KR100868550B1 - 감광성 절연 페이스트 조성물 및 이를 사용하는 감광성 막 - Google Patents

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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100754485B1 (ko) * 2005-12-14 2007-09-03 엘지전자 주식회사 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체층 제조방법
US8158218B2 (en) * 2008-05-02 2012-04-17 Konica Minolta Opto, Inc. Process for producing optical film, optical film, polarizer, and liquid crystal display
CN106773533A (zh) * 2017-02-09 2017-05-31 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 一种光刻胶及其应用方法
WO2020100403A1 (fr) * 2018-11-15 2020-05-22 東京応化工業株式会社 Agent de formation de film protecteur pour découpage en dés au plasma et procédé de fabrication de puce semi-conductrice
CN112500156B (zh) * 2020-12-08 2022-06-03 北京科技大学 一种蓝色氧化锆陶瓷及制备方法
CN115185160B (zh) * 2022-09-09 2023-06-27 之江实验室 基于纤维素衍生物的激光直写光刻胶组合物及图案化方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR970059843A (ko) * 1996-01-22 1997-08-12 와까 바야시 구니히꼬 형광체 패턴 및 형광체 패턴의 제조법 및 여기에 사용하는 감광성 엘리먼트
KR20000067004A (ko) * 1999-04-22 2000-11-15 박이순 저온 소성이 가능한 플라즈마 디스플레이 패널용 감광성 페이스트 조성물
KR20020018288A (ko) * 2000-09-01 2002-03-08 타키모토 마사아키 감광성 조성물, 감광성 도포물 및 미세패턴 구조체
US20020164542A1 (en) * 2001-05-01 2002-11-07 Kiminori Oshio Photosensitive insulating paste composition and photosensitive film made therefrom
KR20030035840A (ko) * 2001-09-18 2003-05-09 후지 필름 아치 가부시키가이샤 감방사선성 착색조성물

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4240733B2 (ja) * 2000-02-22 2009-03-18 三菱重工業株式会社 薄型ディスプレイパネルの隔壁用組成物

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR970059843A (ko) * 1996-01-22 1997-08-12 와까 바야시 구니히꼬 형광체 패턴 및 형광체 패턴의 제조법 및 여기에 사용하는 감광성 엘리먼트
KR20000067004A (ko) * 1999-04-22 2000-11-15 박이순 저온 소성이 가능한 플라즈마 디스플레이 패널용 감광성 페이스트 조성물
KR20020018288A (ko) * 2000-09-01 2002-03-08 타키모토 마사아키 감광성 조성물, 감광성 도포물 및 미세패턴 구조체
US20020164542A1 (en) * 2001-05-01 2002-11-07 Kiminori Oshio Photosensitive insulating paste composition and photosensitive film made therefrom
KR20030035840A (ko) * 2001-09-18 2003-05-09 후지 필름 아치 가부시키가이샤 감방사선성 착색조성물

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