KR100885239B1 - 기판 처리 장치 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (6)
- 기판을 처리하는 공간을 제공하는 처리 베스;상기 처리 베스 내에 구비되어 상기 기판을 일정 방향으로 이송하는 이송유닛; 및상기 처리 베스 내로 제공된 상기 기판 상에 처리액을 분사하는 분사 유닛을 포함하고,상기 분사 유닛은,상기 처리액이 저장된 탱크;상기 처리 베스 내에 구비되어 상기 처리액을 상기 기판 상으로 분사하는 분사 부재;상기 탱크에 저장된 상기 처리액을 상기 분사 부재로 공급하는 배관; 및상기 탱크와 상기 배관 사이에 구비되고, 상기 배관으로 공급되는 상기 처리액을 필터링하는 메쉬형 필터를 포함하고,상기 메쉬형 필터는 상기 배관과 상기 탱크 사이에 구비된 제1 및 제2 메쉬형 필터를 포함하며,상기 제1 및 제2 메쉬형 필터 각각에는 격자 형태로 다수의 개구가 형성된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 탱크는 외부로부터 상기 처리액을 공급받는 주입부 및 상기 처리액을 출력하는 배출부를 포함하고,상기 메쉬형 필터는 상기 배출부에 탈부착되는 것을 특징으로 하는 기판 처 리 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2 메쉬형 필터 각각은,상기 다수의 개구가 형성되어 상기 처리액을 필터링하는 원형 메쉬; 및고리 형상으로 이루어져 상기 원형 메쉬를 감싸고, 상기 탱크에 나사 결합되기 위한 다수의 체결홈이 형성된 체결링를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 삭제
- 삭제
- 제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2 메쉬형 필터의 격자 형태가 서로 어긋나게 배치되어, 상기 제1 메쉬형 필터에 형성된 다수의 개구와 상기 제2 메쉬형 필터에 형성된 다수의 개구는 부분적으로 중첩되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070095380A KR100885239B1 (ko) | 2007-09-19 | 2007-09-19 | 기판 처리 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1020070095380A KR100885239B1 (ko) | 2007-09-19 | 2007-09-19 | 기판 처리 장치 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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KR100885239B1 true KR100885239B1 (ko) | 2009-02-24 |
Family
ID=40682021
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020070095380A KR100885239B1 (ko) | 2007-09-19 | 2007-09-19 | 기판 처리 장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100885239B1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20190020221A (ko) * | 2017-08-17 | 2019-02-28 | 주식회사 디엠에스 | 미스트 회수장치 및 이를 이용한 기판처리시스템 |
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KR20010002793A (ko) * | 1999-06-17 | 2001-01-15 | 구본준 | 식각장치 |
KR20020022284A (ko) * | 2000-09-19 | 2002-03-27 | 윤종용 | 클리닝 장치 |
KR100644729B1 (ko) * | 2005-06-08 | 2006-11-14 | 주식회사 디엠에스 | 기판처리장치 |
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2007
- 2007-09-19 KR KR1020070095380A patent/KR100885239B1/ko active IP Right Grant
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KR101980640B1 (ko) * | 2017-08-17 | 2019-05-23 | 주식회사 디엠에스 | 미스트 회수장치 및 이를 이용한 기판처리시스템 |
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