KR100881955B1 - 에어 공급 포트가 구비된 아쿠아나이프 - Google Patents

에어 공급 포트가 구비된 아쿠아나이프 Download PDF

Info

Publication number
KR100881955B1
KR100881955B1 KR1020070048630A KR20070048630A KR100881955B1 KR 100881955 B1 KR100881955 B1 KR 100881955B1 KR 1020070048630 A KR1020070048630 A KR 1020070048630A KR 20070048630 A KR20070048630 A KR 20070048630A KR 100881955 B1 KR100881955 B1 KR 100881955B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
liquid
supply port
chamber
cleaning
slit
Prior art date
Application number
KR1020070048630A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20080101465A (ko
Inventor
조홍근
Original Assignee
(주)네오이엔지
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)네오이엔지 filed Critical (주)네오이엔지
Priority to KR1020070048630A priority Critical patent/KR100881955B1/ko
Publication of KR20080101465A publication Critical patent/KR20080101465A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100881955B1 publication Critical patent/KR100881955B1/ko

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/02Cleaning by the force of jets or sprays
    • B08B3/022Cleaning travelling work
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05BSPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B15/00Details of spraying plant or spraying apparatus not otherwise provided for; Accessories
    • B05B15/50Arrangements for cleaning; Arrangements for preventing deposits, drying-out or blockage; Arrangements for detecting improper discharge caused by the presence of foreign matter
    • B05B15/55Arrangements for cleaning; Arrangements for preventing deposits, drying-out or blockage; Arrangements for detecting improper discharge caused by the presence of foreign matter using cleaning fluids
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/02Cleaning by the force of jets or sprays
    • B08B3/024Cleaning by means of spray elements moving over the surface to be cleaned
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1316Methods for cleaning the liquid crystal cells, or components thereof, during manufacture: Materials therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

본 발명은 평판디스플레이의 제조시 상기 기판에 액을 분사하여 상기 기판의 표면을 처리 또는 세정하는 아쿠아나이프(Aqua Knife)에 관한 것으로, 본 발명에 따른 에어공급 포트가 구비된 아쿠아나이프는 바디의 내부에 상기 바디의 길이방향으로 형성된 챔버와, 바디의 상부 일측에 바디의 길이 방향을 따라 다수 개가 설치되어 기판 표면처리 시 상기 챔버에 액을 공급하는 주 공급 포트와, 바디의 상부 일측에 바디의 길이 방향을 따라 다수 개가 설치되어 바디 내부 청소 시 챔버에 액을 공급하는 보조 공급 포트와, 챔버의 하부와 연통되어 챔버에 공급된 액을 기판 표면 처리시 기판에 분사하는 분사 슬릿과, 바디 내부 청소 시 챔버에 공급된 액을 외부로 배출하는 액 배출 포트와, 분사 슬릿과 연통되어 바디 내부 청소시 챔버에 공급된 액이 고압으로 분사 슬릿과 주 공급포트 및 보조 공급 포트를 통해 외부로 배출되도록 바디 내부로 고압공기를 불어 넣는 에어 공급 포트를 포함하여 이루어지고, 에어 공급 포트는 바디의 길이 방향을 따라 다수 개가 배치된 것을 특징으로 한다.
평판 디스플레이, 아쿠아나이프, 분사 슬릿, 파티클, 청소, 에어, 액

Description

에어 공급 포트가 구비된 아쿠아나이프{Aqua Knife equiped with air supply port}
도 1은 일반적인 아쿠아나이프가 기판에 액을 분사하는 모습을 보이는 사시도;
도 2는 도 1의 I-I'선 단면도;
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 아쿠아나이프가 기판에 액을 분사하는 모습을 보이는 사시도;
도 4는 도 3의 II-II'선 단면도;
도 5는 도 3의 III-III'선 단면도; 및
도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 아쿠아나이프의 사용 시 아쿠아나이프의 내부를 청소하는 과정을 보이는 플로차트이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
1: 기판 3: 액
100: 아쿠아나이프 110: 바디
111: 제1 플레이트 112: 제2 플레이트
113: 스페이서 114: 보조 공급 슬릿
115: 분사 슬릿 116: 주 공급 슬릿
117: 에어 공급 슬릿 119: 챔버
120: 주 공급 포트 130: 보조 공급 포트
140: 액 배출 포트 150: 에어 공급 포트
본 발명은 액정 표시 장치(LCD) 등의 평판 디스플레이(FPD)의 제조에 사용되는 기판을 처리하는 장치에 관한 것으로, 좀더 상세하게는 평판디스플레이의 제조시 상기 기판에 액을 분사하여 상기 기판의 표면을 처리 또는 세정하는 아쿠아나이프(Aqua Knife) 및 이의 내부를 청소하는 방법에 관한 것이다.
액정 표시 장치(Liquid Crystal Display, 이하 LCD라 칭함) 등의 평판 디스플레이(Flat Panel Display, 이하 FPD라 칭함) 제조 공정에서 기판이나 막 표면의 오염, 파티클(Particle)을 사전에 제거하여 불량이 발생하지 않도록 하거나, 증착될 박막의 접착력 강화, FPD 특성 향상 등을 위해 세정(cleaning) 등이 행해진다.
이러한 세정에 사용되는 세정기는, 예를 들어 증착 공정, 에칭 공정, 현상 공정, 스트립 공정 등과 같은 각 주요 공정에 적용되며, 예를 들어 순수(純水)나 D.I. 워터(De Ionized Water) 또는 에칭액 등의 세정액 또는 공정액을 기판에 분사하는 아쿠아나이프(Aqua Knife)를 구비하고 있다.
아쿠아나이프(10)는 도 1에 도시된 바와 같이 기판(1)에 세정액 또는 공정액 등의 액(2)을 고르게 분사함으로써 상기 기판(1)의 표면을 처리하여 준다. 도 1 및 도 2에는 상기 아쿠아나이프(10)의 외부 및 내부 구조를 이해하는데 도움이 되는 도면들이 도시되어 있다. 이하에서는 이들 도면을 참조하여 상기 아쿠아나이프(10)에 대해 좀더 상세히 설명한다.
상기 아쿠아나이프(10)의 바디(11)는 도 1에 도시된 바와 같이 수평 방향으로 길게 형성되고, 그 길이는 대략 처리하고자 하는 기판(1)의 폭에 상응한다. 상기 아쿠아나이프(10)의 바디(11)에는 상기 액(3)을 공급하는 액 공급 포트(15)가 연결된다. 여기서, 상기 액 공급 포트(15)는 도 1에 도시된 바와 같이 상기 아쿠아나이프(10)의 길이 방향을 따라 여러 개가 등 간격으로 배치되어 상기 바디(11)에 각각 연결된다.
상기 바디(11)의 내부에는 상기 각 액 공급 포트(15)로부터 상기 액(3)을 상기 바디(11)의 내부로 도입하는 공급 슬릿(14)들 및 상기 각 공급 슬릿(14)을 통해 도입된 상기 액(3)이 모여 임시로 저장되는 챔버(16)가 구비된다. 상기 챔버(16)는 상기 바디(11)의 내부에 길이 방향을 따라 형성되고, 상기 각 공급 슬릿(14)으로부터 공급받은 상기 액(3)을 임시로 저장한 후 상기 바디(11)의 길이 방향을 따라 고르게 퍼뜨리는 역할을 한다.
상기 바디(11) 내부에는 상하 방향을 따라 분사 슬릿(13)이 형성된다. 상기 분사 슬릿(13)은 상기 바디(11)의 길이 방향을 따라 연속적으로 형성된다. 상기 분사 슬릿(13)의 상부는 상기 챔버(16)에 연결되고, 상기 분사 슬릿(13)의 하단은 상기 바디(11)의 하단까지 연장되어 상기 바디(11)의 외부와 연통된다.
작동에 있어서, 상기 액 공급 포트(15)를 통해 상기 아쿠아나이프(10)에 상기 액(3)이 공급되면, 상기 액(3)은 상기 각 공급 슬릿(14)을 통해 상기 챔버(16)로 모이게 된다. 상기 챔버(16)는 상기 액(3)을 상기 바디(11)의 길이 방향을 따라 고르게 분포시키고, 고르게 분포된 상기 액(3)은 상기 분사 슬릿(13)을 따라 상기 아쿠아나이프(10)의 하단을 통해 도 1에 도시된 바와 같이 상기 기판(1)에 고르게 분사된다.
위와 같은 구조를 가진 일반적인 구조의 아쿠아나이프(10)에서 분사 슬릿(13)은 일반적으로 그 두께가 0.1 내지 0.2 mm 정도에 불과하다. 그런데, 상기 액 공급 포트(15)를 통해 공급되는 액(3)에 대략 0.2 mm 내외의 파티클(particle)이 포함되기도 하는데, 이 경우 상기 파티클이 상기 분사 슬릿(13) 내에 끼게 된다. 그러면, 상기 분사 슬릿(13)을 통해 분사되는 액(3)이 상기 아쿠아나이프(10)의 폭 방향을 따라 연속적으로 이어지지 못하고 중간에 끊기거나, 상기 분사 슬릿(13)이 부분적으로 막히는 결과를 초래하게 된다.
따라서, 파티클이 상기 아쿠아나이프(10) 내부에 끼이면 상기 아쿠아나이프(10)가 상기 기판(1)의 표면 전체를 고르게 처리할 수 없으므로 상기 아쿠아나이프(10)의 내부를 청소하여 상기 파티클을 제거해야 한다. 이를 위해, 현재로서는 상기 아쿠아나이프(10)를 주기적으로 분해하여 그 내부를 청소해주고 있는데, 이러한 방법은 매우 번거로울 뿐만 아니라 청소를 위해 해당 공정 장비를 정지시켜야 하므로 생산성이 저하되는 문제가 있다.
본 발명은 상기한 문제를 해결하기 위해 안출된 것으로, 그 목적은 기판의 표면을 처리하는 액을 분사하는 아쿠아나이프의 바디 내부를 분해하지 않고 자동으로 청소할 수 있도록 아쿠아나이프의 구조를 개선하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 아쿠아나이프의 바디를 분해하지 않고 그 내부를 자동으로 청소함으로써 상기 바디 내부에 끼인 파티클을 효과적으로 제거하는 방법을 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 형태에서는, 바디의 내부에 액을 공급하는 다수의 액 공급 포트; 기판 표면 처리 시 상기 바디에 공급된 액을 기판에 분사하는 분사 슬릿; 상기 바디 내부 청소 시 상기 바디에 공급된 액을 외부로 배출하는 액 배출 포트; 및 상기 바디 내부 청소 시 상기 바디에 공급된 액이 고압으로 상기 분사 슬릿과 상기 액 배출 포트를 통해 외부로 배출되도록 상기 바디 내부로 고압 공기를 불어 넣는 에어 공급 포트를 포함하여 이루어진 에어 공급 포트가 구비된 아쿠아나이프를 제공한다.
상기 다수의 액 공급 포트는, 상기 기판 표면 처리 시 개방되어 상기 바디의 내부에 액을 공급하는 주 공급 포트; 그리고 상기 바디 내부 청소 시 개방되어 상기 바디의 내부에 액을 공급하는 보조 공급 포트를 포함하여 이루어질 수 있다.
상기 바디 내부 청소 시 상기 주 공급 포트는 폐쇄되고, 상기 액 배출 포트는 개방될 수 있다.
상기 에어 공급 포트는 상기 바디의 길이 방향을 따라 다수 개가 배치될 수 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 일형태에서는, 바디의 내부에 액을 공급하는 다수의 액 공급 포트; 기판 표면 처리 시 상기 바디에 공급된 액을 기판에 분사하는 분사 슬릿; 및 상기 바디 내부 청소 시 상기 바디 내부에 끼인 파티클이 상기 바디 외부로 배출되도록 상기 바디 내부로 고압 공기를 불어 넣는 에어 공급 포트를 포함하여 이루어진 에어 공급 포트가 구비된 아쿠아나이프를 제공한다.
한편, 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 또 다른 일 형태에서는, 분사 슬릿을 통해 기판에 액을 고르게 분사하도록 구성된 아쿠아나이프의 바디 내부에 액을 공급하는 단계; 상기 아쿠아나이프의 바디 내부에 고압의 에어를 공급하는 단계; 및 상기 분사 슬릿과 별도로 구비된 액 배출 포트를 개방하여 상기 바디 내부의 액을 상기 분사 슬릿과 상기 액 배출 포트를 통해 배출하는 단계를 포함하여 이루어진 아쿠아나이프의 내부를 청소하는 방법을 제공한다.
이하 상기 목적이 구체적으로 실현될 수 있는 본 발명의 실시예들이 첨부된 도면을 참조하여 설명된다. 본 실시예들을 설명함에 있어서, 동일 구성에 대해서는 동일 명칭 및 부호가 사용되며, 이에 따른 부가적인 설명은 하기에서 생략된다.
본 발명의 일실시예에 따른 아쿠아나이프(100)는 LCD 등의 FPD 제조 공정에서 기판이나 막 표면의 오염, 파티클(Particle)을 사전에 제거하여 불량이 발생하지 않도록 하거나, 증착될 박막의 접착력 강화, FPD 특성 향상 등을 위한 세정(cleaning)에 사용될 수 있다.
본 발명의 일실시예에 따른 아쿠아나이프(100)는, 좀더 상세하게는, 예를 들어, 증착 공정, 에칭 공정, 현상 공정, 스트립 공정 등과 같은 각 주요 공정에 사용되는데, 이때, 순수(純水)나 D.I. 워터(De Ionized Water) 또는 에칭액 등의 세정액 또는 공정액을 기판의 표면에 고르게 분사함으로써 상기 기판의 표면을 처리하거나 세정하게 된다.
도 3 내지 도 5에는 본 발명의 일실시예에 따른 아쿠아나이프(100)가 도시되어 있는데, 이하에서는 이들 도면을 참조하여 본 발명의 일실시예에 따른 아쿠아나이프(100)에 대해 좀더 상세히 설명한다. 참고로, 도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 아쿠아나이프가 기판에 액을 분사하는 모습을 보이는 사시도이고, 도 4는 도 3의 II-II'선 단면도이며, 도 5는 도 3의 III-III'선 단면도이다.
상기 아쿠아나이프(100)의 바디(110)는 도 3에 도시된 바와 같이 수평 방향으로 길게 형성되고, 그 길이는 대략 처리하고자 하는 기판(1)의 폭과 상응한다. 상기 아쿠아나이프(100)의 바디(110)는 예를 들어 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이 앞과 뒤에서 각각 결합되는 제1 플레이트(111)와 제2 플레이트(112)를 포함하여 이루어진다. 상기 바디(110)가 이와 같이 제1 플레이트(111)와 제2 플레이트(112)로 나뉘어 구성된 후 조립되는 이유는 상기 아쿠아나이프(100)의 유지 보수를 위한 분해 및 조립을 용이하게 하기 위함이다.
상기 바디(110)의 일측, 예를 들어 상기 제2 플레이트(112)에는 상기 바디(110)의 내부에 세정액 및 공정액 등과 같은 액(3)을 공급하는 다수의 액 공급 포트(120, 130)가 연결된다. 여기서, 상기 다수의 액 공급 포트(120, 130)는 주 공 급 포트(120)와 보조 공급 포트(130)를 포함하여 이루어진다.
상기 주 공급 포트(120)는 예를 들어 도 3에 도시된 바와 같이 상기 바디(110)의 길이 방향을 따라 다수 개가 등 간격으로 배치되어 상기 바디(110)에 각각 연결된다. 그리고, 상기 보조 공급 포트(130)는 상기 바디(110)의 일측에 배치되어 상기 바디(110)와 연결된다.
상기 바디(110)의 내부에는, 상기 주 공급 포트(120)와 연결된 주 공급 슬릿(미도시)과, 상기 보조 공급 포트(130)와 연결된 보조 공급 슬릿(114)이 각각 형성된다. 상기 주 공급 슬릿과 상기 보조 공급 슬릿(114)은, 상기 바디(110)가 제1 플레이트(111)와 제2 플레이트(112)로 분할되게 구성된 경우, 상기 제2 플레이트(112)의 앞면과 후면을 관통하도록 각각 형성된다.
상기 주 공급 포트(120)는, 기판 표면 처리 시, 상기 기판(1)의 표면을 처리하기 위한 용도의 세정액 또는 공정액 등의 액(3)을 상기 주 공급 슬릿을 통해 상기 바디(110) 내부의 챔버(119)로 공급한다. 반면, 상기 보조 공급 포트(130)는, 바디(110) 내부 청소 시, 상기 기판(1)의 표면 처리용이 아닌 상기 바디(110)의 내부를 청소하기 위한 용도의 세정액 등을 상기 보조 공급 슬릿(114)을 통해 상기 바디(110) 내부의 챔버(119)로 공급한다.
상기 보조 공급 포트(130)가 연결된 상기 바디(110)의 일측의 반대편 측에는 액 배출 포트(140)가 연결된다. 상기 액 배출 포트(140)는 상기 바디(110)의 내부 청소 시 상기 보조 공급 포트(130)를 통해 상기 바디(110)의 내부로 공급된 세정액 등을 상기 바디(110)의 외부로 배출하는 역할을 한다.
상기 보조 공급 포트(130)는 상기 바디(110)의 일측에 연결되고, 상기 액 배출 포트(140)는 상기 바디(110)의 타측에 연결되므로, 상기 보조 공급 포트(130)에 의해 상기 바디(110) 내부로 공급된 액은 실질적으로 상기 바디(110)의 내부 전체를 유동한 후 상기 액 배출 포트(140)를 통해 상기 바디(110)의 외부로 배출될 수 있게 된다.
상기 바디(110)의 내부에는 상기 각 액 공급 포트(120, 130)로부터 상기 주 공급 슬릿 및 상기 보조 공급 슬릿(114)을 통해 상기 바디(110)의 내부로 도입된 액을 임시로 저장하는 챔버(119)가 구비된다. 상기 챔버(119)는 상기 바디(110)의 내부에 길이 방향을 따라 형성되고, 상기 각 액 공급 포트(120, 130)로부터 공급받은 액을 임시로 저장한 후 상기 바디(110)의 길이 방향을 따라 고르게 퍼뜨려 분포시키는 역할을 한다. 이러한 챔버(119)는, 상기 바디(110)가 제1 플레이트(111)와 제2 플레이트(112)로 분할되게 구성된 경우, 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이 상기 제1 플레이트(111)에 형성된다.
상기 바디(110)의 내부에는 상하 방향을 따라 분사 슬릿(115)이 형성된다. 상기 분사 슬릿(115)은 상기 바디(110)의 길이 방향을 따라 연속적으로 형성된다. 상기 분사 슬릿(115)의 상부는 상기 챔버(119)에 연결되고, 상기 분사 슬릿(115)의 하단은 상기 바디(110)의 하단까지 연장되어 상기 바디(110)의 외부와 연통된다.
상기 바디(110)가 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이 상기 제1 플레이트(111)와 상기 제2 플레이트(112)로 분할되게 구성된 경우, 상기 분사 슬릿(115)은 상기 제1 플레이트(111)와 상기 제2 플레이트(112) 사이에 확보된 간극에 의해 형성된 다. 이 경우, 상기 제1 플레이트(111)와 상기 제2 플레이트(112)의 사이에는 상기 분사 슬릿(115)을 확보하기 위한 스페이서(113)가 개재된다.
상기 분사 슬릿(115)은 대략 0.1 내지 0.2 mm 정도의 두께를 가지며, 상기 기판(1) 처리 시 상기 주 공급 포트(120)로부터 상기 바디(110)의 챔버(119)로 유입된 세정액 및 공정액 등의 액(3)을 상기 기판(1)의 표면에 고르게 분사해준다. 뿐만 아니라, 상기 분사 슬릿(115)은 상기 아쿠아나이프(100)의 바디(110) 내부 청소 시 상기 보조 공급 포트(130)로부터 상기 바디(110)의 챔버(119)로 유입된 세정액 등의 액을 상기 바디(110)의 외부로 배출하는 역할도 한다.
본 발명의 일실시예에 따른 아쿠아나이프(100)에서 상기 바디(110)에는 또한 그 내부에 고압의 공기(air)를 불어 넣기 위한 에어 공급 포트(150)가 더 연결된다. 상기 에어 공급 포트(150)는 도 3에 도시된 바와 같이 다수 개가 구비되어 상기 바디(110)의 길이 방향을 따라 등 간격으로 배치된 후 각각 상기 바디(110)에 연결된다. 한편, 상기 바디(100)의 내부에는 상기 에어 공급 포트(150)로부터 공급되는 고압의 공기를 상기 바디(100) 내부로 도입하는 에어 공급 슬릿(117)이 형성된다.
위와 같은 구조를 가지는 본 발명에 따른 아쿠아나이프(100)는 일반적인 아쿠아나이프와 같이 기판(1)을 향해 액(3)을 분사함으로써 소정의 기판 표면 처리 및 세정 공정을 수행할 수 있을 뿐만 아니라, 자동으로 그 내부를 청소할 수도 있다. 이하에서는 본 발명에 따른 아쿠아나이프(100)의 작동에 대해 좀더 상세히 설명한다.
기판 표면 처리 시에는, 상기 보조 공급 포트(130) 및 상기 액 배출 포트(140)는 닫혀 있다. 이때, 상기 에어 공급 포트(150)는 닫혀 있어도 되고, 열림으로써 상기 바디(110)의 내부에 소정 압력의 공기를 공급해 주어도 무방하다.
위와 같은 상태에서, 상기 주 공급 포트(120)가 열리면, 상기 주 공급 포트(120) 내의 액(3)은 상기 주 공급 슬릿(미도시)을 통해 상기 바디(110) 내부로 도입된 후 상기 챔버(119)에 수용된다. 상기 챔버(119)는 상기 주 공급 슬릿(116)을 통해 유입된 액(3)을 상기 바디(110)의 길이 방향을 따라 고르게 퍼뜨리고 분포시킨다.
상기 챔버(119)에 의해 상기 바디(110)의 길이 방향을 따라 고르게 분포된 액(3)은 상기 챔버(119)와 연통된 상기 분사 슬릿(115)으로 유입되고, 최종적으로 상기 바디(110)의 하단을 통해서 상기 기판(1)에 고르게 분사된다.
상기 아쿠아나이프(100)가 장시간 사용되면, 상기 분사 슬릿(115) 등에 파티클(particle)이 끼이게 되고, 이에 의해 상기 아쿠아나이프(100)에서 분사되는 액(3)이 끊기게 된다. 따라서, 이를 방지하기 위해 본 발명에 따른 아쿠아나이프(100)는 도 6에 도시된 바와 같이 자동으로 상기 바디(110) 내부를 청소하는 과정을 수행한다. 이하에서는 이에 대해 좀더 상세히 설명한다.
상기 아쿠아나이프(100)의 바디(110) 내부 청소시에는, 먼저, 상기 주 공급 포트(120)를 닫는다(S 110). 그런 다음, 상기 바디(110)의 세척을 위한 액을 공급하는 상기 보조 공급 포트(130)를 개방하고, 이와 함께 상기 액 배출 포트(140)를 개방한다(S 120). 그러면, 상기 보조 공급 포트(130)로부터 상기 바디(110)의 내부 를 청소하기 위한 세정액 등이 상기 바디(110) 내부로 유입된다. 상기 챔버(119)로 유입된 상기 세정액 등은 상기 바디(110)의 길이 방향을 따라 유동하면서 상기 바디(110)의 길이 방향 전체에 고르게 퍼진다.
이때, 상기 에어 공급 포트(150)를 개방한다(S 130). 그러면, 고압의 공기가 순식간에 상기 바디(110) 내부에 공급되고, 이에 의해 상기 바디(110) 내부의 액(3)은 고압으로 상기 분사 슬릿(115) 및 상기 액 배출 포트(140)를 통해 각각 상기 바디(110) 외부로 배출된다. 이때, 상기 에어 공급 포트(150)를 통해 공급되는 공기의 압력과 상기 바디(110)의 외부로 배출되는 액(3)의 압력에 의해 상기 바디(110)의 내부, 특히 상기 분사 슬릿(115)에 끼인 파티클이 제거되며, 상기 액(3)은 실질적으로 상기 바디(110)의 내부 전체를 유동한 후 상기 액 배출 포트(140)를 통해 상기 바디(110)의 외부로 배출되게 된다.
소정 시간 동안의 바디(110) 내부 청소가 완료되면, 상기 보조 공급 포트(130) 및 상기 에어 공급 포트(150)를 닫아 상기 액 및 고압 공기의 공급을 중단한다. 그리고, 상기 액 배출 포트(140)도 닫는다. 그런 다음, 기판 처리가 필요한 경우, 상기 주 공급 포트(120)를 개방하여 기판 표면 처리 작업을 재개한다.
한편, 위에서는, 본 발명에 따른 아쿠아나이프(100)가 바디(110)의 내부를 청소할 때 상기 보조 공급 포트(130)를 통해 상기 바디(110) 내부로 액이 공급되고, 상기 에어 공급 포트(150)를 통해 상기 바디(110) 내부로 고압 공기가 공급되는 예가 설명되었다. 그러나, 본 발명은 이에 국한되지만은 않는다.
다른 예로, 상기 아쿠아나이프(100)의 바디(110) 청소 시 상기 에어 공급 포트()를 통해 고압 공기만 상기 바디(110)의 내부로 공급되도록 구성될 수도 있을 것이다. 이 경우, 상기 보조 공급 포트(130)는 별도로 구비되지 않아도 무방할 것이다. 이는, 상기 보조 공급 포트(130)를 통한 세정액의 공급 없이, 상기 에어 공급 포트(150)를 통한 고압 공기의 공급만 있어도, 상기 바디(110)의 내부에 끼인 파티클이 충분히 제거되어 상기 바디(110) 외부로 배출될 수 있기 때문이다.
위에서 몇몇의 실시예가 예시적으로 설명되었음에도 불구하고, 본 발명이 이의 취지 및 범주에서 벗어남 없이 다른 여러 형태로 구체화될 수 있다는 사실은 해당 기술에 통상의 지식을 가진 이들에게는 자명한 것이다.
따라서, 상술된 실시예는 제한적인것이 아닌 예시적인 것으로 여겨져야 하며, 첨부된 청구항 및 이의 동등 범위 내의 모든 실시예는 본 발명의 범주 내에 포함된다.
위에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 아쿠아나이프의 바디를 분해하지 않고도 상기 바디 내부를 청소함으로써 상기 바디 내부에 끼인 파티클을 제거할 수 있다. 따라서, 상기 아쿠아나이프의 내부를 청소하기 위해 상기 바디를 분해할 필요가 없거나, 상기 아쿠아나이프의 분해 청소 주기를 상당히 늘일 수 있다.
그러므로 본 발명은, 상기 아쿠아나이프를 매우 쉽고 편리하게 그리고 자주 청소할 수 있는 효과가 있다. 이와 더불어, 상기 아쿠아나이프의 청소를 위한 주기가 현저히 늘어나므로 공정 장비를 정지시키는 시간이 현저히 줄고, 이에 따라 생산성이 향상되는 효과가 있다.

Claims (6)

  1. 바디의 내부에 상기 바디의 길이방향으로 형성된 챔버;
    상기 바디의 상부 일측에 상기 바디의 길이 방향을 따라 다수 개가 설치되어 기판 표면처리 시 상기 챔버에 액을 공급하는 주 공급 포트;
    상기 바디의 상부 일측에 상기 바디의 길이 방향을 따라 다수 개가 설치되어 상기 바디 내부 청소 시 상기 챔버에 액을 공급하는 보조 공급 포트;
    상기 챔버의 하부와 연통되어 상기 챔버에 공급된 액을 기판 표면 처리시 기판에 분사하는 분사 슬릿;
    상기 바디 내부 청소 시 상기 챔버에 공급된 액을 외부로 배출하는 액 배출 포트; 및
    상기 분사 슬릿과 연통되어 상기 바디 내부 청소시 상기 챔버에 공급된 액이 고압으로 상기 분사 슬릿과 상기 주 공급포트 및 상기 보조 공급 포트를 통해 외부로 배출되도록 상기 바디 내부로 고압공기를 불어 넣는 에어 공급 포트를 포함하여 이루어지고,
    상기 에어 공급 포트는 상기 바디의 길이 방향을 따라 다수 개가 배치된 것을 특징으로 하는 에어 공급 포트가 구비된 아쿠아나이프.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 삭제
KR1020070048630A 2007-05-18 2007-05-18 에어 공급 포트가 구비된 아쿠아나이프 KR100881955B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020070048630A KR100881955B1 (ko) 2007-05-18 2007-05-18 에어 공급 포트가 구비된 아쿠아나이프

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020070048630A KR100881955B1 (ko) 2007-05-18 2007-05-18 에어 공급 포트가 구비된 아쿠아나이프

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20080101465A KR20080101465A (ko) 2008-11-21
KR100881955B1 true KR100881955B1 (ko) 2009-02-06

Family

ID=40287726

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020070048630A KR100881955B1 (ko) 2007-05-18 2007-05-18 에어 공급 포트가 구비된 아쿠아나이프

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100881955B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190090997A (ko) 2018-01-26 2019-08-05 김인섭 세척력이 우수한 식기세척기 시스템

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101347634B1 (ko) * 2013-04-10 2014-01-06 최재현 코안다 효과를 이용한 아쿠아나이프 구조
KR102031719B1 (ko) * 2019-02-26 2019-10-14 이중호 디스플레이 패널 세정용 아쿠아나이프

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09271700A (ja) * 1996-04-02 1997-10-21 Daido Steel Co Ltd 塗料噴射装置
JPH09289161A (ja) * 1996-04-22 1997-11-04 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 処理液塗布装置
JPH1028917A (ja) * 1996-07-18 1998-02-03 Nordson Kk 接着剤塗布装置のノズル洗浄方法
JP2000262941A (ja) * 1999-03-17 2000-09-26 Nec Ibaraki Ltd ディスペンスノズル

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09271700A (ja) * 1996-04-02 1997-10-21 Daido Steel Co Ltd 塗料噴射装置
JPH09289161A (ja) * 1996-04-22 1997-11-04 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 処理液塗布装置
JPH1028917A (ja) * 1996-07-18 1998-02-03 Nordson Kk 接着剤塗布装置のノズル洗浄方法
JP2000262941A (ja) * 1999-03-17 2000-09-26 Nec Ibaraki Ltd ディスペンスノズル

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190090997A (ko) 2018-01-26 2019-08-05 김인섭 세척력이 우수한 식기세척기 시스템

Also Published As

Publication number Publication date
KR20080101465A (ko) 2008-11-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI428969B (zh) Substrate cleaning treatment device
TWI546131B (zh) 基板處理裝置、噴嘴以及基板處理方法
KR100881955B1 (ko) 에어 공급 포트가 구비된 아쿠아나이프
JPH10275792A (ja) 基板乾燥装置
KR20100059230A (ko) 분사 유닛 및 이를 포함하는 기판 세정 장치
KR100934329B1 (ko) 기판 처리 장치
KR100691473B1 (ko) 기판건조용 에어나이프 모듈 및 이를 이용한 기판건조장치
KR20060051701A (ko) 기판의 처리 장치
KR20080101466A (ko) 보조 챔버가 구비된 아쿠아나이프
KR20070119398A (ko) 에어 나이프와 에어 나이프를 이용한 기판 건조 장치
KR101347634B1 (ko) 코안다 효과를 이용한 아쿠아나이프 구조
WO2013183504A1 (ja) 化学研磨装置
KR102031719B1 (ko) 디스플레이 패널 세정용 아쿠아나이프
JP4275968B2 (ja) 基板の洗浄処理装置
JP2009279477A (ja) 処理液除去装置、基板処理装置およびノズル間隔設定方法
TW201429570A (zh) 板玻璃洗淨裝置以及板玻璃洗淨方法
JP4365192B2 (ja) 搬送式基板処理装置
KR20110061302A (ko) 세정액 공급 및 회수 시스템
KR200305052Y1 (ko) 슬릿형 유체 분사 장치
KR20030083129A (ko) 플라즈마를 이용한 tft-lcd 세정방법 및 이를이용한 tft-lcd제조장비
JP2000058502A (ja) 基板処理装置
KR20110062520A (ko) 기판 처리장치 및 이의 세정 방법
JP2005296722A (ja) 洗浄用ノズル
KR20080078303A (ko) 평판 패널 처리 장치
KR200309330Y1 (ko) 슬릿형 유체 분사 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20111118

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130110

Year of fee payment: 5

LAPS Lapse due to unpaid annual fee