KR101008383B1 - 유체분사장치 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (5)
- 기판에 박막을 증착하는 화학기상증착 설비의 앞쪽에 설치되어 상기 기판에 박막을 증착하기 전에 상기 기판의 이물질을 제거하는 기판의 이물질 제거용 유체분사장치에 있어서,이물질 제거용 유체를 공급하는 유체 공급장치와 연결되고 내부에 공간을 구비하며 유체를 배출하는 복수의 제1 배출구멍이 길이 방향을 따라서 제공되는 인너 파이프;상기 인너 파이프의 외주에 배치되며 상기 제1 배출구멍들 통하여 공급된 유체를 배출하는 복수의 제2 배출구멍이 길이 방향을 따라서 제공된 아웃터 파이프를 포함하며,상기 인너 파이프와 상기 아웃터 파이프는 그 사이에는 완충 공간이 제공되며,상기 제1 배출구멍들 또는 상기 제2 배출구멍들은 각각 일렬로 나란하게 배치되는 이루어지고, 상기 제1 배출구멍들은 상기 제2 배출구멍들이 배치되는 방향과 반대 방향에 배치되며, 상기 제2 배출구멍들에 비하여 크기가 더 크게 이루어지며, 더 넓은 간격으로 배치되며,상기 제2 배출구멍들이 상기 기판의 상면을 기준으로 15°~ 45°범위의 각도를 이루는 방향으로 기울어져 설치되는 기판의 이물질 제거용 유체분사장치.
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- 청구항 1에 있어서,상기 인너 파이프와 상기 아웃터 파이프는원통형으로 이루어진 것을 특징으로 하는 기판의 이물질 제거용 유체분사장치.
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Families Citing this family (3)
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KR102208394B1 (ko) * | 2020-07-22 | 2021-01-27 | 주식회사 예일 | 굴삭기 버킷 및 이를 이용한 복합 오염 토양의 정화 시스템 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0663122U (ja) * | 1993-02-15 | 1994-09-06 | 日立プラント建設株式会社 | 液体噴出器 |
JP2003211027A (ja) | 2002-01-21 | 2003-07-29 | Ikeuchi:Kk | ノズル |
JP2005256084A (ja) | 2004-03-11 | 2005-09-22 | Jfe Steel Kk | 化学蒸着処理の原料ガス供給用ノズル |
JP2007063575A (ja) * | 2005-08-29 | 2007-03-15 | Toppan Printing Co Ltd | プロセスガス供給機構並びにプラズマcvd成膜装置 |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0663122U (ja) * | 1993-02-15 | 1994-09-06 | 日立プラント建設株式会社 | 液体噴出器 |
JP2003211027A (ja) | 2002-01-21 | 2003-07-29 | Ikeuchi:Kk | ノズル |
JP2005256084A (ja) | 2004-03-11 | 2005-09-22 | Jfe Steel Kk | 化学蒸着処理の原料ガス供給用ノズル |
JP2007063575A (ja) * | 2005-08-29 | 2007-03-15 | Toppan Printing Co Ltd | プロセスガス供給機構並びにプラズマcvd成膜装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101354807B1 (ko) * | 2013-05-30 | 2014-01-27 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 저온 테스트용 액화질소 분사 시스템 |
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