in FIG. 10 may be used. Generally, when it is difficult to take the resist attached to the slit nozzle 41, it is preferable to use the linear brush shown in FIG. In addition, when durability is considered important, it is preferable to use the buried brush shown in FIG. As a material of a brush part, it is preferable to use the fluororesin-type material with solvent resistance. By using the brush provided with such a brush part, it becomes possible to improve the durability compared with the case of using the non-cleaning member which consists of porous materials like patent document 2 described. The right side cleaning brush 83 and the left side cleaning brush 81 also have the same configuration as the lower surface cleaning brush 82.

제1 노즐(87)은, 세정 블록(61)이 세정 영역에 배치되었을 때, 슬릿 노 즐(41)을 사이에 끼고 우측면 세정 브러시(83)와 대향하는 위치에 설치되어 있다. 또한, 제2 노즐(84)은 세정 블록(61)이 세정 영역에 배치되었을 때, 슬릿 노즐(41)을 사이에 끼고 좌측면 세정 브러시(81)와 대향하는 위치에 설치되어 있다. 또한, 제3 노즐(85, 86)은 하면 세정 브러시(82)와 대향하는 위치에 배치되어 있다.When the cleaning block 61 is disposed in the cleaning area, the first nozzle 87 is provided at a position facing the right side cleaning brush 83 with the slit nozzle 41 interposed therebetween. Moreover, when the cleaning block 61 is arrange | positioned in a washing | cleaning area, the 2nd nozzle 84 is provided in the position which opposes the left side cleaning brush 81 through the slit nozzle 41. FIG. In addition, the third nozzles 85 and 86 are disposed at positions facing the lower surface cleaning brush 82.

도 11은, 제1 노즐(87), 제2 노즐(84) 및 제3 노즐(85, 86)에 의한 세정액의 토출 상태를 나타낸 정면도이며, 도 12는 그 평면도이다.FIG. 11: is a front view which shows the discharge state of the cleaning liquid by the 1st nozzle 87, the 2nd nozzle 84, and the 3rd nozzles 85 and 86, and FIG. 12 is the top view.

제1 노즐(87)은, 우측 세정 브러시(83)와, 하면 세정 브러시(82)를 향해 세정액을 토출한다. 제2 노즐(84)은 좌측 세정 브러시(81)와, 하면 세정 브러시(82)를 향해 세정액을 토출한다. 제3 노즐(85, 86)은, 하면 세정 브러시(82)를 향해 세정액을 토출한다. 도 12에 도시한 바와 같이, 이들 제1, 제2, 제3 세정 노즐(87, 84, 85, 86)은, 엇갈리게 위치하는 지그재그 형상으로 배치되어 있다. 이 때문에, 이들 제 1, 제2, 제3 세정 노즐(87, 84, 85, 86)로부터 토출된 세정액이 서로 충돌하여 주위에 비산되는 것을 유효하게 방지할 수 있다.The first nozzle 87 discharges the cleaning liquid toward the right cleaning brush 83 and the lower surface cleaning brush 82. The second nozzle 84 discharges the cleaning liquid toward the left cleaning brush 81 and the lower surface cleaning brush 82. The third nozzles 85 and 86 discharge the cleaning liquid toward the lower surface cleaning brush 82. As shown in FIG. 12, these 1st, 2nd, 3rd washing | cleaning nozzles 87, 84, 85, 86 are arrange | positioned in staggered staggered shape. For this reason, it can prevent effectively that the cleaning liquid discharged from these 1st, 2nd, 3rd cleaning nozzles 87, 84, 85, 86 collide with each other, and is scattered around.

또한, 도 8에 도시한 바와 같이, 세정 블록(61)이 세정 영역에 배치되었을 때, 하면 세정 브러시(82)는 슬릿 노즐(41)의 하단부 하면과, 우측면 세정 브러시(83)는 슬릿 노즐(41)의 길이 방향을 향해 하단부 우측면과, 좌측면 세정 브러시(81)는 슬릿 노즐(41)의 길이 방향을 향해 하단부 좌측면과, 각각, 접촉 가능한 위치에 배치되어 있다. 이 때문에, 제1, 제2, 제3 세정 노즐(87, 84, 85, 86)로부터 토출한 세정액은, 슬릿 노즐(41)의 하단부에도 공급되게 된다.In addition, as shown in FIG. 8, when the cleaning block 61 is disposed in the cleaning area, the lower surface cleaning brush 82 is the lower surface of the lower end of the slit nozzle 41, and the right surface cleaning brush 83 is the slit nozzle ( The lower right side surface and the left side cleaning brush 81 are arranged in the position which can contact a lower left side surface toward the longitudinal direction of the slit nozzle 41 toward the longitudinal direction of 41, respectively. For this reason, the washing | cleaning liquid discharged from the 1st, 2nd, 3rd washing nozzles 87, 84, 85, 86 is supplied also to the lower end part of the slit nozzle 41. FIG.

또한, 도 6에 도시한 바와 같이, 제1, 제2, 제3 세정 노즐(87, 84, 85, 86) 은, 세정액 공급부(100)와 접속되어 있다. 이 세정액 공급부(100)는 노즐 세정 장치의 제어부로부터의 지령을 받아, 제1, 제2, 제3 세정 노즐(87, 84, 85, 86)에의 세정액의 공급 동작을 제어한다. 또한, 통상은, 이 세정액 제어부(100)로부터 제1, 제2, 제3 세정 노즐(87, 84, 85, 86)에 세정액을 공급하는데, 슬릿 노즐(41)의 오염도가 높은 경우 등에 있어서는, 세정액과 불활성 가스가 혼합된 혼합 유체를 공급하도록 해도 된다.6, the 1st, 2nd, 3rd washing nozzles 87, 84, 85, 86 are connected with the washing | cleaning liquid supply part 100. Moreover, as shown in FIG. This cleaning liquid supply part 100 receives the instruction | command from the control part of a nozzle cleaning apparatus, and controls the operation | movement operation of the cleaning liquid to the 1st, 2nd, 3rd cleaning nozzles 87, 84, 85, and 86. As shown in FIG. In addition, although the cleaning liquid is supplied from the cleaning liquid control part 100 to the 1st, 2nd, 3rd cleaning nozzles 87, 84, 85, 86 normally, when the contamination degree of the slit nozzle 41 is high, etc., You may supply the mixed fluid which mixed the washing | cleaning liquid and the inert gas.

불활성 가스 분출용 블록(75)에 형성된 불활성 가스 분출용 슬릿(77, 78)은, 제1, 제2, 제3 세정 노즐(87, 84, 85, 86)로부터 공급되어 슬릿 노즐(41)의 하단부에 잔존하는 처리액을, 질소 가스에 의해 날려 버리기 위한 것이다. 세정 블록(61)이 도 6에 도시한 Y＋ 방향으로 이동할 때는, 불활성 가스 분출용 슬릿(77, 78) 중 우측면용 브러시(83)와 좌측면용 브러시(81)의 이동 방향의 뒤측에 위치하는 불활성 가스 분출용 슬릿(77, 78)(도 6에 있어서의 Y-측의 불활성 가스 분출용 슬릿(77, 78))만이 사용되고, 세정 블록(61)이 도 6에 도시한 Y-방향으로 이동할 때는, 불활성 가스 분출용 슬릿(77, 78) 중 우측면용 브러시(83)와 좌측면용 브러시(81)의 이동 방향의 뒤측에 위치하는 불활성 가스 분출용 슬릿(77, 78)(도 6에 있어서의 Y＋측의 불활성 가스 분출용 슬릿(77, 78))만이 사용된다.The inert gas ejection slits 77 and 78 formed in the inert gas ejection block 75 are supplied from the first, second, and third cleaning nozzles 87, 84, 85, and 86 to form the slit nozzle 41. It is for blowing off the process liquid which remain | survives at the lower end by nitrogen gas. When the cleaning block 61 moves in the Y + direction shown in FIG. 6, the inert gas is positioned behind the moving direction of the right side brush 83 and the left side brush 81 among the inert gas blowing slits 77 and 78. When only the gas ejection slits 77 and 78 (inert gas ejection slits 77 and 78 on the Y-side in FIG. 6) are used and the cleaning block 61 moves in the Y-direction shown in FIG. 6. Among the inert gas ejection slits 77 and 78, the inert gas ejection slits 77 and 78 located at the rear side of the moving direction of the right side brush 83 and the left side brush 81 (Y + in FIG. 6). Only the inert gas ejection slits 77 and 78 on the side are used.

또한, 상술한 실시 형태에 있어서는, 불활성 가스 분출용 블록(75)에 형성된 불활성 가스 분출용 슬릿(77, 78)은, 그 길이 방향이 세정 블록(61)의 이동 방향과 직교하는 방향을 향하는 형상으로 되어 있다. 그러나, 도 13 및 도 14에 도시한 바와 같이, 슬릿 노즐(41)의 단 가장자리의 경사각(θ)과, 측면에서 봐서 동일한 경사각을 가지는 불활성 가스 분출용 슬릿(91, 92)을 이용해도 된다. 이 경우에 있어서는, 슬릿 노즐(41)의 단 가장자리 부근에 있어서의 탈액 작용을 향상시킬 수 있다.In addition, in the above-described embodiment, the inert gas ejection slits 77 and 78 formed in the inert gas ejection block 75 have a shape in which the longitudinal direction thereof is directed in a direction orthogonal to the moving direction of the cleaning block 61. It is. However, as shown in FIG. 13 and FIG. 14, the inert gas ejection slits 91 and 92 which have the same inclination angle (theta) of the short edge of the slit nozzle 41 and the same inclination angle from the side may be used. In this case, the dehydration effect in the vicinity of the short edge of the slit nozzle 41 can be improved.

또한, 도 15에 도시한 바와 같이, 상술한 불활성 가스 분출용 슬릿(77, 78, 91, 92)에 추가해, 슬릿 노즐(41)의 선단부 이외의 하면을 향해 불활성 가스를 분출하는 불활성 가스 분출용 노즐(93)을 부설해도 된다.In addition, as shown in FIG. 15, in addition to the inert gas ejection slits 77, 78, 91, and 92 described above, an inert gas ejection for ejecting an inert gas toward a lower surface other than the front end of the slit nozzle 41. The nozzle 93 may be provided.

다음으로, 상술한 구성을 가지는 노즐 세정 장치에 의한 슬릿 노즐(41)의 세정 동작에 대해 설명한다.Next, the cleaning operation of the slit nozzle 41 by the nozzle cleaning device having the above-described configuration will be described.

슬릿 노즐(41)의 세정 작업을 개시할 때에, 세정 블록(61)은 도 5에 있어서 실선으로 표시한 대기 위치에 배치되어 있다. 또한, 이때, 슬릿 노즐(41)은, 도 1에 도시한 승강 기구(43)의 작용에 의해, 그 하단부와 하면 세정 브러시(82), 우측면 세정 브러시(83) 및 좌측면 세정 브러시(81)가 이격되는 위치에 배치되어 있다.At the start of the cleaning operation of the slit nozzle 41, the cleaning block 61 is disposed at the standby position indicated by the solid line in FIG. 5. In addition, at this time, the slit nozzle 41 has the lower end part and the lower surface cleaning brush 82, the right side cleaning brush 83, and the left side cleaning brush 81 by the action of the lifting mechanism 43 shown in FIG. Is positioned at a spaced apart position.

이 상태에 있어서, 세정액 공급부(100)의 제어에 의해 제1, 제2, 제3 세정 노즐(87, 84, 85, 86)로부터 세정액을 토출시킨다. 그 후, 승강 기구(43)의 작용에 의해 슬릿 노즐(41)을 하강시켜, 슬릿 노즐(41)의 하단부와 하면 세정 브러시(82), 우측면 세정 브러시(83) 및 좌측면 세정 브러시(81)를 접촉시킨다. 그리고, 이 상태에 있어서, 세정 블록(61)을 도 5에 도시한 우측 방향(예를 들면, 도 6에 있어서의 Y＋ 방향)으로 이동시킨다. 이 상태에 있어서, 슬릿 노즐(41)의 하단부는, 제1, 제2, 제3 세정 노즐(87, 84, 85, 86)로부터 토출한 세정액과 하면 세정 브러시(82), 우측면 세정 브러시(83) 및 좌측면 세정 브러시(81)의 작용에 의 해, 충분히 세정된다.In this state, the cleaning liquid is discharged from the first, second, and third cleaning nozzles 87, 84, 85, and 86 under the control of the cleaning liquid supply unit 100. Thereafter, the slit nozzle 41 is lowered by the action of the lifting mechanism 43 to lower the lower end portion of the slit nozzle 41, the lower surface cleaning brush 82, the right side cleaning brush 83, and the left side cleaning brush 81. Touch And in this state, the cleaning block 61 is moved to the right direction (for example, the Y + direction in FIG. 6) shown in FIG. In this state, the lower end of the slit nozzle 41 has a cleaning liquid discharged from the first, second, and third cleaning nozzles 87, 84, 85, 86, a lower surface cleaning brush 82, and a right side cleaning brush 83. ) And the left side cleaning brush 81 are sufficiently cleaned.

세정 블록(61)이 세정 영역의 단부까지 이동하면, 세정 블록(61)의 이동을 정지시킨다. 그리고, 승강 기구(43)의 작용에 의해 슬릿 노즐(41)을 상승시키고, 슬릿 노즐(41)의 하단부와 하면 세정 브러시(82), 우측면 세정 브러시(83) 및 좌측면 세정 브러시(81)를 이격한다. 그 후, 세정 블록(61)을 상기와는 역방향(도 6에 있어서의 Y-방향)으로 이동시킨다. 이에 따라, 슬릿 노즐(41)의 하단부는, 제1, 제2, 제3 세정 노즐(87, 84, 85, 86)로부터 토출된 세정액에 의해, 그 마무리 세정이 실행된다.When the cleaning block 61 moves to the end of the cleaning region, the movement of the cleaning block 61 is stopped. And the slit nozzle 41 is raised by the action of the lifting mechanism 43, and the lower end part of the slit nozzle 41, the lower surface cleaning brush 82, the right side cleaning brush 83, and the left side cleaning brush 81 are Spaced apart. Thereafter, the cleaning block 61 is moved in the reverse direction to the above (Y-direction in FIG. 6). Thereby, the final cleaning of the slit nozzle 41 is performed by the cleaning liquid discharged from the first, second, and third cleaning nozzles 87, 84, 85, 86.

이때, 불활성 가스 분출용 슬릿(77, 78) 중, 우측면용 브러시(83)와 좌측면용 브러시(81)의 이동 방향의 뒤측에 위치하는 불활성 가스 분출용 슬릿(77, 78)으로부터 불활성 가스를 분출한다. 이에 따라, 슬릿 노즐(41)에 잔존하는 세정액이 날려져 슬릿 노즐(41)로부터 제거된다.At this time, inert gas is blown out from the inert gas ejection slits 77 and 78 located in the back side of the moving direction of the right side brush 83 and the left side brush 81 among the inert gas ejection slits 77 and 78. do. As a result, the cleaning liquid remaining in the slit nozzle 41 is blown off and removed from the slit nozzle 41.

세정 블록(61)이 도 5에 있어서 실선으로 표시한 대기 위치로 복귀하면, 제1, 제2, 제3 세정 노즐(87, 84, 85, 86)로부터의 세정액의 토출과, 불활성 가스 분출용 슬릿(77, 78)으로부터의 불활성 가스의 분출을 정지한다.When the cleaning block 61 returns to the standby position indicated by the solid line in FIG. 5, the cleaning liquid is discharged from the first, second, and third cleaning nozzles 87, 84, 85, and 86, and the inert gas is ejected. The ejection of the inert gas from the slits 77 and 78 is stopped.

이상에 의해 슬릿 노즐(41)의 세정 동작이 완료하면, 다음에, 하면 세정 브러시(82), 우측면 세정 브러시(83) 및 좌측면 세정 브러시(81)의 세정을 실행한다.After the cleaning operation of the slit nozzle 41 is completed by the above, the lower surface cleaning brush 82, the right side cleaning brush 83, and the left side cleaning brush 81 are cleaned.

세정 블록(61)이 도 5에 있어서 실선으로 표시한 대기 위치에 복귀한 상태에 있어서는, 도 5 및 도 16에 도시한 바와 같이, 세정 블록(61)의 상측방에는 비산 방지 커버(71)가 배치되어 있다. 이 상태에 있어서, 다시 제1, 제2, 제3 세정 노 즐(87, 84, 85, 86)로부터의 세정액을 토출한다. 이에 따라 도 11 및 도 12에 도시한 바와 같이, 하면 세정 브러시(82), 우측면 세정 브러시(83) 및 좌측면 세정 브러시(81)는 제1, 제2, 제3 세정 노즐(87, 84, 85, 86)로부터 토출된 세정액에 의해 세정된다.In the state where the cleaning block 61 has returned to the standby position indicated by the solid line in FIG. 5, as shown in FIGS. 5 and 16, the scattering prevention cover 71 is provided above the cleaning block 61. It is arranged. In this state, the cleaning liquid from the first, second and third cleaning nozzles 87, 84, 85 and 86 is discharged again. Accordingly, as shown in FIGS. 11 and 12, the lower surface cleaning brush 82, the right side cleaning brush 83, and the left side cleaning brush 81 are formed of the first, second, and third cleaning nozzles 87, 84,. It wash | cleans with the washing | cleaning liquid discharged from 85,86.

또한, 상술한 실시예에 있어서는, 세정 블록(61)이 대기 위치로부터 이동할 때, 제1, 제2, 제3 세정 노즐(87, 84, 85, 86)로부터 토출한 세정액과 하면 세정 브러시(82), 우측면 세정 브러시(83) 및 좌측면 세정 브러시(81)를 사용해 세정을 행하고, 세정 블록(61)이 대기 위치로 돌아올 때, 제1, 제2, 제3 세정 노즐(87, 84, 85, 86)로부터 토출한 세정액만을 사용한 세정을 행한다. 그러나, 슬릿 노즐(41)을 보다 확실히 세정하기 위해서는, 세정 블록(61)을 복수회 왕복 이동시키면서, 제1, 제2, 제3 세정 노즐(87, 84, 85, 86)로부터 토출한 세정액과 하면 세정 브러시(82), 우측면 세정 브러시(83) 및 좌측면 세정 브러시(81)를 사용해 세정을 행한 후, 제1, 제2, 제3 세정 노즐(87, 84, 85, 86)로부터 토출한 세정액만을 사용해 마무리 세정을 실행하도록 해도 된다.In addition, in the above-described embodiment, when the cleaning block 61 moves from the standby position, the cleaning liquid discharged from the first, second, and third cleaning nozzles 87, 84, 85, 86 and the lower surface cleaning brush 82 ), The right side cleaning brush 83 and the left side cleaning brush 81, and when the cleaning block 61 returns to the standby position, the first, second, and third cleaning nozzles 87, 84, 85 , And cleaning using only the cleaning liquid discharged from 86). However, in order to more reliably clean the slit nozzle 41, the cleaning liquid discharged from the first, second, and third cleaning nozzles 87, 84, 85, 86 while reciprocating the cleaning block 61 a plurality of times; After cleaning by using the lower surface cleaning brush 82, the right side cleaning brush 83, and the left side cleaning brush 81, discharged from the first, second and third cleaning nozzles 87, 84, 85 and 86. The final cleaning may be performed using only the cleaning liquid.

도 1은 본 발명에 관한 노즐 세정 장치를 적용한 도포 장치의 사시도이다.1 is a perspective view of a coating device to which a nozzle cleaning device according to the present invention is applied.

도 2는 본 발명에 관한 노즐 세정 장치를 적용한 도포 장치의 측면도이다.2 is a side view of the coating device to which the nozzle cleaning device according to the present invention is applied.

도 3은 슬릿 노즐(41)에 의한 레지스트의 공급 동작을 모식적으로 나타낸 설명도이다.3 is an explanatory diagram schematically showing a supply operation of a resist by the slit nozzle 41.

도 4는 슬릿 노즐(41)을 일부 파단해 도시한 정면도이다.4 is a front view showing a part of the slit nozzle 41 broken.

도 5는 본 발명에 관한 노즐 세정 장치(6)를 슬릿 노즐(41)과 함께 도시한 측면도이다.5 is a side view showing the nozzle cleaning device 6 according to the present invention together with the slit nozzle 41.

도 6은 세정 블록(61)의 평면도이다.6 is a plan view of the cleaning block 61.

도 7은 세정 블록(61)을 분해하여 도시한 사시도이다.7 is an exploded perspective view of the cleaning block 61.

도 8은 세정 블록(61)에 의해 슬릿 노즐(41)을 세정하는 상태를 도시한 개요도이다.8 is a schematic diagram showing a state in which the slit nozzle 41 is cleaned by the cleaning block 61.

도 9는 하면 세정 브러시(82)의 사시도이다.9 is a perspective view of the lower surface cleaning brush 82.

도 10은 하면 세정 브러시(82)의 사시도이다.10 is a perspective view of the lower surface cleaning brush 82.

도 11은 제1 노즐(87), 제2 노즐(84) 및 제3 노즐(85, 86)에 의한 세정액의 토출 상태를 도시한 정면도이다.FIG. 11 is a front view showing a discharge state of the cleaning liquid by the first nozzle 87, the second nozzle 84, and the third nozzles 85 and 86.

도 12는 제1 노즐(87), 제2 노즐(84) 및 제3 노즐(85, 86)에 의한 세정액의 토출 상태를 도시한 평면도이다.FIG. 12 is a plan view showing a discharge state of the cleaning liquid by the first nozzle 87, the second nozzle 84, and the third nozzles 85 and 86.

도 13은 다른 실시 형태에 관한 불활성 가스 분출 블록의 사시도이다.13 is a perspective view of an inert gas blowing block according to another embodiment.

도 14는 슬릿 노즐(41)의 단 가장자리의 경사각(θ)과 불활성 가스 분출용 슬릿(91, 92)의 관계를 나타낸 설명도이다.14 is an explanatory diagram showing the relationship between the inclination angle θ of the short edge of the slit nozzle 41 and the slits 91 and 92 for inert gas blowing.

도 15는 불활성 가스 분출용 노즐(93)을 슬릿 노즐(41)과 함께 도시한 측면도이다.15 is a side view showing the inert gas ejection nozzle 93 together with the slit nozzle 41.

도 16은 세정 블록(61)의 상측방에 배치된 비산 방지 커버(71)를 도시한 설명도이다.FIG. 16: is explanatory drawing which shows the scattering prevention cover 71 arrange | positioned above the cleaning block 61. FIG.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

6 : 노즐 세정 장치 41 : 슬릿 노즐6: nozzle cleaning device 41: slit nozzle

44 : 토출구 61 : 세정 블록44 discharge port 61 cleaning block

62 : 대기 포드 71 : 비산 방지 커버62: Standby Pod 71: Shatterproof Cover

73 : 비산 방지판 74 : 칸막이 판73: shatterproof plate 74: partition plate

79 : 지지 부재 80 : 자동 코어 조절용 용수철부79: support member 80: spring portion for automatic core adjustment

81 : 좌측면 세정 브러시 82 : 하면 세정 브러시81: left side cleaning brush 82: bottom side cleaning brush

83 : 우측면 세정 브러시 84 : 제2 노즐83: right side cleaning brush 84: second nozzle

85 : 제3 노즐 86 : 제3 노즐85: third nozzle 86: third nozzle

87 : 제1 노즐 96 : 드레인87: first nozzle 96: drain

100 : 세정액 공급부 W : 기판100: cleaning liquid supply portion W: substrate

Claims (6)

길이가 긴 슬릿 노즐의 하단부에 형성된 슬릿 형상의 토출구로부터 처리액을 토출하는 처리액 공급 노즐을 세정하기 위한 노즐 세정 장치로서,A nozzle cleaning apparatus for cleaning a processing liquid supply nozzle for discharging a processing liquid from a slit-shaped discharge port formed at a lower end of a long slit nozzle, 상기 슬릿 노즐의 하단부 하면에 접촉 가능한 하면 세정 부재와, 상기 슬릿 노즐의 길이 방향을 향해 하단부 우측면에 접촉 가능한 우측면 세정 부재와, 상기 슬릿 노즐의 길이 방향에 대해 상기 우측면 세정 부재와는 다른 위치에 설치되고, 상기 슬릿 노즐의 길이 방향을 향해 하단부 좌측면에 접촉 가능한 좌측면 세정 부재를 갖는 세정 블록과,A lower surface cleaning member capable of contacting the lower surface of the lower end of the slit nozzle, a right side cleaning member capable of contacting the lower right side of the slit nozzle in the longitudinal direction of the slit nozzle, and a position different from the right side cleaning member in the longitudinal direction of the slit nozzle; And a cleaning block having a left surface cleaning member which is in contact with a lower left end surface in the longitudinal direction of the slit nozzle, 상기 세정 블록을, 상기 하면 세정 부재, 상기 우측면 세정 부재 및 상기 좌측면 세정 부재에 의해 슬릿 노즐의 하단부를 세정하면서 이동하는 세정 영역과, 상기 하면 세정 부재, 우측면 세정 부재 및 좌측면 세정 부재가 슬릿 노즐로부터 이격된 대기 위치 사이에서 왕복 이동시키는 이동 기구와,The cleaning area for moving the cleaning block while cleaning the lower end of the slit nozzle by the lower surface cleaning member, the right side surface cleaning member and the left side surface cleaning member, and the lower surface cleaning member, the right side surface cleaning member and the left side surface cleaning member are slit. A moving mechanism for reciprocating between the standby positions spaced from the nozzle, 상기 세정 블록이 상기 세정 영역에 배치되었을 때에 상기 세정 블록에 있어서의 상기 슬릿 노즐을 사이에 끼고 상기 우측면 세정 부재와 대향하는 위치에 설치되고, 상기 우측면 세정 부재를 향해 세정액을 토출 가능한 제1 노즐과,A first nozzle provided at a position facing the right side cleaning member with the slit nozzle in the cleaning block interposed between the cleaning block and the cleaning block when the cleaning block is disposed in the cleaning region; , 상기 세정 블록이 상기 세정 영역에 배치되었을 때에 상기 세정 블록에 있어서의 상기 슬릿 노즐을 사이에 끼고 상기 좌측면 세정 부재와 대향하는 위치에 설치되고, 상기 좌측면 세정 부재를 향해 세정액을 토출 가능한 제2 노즐과,When the cleaning block is disposed in the cleaning area, the second cleaning device is provided at a position facing the left surface cleaning member with the slit nozzle in the cleaning block interposed therebetween, and capable of discharging the cleaning liquid toward the left surface cleaning member. Nozzles, 상기 제1 노즐 및 상기 제2 노즐에 세정액을 공급함으로써, 세정 블록이 상기 세정 영역을 이동하고 있을 때에는, 상기 세정액을 상기 슬릿 노즐에 대하여 공급하고, 세정 블록이 상기 대기 위치에 배치된 때에는, 상기 세정액을 상기 우측면 세정 부재 및 상기 좌측면 세정 부재에 대하여 공급하는 세정액 공급부를 구비한 것을 특징으로 하는 노즐 세정 장치.When the first nozzle and, by supplying a cleaning liquid to the second nozzle, when the cleaning block moves to the cleaning area, and fed with the washing liquid to the slit nozzle, the cleaning blocks disposed in the standby position is And a cleaning liquid supply section for supplying the cleaning liquid to the right side cleaning member and the left side cleaning member . 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 하면 세정 부재를 향해 세정액을 토출 가능한 제3 노즐을 더 가지고,Further having a third nozzle capable of discharging the cleaning liquid toward the lower surface cleaning member, 상기 세정액 공급부는, 세정 블록이 상기 세정 영역을 이동할 때와, 세정 블록이 상기 대기 위치에 배치되었을 때에, 상기 제3 노즐에 세정액을 공급하는 노즐 세정 장치.And the cleaning liquid supply unit supplies the cleaning liquid to the third nozzle when the cleaning block moves the cleaning region and when the cleaning block is disposed in the standby position. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 세정 블록에 있어서의 상기 우측면 세정 부재의 이동 방향의 뒤측에 배치되고, 상기 우측면 세정 부재에 의해 세정된 상기 슬릿 노즐의 하단부 우측면에 기체를 분출하는 우측면용 기체 분출 수단과,A gas blowing means for the right side which is disposed on the back side of the moving direction of the right side cleaning member in the cleaning block, and blows gas to the right side of the lower end of the slit nozzle cleaned by the right side cleaning member; 상기 세정 블록에 있어서의 상기 좌측면 세정 부재의 이동 방향의 뒤측에 배치되고, 상기 좌측면 세정 부재에 의해 세정된 상기 슬릿 노즐의 하단부 좌측면에 기체를 분출하는 좌측면용 기체 분출 수단을 더 구비하는 노즐 세정 장치.It is further provided with the left side gas blowing means arrange | positioned at the back side of the movement direction of the said left surface washing | cleaning member in the said cleaning block, and injecting gas to the left side surface of the lower end part of the said slit nozzle wash | cleaned by the said left surface cleaning member. Nozzle cleaning device. 청구항 3에 있어서,The method according to claim 3, 상기 우측면용 기체 분출 수단과 상기 좌측면용 기체 분출 수단은, 각각, 상기 슬릿 노즐의 하단부를 향해 기체를 분출하는 슬릿 형상의 기체 분출공을 가지는 노즐 세정 장치.And said right side gas blowing means and said left side gas blowing means each have a slit-shaped gas blowing hole for blowing gas toward a lower end of said slit nozzle. 청구항 1에 있어서, The method according to claim 1, 상기 세정 블록이 상기 대기 위치로 이동했을 때, 상기 세정 블록의 상부를 덮는 세정액의 비산 방지 커버를 더 구비한 노즐 세정 장치.And a scattering prevention cover of the cleaning liquid covering the upper portion of the cleaning block when the cleaning block is moved to the standby position. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 하면 세정 부재, 우측면 세정 부재 및 좌측면 세정 부재는 브러시인 노즐 세정 장치.And the lower surface cleaning member, the right side cleaning member, and the left side cleaning member are brushes.
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