KR100752995B1 - 코팅조성물, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 물품 - Google Patents

Abstract

본 발명은 1종 이상의 유기 수지, 1종 이상의 안료 및 선택적으로 1종 이상의 유기 용매를 포함하는 코팅 조성물, 바람직하게는 보안용 인쇄 잉크에 관한 것이다. 상기 안료는 유리 매트릭스에 포매된 1 이상의 결정질 입자를 보유하는 유리 세라믹 복합물 입자를 포함한다. 상기 유리 세라믹 입자의 입경 범위는 0.1 ∼ 50 ㎛이다. 희토 원소의 군에서 선택되는 활성 이온을 복합물의 결정상에 혼입시켜서 발광 상향 및 하향 주파수변환성을 갖는 유리 세라믹을 제공하는 것이 바람직하다. 이러한 유리 세라믹 발광 물질은 우수한 물리적 화학적 안정성을 갖는다. 이 유리 매트릭스는 또한 낮은 음자 에너지를 갖는, 광물리적으로 흥미로운 할라이드 호스트 결정체를 안정하게 한다. 이러한 물질들은 독특한 여기성 및 방출성을 제공한다.

Description

코팅조성물, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 물품{COATING COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING THEREOF AND ARTICLE CONTAINING THE SAME}

본 발명은 독립 청구항의 서문에 기재된 코팅 조성물, 코팅 조성물의 제조 방법 및 이를 포함하는 코팅 물품에 관한 것이다.

발광성(인광성)을 지닌 안료는 잘 알려져 있으며, 보안 용도에서 마킹 재료로서 널리 사용되고 있다. 발광 물질은 이들에 작용하는 특정 유형의 에너지를 흡수한 후, 이 흡수된 에너지를 전자기 방사로서 방출할 수 있다. 하향 주파수변환(down-converting) 발광 물질은 더 높은 주파수(더 짧은 파장)에서 전자기 방사를 흡수하고 더 낮은 주파수(더 긴 파장)에서 이를 재방출한다. 상향 주파수변환(up-converting) 발광 물질은 더 낮은 주파수에서 전자기 방사를 흡수하고 더 높은 주파수에서 그것의 일부를 재방출한다. 발광 물질은 대량 생산 제품, 고가 상품 및 보안 문서의 코딩 및 마킹에 사용된다. 어떤 경우에는 상향 주파수변환 발광 물질을 투명하거나 무색인 코팅 조성물 또는 인쇄 잉크에 숨겨진 "꼬리표 물질(taggant)"로서 첨가하여, 이를 바코드, 사장(社章), 라벨 등의 형태로 상품에 도포한다. 이렇게 하면 이후에 위조품과 저작권 침해 행위에 대항하여 진품을 인식할 수 있게 된다.

발광 물질의 빛 방출은 원자나 분자의 여기(勵起) 상태로부터 발생한다. 이러한 여기 상태의 방사 붕괴는 특징적인 붕괴 시간을 갖는데, 이는 물질에 따라 다르며, 10^-9초에서 수 시간에 이른다. 단수명 발광 방출은 일반적으로 형광으로 불리며, 장수명 방출은 인광으로 불린다. 두 방출 유형 중 어느 유형의 물질도 기계 판독가능한 코드의 생성에 적합하다. 기계 판독성은 제품의 대량 처리, 예컨대 자동 생산, 분류, 품질 관리, 포장 또는 인증 작업에 있어서 필수 요건이다. 기계 검증 역시 위조나 모조 탐지를 위해 외부 생산망 또는 물류관리망에 이용된다.

통상의 상향 주파수변환 물질은 무기성이며, 주로 희토 이온이 활성제 및 감광제로서 존재하는 결정 격자로 구성된다. 상향 주파수변환 물질의 여기성 및 방출 성은 사용되는 희토 이온의 고유 성질이다. 이들의 해당하는 광학적 흡수 및 방출 과정은 희토 이온의 불완전하게 채워진 4f 껍질 내의 전자 전이에 의한 것이다. 이 전자 껍질은 원자의 화학적 환경으로부터 강력히 보호되므로, 결정 격자에서의 변화, 열 진동 등은 이에 최소한의 영향만을 미친다. 결과적으로, 희토 이온은 좁은 대역의 광학 흡수 및 방출 스펙트럼을 갖게 되는데, 이는 대부분 결정 격자의 성질에는 무관하다. 뚜렷하고 분리된 대역 및 결정 격자와의 낮은 상호작용으로 인해, 일반적으로 고포화의 발광 색과 높은 발광 양자 수득률이 얻어진다.

희토 이온 발광 활성제는 비교적 장수명인 여기 상태와 독특한 전자 구조를 갖는다. 이는 2 이상의 광자의 에너지가 1개의 단일 발광 중심에 연속적으로 전달되어 그곳에 누적되게 한다. 이로써 전자는 들어오는 광자 에너지에 상응하는 것보다 더 높은 에너지 레벨로 전달된다. 이러한 전자가 더 높은 레벨에서 바닥 상태로 회귀할 경우, 누적된 여기 광자의 에너지의 대략적인 합에 해당하는 에너지를 보유하는 광자가 방출된다. 이러한 방식으로, 예컨대 IR 방사를 가시광선으로 변환하는 것이 가능하다. 알칼리 및 알칼리성 토금속 할라이드, 그리고 이트륨, 란타늄 및 가돌리늄의 할라이드, 옥시할라이드 및 옥시설파이드는 주로 호스트 물질로서 사용되는 반면, 예컨대 Er³⁺, Ho³⁺ 및 Tm³⁺는 활성제로서 작용한다. 또한, 이터븀(3+) 및/또는 기타 이온들은 감광제로서 결정 격자 내에 존재하여 양자 수득률을 증가시킬 수 있다.

하향 주파수변환 발광 물질은 무기성 또는 유기(분자)성일 수 있다. 단파장 빛을 지닌 발광 물질의 방사는 전자를 더 높은 여기 상태로 이동시킨다. 이러한 보다 높은 여기 상태의 붕괴는 일반적으로 그 다음으로 낮은 여기 상태로 붕괴되고, 마지막으로 바닥 상태로 붕괴되는 캐스캐이드로 일어나며, 여기 방사보다 더 긴 파장을 갖는 빛을 방출시킨다. 통상의 하향 주파수변환 발광 물질은 UV를 가시광선으로 변환시킨다. UV 또는 가시광선의 IR로의 변환, 또는 더 낮은 파장의 IR에서 더 높은 파장의 IR로의 변환 역시 가능하다. 일반적으로 상향 주파수변환 발광 물질 역시 하향 주파수변환 모드에서 이용될 수 있다.

그러나, 다수의 상향 및 하향 주파수변환 물질은 산소, 습기, 그리고 특히 화학적 산화제나 환원제를 함유하는 유기 용매 및/또는 매질에 노출될 경우 안정하지 못하다. 따라서, 발광 물질, 특히 코팅 조성물이나 인쇄 잉크와 같은 중합체 조성물에 안료로서 혼합되는 데 적합한 상향 주파수변환제의 선택은 몇가지 유형의 호스트 결정체에만 국한된다.

GB 2 258 659 및 GB 2 258 660은 에르븀 및 이터븀으로 도핑된 이트륨 옥시설파이드(Y₂O₂S)를 주성분으로 하는 상향 주파수변환 물질에 대해 기술하고 있다. 보안용 인쇄 잉크에서 이러한 물질들의 안료로서의 용도에 대해서도 개시하고 있다.

필수 안정성 기준을 충족시키는 통상의 상향 및 하향 주파수변환 물질의 조성, 합성법 및 흡수성/방출성 역시 위조자들에게 점점 더 노출되고 있으므로, 특이한 조성 및 성질, 예컨대 독특한 발광 붕괴 특성 및/또는 독특한 발광 효율 및/또는, 해당되는 경우, 다중 방출 가능성들간에 독특한 분기비(이들 모두는 보안용으로 활용될 수 있는 것임)를 갖는 새로운 상향 및 하향 주파수변환 물질이 꾸준히 요구되고 있다.

본 발명의 일 목적은 선행 기술의 단점을 극복하는 데 있다.

구체적으로, 본 발명의 일 목적은 새로운 발광 안료, 특히 독특한 여기성/방출성을 갖는 안료를 제공하는 것이다. 본 발명의 또 다른 목적은 환경적 영향, 특히 유기 수지 및/또는 용매에 저항성인 상향 및 하향 주파수변환 안료를 제공하는 것이다.

이러한 목적들은 독립 청구항의 특징으로 해결된다. 구체적으로, 상기 목적들은 1종 이상의 유기 수지, 1종 이상의 안료 및 선택적으로 1종 이상의 용매를 포함하는 코팅 조성물, 바람직하게는 보안용 인쇄 잉크에 의해 해결되었는데, 상기 안료는 유리 매트릭스에 매설된 1 이상의 결정상을 보유하는 유리 세라믹 입자를 포함하고, 입경 범위가 0.1 ∼ 50 ㎛인 것이 특징이다. 유리 세라믹 입자의 입경 범위는 1 ∼ 20 ㎛인 것이 바람직하고, 3 ∼ 10 ㎛인 것이 보다 더 바람직하다.

유리 세라믹은 복합 고체이며, 유리의 불투명도를 조절하여 형성한다(참고 문헌[Rompp Chemie Lexikon, J. Felbe, M. Regitz 편저, 9판 1990, 페이지 156]). 이들은 적합한 전구체 유리를 가열(담금질)하여 유리 조성물의 일부를 부분적으로 결정화시켜서 제조할 수 있다. 이로써 유리 세라믹은 주변의 유리상에 매설된 일정량의 결정상을 포함한다.

본 발명의 바람직한 실시형태에서 유리 세라믹의 결정상은 발광 물질을 포함한다. 이것은 통상의 환경에서 안정하지 않은 발광 물질의 경우 특히 중요하고 유용하며, 이로 인해 산소, 습기 등의 해로운 영향으로부터 보호될 수 있다. 유리 매트릭스는 결정상이 해로운 환경에서 분해되는 것을 막아서, 코팅 조성물 등에 혼입될 수 있게 한다. 이렇게 하여, 새로운 유형의 발광 물질은 상기 방법에 의해 인쇄용으로 이용할 수 있게 된다.

광물리적으로 흥미로운 많은 발광 호스트 물질들, 란탄족 원소의 플루오라이드, 클로라이드 또는 브로마이드 등은, 예컨대 어느 정도 수용성이다. 이러한 가용 성은 결정 격자가 다소 약한 정전기력으로 단일 음성 음이온에 구속되어 있는 것에 기인한다. 상기 물질들은 위와 같은 이유 및/또는 중금속 이온의 존재로 인해, 이들의 결정 격자의 저주파수 진동 모드[음자(phonon) 모드]만을 나타낸다. 고주파수 진동 모드의 부재로 인해 여기 상태의 수명 및 발광 양자 수득률이 크게 증가된다. 그 이유는 그 다음으로 낮게 위치하는 전자 레벨까지의 에너지 갭이 결정 격자의 가장 높은 진동 모드의 에너지(음자 에너지)보다 훨씬 클 경우, 전기적으로 여기된 활성제 이온의 진동적 탈여기 가능성이 낮기 때문이다. 이러한 경우 결정 격자로의 에너지 전달은 무시할 정도가 된다. 따라서, 낮은 음자 에너지를 갖는 호스트 물질이 절실히 요구되는 실정이며, 높은 양자 수득률을 얻기 위해 장수명 여기 상태가 요구되는 상향 주파수변환 인광 분야에서 특히 그러하다. 지금까지는 란탄족 할라이드 및 관련 물질들은 이들의 수용성과 습기 민감성으로 인해 해당 기술 분야에 이용할 수 없었다.

바람직하게는 유리 세라믹의 결정질 성분은 580 cm^-1를 초과하지 않는 음자 에너지를 보유하며, 400 cm^-1를 초과하지 않는 것이 바람직하고, 350 cm^-1를 초과하지 않는 것이 보다 더 바람직하다. 이러한 값은 다소 낮은 음자 에너지의 경우 유지되며, 특히 발광 호스트로서 적합한데, 그 이유는 이 값으로 인해 그렇지 않을 경우 높은 음자 에너지 고체, 예컨대 산화물 등에서 퀀칭될 수 있는 여기된 에너지 레벨로부터의 방출이 가능해지기 때문이다.

전술한 바와 같이, 음자는 물질에서의 결정 격자 진동이다. 해당 음자 에너 지는 플랑크 식 E=hν에 의해 화합물의 가장 높은 측정값 MIR 흡수 대역의 주파수 ν와 연관되어진다. 여기된 희토 이온이, 호스트 격자의 음자 에너지의 단지 몇배에 해당하는 두 에너지 레벨 사이에서 전이 가능성을 갖는다면, 이 에너지는 전자기적 방사의 방출 없이, 바람직하고 신속하게 결정 격자로 방산될 것이다(무방사 전이). 훨씬 낮은 음자 에너지를 갖는 호스트 격자에서는 바람직하게 동일한 전이가 방사될 것이다. 중간의 경우에는 방사와 무방사 탈활성화 두 과정이 서로 경쟁할 것이다.

Pr³⁺ 이온에서는, Pr³⁺의 ¹G₄ 레벨은 ³F₄ 레벨보다 불과 3000 cm^-1 위이다. 프레이즈오디늄 유리와 같은 옥시드 매트릭스에서는 이러한 갭을 연결하는 데 단지 몇개의 Si-O 진동 음자(1100 cm^-1)만이 요구된다. 따라서, ¹G₄ 레벨의 여기된 모든 전자는 결정 격자 음자를 여기시킴으로써 ³F₄ 레벨로 급속히 회귀되고, 해당 파장의 전자기 방사는 전혀 생성되지 않는다. Pr³⁺ 도핑된 LaF₃ 매트릭스에서는, 음자 에너지는 350 cm^-1이고, Pr³⁺ 이온의 ¹G₄에서 ³F₄ 로의 전이는 방사적으로 발생한다. 또한, ¹G₄ 상태의 존속 시간은 크게 증가한다.

음자 에너지는 결합 강도 및 결정 격자를 형성하는 이온의 질량에 의해 조절되므로, 결합력이 약한 중량 원소는 최저 음자 에너지 물질을 제공한다. 예컨대, ZBLAN(53ZrF₄ㆍ20BaF₂ㆍ4LaF₃ㆍ3AlF₃ㆍ20NaF)와 같은 중금속 플루오라이드 유리는 실리케이트의 최대 음자 에너지의 절반을 보유하기 때문에, Pr³⁺의 ¹G₄ 레벨을 퀀칭하는 데 2배 더 많은 음자가 요구된다. ZBLAN 유리는 레이저 및 섬유 광학용으로 잘 알려진 호스트 격자로서, 본 발명에 따른 유리 세라믹 복합물의 유리 성분으로서도 사용될 수 있다.

유리 세라믹은 400 ∼ 750 nm 범위, 즉 전자기 스펙트럼의 가시 범위의 전자기 방사에 대해 실질적으로 투명한 것이 바람직하다. 유리 세라믹의 투명도는 포매된 결정체의 평균 크기 및/또는 결정체와 유리 매트릭스 사이의 굴절률 차이에 의해 결정된다. 바람직한 실시형태에서 결정체의 평균 크기는 50 nm를 초과하지 않으며, 40 nm를 초과하지 않는 것이 바람직하다. 이 크기를 초과하는 결정체는 유리 세라믹을 불투명하게 한다.

유리 매트릭스 내에 포매된 한 결정체에서 다른 결정체까지의 평균 거리는 결정체의 크기 정도여야 하는데, 예컨대 50 nm를 초과하지 않고, 40 nm를 초과하지 않는 것이 바람직하다. 투명도와는 별개로 또 다른 중요한 측면은 유리 매트릭스에 의한 결정체의 보호이다. 환경적 영향에 대한 안정성이 낮고, 유기 수지, 용매, 습기 등에 대해 물리적으로나 화학적으로 저항성이 없는 호스트 결정체는 이러한 화학적 및 물리적 저항성을 갖는 유리 매트릭스에 의해 효과적으로 보호될 수 있다. 포매된 결정체의 크기를 본 발명의 바람직한 실시형태에 부합시키는 경우, 놀랍게도 유리 세라믹의 발광성을 해치지 않고 유리 세라믹을 안료 크기 입자로 분쇄하는 것이 가능하다. 이로써 광활성 결정체는 주변 유리 매트릭스에 의해 보호된 상태로 존재한다.

바람직한 실시형태에서 유리 매트릭스 내의 1 이상의 결정체는 활성 이온을 포함한다.

본 발명의 내용에서, 유리 매트릭스 내의 결정체 중 1 이상에 존재하는 활성 이온은 적절한 전자 구조를 갖는 희토 이온이며, 희토 이온은 Pr³⁺, Nd³⁺, Sm³⁺ , Eu³⁺, Tb³⁺, Dy³⁺, Ho³⁺, Er³⁺, Tm³⁺ 및 Yb³⁺로 구성된 군에서 선택되는 것이 특히 적절하다.

본 발명의 바람직한 실시형태의 유리 세라믹은 옥시플루오라이드 유리 세라믹이다. 옥시플루오라이드는 플루오라이드 매트릭스의 낮은 음자 에너지와 옥시드 유리의 내구성 및 기계적 성질을 갖는다. 옥시드 유리는 복합물의 기계적 성질 및 물리적 성질을 결정하는 반면, 활성 이온의 광학적 성질은 포매된 플루오라이드 결정상에 의해 조절된다.

옥시플루오라이드용으로 바람직한 본 발명의 유리 매트릭스는 주로 NAS 유리(Na₂OㆍAl₂O₃ㆍSiO₂)로 구성된다. 호스트 유리로서의 NAS는 용융 및 형성에 대해서 바람직한 성질을 나타내며, 우수한 투명도와 탁월한 내구성을 나타낸다. SiO₂의 함량은 유리 몰량의 30 ∼ 90 mol%인 것이 바람직하고, 50 ∼ 80 mol%인 것이 보다 바람직하다. 유리 중의 SiO₂ 함량이 높을수록 점성이 더 커지게 되며, 거대 블록으 로 형성하는 것이 더욱 쉬워진다. 그러나, 플루오라이드 함량은 SiO₂ 함량이 하한치에 가까운 유리에서 더 적다. SiO₂는, 예컨대 GeO₂에 의해, Al₂O₃ 는 Ga₂O₃에 의해 대체될 수 있다. 알칼리 함량(Na₂O)은 다른 알칼리, 알칼리들의 혼합물 또는 BaO와 같은 알칼리성 토류에 의해 완전히 또는 부분적으로 대체될 수 있다. 다른 많은 성분들을 NAS 유리에 첨가하여 유리 매트릭스의 굴절률, 팽창성, 내구성, 밀도 및 색상을 변형 및 조정할 수 있다.

옥시플루오라이드 내의 결정상은 LaF₃를 포함하는 것이 바람직하다. LaF₃ 유리 세라믹은 LaF₃로 포화된 Al₂O₃ 풍부 NAS 유리를 열처리(담금질)하여 제조할 수 있다. LaF₃의 가용성은 유리 내의 Al₂O₃에 의해 결정된다. 가용성 한계보다 훨씬 낮은 LaF₃ 레벨로 인해 열 처리시 유리 세라믹을 형성하지 않는 안정한 유리가 된다. 따라서, 유리 중의 LaF₃의 함량은 LaF₃의 가용성 한계의 ±15% 내에, 바람직하게는 10% 내에 들어야 한다. 알칼리 함량이 알칼리성 토금속 조성물에 의해 대체되는 경우, LaF₃의 가용성은 높아진다. 따라서, LaF₃의 양은 증가되어야 한다. LaF₃ 유리 세라믹은 많은 측면에서 기존에 사용된 유리 세라믹, 예컨대 ZBLAN 유리 세라믹보다 우수한 화학적 저항성을 나타낸다.

LaF₃ 결정상은 어떠한 희토 금속의 분할도 가능하게 한다. 따라서, 매우 특이한 전자 구조를 갖는 매우 다양한 상향 및 하향 주파수변환 물질이 제공될 수 있 으며, 이들은 물품 보안에 통상적으로 이용되지 않는 여기 방사에 대해 반응성이다. 따라서, 본 발명의 진보된 물품 보안 시스템에 따라 상기 유리 세라믹을 2 이상의 광자 여기와 함께 사용하면 상향 주파수변환기의 응용 범위가 상당히 확장된다. 바람직한 실시형태의 옥시플루오라이드 유리 세라믹은 사람의 눈에 투명하고 무색으로 보인다.

정확한 미소구조를 조절함으로써, 최적의 광학 유리의 투명도와 동등한 옥시플루오라이드 유리 세라믹의 투명도를 얻을 수 있다. 일반적으로, LaF₃ 유리 세라믹의 미소구조는 열 처리 온도의 함수이다. 750℃에서 4시간 동안 열처리할 경우, 비교적 작은(약 7 nm) 다수의 LaF₃ 결정체를 관찰할 수 있다. 보다 높은 온도에서는 결정체가 더욱 크게 성장하게 된다. 800℃에서 평균 결정체의 크기는 20 nm이고, 825℃에서는 30 nm 이상의 평균 결정체 크기가 관찰된다. 적절한 결정체 크기는 투명도의 주요 영향 인자이기 때문에, 750℃에서 4시간 동안 형성된 유리 세라믹이 전부 중에서도 가장 투명한 것이 되었다. 결정체 크기의 증가는 775℃ 이하의 열 처리와 관련이 있었지만, 투명도는 미처리 물질보다 훨씬 더 높았다. 투명도는 산란 및 흡수 효과의 총 손실의 합인 흡광의 함수로서 측정된다. 850℃ 이상에서 옥시플루오라이드 유리 세라믹은 불투명하게 된다.

담금질된 유리 세라믹을 안료로 분쇄한다. 대부분의 인쇄 용도를 위한 최적 입자 크기는 3 ∼ 10 ㎛ 정도이다. 이러한 투명 옥시플루오라이드 유리 세라믹 입자를 투명 코팅이나 잉크 부형제에 혼입한 후, 비가시성 물품 코딩을 기재에 도포 할 수 있다. 옥시플루오라이드 유리 세라믹 안료는 통상적으로 이용되는 파장의 여기 방사에 반응하지 않는 방출성을 보유하도록 디자인될 수 있으므로, 잠재적 위조자들이 마킹의 위치를 파악 및 확인하거나, 안료를 재연 생산하기가 매우 어렵게 된다.

본 발명의 코팅 조성물, 바람직하게는 인쇄 잉크는 결합제를 추가로 포함한다. 본 발명에 사용되는 결합제는 당업계에 공지된 중합체 중 임의의 것에서 선택할 수 있다. 코팅 조성물, 바람직하게는 인쇄 잉크에 유용한 중합체로는 알키드, 폴리우레탄, 아크릴, 폴리비닐알코올, 에폭시 수지, 폴리카보네이트, 폴리에스테르 등이 있다. 중합체는 열가소성, 산화적 가교성 또는, 예컨대 UV-방사 하에서 방사 경화성인 것일 수 있다. 후자의 경우, 수지는 적절한 가교성 작용기를 포함한다. 이러한 작용기로는 히드록시, 이소시아네이트, 아민, 에폭시, 불포화 C-C 결합 등이 가능하다. 이러한 기들은, 원하는 경화 조건, 일반적으로 승온에서 탈블로킹하여 가교 반응에 이용할 수 있도록 하는 방식으로 마스킹 또는 블로킹된다.

전술한 중합체는 자체 가교성일 수 있거나, 또는 코팅 조성물은 중합체의 작용기와 반응성인 별개의 가교제를 포함할 수 있다.

본 발명의 코팅 조성물, 바람직하게 인쇄 잉크는 용매계 또는 수계일 수 있다. 본 발명의 인쇄 잉크 또는 코팅 조성물은 실질적으로 고체 분말 또는 분산물의 형태로 이용될 수 있지만, 다소 액체 상태인 것이 바람직하다. 유기 용매는 이용되는 결합제 중합체에 따라 극성 또는 비극성 유형일 수 있다.

다른 안료 및/또는 충전제도 존재할 수 있다. "충전제"란 용어는 DIN 55943:1993-11 및 DIN EN 971-1:1996-09에 따라 정의된다. 충전제는 코팅 조성물, 바람직하게는 인쇄 잉크의 다른 성분들에는 불용성인 과립형 또는 가루형의 물질로서, 이를 이용하여 전체 조성물의 독특한 물리적 성질을 제공하고 이에 영향을 준다.

"안료"란 DIN 55943:1993-11 및 DIN EN 971-1:1996-09에 의해 제공되는 정의에 따라 이해해야 한다. 안료는 가루 또는 판형(plate-like) 크기의 착색 물질로서 주변 매질에 불용성(염료와는 상반됨)이다. 자기성 안료, 부식 억제 안료 및/또는 전기전도성 안료와 같은 기능성 안료 역시 이용될 수 있다.

코팅 조성물, 바람직하게 인쇄 잉크는 유동성 조절제, 왁스, 수동 수지, 즉 막 형성 과정에 기여하지 않는 수지, 계면활성제, 가용성 염료, 상승제, 광개시제 등과 같은 다른 첨가제를 포함할 수 있다.

코팅 조성물, 바람직하게 인쇄 잉크는 분무법, 브러싱법, 침지법과 같은 공지된 침착법 중 임의의 방법으로 기저 기판에 도포할 수 있다. 플렉소 인쇄, 그라비어 인쇄, 스크린 인쇄, 오목판 인쇄, 볼록판 인쇄 및 오프셋 인쇄와 같은 인쇄 기법으로 도포하는 것이 바람직하다.

Claims (15)

1. 유기 수지(들), 안료(들) 및 선택적으로 유기 용매(들)를 포함하는 코팅 조성물로서, 상기 안료는 유리 매트릭스에 매설된(embedded) 결정상들을 함유하는 유리 세라믹 복합물 입자를 포함하고, 상기 안료의 입자 크기는 0.1 ∼ 50 ㎛ 범위에 포함되는 것이 특징인 코팅 조성물.
2. 제1항에 있어서, 안료의 입자 크기 범위가 1 ∼ 20 ㎛인 것이 특징인 코팅 조성물.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 유리 세라믹 입자의 결정상은 발광성 물질을 포함하는 것이 특징인 코팅 조성물.
4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 유리 세라믹 입자의 결정상은 580 cm^-1 또는 이 보다 작은 값의 음자(phonon) 에너지를 보유하는 것이 특징인 코팅 조성물.
5. 제1항 또는 제2항에 있어서, 유리 세라믹 입자는 400 ∼ 750 nm 범위의 전자기 방사에 대해 투명한 것이 특징인 코팅 조성물.
6. 제1항 또는 제2항에 있어서, 유리 세라믹 입자의 결정상의 평균 크기는 50 nm 또는 이 보다 작은 값인 것이 특징인 코팅 조성물.
7. 제1항에 있어서, 유리 세라믹 입자의 결정상은 장파에서 단파로의 빛 변환성을 제공하기 위한 활성 이온(들)을 포함하는 것이 특징인 코팅 조성물.
8. 제1항에 있어서, 유리 세라믹 복합물의 결정상은 단파에서 장파로의 빛 변환성을 제공하기 위해 활성 이온(들)을 포함하는 것이 특징인 코팅 조성물.
9. 제7항 또는 제8항에 있어서, 활성 이온은 희토류 이온에서 선택되는 것이 특징인 코팅 조성물.
10. 제1항 또는 제2항에 있어서, 유리 세라믹 입자는 옥시플루오라이드 유리 세라믹인 것이 특징인 코팅 조성물.
11. 제1항 또는 제2항에 있어서, 유리 세라믹 입자의 결정질 성분은 LaF₃를 포함하는 것이 특징인 코팅 조성물.
12. 제1항 또는 제2항에 있어서, 유리 매트릭스는 Na₂OㆍAl₂O₃ㆍSiO₂로 구성되는 것이 특징인 코팅 조성물.
13. 제1항 또는 제2항에 따른 코팅 조성물에 의해 제조된 1개 또는 다수의 층을 포함하는 것이 특징인 보안 문서.
14. 발광 물질을 포함하는 안료용 유리 세라믹 입자 물질.
15. 유리 세라믹 복합 물질을 0.1 ∼ 50 ㎛ 범위의 입자 크기로 분쇄함으로써 유리 세라믹 안료를 제공하는 단계,

    유기 수지(들), 안료(들) 및 선택적으로 유기 용매(들)을 포함하는 코팅 조성물에 상기 유리 세라믹 안료를 혼입시키는 단계

    를 포함하는 유리 세라믹 입자를 안료로서 포함하는 코팅 조성물을 제조하는 방법.