KR100644729B1 - 기판처리장치 - Google Patents

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KR100644729B1
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오상택
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주식회사 디엠에스
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Abstract

본 발명은 기판 패턴의 손상이 없이 유기물 또는 파티클을 효율적으로 제거할 수 있는 기판처리장치를 개시한다.
본 발명의 기판처리장치는 스팀 발생기, 상기 스팀 발생기와 관로로 연결되어 스팀을 통과 및 차단시키거나 또는 스팀의 양을 조절하는 밸브, 상기 밸브와 관로로 연결되어 기판으로 스팀을 분사하는 스팀 분사기를 포함한다.
따라서 본 발명은 고온 고압의 스팀이 기판에 분사되므로 고온 고압의 스팀으로 기판에 묻어 있는 유기물 및 파티클이 용이하게 제거되어 기판의 세정 처리 효율을 증대시키며, 불량을 줄여 수율을 향상시킬 수 있다.
스팀, 노즐, 인젝터, 세정, 분사기

Description

기판처리장치{Apparatus for plat display panel processing}
도 1은 본 발명에 따른 실시 예를 설명하기 위한 구성도이다.
본 발명은 기판처리장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 기판 패턴의 손상이 없이 유기물 또는 파티클을 효율적으로 제거할 수 있는 기판처리장치에 관한 것이다.
일반적으로 세정을 위한 기판 처리장치는 기판을 세정한 후에 압축 에어를 기판에 분사하여 기판에 남아 있는 세정액을 제거하는데 이용된다. 또한, 이러한 기판 처리 장치는 압축 공기를 발생시키는 압축공기 발생기, 상기 압축 공기 발생기의 압축 공기를 고압으로 분사하는 노즐 등을 포함한다. 이러한 세정을 위한 기판 처리장치는 상기 압축 에어를 이용하여 기판에 묻어 있는 세정액은 용이하게 제거가 이루어지는데, 파티클 및 유기물의 제거 효율이 떨어지는 문제점이 있다.
따라서 본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로서, 본 발명의 목적은 기판에 남아 있는 파티클 및 유기물 등을 효율적으로 제거하여 기판의 처리 효율을 증대시키며 불량 발생을 줄여 제품의 수율을 향상시킬 수 있는 기판처리장치를 제공하는데 있다.
상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 스팀 발생기, 상기 스팀 발생기와 관로로 연결되어 스팀을 통과 및 차단시키거나 또는 스팀의 양을 조절하는 밸브, 상기 밸브와 관로로 연결되어 기판으로 스팀을 분사하는 스팀 분사기를 포함하는 기판처리장치를 제공한다.
상기 스팀 발생기 및 상기 밸브는 스팀을 통과 및 차단시키거나 또는 스팀의 양을 조절하는 컨트롤러가 연결된다.
상기 스팀 발생기, 밸브 그리고 스팀 분사기를 연결하는 관로에는 스팀에 포함될 수 있는 이물질을 걸러주는 필터가 배치될 수 있다.
상기 스팀 분사기는 기판이 통과하는 베스 내부에 배치되는 것이 바람직하다.
상기 베스에는 상기 스팀 분사기에서 분사된 스팀을 외부로 인출할 수 있는 배기장치가 제공되는 것이 바람직하다.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세하게 설명하면 다음과 같다.
도 1은 본 발명에 따른 실시 예를 설명하기 위한 구성도로, 세정을 위한 기판 처리장치를 도시하고 있다. 상기 세정을 위한 기판 처리 장치는, 스팀 발생기(1), 상기 스팀 발생기(1)에 관로(P)로 연결되는 밸브(5), 상기 밸브(5)와 또 다른 관로(P)로 연결되는 스팀 분사기(7)를 포함한다.
상기 스팀 발생기(1)는 고온, 고압의 스팀을 발생시키기 위한 것으로, 경우에 따라 기판을 세정하는 세정액이 기체 형태로 포함되는 것도 가능하다. 이러한 스팀 발생기(1)는 스팀 분사기(7)로 고온 고압의 스팀을 전달할 수 있는 것이면 어느 것이나 가능하다.
상기 밸브(5)는 스팀 발생기(1)에서 나오는 스팀을 통과시키거나 차단시킬 수 있는 것이 적당하다. 또한, 상기 밸브(5)는 스팀 발생기(1)에서 전달되는 스팀의 양을 조절할 수 있는 조절 기능을 구비하는 것이 바람직하다.
그리고 상기 스팀 발생기(1) 및 상기 밸브(5)는 스팀의 양을 조절하거나 또는 스팀이 밸브(5)를 통과하거나 차단하는 것을 자동으로 제어할 수 있는 컨트롤러(C)가 전기적으로 연결되는 것이 바람직하다.
또한, 상기 스팀 발생기(1)와 상기 밸브(5) 사이의 관로(P)에는 필터(9)가 배치되는 것이 바람직하다. 상기 필터(9)는 상기 스팀 발생기(1)에서 전달되는 스팀에 포함된 이물질 등을 걸러주어 청정한 스팀을 스팀 분사기(7)에 공급하기 위한 것이다. 본 발명의 실시 예에서 상기 필터(9)는 스팀 발생기(1)와 상기 밸브(5) 사이에 설치되는 것을 예로 설명하였으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 밸브(5)와 스팀 분사기(7)를 연결하는 또 다른 관로(P)에 배치되는 것도 가능하다.
한편, 상기 스팀 분사기(7)는, 기판(G)이 통과할 수 있는 세정 쳄버(11, 이하, '쳄버'라고도 함)의 내부에 배치된다. 상기 쳄버(11)는 통상의 세정을 위한 통상의 쳄버가 사용될 수 있다. 특히 상기 쳄버(11)의 내부에는 기판(G)이 이송될 수 있는 이송장치(R, 롤러가 연결되는 '컨베이어'가 사용될 수 있음)가 배치되는 것이 바람직하다. 그리고 상기 스팀 분사기(7)는 기판(G)의 이송 방향(화살표로 표시)에 대하여 일정한 각도로 경사진 형태로 배치되는 것이 바람직하다. 상기 스팀 분사기(7)의 스팀 배출 부분에는 배기장치(13)가 마련되는 것이 바람직하다.
상기 배기장치(13)는 쳄버(11) 내부로 분사된 스팀 및 이러한 스팀에 의하여 기판(G)에서 분리된 이물질, 그리고 유기물 등을 외부로 신속하게 배출할 수 있는 것으로 통상의 장치가 사용될 수 있다.
이와 같이 이루어지는 본 발명의 기판처리장치를 통하여 기판이 처리되는 과정을 상세하게 설명하면 다음과 같다. 상기 기판(G)이 컨베이어 등의 이송장치(R)를 따라 화살표 방향으로 이동한다. 이때 상기 컨트롤러(C)의 제어에 의하여 스팀 발생기(1)의 스팀이 밸브(5)를 통하여 스팀 분사기(7)로 전달된다. 이 때 스팀 발생기(1)에서 나오는 스팀은 관로(P)를 따라 이동하면서 필터(9)를 거친다. 상기 필터(9)에서는 스팀 속에 포함되어 있는 이물질 등을 걸러주어 청정한 스팀이 통과되도록 한다. 그리고 계속해서 스팀 분사기(7)로 전달된 스팀은 스팀 분사기(7)를 통하여 고온 고압의 상태로 기판(G)으로 분사되는 것이다. 그러면 기판(G)에 묻어 있던 이물질 및 유기물들이 고온 고압에 의하여 분사되는 스팀에 의하여 기판(G)에서 박리된다. 이때 배기장치(13)는 베스(11) 내부에 있는 스팀 및 이물질을 외부로 신속하게 배출한다. 물론, 상기 컨트롤로(C)는 밸브(5)를 조절하여 스팀의 양을 조절할 수 있어 기판(G)의 조건에 따라 다량의 스팀을 공급하는 것이 가능한 것이다.
따라서 본 발명의 기판처리장치는 기판(G)에 묻어 있는 이물질 및 특히 유기 물 등을 신속하게 제거하여 기판의 처리 효율을 증대시킬 뿐만 아니라 불량을 방지하여 수율을 향상시킬 수 있는 것이다.
이상을 통해 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.
이와 같이 본 발명은 고온 고압의 스팀이 기판에 분사되므로 기판에 묻어 있는 유기물 및 파티클(이물질)이 용이하게 제거되어 기판의 처리 효율을 증대시키며, 불량을 줄여 수율을 향상시킬 수 있다.

Claims (5)

  1. 세정 쳄버;
    상기 세정 쳄버에 제공되며 기판을 이송시키는 기판이송장치;
    스팀을 발생시키는 스팀 발생기;
    상기 스팀 발생기와 관로로 연결되어 스팀을 통과 및 차단시키거나 또는 스팀의 양을 조절하는 밸브;
    상기 밸브와 관로로 연결되어 상기 기판으로 스팀을 분사하며 상기 세정 쳄버의 내부에 배치되는 스팀분사기; 그리고
    상기 스팀 분사기에서 분사된 스팀을 외부로 인출할 수 있도록 상기 세정 쳄버에 제공되는 배기장치;
    를 포함하는 기판처리장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 스팀 발생기 및 상기 밸브는
    스팀을 통과 및 차단시키거나 또는 스팀의 양을 조절하는 컨트롤러가 연결되는 기판처리장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 스팀 발생기, 밸브 그리고 스팀 분사기를 연결하는 관로에는 스팀에 포함될 수 있는 이물질을 걸러주는 필터가 배치되는 기판처리장치.
  4. 삭제
  5. 삭제
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KR100885239B1 (ko) * 2007-09-19 2009-02-24 세메스 주식회사 기판 처리 장치
KR101284680B1 (ko) * 2006-12-21 2013-07-16 주식회사 케이씨텍 기판 스팀세정장치
CN110882980A (zh) * 2019-11-20 2020-03-17 蚌埠中光电科技有限公司 一种液晶玻璃基板的清洗方法

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