KR100855597B1 - 육불화황 원격 플라즈마 소스 세정 - Google Patents
육불화황 원격 플라즈마 소스 세정 Download PDFInfo
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Abstract
Description
Claims (43)
- 기판 프로세싱 챔버를 세정하기 위한 방법으로서,육불화황과 질소를 포함하는 가스 혼합물을 원격 플라즈마 소스로 도입하는 단계;상기 가스 혼합물의 일부를 이온들로 해리하는 단계;상기 가스 혼합물을 상기 챔버의 프로세싱 영역으로 운반하는 단계; 및상기 이온들과의 반응에 의해 상기 챔버 내의 증착물을 세정하는 단계를 포함하는 세정 방법.
- 삭제
- 삭제
- 제 1항에 있어서,상기 챔버의 프로세싱 영역에 RF 전력을 제공하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 삭제
- 삭제
- 제 1항에 있어서,상기 챔버의 압력이 0.1 내지 1 Torr인 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 기판 프로세싱 챔버를 세정하기 위한 방법으로서,육불화황과 질소를 포함하는 가스 혼합물을 원격 플라즈마 소스로 도입하는 단계;상기 가스 혼합물의 일부를 이온들로 해리하는 단계;상기 가스 혼합물을 상기 챔버의 프로세싱 영역으로 운반하는 단계;상기 이온들과의 반응에 의해 상기 챔버 내의 증착물을 세정하는 단계; 및상기 챔버로부터 상기 가스 혼합물과 증착물의 결합물을 배출하는 단계를 포함하는 세정 방법.
- 청구항 9은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 8항에 있어서,엔드포인트 검출기로부터 제어기로 신호를 보내는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 삭제
- 삭제
- 제 8항에 있어서,상기 챔버의 프로세싱 영역에 RF 전력을 제공하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 삭제
- 삭제
- 제 8항에 있어서,상기 챔버의 압력이 0.1 내지 1 Torr인 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 청구항 16은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.기판 프로세싱 챔버를 세정하기 위한 방법으로서,육불화황과 질소를 포함하는 가스 혼합물을 원격 플라즈마 소스로 도입하는 단계;상기 가스 혼합물의 일부를 이온들로 해리하는 단계;상기 가스 혼합물을 상기 챔버의 프로세싱 영역으로 운반하는 단계;상기 챔버의 프로세싱 영역에 RF 전력을 인가하는 단계;상기 이온들과의 반응에 의해 상기 챔버 내의 증착물을 세정하는 단계; 및엔드포인트 검출기로부터 제어기로 신호를 보내는 단계를 포함하는 세정 방법.
- 청구항 17은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 16항에 있어서,상기 챔버의 압력이 0.1 내지 1 Torr인 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 제 1항에 있어서,상기 원격 플라즈마 소스에 대한 전력은 13 kW 이상인 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 제 1항에 있어서,상기 원격 플라즈마 소스에 대한 전력은 0.0 내지 14.6 kW인 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 제 8항에 있어서,상기 원격 플라즈마 소스에 대한 전력은 13 kW 이상인 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 제 8항에 있어서,상기 원격 플라즈마 소스에 대한 전력은 0.0 내지 14.6 kW인 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 청구항 22은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 16항에 있어서,상기 원격 플라즈마 소스에 대한 전력은 13 kW 이상인 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 청구항 23은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 16항에 있어서,상기 원격 플라즈마 소스에 대한 전력은 0.0 내지 14.6 kW인 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 기판 프로세싱 챔버를 세정하기 위한 방법으로서,불소 함유 가스와 질소를 포함하는 가스 혼합물을 원격 플라즈마 소스로 도입하는 단계;상기 가스 혼합물의 일부를 이온들로 해리하는 단계;상기 가스 혼합물을 상기 챔버의 프로세싱 영역으로 운반하는 단계;상기 이온화된 불소에 인시츄 플라즈마를 제공하는 단계; 및상기 이온들과의 반응에 의해 상기 챔버 내의 증착물을 세정하는 단계를 포함하는 세정 방법.
- 제 24항에 있어서,상기 불소 함유 가스는 육불화황, 분자 불소, 삼불화질소, 불화수소, 사불화탄소 및 퍼플루오로에탄으로 구성된 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 제 24항에 있어서,상기 원격 플라즈마 소스에 아르곤 가스를 도입하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 제 24항에 있어서,상기 불소 함유 가스는 육불화황을 포함하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 삭제
- 제 24항에 있어서,상기 원격 플라즈마 소스에 대한 전력은 13 kW 이상인 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 제 24항에 있어서,상기 원격 플라즈마 소스에 대한 전력은 0.0 내지 14.6 kW인 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 제 24항에 있어서,상기 인시츄 플라즈마는 1.5 kW 이상의 전력에서 제공되는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 제 24항에 있어서,상기 인시츄 플라즈마는 2.5 kW 이상의 전력에서 제공되는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 제 24항에 있어서,상기 세정은 6000 Å/min의 속도로 수행되는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 기판 프로세싱 챔버를 세정하기 위한 방법으로서,불소 함유 가스와 질소를 포함하는 가스 혼합물을 원격 플라즈마 소스로 도입하는 단계;상기 가스 혼합물의 일부를 이온들로 해리하는 단계;상기 가스 혼합물을 상기 챔버의 프로세싱 영역으로 운반하는 단계;상기 불소를 균일하게 해리하는 단계;상기 이온들과의 반응에 의해 상기 챔버 내의 증착물을 세정하는 단계; 및엔드포인트 검출기로부터 제어기로 신호를 보내는 단계를 포함하는 세정 방법.
- 청구항 35은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 34항에 있어서,상기 불소 함유 가스는 육불화황, 분자 불소, 삼불화질소, 불화수소, 사불화탄소 및 퍼플루오로에탄으로 구성된 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 청구항 36은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 34항에 있어서,상기 원격 플라즈마 소스에 아르곤 가스를 도입하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 제 34항에 있어서,상기 불소 함유 가스는 육불화황을 포함하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 삭제
- 제 34항에 있어서,상기 원격 플라즈마 소스에 대한 전력은 13 kW 이상인 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 제 34항에 있어서,상기 원격 플라즈마 소스에 대한 전력은 0.0 내지 14.6 kW인 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 제 34항에 있어서,상기 균일하게 해리하는 단계는 1.5 kW 이상의 전력을 인가하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 제 41항에 있어서,상기 균일하게 해리하는 단계는 2.5 kW의 전력을 인가하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 제 34항에 있어서,상기 세정은 6000 Å/min의 속도로 수행되는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
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