KR20100055789A - 기판 처리 장치 - Google Patents

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Abstract

기판 처리 장치는 챔버, 이송 유닛, 약액 공급 유닛 및 기체 분사 유닛을 갖는다. 챔버는 일측벽에 기판이 반입되는 기판 반입구를 갖는다. 이송 유닛은 상기 챔버 내부에 구비되며, 상기 기판을 이송한다. 약액 공급 유닛은 챔버 내부에 구비되며, 이송 유닛에 의해 이송되는 기판으로 약액을 공급한다. 기체 분사 유닛은 챔버의 일측벽 내부에 구비되며, 상기 기판 반입구를 통해 투입되는 상기 기판으로 기체를 분사는 분사 노즐을 갖는다.

Description

기판 처리 장치{Apparatus for processing a substrate}
본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 평판 표시 소자의 제조에 사용되는 기판을 처리하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
액정 표시 장치(LCD), 플라즈마 표시 장치(PDP), 유기 발광 소자(OLED)와 같은 평판 표시 소자는 대면적의 기판 상에 회로 패턴들을 형성하기 위한 다양한 단위 공정들을 수행하여 제조된다. 상기 단위 공정의 예로는 증착 공정, 사진 공정, 현상 공정, 세정 공정, 식각 공정, 스트립공정, 건조 공정 등을 들 수 있다.
상기 공정들은 연속된 챔버들에서 각각 수행될 수 있다. 상기 기판은 상기 연속된 챔버들을 따라 이송된다. 상기 기판이 선행 챔버에서 후속 챔버로 이송될 때, 상기 선행 챔버의 기류가 후속 챔버로 유입될 수 있다. 따라서, 상기 후속 챔버의 기판 반입구에는 상기 기류가 유입되는 것을 차단하기 위한 기체 분사 유닛이 구비된다.
상기 기체 분사 유닛은 상기 챔버의 내벽에 브래킷과 같은 고정 부재에 의해 고정된다. 따라서, 상기 챔버의 구조가 복잡해진다.
또한, 상기 기체 분사 유닛이 상기 챔버 내벽으로부터 돌출되므로, 상기 기 체 분사 유닛과 상기 챔버 내부의 구조물 사이에 간섭이 발생한다.
그리고, 상기 기판 반입구와 상기 기체 분사 유닛 사이의 공간으로 인해 와류가 발생하므로, 상기 기류의 유입을 완전하게 차단하기 어렵다.
본 발명은 기판 반입구를 통해 유입되는 기류를 차단할 수 있는 기판 처리 장치를 제공한다.
본 발명에 따른 기판 처리 장치는 일측벽에 기판이 투입되는 기판 반입구를 갖는 챔버와, 상기 챔버 내부에 구비되며, 상기 기판을 이송하기 위한 이송 유닛과, 상기 챔버 내부에 구비되며, 상기 이송 유닛에 의해 이송되는 기판으로 약액을 공급하는 약액 공급 유닛 및 상기 챔버의 일측벽 내부에 구비되며, 상기 기판 반입구를 통해 투입되는 상기 기판으로 기체를 분사는 분사 노즐을 갖는 기체 분사 유닛을 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 분사 노즐은 상기 기판 반입구의 상면 및 저면에 각각 구비될 수 있다.
본 발명에 따르면, 상기 분사 노즐이 상기 챔버의 일측벽 내부에 구비된다. 따라서, 상기 분사 노즐을 포함하는 기체 분사 유닛을 단순화할 수 있고, 상기 챔버 내부의 구조물과 간섭을 방지할 수 있다.
또한, 상기 분사 노즐이 상기 기판 반입구의 상면 및 저면에서 구비되므로, 상기 분사 노즐에서 분사된 기체에 의한 와류를 방지할 수 있고, 상기 기판 반입구를 통해 유입되는 기류를 완전하게 차단할 수 있다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치에 대해 상세히 설명한다. 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또 는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치(100)를 설명하기 위한 개략적인 단면도이고, 도 2는 도 1에 도시된 기판 반입구(112)를 확대한 확대 사시도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 기판 처리 장치(100)는 챔버(110), 이송 유닛(120), 기체 분사 유닛(130) 및 약액 공급 유닛(140)을 포함한다.
상기 챔버(110)는 기판 처리 공정을 수행하기 위한 공간을 제공한다. 챔버(110)는 기판 반입구(112), 기판 반출구(114) 및 배출구(116)를 갖는다.
상기 기판 반입구(112)는 상기 챔버(110)의 제1 측벽(110a)에 구비되며, 세정이 완료된 기판(10)이 반입된다. 상기 기판 반출구(114)는 상기 제1 측벽(110a)과 마주보는 챔버(110)의 제2 측벽(110b)에 구비되며, 기판 처리 공정이 완료된 기판(10)이 반출된다. 상기 배출구(116)는 상기 챔버(110)의 저면에 구비되며, 기판(10)을 처리하기 위한 약액 및 기판(10)으로부터 제거된 불순물이 배출된다.
상기 이송 유닛(120)은 다수의 회전축들과 다수의 롤러들을 포함한다.
상기 회전축들은 기판(10)의 이송 방향으로 배열되며 상기 이송 방향에 대하여 수직하는 방향으로 연장한다. 상기 롤러들은 각각의 회전축들에 결합되어 상기 기판(10)의 하부면과 접촉한다. 상기 롤러들이 상기 회전축들에 의해 회전하면서 상기 기판(10)을 이송한다.
상기 이송 유닛(120)은 상기 회전축들과 연결되어 상기 회전축들을 회전시키기 위한 회전력을 제공하는 구동부를 포함할 수 있다.
도시되지는 않았으나, 상기 구동부는 회전력을 발생시키기 위하여 모터를 포함할 수 있으며, 상기 모터는 벨트와 다수의 풀리들 또는 다수의 기어들에 의해 상기 구동부와 연결될 수 있다.
상기 기체 분사 유닛(130)은 상기 기판 반입구(112)를 통해 유입되는 기류를 차단하기 위한 것으로, 분사 노즐(132), 공급 라인(134) 및 피팅(136)을 포함한다.
상기 분사 노즐(132) 상기 제1 측벽(110a)의 내부에 다수가 구비된다. 예를 들면, 상기 분사 노즐(132)은 상기 제1 측벽(110a)의 내측면에서 상기 제1 측벽(110)의 내부를 지나 상기 기판 반입구(112)의 상면(112a) 및 하면(112c)까지 연장한다.
한편, 상기 분사 노즐(132)은 상기 제1 측벽(110a)의 내측면에서 상기 제1 측벽(110)의 내부를 지나 상기 기판 반입구(112)의 양측면(112c, 112d)까지 연장할 수도 있다.
도 2에 도시된 바와 같이 상기 분사 노즐(132)은 다수의 홀 형태를 가질 수 있다. 다른 예로, 상기 분사 노즐(132)은 슬릿 형태를 가질 수 있다.
상기 분사 노즐(132)은 상기 기판(10)이 투입되는 방향과 수직하도록 구비된다. 따라서, 상기 분사 노즐(132)은 상기 기판(10)과 수직하도록 기체를 분사한다. 상기 기체는 상기 기판 반입구(112)를 통해 유입되는 기류를 차단한다.
도 3은 도 1에 도시된 분사 노즐(132)의 다른 형태를 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.
도 3을 참조하면, 상기 분사 노즐(132)은 상기 기판(10)이 투입되는 방향과 경사지도록 구비된다. 예를 들면, 상기 분사 노즐(132)은 상기 기판 반입구(112)의 외측을 향해 경사진다. 따라서, 상기 분사 노즐(132)은 상기 기판(10)이 투입되는 방향과 반대 방향으로 경사지도록 기체를 분사한다. 상기 기체는 상기 기판 반입구(112)를 통해 유입되는 기류를 차단한다.
상기 공급 라인(134)은 상기 제1 측벽(112)의 내측면에서 상기 분사 노즐(132)과 연결된다. 상기 공급 라인(134)은 상기 분사 노즐(132)로 상기 기체를 공급한다. 도시되지는 않았지만, 상기 공급 라인(134)은 고압으로 기체를 공급하기 위한 기체 공급부와 연결될 수 있다.
상기 공급 라인(134)은 상기 기판 반입구(112)의 상면(112a)까지 연장된 분사 노즐(132)과 상기 기판 반입구(112)의 하면(112b)까지 연장된 분사 노즐(132)과 각각 연결될 수 있다. 따라서, 상기 상면(112a)에 구비된 분사 노즐(132)과 상기 하면(112b)에 구비된 분사 노즐(132)이 동일한 압력의 기체를 분사할 수 있다.
한편, 하나의 공급 라인(134)이 상기 상면(112a)에 구비된 분사 노즐(132)과 상기 하면(112b)에 구비된 분사 노즐(132)과 동시에 연결될 수 있다
상기 피팅(136)은 상기 분사 노즐(132)과 상기 공급 라인(134)을 연결한다. 상기 피팅(136)은 상기 분사 노즐(132)과 상기 공급 라인(134) 사이를 통해 상기 기체가 누설되는 것을 방지한다.
상기에서는 상기 기체 분사 유닛(130)이 상기 기판 반입구(112)에 구비되는 것으로 설명되었지만, 상기 기체 분사 유닛(130)은 상기 기판 배출구(114)에도 구비될 수 있다. 따라서, 상기 챔버(110) 내부의 기류가 외부로 유출되는 것을 방지한다.
상기 분사 노즐(132)이 상기 챔버(110)의 상기 제1 측벽(110a) 내부에 구비된다. 따라서, 상기 분사 노즐(132)을 포함하는 기체 분사 유닛(130)의 구조를 단순화할 수 있고, 상기 기체 분사 유닛(130)과 상기 약액 분사 유닛(140)과 같은 상기 챔버(110) 내부의 구조물과 간섭을 방지할 수 있다.
또한, 상기 분사 노즐(132)이 상기 기판 반입구(112)의 상면(112a) 및 저면(112b)에서 구비되므로, 상기 분사 노즐(132)에서 분사된 기체에 의한 와류를 방지할 수 있고, 상기 기판 반입구(112)를 통해 유입되는 기류를 완전하게 차단할 수 있다.
상기 약액 분사 유닛(140)은 상기 이송 유닛(120)이 상기 기판(10)을 이송하는 동안 상기 기판(10)으로 약액을 분사한다. 상기 약액의 예로는 상기 기판(10) 상에 감광막을 형성하기 위한 감광액, 상기 기판(10)의 노광된 감광막을 현상하기 위한 현상액, 상기 기판(10) 상에 형성된 패턴을 선택적으로 제거하기 위한 식각액, 상기 기판(10)의 이물질을 제거하기 위한 세정액 등을 들 수 있다.
약액 분사 유닛(140)은 이송 유닛(120)의 상방에 구비될 수 있으며, 상기 기판(10)의 상부면으로 상기 약액을 분사할 수 있다. 다른 예로, 약액 분사 유닛(140)은 이송 유닛(120)의 상방 및 하방에 구비되어 상기 기판(10)의 상부면 및 하부면으로 상기 약액을 분사할 수 있다. 따라서, 약액 분사 유닛(140)은 상기 약액을 이용하여 상기 기판(10)을 가공한다.
약액 분사 유닛(140)에 대한 구체적인 설명은 일반적인 약액 분사 유닛과 실질적으로 동일하므로, 구체적인 설명은 생략한다.
한편, 상기 약액 분사 유닛(140) 대신에 상기 기판(10)을 건조하기 위한 에어 나이프가 구비될 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 실시예들에 따르면, 상기 분사 노즐이 상기 챔버의 일측벽 내부에 구비된다. 따라서, 상기 분사 노즐을 포함하는 기체 분사 유닛을 단순화할 수 있고, 상기 챔버 내부의 구조물과 간섭을 방지할 수 있다.
또한, 상기 분사 노즐이 상기 기판 반입구의 상면 및 저면에서 구비되므로, 상기 분사 노즐에서 분사된 기체에 의한 와류를 방지할 수 있고, 상기 기판 반입구를 통해 유입되는 기류를 완전하게 차단할 수 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.
도 2는 도 1에 도시된 기판 반입구를 확대한 확대 사시도이다.
도 3은 도 1에 도시된 분사 노즐의 다른 형태를 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
100 : 기판 처리 장치 110 : 챔버
120 : 이송 유닛 130 : 기체 분사 유닛
132 : 분사 노즐 134 : 공급 라인
136 : 피팅 140 : 약액 공급 유닛
10 : 기판

Claims (2)

  1. 일측벽에 기판이 투입되는 기판 반입구를 갖는 챔버;
    상기 챔버 내부에 구비되며, 상기 기판을 이송하기 위한 이송 유닛;
    상기 챔버 내부에 구비되며, 상기 이송 유닛에 의해 이송되는 기판으로 약액을 공급하는 약액 공급 유닛; 및
    상기 챔버의 일측벽 내부에 구비되며, 상기 기판 반입구를 통해 투입되는 상기 기판으로 기체를 분사는 분사 노즐을 갖는 기체 분사 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 분사 노즐은 상기 기판 반입구의 상면 및 저면에 각각 구비되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
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KR102125677B1 (ko) * 2019-06-27 2020-06-24 세메스 주식회사 기판 처리 방법

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