KR100699662B1

KR100699662B1 - 수지 시이트, 이의 제조 방법 및 액정 표시 장치

Info

Publication number: KR100699662B1
Application number: KR1020060124980A
Authority: KR
Inventors: 노부요시 야기; 도시유키 우메하라
Original assignee: 닛토덴코 가부시키가이샤
Priority date: 2000-12-06
Filing date: 2006-12-08
Publication date: 2007-03-23
Also published as: EP1217396A2; EP1217396A3; US20020068134A1; KR100683354B1; KR20070009500A; TWI233501B; US7060346B2; KR20020045543A

Abstract

본 발명은 얇고 가벼우며, 형광 또는 태양광과 같은 조명광 또는 키보더와 같은 주변 기기의 일부가 표시 장치 상에 반사되는 소위 고스트 현상을 방지하기 위한 눈부심 방지 기능 및/또는 조명광으로 인하거나 또는 액정 표시 장치내 빌트인 후면광으로 인한 번쩍임을 방지하기 위한 광확산 기능을 갖는 수지 시이트; 이러한 수지 시이트를 제조하는 방법; 및 이러한 수지 시이트를 사용하는 액정 표시 장치에 관한 것이다. 이들 수지 시이트의 하나는 기체 차단층, 기재층, 및 최외층으로서의 두 개의 경질 피복층으로 구성되고, 상기 하나의 경질 피복층은 그의 외표면에 요철을 갖고, 상기 경질 피복층 중 하나 이상은 투명 입자를 함유한다.

Description

수지 시이트, 이의 제조 방법 및 액정 표시 장치{RESIN SHEETS, PROCESSES FOR PRODUCING THE SAME, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAYS}

도 1은 본 발명에 따른 수지 시이트의 한 양태의 개략적 단면도이다.

도 2는 본 발명에 따른 수지 시이트의 또 다른 양태의 개략적 단면도이다.

도 3은 본 발명에 따른 수지 시이트의 또 다른 양태의 개략적 단면도이다.

도 4는 본 발명에 따른 수지 시이트의 또 다른 양태의 개략적 단면도이다.

도 5는 본 발명에 따른 수지 시이트의 또 다른 양태의 개략적 단면도이다.

도 6은 본 발명에 따른 수지 시이트의 또 다른 양태의 개략적 단면도이다.

도 7은 본 발명에 따른 수지 시이트의 또 다른 양태의 개략적 단면도이다.

도 8은 본 발명에 따른 수지 시이트의 또 다른 양태의 개략적 단면도이다.

도 9는 본 발명에 따른 수지 시이트의 또 다른 양태의 개략적 단면도이다.

도 10은 순환 주조 방법에 의해 수지 시이트를 제조하는 방법을 예시하는 개략도이다.

도 11은 상기 주조 방법에 의해 수지 시이트를 제조하는 방법을 예시하는 경사도이다.

도 12는 수지 시이트 (a)의 개략적 단면도이다.

도 13은 수지 시이트 (b)의 개략적 단면도이다.

도 14는 수지 시이트 (c)의 개략적 단면도이다.

도 15는 수지 시이트 (d)의 개략적 단면도이다.

도 16은 수지 시이트 (e)의 개략적 단면도이다.

도 17은 수지 시이트 (f)의 개략적 단면도이다.

도 18은 수지 시이트 (g)의 개략적 단면도이다.

도 19는 수지 시이트 (h)의 개략적 단면도이다.

도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

1: 요철을 갖고 입자를 함유하는 경질 피복층

2: 기재층

3: 기체 차단층

4: 입자를 함유하는 경질 피복층

5: 경질 피복층

6: 요철을 갖는 경질 피복층

7: 이음매 없는 벨트(기판)

8: 기재층 형성을 위한 다이(die)

9: 히터

10: 구동 드럼

11: 보조 드럼

12: 기재층

13：경질 피복층 형성을 위한 다이

14: 자외선 경화 장치

15: 기체 차단층 형성을 위한 다이

16: 기체 차단층

17: 경질 피복층

18: 가장자리 강화용 테이프

19: 편평한 표면의 주조 플레이트

20: 표면-처리된 주조 플레이트

21: 밀봉 재료

22: 간격 조절을 위한 이격제

23: 흑색 기재층

본 발명은 고스트(ghost) 및 번쩍임을 방지하고 우수한 눈부심 방지 성질 및 광확산성을 갖는 수지 시이트, 번쩍임을 방지하고 우수한 광확산성을 갖는 수지 시이트, 고스트를 방지하고 우수한 눈부심 방지 성질을 갖는 수지 시이트, 상기 수지 시이트의 제조 방법, 상기 수지 시이트를 사용한 액정 표시 장치, 및 상기 수지 시 이트를 이용한 유기 전자발광 표시 장치에 관한 것이다.

액정 표시 장치와 같은 표시 장치에서, 투명 입자를 함유하는 광확산 시이트를 액정 셀의 가시측면에 결합시켜 조명광으로 인하거나 또는 액정 표시 장치내 빌트인(built-in) 후면광(backlight)으로 인한 번쩍임을 방지하기 위한 가시성 개선 기술이 알려져 있다. 또한, 그 표면에 요철을 갖는 눈부심 방지 시이트를 액정 셀의 가시측면에 결합시켜 형광 또는 태양광과 같은 조명광 또는 키보더(keyboarder)와 같은 주변 기기의 일부가 표시 장치 상에 반사되는 소위 고스트 현상을 방지하는 기술도 알려져 있다.

그러나, 액정 표시 장치의 두께 및 중량을 감소시키는 견지에서, 액정 셀의 가시측면에 광확산 시이트 또는 눈부심 방지 시이트를 결합시키는 대신 수지 시이트에 광확산 기능 또는 눈부심 방지 기능을 부여하기 위한 연구가 되어 왔다.

본 발명의 목적은 얇고 가벼우며, 형광 또는 태양광과 같은 조명광 또는 키보더와 같은 주변 기기의 일부가 표시 장치 상에 반사되는 일명 고스트 현상을 방지하기 위한 눈부심 방지 기능 및/또는 조명광 또는 액정 표시 장치내 빌트인 후면광으로 인한 번쩍임을 방지하기 위한 광확산 기능을 갖는 수지 시이트를 제공하는 것이다.

본 발명의 다른 목적은 상기 수지 시이트를 제조하기 위한 방법을 제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 상기 수지 시이트를 사용하는 액정 표시 장치를 제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 상기 수지 시이트를 사용하는 유기 전자발광 표시 장치를 제공하는 것이다.

본 발명은, 본 발명의 첫 번째 태양에 따라, 기체 차단층, 기재층, 및 각 최외층으로서의 두 개의 경질 피복층을 포함하고, 이러한 경질 피복층 중 하나가 그의 외표면(노출된 면)에 요철을 갖고, 상기 경질 피복층 중 하나 이상이 투명 입자를 함유하는 수지 시이트를 제공한다.

또한, 본 발명은 기체 차단층, 기재층, 및 최외층으로서의 하나의 경질 피복층을 포함하고, 이러한 경질 피복층이 그의 외표면에 요철을 갖고, 투명 입자를 함유하는 수지 시이트를 제공한다.

상기 기술된 수지 시이트에서, 요철을 갖는 표면은 바람직하게는 80 내지 500 nm의 표면 조도(Ra)를 갖고, 20 내지 80 nm의 산곡(山谷) 간격(peak-to-valley distance)을 갖는다.

투명 입자는 구형입자로서, 구형 입자와 경질 피복층을 구성하는 매트릭스 수지 사이의 굴절률 차이가 0.03 내지 0.10이 되도록 구형인 것이 바람직하다.

기재층은 바람직하게는 에폭시 수지를 포함하고, 경질 피복층은 바람직하게는 우레탄 수지를 포함한다.

첫 번째 태양에 따라, 지지체 내에 형성된 오목부 형상을 전사시켜 경질 피복층의 표면 위에 요철을 형성하는 단계를 포함하는 수지 시이트의 제조 방법; 및 본 발명의 본 태양에 따른 수지 시이트를 사용하는 액정 표시 장치의 제조 방법이 제공된다.

또한, 본 발명은, 본 발명의 두 번째 태양에 따라, 기체 차단층, 기재층, 및 각 최외층으로서의 두 개의 경질 피복층을 포함하고 경질 피복층 중 하나 이상이 투명 입자를 함유하는 수지 시이트를 제공한다.

또한, 본 발명은 기체 차단층, 기재층, 및 최외층으로서의 하나의 경질 피복층을 포함하고, 이러한 경질 피복층이 투명 입자를 함유하는 수지 시이트를 제공한다.

상기 기술된 수지 시이트에서, 투명 입자는 구형 입자로서, 구형 입자와 경질 피복층을 구성하는 매트릭스 수지 사이의 굴절률 차이가 0.03 내지 0.10이 되도록 구형인 것이 바람직하다.

또한, 두 번째 태양에 따라, 본 발명의 본 태양에 따른 수지 시이트를 사용하는 액정 표시 장치가 제공된다.

또한, 본 발명은, 본 발명의 세 번째 태양에 따라, 기체 차단층, 기재층, 및 최외층으로서의 하나의 경질 피복층을 포함하고, 상기 경질 피복층이 그의 외표면에 요철을 갖는 수지 시이트를 제공한다.

상기 기술된 수지 시이트에서, 요철을 갖는 표면은 80 내지 500nm의 표면 조도(Ra) 및 20 내지 80 nm의 산곡 간격을 갖는다.

세 번째 태양에 따라, 지지체 내에 형성된 오목부 형상을 전사시켜 경질 피복층의 표면 위에 요철을 형성하는 단계를 포함하는 수지 시이트의 제조 방법; 및 본 발명의 본 태양에 따른 수지 시이트를 사용하는 액정 표시 장치가 제공된다.

본 발명의 첫 번째 태양에 따른 수지 시이트의 하나는 기체 차단층, 기재층, 및 각 최외층으로서의 두 개의 경질 피복층을 포함하고, 상기 경질 피복층 중 하나가 그의 외표면에 요철을 갖고, 상기 경질 피복층 중 하나 이상은 투명 입자를 함유한다.

"경질 피복층 중하나 이상이 투명 입자를 함유한다"란 용어는, 두 개의 경질 피복층 중 그 표면에 요철을 갖는 층만이 투명 입자를 함유하는 경우; 두 개의 경질 피복층 중 그 표면에 요철을 갖지 않는 층만이 투명 입자를 함유하는 경우; 및 표면에 요철을 갖는 경질 피복층 및 표면에 요철을 갖지 않는 경질 피복층 모두가 투명 입자를 함유하는 경우를 포함한다.

이러한 수지 시이트에서, 기재층 및 기체 차단층의 중첩 순서가 특별히 제한되는 것은 아니다. 즉, 본 발명의 상기 태양에 의해 제공되는 수지 시이트는 최외면으로부터 경질 피복층, 기체 차단층, 기재층, 및 경질 피복층을 포함하는 것이거나, 또는 최외면으로부터 경질 피복층, 기재층, 기체 차단층, 및 경질 피복층을 포 함하는 것일 수 있다. 상기 기술된 수지 시이트의 양태는 도 1 내지 도 3에 나타나 있다.

본 발명의 첫 번째 태양에 따른 다른 수지 시이트는 기체 차단층, 기재층, 및 최외층으로서의 하나의 경질 피복층을 포함하고, 상기 경질 피복층은 그의 외표면에 요철을 갖고 투명 입자를 함유한다.

또한 이러한 수지 시이트에서도, 기재층 및 기체 차단층의 중첩 순서가 특별히 제한되는 것은 아니다. 즉, 본 발명의 첫 번째 태양에 따른 상기 수지 시이트는 최외면으로부터 경질 피복층, 기체 차단층 및 기재층을 포함하는 것이거나, 또는 최외면으로부터 경질 피복층, 기재층, 및 기체 차단층을 포함하는 것일 수 있다. 그러나, 기체 차단층은 최외층이 아닌 것이 바람직한데, 이는 기체 차단층이 경질 피복층 및 기재층에 비해 충격 저항성 및 화학물질 저항성이 나쁠 수 있기 때문이다. 즉, 최외면으로부터 경질 피복층, 기체 차단층, 및 기재층을 포함하는 수지 시이트가 더욱 바람직하다. 상기 기술된 수지 시이트의 한가지 양태를 도 4에 제시한다.

본 발명의 경질 피복층을 형성하는데 사용가능한 물질의 예로는 우레탄 수지, 아크릴계 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리(비닐알콜)과 에틸렌/비닐 알콜 공중합체와 같은 폴리(비닐 알콜) 수지, 염화 비닐 수지, 및 염화 비닐리덴 수지가 포함된다.

수지층을 형성하는데 사용가능한 것은 폴리아릴레이트계 수지, 설폰 수지, 아미드 수지, 이미드 수지, 폴리에테르설폰 수지, 폴리에테르이미드 수지, 폴리카 보네이트 수지, 실리콘 수지, 불소수지, 폴리올레핀 수지, 스티렌 수지, 비닐피롤리돈 수지, 셀룰로즈성 수지, 아크릴로니트릴 수지 등이다. 이들 수지중 바람직한 것은 우레탄 수지이고, 특히 바람직한 것은 우레탄 아크릴레이트이다. 또한, 두 가지 이상의 수지의 적절한 혼합물 등을 수지층을 형성하는데 사용할 수 있다.

본 발명의 기체 차단층을 형성하는데 사용가능한 물질의 예로는 낮은 산소 투과도를 갖는 물질로서, 예를 들어, 폴리(비닐알콜)과 같은 비닐 알콜 중합체, 부분적으로 비누화된 폴리(비닐 알콜), 및 에틸렌/비닐 알콜 공중합체, 폴리아크릴로니트릴, 및 폴리(염화비닐리덴)이 포함된다. 그러나, 높은 기체 차단 성질의 측면에서 비닐 알콜 중합체가 특히 바람직하다.

기체 차단층의 두께는 바람직하게는 2 내지 10㎛, 더욱 바람직하게는 3 내지 5㎛이다. 유기 기체 차단층의 두께가 2㎛ 보다 얇은 경우, 기체 차단 역할을 충분히 할 수 없다. 만일 두께가 10㎛ 초과인 경우, 수지 시이트는 황색 지수(YI; yellowness index)가 증가하게 된다.

기재층을 형성하기 위해 도포될 수 있는 수지의 예로는 폴리카보네이트, 폴리아크릴레이트, 폴리에테르설폰, 폴리설폰, 폴리에스테르, 폴리(메틸 메타크릴레이트), 폴리에테르이미드 또는 폴리아미드와 같은 열가소성 수지, 및 에폭시 수지, 불포화 폴리에스테르, 폴리(디알릴 프탈레이트) 또는 폴리(이소보닐 메타크릴레이트)와 같은 열경화성 수지가 포함된다. 이들 수지는 단독으로 사용되거나 또는 두 가지 이상의 혼합물로서 사용가능하고, 다른 성분(들)과의 공중합체 또는 혼합물로서 사용될 수 있다. 이들 수지 중 가장 바람직한 것은 에폭시 수지이다.

본 발명의 에폭시 수지층을 형성하는데 사용가능한 에폭시 수지의 예로는 비스페놀 A, 비스페놀 F, 비스페놀 S와 같은 비스페놀 형 및 이들로부터 유도된 수소화된 에폭시 수지, 페놀-노볼락 및 크레졸-노볼락 형과 같은 노볼락 형, 트리글리시딜 이소시아누레이트 및 히단토인 형과 같은 질소-함유 환상 형, 지방족 고리 형, 지방족 형, 나프탈렌 형과 같은 방향족 형, 글리시딜 에테르 형, 비페닐 형과 같은 낮은 흡수성(吸水性)을 갖는 형, 디사이클로 형, 에스테르 형, 에테르에스테르 형, 및 이들의 개질된 형이 포함된다. 이들 수지는 단독으로 사용되거나 또는 두 가지 이상의 혼합물의 조합으로서 사용될 수 있다. 탈색 방지의 관점에서, 이들 다양한 에폭시 수지 중 바람직한 것은 비스페놀 A 에폭시 수지, 아크릴계 에폭시 수지, 및 트리글리시딜 이소시아누레이트 형 에폭시 수지이다.

유연성, 강도 및 기타 성질에서 만족할 만한 수지 시이트를 얻기 위한 관점에서, 100 내지 1000의 에폭시 당량을 갖고 120℃ 이하의 연화점을 갖는 경화된 수지를 제공할 수 있는 에폭시 수지를 사용하는 것이 일반적으로 바람직하다. 시이트로의 도포성, 확산성 등이 우수한 에폭시 수지-함유 액체를 얻기 위해서, 적용 온도 이하의 온도, 특히 실온에서 액체인 2액 혼합형(two-pack type)의 수지를 사용하는 것이 바람직하다.

경화제 및 경화 촉진제를 에폭시 수지로 적절하게 혼입시킬 수 있다. 또한, 산화방지제, 개질제, 계면활성제, 염료, 안료, 탈색 억제제, 및 자외선 흡수제와 같은 다양한 통상의 첨가제를 필요에 따라 적절하게 혼입시킬 수 있다.

경화제가 특별히 제한되어 있는 것은 아니며, 하나 이상의 적합한 경화제를 사용되는 에폭시 수지에 따라 사용할 수 있다. 경화제의 예로는 테트라하이드로프탈산, 메틸테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산 및 메틸헥사하이드로프탈산과 같은 유기산 화합물, 및 에틸렌디아민, 프로필렌디아민, 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌테트라민, 이들의 아민-부가 첨가물, m-페닐렌디아민, 디아미노디페닐메탄 및 디아미노디페닐 설폰과 같은 아민 화합물이 포함된다.

경화제의 다른 예로는 디시안디아미드 및 폴리아미드와 같은 아미드 화합물, 디하이드라지드와 같은 하이드라지드 화합물, 메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 에틸이미다졸, 이소프로필이미다졸, 2,4-디메틸이미다졸, 페닐이미다졸, 운데실이미다졸, 헵타데실이미다졸 및 2-페닐-4-메틸이미다졸과 같은 이미다졸 화합물이 포함된다.

또한 경화제의 예로는 메틸이미다졸린, 2-에틸-4-메틸이미다졸린, 에틸이미다졸린, 이소프로필이미다졸린, 2,4-디메틸이미다졸린, 페닐이미다졸린, 운데실이미다졸린, 헵타데실이미다졸린 및 2-페닐-4-메틸이미다졸린과 같은 이미다졸린 화합물, 및 페놀 화합물, 우레아 화합물, 및 폴리설파이드 화합물이 포함된다.

산 무수물 화합물도 또한 경화제의 예에 포함된다. 이러한 산 무수물 경화제는 탈색 방지 등의 측면에서 유리하게 사용될 수 있다. 이들의 예로는 프탈산 무수물, 말레산 무수물, 트리멜리트산 무수물, 피로멜리트산 무수물, 나드산 무수물, 글루타르산 무수물, 테트라하이드로프탈산 무수물, 메틸테트라하이드로프탈산 무수물, 헥사하이드로프탈산 무수물, 메틸헥사하이드로프탈산 무수물, 메틸나드산 무수물, 도데세닐숙신산 무수물, 디클로로숙신산 무수물, 벤조페논테트라카복실산 무수물 및 클로렌드산 무수물이 포함된다.

특히 바람직한 것은 무색 내지 담황색이고, 약 140 내지 200의 분자량을 갖는 산 무수물 경화제로서, 예를 들어, 프탈산 무수물, 테트라하이드로프탈산 무수물, 헥사하이드로프탈산 무수물 및 메틸헥사하이드로프탈산 무수물이 있다.

산 무수물이 경화제로서 사용되는 경우, 에폭시 수지 및 산 무수물 경화제를 혼합하여 산 무수물의 양이 에폭시 수지의 에폭시 기 당량 당 바람직하게는 0.5 내지 1.5 당량, 더욱 바람직하게는 0.7 내지 1.2 당량의 비율이 되도록 한다. 만일 산 무수물을 0.5 당량 이하로 사용하는 경우, 경화된 수지의 색상이 나빠지는 경향이 있다. 산 무수물을 1.5 당량 이상으로 사용하는 경우, 경화된 수지는 감소된 수분 저항성을 갖는 경향이 있다. 하나 이상의 기타 경화제를 사용하는 경우, 이들의 사용량 범위는 상기 기술된 경우와 동일할 수 있다.

경화 촉진제의 예로는 3급 아민, 이미다졸 화합물, 4급 암모늄 염, 유기 금속 염, 인 화합물 및 우레아 화합물이 포함된다. 이들 중 특히 바람직한 것은 3급 아민, 이미다졸 화합물 및 인 화합물이다. 이들 화합물은 단독으로 사용되거나 또는 두 가지 이상의 혼합물로서 사용될 수 있다.

경화 촉진제의 사용량은, 에폭시 수지 100 중량부당, 바람직하게는 0.05 내지 7.0 중량부, 더욱 바람직하게는 0.2 내지 3.0 중량부이다. 혼입되는 경화 촉진제의 사용량이 0.05 중량부보다 적은 경우, 충분한 경화 촉진 효과를 얻을 수 없다. 상기 양이 7.0 중량부를 넘는 경우, 경화된 수지가 탈색될 가능성이 있다.

산화 방지제의 예로는 페놀 화합물, 아민 화합물, 유기황 화합물, 및 포스핀 화합물과 같은 통상의 산화방지제가 포함된다.

개질제의 예로는 글리콜, 실리콘 및 알콜과 같은 통상의 개질제가 포함된다.

에폭시 수지를 순환 주조에 의해 시이트로 만들고, 공기와의 접촉에 의해 경화시킬 때, 매끄러운 표면을 갖는 에폭시 수지 시이트를 얻기 위하여 계면활성제를 첨가한다. 계면활성제의 예로는 실리콘, 아크릴계 및 불소화합물 계면활성제가 포함된다. 특히 바람직한 것은 실리콘 계면활성제이다.

본 발명의 첫 번째 태양에서, 경질 피복층이 요철을 갖는 경우, 눈부심 방지기능이 수지 시이트에 부여된다. 본 발명의 상기 태양에 따른 요철을 갖는 경질 피복층이 80 내지 500nm의 표면 조도(Ra)를 갖는 것이 바람직하다. 요철을 갖는 경질 피복층의 표면 조도(Ra)가 80nm보다 낮거나 또는 500nm보다 높은 경우, 충분한 눈부심 방지 기능이 부여되지 않는다. 본원에 사용되는 "표면 조도"란 용어는 JIS B 0601에서 제공되는 바와 같은 "산술 평균적 조도 Ra"를 의미한다.

본 발명의 상기 태양에 따른 요철을 갖는 경질 피복층은 20 내지 80㎛의 산곡 간격을 갖는 것이 바람직하다. 경질 피복층의 산곡 간격이 20㎛보다 작거나 또는 80㎛ 보다 큰 경우, 충분한 눈부심 방지 기능이 부여되지 않는다. 본원에서 사용되는 "산곡 간격"란 용어는 JIS B 0601에서 제공되는 것과 같은 "오목부와 돌출부 사이의 평균 거리 Sm"을 의미한다.

본 발명의 첫 번째 태양에서, 최외층으로서의 경질 피복층이 투명 입자를 함유하는 경우, 광확산 기능이 수지 시이트에 부여된다. 본 발명에 사용되는 투명 입자의 예로는 유리 및 실리카와 같은 무기 물질 입자, 및 아크릴계 수지, 폴리에 스테르 수지, 에폭시 수지, 멜라민 수지, 우레탄 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리스티렌 수지, 실리콘 수지, 벤조구아나민 수지, 멜라민/벤조구아나민 축합물, 및 벤조구아나민/포름알데히드 축합물과 같은 유기 물질의 입자가 포함된다. 바람직한 것은 구형 입자로서, 경질 피복층을 구성하는 매트릭스 수지와 상기 구형 입자의 굴절률 차이가 0.03 내지 0.10 범위가 되도록 하는 굴절률을 갖는 구형 입자이다. 상기 구형 입자와 매트릭스 수지의 굴절률 차이가 0.03 미만이거나 또는 0.10 초과인 경우, 충분한 광확산 기능이 부여될 수 없다.

투명 입자는 0.5 내지 30㎛의 입경을 갖는 것이 바람직하다. 0.5 ㎛ 미만의 입경을 갖는 입자는 불충분한 광확산을 초래한다는 점에서 바람직하지 않은 반면, 30㎛ 초과의 입경을 갖는 입자는 불균일한 광확산을 일으킨다는 점에서 바람직하지 않다.

투명 입자 대 경질 피복층의 비율은 1 내지 50부피%가 바람직하다. 이러한 부피비는 [(투명 입자의 부피)/(경질 피복층의 부피)]×100으로 정의할 수 있다. 여기서 "경질 피복층의 부피"는 투명 입자를 함유하는 경질 피복층의 부피를 의미한다. 투명 입자 대 경질 피복층의 비율이 1% 이하이거나 또는 50% 초과인 경우, 충분한 광확산 기능이 부여될 수 없다.

본 발명의 상기 태양에 따른 수지 시이트를 제조하기 위한 방법은 지지체에 형성된 오목부 형상을 전사시켜 경질 피복층의 표면 위에 요철이 형성되도록 하는 단계를 포함한다.

상기 지지체는 통상적으로 벨트 또는 플레이트 형이다. 이들의 예로는 순환 주조를 위해 이음매 없는 벨트(endless belt) 및 주조용 편평한 성형 플레이트가 포함된다.

요철을 갖는 경질 피복층을 만들기 위한 지지체로서, 지지체는 80 내지 500nm의 표면 조도(Ra) 및 20 내지 80㎛의 산곡 간격을 갖는 것이 바람직하다.

순환 주조 방법에서, 경질 피복층을 형성하기 위한 수지 용액을 요철을 갖는 지지체에 가하고 건조시켜 경질 피복층을 형성한다. 이 위에 기체 차단층 및 기재층을 올려놓는다. 생성된 다층 구조물을 지지체로부터 박리시켜 경질 피복층이 그 위 형성된 요철을 갖는 수지 시이트가 얻어진다.

상기 다층 구조물의 지지체 반대쪽 면에 또 다른 경질 피복층을 형성시키는 경우, 두 개의 경질 피복층을 갖는 수지 시이트가 얻어진다. 이러한 경우, 이와 같이 생성된 경질 피복층은 요철을 갖지 않는다.

본 발명의 상기 태양에서, 투명 입자를 함유하는 경질 피복층을 제조하기 위한 수지 용액을 가하고 건조시켜 투명 입자를 함유하는 경질 피복층을 형성할 수 있다.

주조 방법에 있어서, 우선 경질 피복층 형성을 위한 수지 용액을 요철이 있는 표면을 갖는 주조 플레이트 및 편평한 표면을 갖는 주조 플레이트에 가하고, 가한 용액을 건조시켜 경질 피복층을 형성한다. 이어서, 기체 차단층 형성을 위한 수지를 포함하는 액체를 상기 두 개의 주조 플레이트 중의 하나에 가하고 건조시켜 기체 차단층을 형성한다. 이들 두 주조 플레이트를 이격재(spacer) 및 밀봉 물질에 의해 조립하여 수지로 피복된 면들이 서로 마주보도록 한다. 이어서, 기재층 형성을 위한 수지를 포함하는 액체를 주조 플레이트들 사이의 공간에 주입하고 경화시켜 기재층을 형성한다. 생성된 다층 구조물을 두 개의 주조 플레이트로부터 박리시킨다. 이로써, 하나의 지지체에 형성된 오목부 형상을 전사시킴으로써 하나의 경질 피복층이 요철을 갖는 수지 시이트를 얻을 수 있다.

또한 이러한 주조 방법에서, 경질 피복층 제조용 수지 용액에 투명 입자를 혼입시키고, 용액을 도포하고, 건조시킴으로써 투명 입자를 함유하는 경질 피복층을 제조할 수 있다.

상기 주조 방법에서 사용하기 위한 요철을 갖는 주조 플레이트는 80 내지 500nm의 표면 조도(Ra) 및 20 내지 80㎛의 산곡 간격을 갖는 것이 바람직하다.

본 발명에 따른 상기 기술된 방법 중의 한 가지 양태를 도 10에 나타냈다. 도 10에 나타낸 방법에서, 이음매 없는 벨트를 지지체로서 사용하는 순환 주조 방법에 의해 수지 시이트를 연속적으로 제조한다.

도 10에 나타낸 순환 주조 방법에서, 이음매 없는 벨트(7)를 포함하는 지지체가 구동 드럼(10) 및 보조 드럼(11)을 예컨대 0.1 내지 50m/분, 바람직하게는 0.2 내지 5m/분의 일정한 속도로 통과하도록 한다. 상기 벨트(7)가 이렇게 계속 돌아가도록 하면서, 경질 피복층 형성을 위한 수지 용액 및 기체 차단층 형성을 위한 수지를 포함하는 액체를 각각 다이(13) 및 다이(15)을 통해 가하고, 생성된 피복물을 가열, 광조사 등으로 선택적으로 건조시키거나 또는 경화시켜 피막(16, 17)을 제조한다. 상기 양태에서, 장치에 히터(9) 및 자외선 경화장치(14)를 설치한다.

이음매 없는 벨트(7)는 요철을 갖는다. 이음매 없는 벨트(7)는 80 내지 500nm의 표면 조도(Ra) 및 20 내지 80㎛의 산곡 간격을 갖는 것이 바람직하다.

투명 입자를 함유하는 경질 피복층은 경질 피복층 형성을 위한 수지 용액에 투명 입자를 혼입시키고, 용액을 도포하고, 건조시킴으로써 형성할 수 있다.

이어서, 기재층 형성을 위한 수지를 포함하는 액체를 다이(8)을 통해 시이트 형태로 피막(16, 17)에 도포한다. 생성된 피복물을 가열 또는 광조사에 의해 완전히 경화시켜 피막(12)을 형성한다. 상기 양태에서, 장치에 히터(9)를 설치한다. 가열은 뜨거운 공기, 적외선 히터 등 또는 이들 두 가지 이상의 조합에 의해 수행될 수 있다. 뜨거운 공기로 건조시키는 경우, 열가소성 또는 열경화성 수지를 포함하는 액체를 가열함에 있어 풍속은 일반적으로 0.1 내지 5m/초, 바람직하게는 0.2 내지 1m/초이다.

히터(9)는 점도 변화의 조절을 위해 약 10개의 구역을 갖는 것이 바람직한데, 이는 점도가 수지-함유 액체의 온도 의존성으로 인해 감소하고 경화반응으로 인해 증가하기 때문이다. 각 구역에서, 피복물이 이음매 없는 벨트의 상부면 또는 하부면으로부터 또는 두 면 모두로부터 가열될 수 있다. 가열 온도는 30 내지 250℃인 것이 바람직하다. 가열 온도의 정확도는 바람직하게는 ± 0.5℃/cm 내, 더욱 바람직하게는 ± 0.1℃/cm내이다. 가열 온도가 30℃ 미만인 경우, 기재층 형성을 위한 수지는 경화되기 쉽지 않다. 가열 온도가 250℃ 초과인 경우, 기재층 형성을 위한 수지를 포함하는 액체의 점도가 낮아져서 생성되는 수지 시이트가 불량한 두께 정밀도를 갖는다. 더욱이, 가열 온도의 정확도가 ± 0.5℃/cm 범위 밖인 경우, 생성된 수지 시이트가 불량한 두께 정밀도를 갖게 되고 외관이 나쁘게 된다.

기재층 형성을 위한 수지를 포함하는 액체가 빠져 나오게 되는 다이(8)는 바람직하게는 10 내지 40℃, 더욱 바람직하게는 20 내지 30℃의 온도를 갖고, 바람직하게는 ± 0.5℃ 내, 더욱 바람직하게는 ± 0.1℃ 내의 온도 정확도를 갖는다. 다이의 온도가 10℃ 미만인 경우, 기재층 형성을 위한 수지를 포함하는 액체는 증가된 점도를 갖게 되어 도포 상에 문제를 야기시킨다. 이들의 온도가 40℃ 초과인 경우, 기재층 형성을 위한 수지는 다이 내에서 경화되기 시작하여 도포 상의 어려움을 야기한다. 더욱이, 다이 온도의 정확도가 ± 0.5℃ 범위 밖인 경우, 생성된 수지 시이트는 불량한 두께 정밀도를 갖고 외관이 나쁘게 된다.

기재층 형성을 위한 수지를 포함하는 액체가 빠져 나올 때의 점도는 0.1 내지 50Pa·s인 것이 바람직하다. 압출 코팅인 경우, 이들의 점도는 15 내지 30Pa·s인 것이 바람직하다. 수지를 포함하는 액체의 점도가 0.1 Pa·s 미만인 경우, 생성된 수지 시이트는 불량한 두께 정밀도를 갖는다. 수지 함유 액체의 점도가 50 Pa·s 이상인 경우, 액체의 도포성이 떨어진다.

기재층 형성을 위한 수지를 함유하는 액체를 도포하기 위한 방법의 바람직한 예로는 커튼 코팅, 압출 코팅 및 롤 코팅(roll coating)이 포함된다. 특히 바람직한 것은 압출 코팅이다.

히터의 이음매 없는 벨트의 뒷면에는 가이드 롤을 배치하며 벨트의 수평 수준이 수평-수준 센서로 조절될 수 있도록 한다. 기판의 수평 수준은 바람직하게는 1 mm/[5×(유효 폭)]mm 이하, 더욱 바람직하게는 1mm/[40×(유효 폭)]mm 이하이다. 이들의 수평 수준이 1mm/[5×(유효 폭)]mm 보다 높은 경우, 생성된 수지 시이트는 불량한 두께 정밀도를 갖게 된다.

두 개의 경질 피복층을 갖는 수지 시이트는 순환 주조 방법으로 제조할 수 있다. 특히, 경질 피복층 형성을 위한 수지를 포함하는 액체를 이음매 없는 벨트의 반대쪽에 위치한 최외층에 도포하고, 생성된 피복물을 가열 또는 광 조사 등으로 선택적으로 건조시키거나 경화시켜 원하는 수지 시이트를 얻을 수 있다. 이러한 경우, 제 1 경질 피복층, 기체 차단층, 및 기재층으로 구성되는 다층 구조물을, 회전 코팅 또는 단일-다이 피복기 등을 사용하는 코팅에 의해 제 2 경질 피복층을 형성하기 전에 이음매 없는 벨트(1)로부터 박리시킬 수 있다. 경질 피복층을 형성하기 위한 수지 용액에 투명 입자를 혼입시킴으로써 투명 입자를 함유하는 경질 피복층을 형성할 수 있다.

흐름을 방지하기 위한 댐(dam)을 기판의 양 가장자리를 따라 형성시킬 수 있다. 내열성 수지를 댐을 위한 재료로 사용할 수 있다. 이들의 바람직한 예로는 폴리(에틸렌 테레프탈레이트)가 포함된다.

기판으로부터 수지 시이트를 회수하기 위하여, 필요하다면 박리시키기 위한 수단을 사용할 수 있다. 균열 방지 등의 관점에서, 상기 회수는 고온에서, 예컨대, 수지의 유리 전이점 이상의 온도에서 수행하는 것이 바람직하다. 이렇게 생성된 연속적인 수지 시이트를 적합한 절단 수단, 예컨대, 레이저 빔, 초음파 커터, 다이싱(dicing) 또는 워터 제트(water jet)를 이용하여 적합한 크기로 절단한 후에 회수할 수 있다. 상기 기술된 순환 주조 방법에 따라, 지지체를 통해 도포된 층의 이동 속도를 조절함으로써 생성 속도를 용이하게 제어할 수 있다. 얻어지는 수지 시이트의 두께도 또한 도포된 층의 이동 속도 및 그의 도포 양을 조절함으로써 용이하게 제어할 수 있다.

본 발명의 수지 시이트가 액정 표시 장치를 조립하기 위한 가시측면 기판으로서 사용되는 경우, 가시측면의 최외면이 요철을 갖는 수지의 표면이 되도록 배치해야 한다. 즉, 편광막을 수지 시이트의 가시측면 상에 배치할 수 없다. 이러한 이유로, 이러한 표시 장치에서 사용가능한 액정은 편광을 이용하지 않는 것, 즉 콜레스테릭 액정 및 중합체 분산형 액정으로 제한된다. 흑색의 수지 시이트를 가시측면의 반대쪽에 위치한 기판으로서 사용하는 것은 액정층을 통과한 광이 반사되어 반전광을 발생하는 것을 방지하고 표시 콘트라스트를 개선시키는데 효과적이다.

본 발명의 두 번째 태양에 따른 수지 시이트의 하나는 기체 차단층, 기재층, 및 각 최외층으로서의 두 개의 경질 피복층을 포함하고, 상기 경질 피복층 중 하나 이상은 투명 입자를 함유한다.

이러한 수지 시이트에서, 기재층 및 기체 차단층의 중첩 순서가 특별히 제한되는 것은 아니다. 즉, 본 발명의 두 번째 태양에 의해 제공되는 이러한 수지 시이트는 최외면으로부터 경질 피복층, 기체 차단층, 기재층 및 경질 피복층을 포함하는 것 또는 최외면으로부터 경질 피복층, 기재층, 기체 차단층, 및 경질 피복층을 포함하는 것일 수 있다. 상기 기술된 수지 시이트의 양태를 도 5 및 도 6에 제시한다.

본 발명의 두 번째 태양에 따른 다른 수지 시이트는 기체 차단층, 기재층, 및 최외층으로서 하나의 경질 피복층을 포함하고, 여기서 경질 피복층은 투명 입자를 함유한다.

또한, 이러한 수지 시이트에서, 기재층 및 기체 차단층의 중첩 순서가 특별히 제한되어 있는 것은 아니다. 즉, 본 발명의 두 번째 태양에 따른 이러한 수지 시이트는 최외면으로부터 경질 피복층, 기체 차단층 및 기재층을 포함하는 것이나 또는 최외면으로부터 경질 피복층, 기재층 및 기체 차단층을 포함하는 것일 수 있다. 그러나, 기체 차단층이 최외층이 아닌 것이 바람직한데, 이는 기체 차단층이 경질 피복층 및 기재층보다 충격 저항성 및 화학물질 저항성이 나쁠 수 있기 때문이다. 즉, 최외면으로부터 경질 피복층, 기체 차단층, 및 기재층을 포함하는 수지 시이트가 더욱 바람직하다. 상기 기술된 수지 시이트의 한가지 양태를 도 7에 제시한다.

본 발명의 상기 태양에서, 최외층으로서의 경질 피복층이 투명 입자를 함유할 때, 광확산 기능이 수지 시이트에 부여된다. 본 발명에 사용되는 투명 입자의 예로는 유리 및 실리카와 같은 무기 물질 입자, 및 아크릴계 수지, 폴리에스테르 수지, 에폭시 수지, 멜라민 수지, 우레탄 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리스티렌 수지, 실리콘 수지, 벤조구아나민 수지, 멜라민/벤조구아나민 축합물, 및 벤조구아나민/포름알데히드 축합물과 같은 유기 물질의 입자가 포함된다. 바람직한 것은 구형 입자로서, 경질 피복층을 구성하는 매트릭스 수지와 상기 구형 입자의 굴절률 차이가 0.03 내지 0.10 범위가 되도록 하는 굴절률을 갖는 구형 입자이다. 상기 구형 입자와 매트릭스 수지의 굴절률 차이가 0.03 미만이거나 또는 0.10 초과인 경 우, 충분한 광확산 기능이 부여될 수 없다.

투명 입자는 0.5 내지 30㎛의 입경을 갖는 것이 바람직하다. 0.5㎛ 미만의 입경을 갖는 입자는 불충분한 광확산을 초래한다는 점에서 바람직하지 않은 반면, 30㎛ 초과의 입경을 갖는 입자는 불균일한 광확산을 일으킨다는 점에서 바람직하지 않다.

투명 입자 대 경질 피복층의 비율은 1 내지 50부피%가 바람직하다. 이러한 부피비는 [(투명 입자의 부피)/(경질 피복층의 부피)]×100으로 정의될 수 있다. 여기서 "경질 피복층의 부피"는 투명 입자를 함유하는 경질 피복층의 부피를 의미한다. 투명 입자 대 경질 피복층의 비율이 1% 미만이거나 또는 50% 초과인 경우, 충분한 광확산 기능이 부여될 수 없다.

본 발명의 이러한 태양에서, 기재층은 상기 기술된 바와 같은 에폭시 수지를 포함하는 것이 바람직하고, 경질 피복층은 상기 기술된 우레탄 수지를 포함하는 것 이 바람직하다.

본 발명의 이러한 태양에서, 투명 입자를 함유하는 경질 피복층 형성을 위한 수지 용액을 도포하고 건조시킬 때, 투명 입자를 함유하는 경질 피복층이 형성될 수 있다.

주조 방법에서, 경질 피복층 형성을 위한 수지 용액을 편평한 표면을 갖는 두 개의 주조 플레이트에 가하고, 가한 용액을 건조시켜 경질 피복층을 형성한다. 이어서, 기체 차단층 형성을 위한 수지를 포함하는 액체를 상기 두 개의 주조 플레이트 중의 하나에 가하고 건조시켜 기체 차단층을 형성한다. 이들 두 개의 주조 플레이트는 수지로 피복된 면들이 서로 마주보도록 이격제 및 밀봉 물질을 통해 조립한다. 이어서, 기재층 형성을 위한 수지를 포함하는 액체를 주조 플레이트들 사이의 공간에 주입하고 경화시켜 기재층을 형성한다. 생성된 다층 수지 구조물을 두 개의 주조 플레이트로부터 박리시킨다. 이로써, 본 발명의 상기 태양에 따른 수지 시이트를 얻을 수 있다. 이러한 경우, 경질 피복층 형성용 수지 용액에 투명 입자를 혼입시키고, 용액을 도포하고, 건조시킴으로써 투명 입자를 함유하는 경질 피복층을 제조할 수 있다.

본 발명의 상기 태양에 따른 광학산 기능을 갖는 수지 시이트를 순환 주조 방법에 의해서도 제조할 수 있다. 이러한 경우, 순환 주조를 위한 이음매 없는 벨트는 편평한 표면을 갖는다.

편광막, 액정 셀, 반사기 또는 후면광 및 선택적인 광학 부품을 비롯한 부품들을 적절하게 조립하고, 작동 회로를 상기 조립체에 통합하는 것과 같은 방법에 의해 액정 표시 장치를 일반적으로 조립할 수 있다. 본 발명에서, 액정 표시 장치는 특별한 제한없이 통상의 방법으로 조립될 수 있으나, 상기 기술된 수지 시이트를 사용하는 것을 예외로 한다. 또한, 적절한 광학 부품들이 상기 기술된 수지 시이트와 함께 적절하게 사용될 수 있다. 예를 들어, 광확산 플레이트, 눈부심방지 장치, 반사방지 장치, 보호층, 또는 보호 플레이트를 가시측면 편광막 위에 배치할 수 있다. 더욱이, 상쇄를 위한 위상차막을 액정 셀과 가시측면 편광막 사이에 끼워 넣을 수 있다.

가시성을 개선할 목적으로, 본 발명의 수지 시이트를 액정 셀의 가시측면 위 에 배치하여 투명 입자를 함유하는 경질 피복층이 액정층에 가장 가깝게 위치하도록 하는 것이 바람직하다.

본 발명의 세 번째 태양에 따른 수지 시이트는 기체 차단층, 기재층, 및 최외층으로서 하나의 경질 피복층을 포함하고, 상기 경질 피복층은 그의 외표면에 요철을 갖는다.

이러한 수지 시이트에서, 기재층 및 기체 차단층의 중첩 순서가 특별히 제한되는 것은 아니다. 즉, 본 발명의 세 번째 태양에 따른 수지 시이트는 최외면으로부터 경질 피복층, 기체 차단층 및 기재층을 포함하는 것 또는 최외면으로부터 경질 피복층, 기재층 및 기체 차단층을 포함하는 것일 수 있다. 그러나, 기체 차단층이 최외층이 아닌 것이 바람직한데, 이는 기체 차단층이 경질 피복층 및 기재층에 비해 충격 저항성 및 화학물질 저항성이 나쁠 수 있기 때문이다. 즉, 최외면으로부터 경질 피복층, 기체 차단층, 및 기재층을 포함하는 수지 시이트가 더욱 바람직하다. 상기 기술된 수지 시이트의 한가지 양태를 도 9에 제시한다.

또 하나의 경질 피복층이 다른 최외층으로서 중합될 수 있다. 상기 두 번째 경질 피복층은 요철을 갖지 않는다. 즉, 본 발명의 세 번째 태양에 의해 제공되는 수지 시이트는 최외면으로부터 경질 피복층, 기체 차단층, 기재층 및 경질 피복층을 포함하는 것이나, 또는 최외면으로부터 경질 피복층, 기재층, 기체 차단층 및 경질 피복층을 포함하는 것일 수 있다. 이러한 경우, 기재층 및 기체 차단층의 배치 순서가 특별히 제한되는 것은 아니다. 상기 기술된 수지 시이트의 양태를 도 8에 제시한다.

본 발명의 상기 태양에서, 경질 피복층이 요철을 갖는 경우, 눈부심 방지 기능이 수지 시이트에 부여된다. 본 발명의 상기 태양에서 요철을 갖는 경질 피복층이 80 내지 500nm의 표면 조도(Ra)를 갖는 것이 바람직하다. 요철을 갖는 경질 피복층의 표면 조도(Ra)가 80nm 미만이거나 또는 500nm 초과인 경우, 충분한 눈부심 방지 기능이 부여될 수 없다. 본원에 사용된 "표면 조도"란 용어는 JIS B 0601에서 제공되는 것과 같은 "산술 평균적 조도 Ra"를 의미한다.

본 발명의 상기 태양에 따른 요철을 갖는 경질 피복층은 20 내지 80㎛의 산곡 간격을 갖는 것이 바람직하다. 경질 피복층의 산곡 간격이 20㎛보다 작거나 또는 80㎛ 보다 큰 경우, 충분한 눈부심 방지 기능이 부여되지 않는다. 본원에서 사용되는 "산곡 간격"이란 용어는 JIS B 0601에서 제공되는 것과 같은 "오목부와 돌출부 사이의 평균 거리 Sm"을 의미한다.

본 발명의 상기 태양에서, 기재층은 상기 기술된 바와 같은 에폭시 수지를 포함하고, 경질 피복층은 상기 기술된 우레탄 수지를 포함하는 것이 바람직하다.

본 발명의 상기 태양에 따른 수지 시이트를 제조하는 방법은 지지체에 형성된 오목부 형상을 전사시켜 경질 피복층의 표면에 요철을 형성하는 단계를 포함한다.

상기 지지체는 통상적으로 벨트 또는 플레이트 형태이다. 이들의 예로는 순환 주조를 위한 이음매 없는 벨트 및 주조를 위한 편평한 성형 플레이트가 포함된다.

요철을 갖는 경질 피복층을 만들기 위한 지지체에 있어서, 지지체는 80 내지 500nm의 표면 조도(Ra) 및 20 내지 80㎛의 산곡 간격을 갖는 것이 바람직하다.

순환 주조 방법에서, 경질 피복층을 형성하기 위한 수지 용액을 요철을 갖는 지지체에 가하고 건조시켜 경질 피복층을 형성한다. 이 위에 기체 차단층 및 기재층을 올려놓는다. 생성된 다층 구조물을 지지체로부터 박리시켜 경질 피복층이 그 위 형성된 요철을 갖는 수지 시이트를 얻는다.

주조 방법에 있어서, 우선, 경질 피복층 형성을 위한 수지 용액을 요철이 있는 표면을 갖는 주조 플레이트 및 편평한 표면을 갖는 주조 플레이트에 가하고, 가한 용액을 건조시켜 경질 피복층을 형성한다. 이어서, 기체 차단층 형성을 위한 수지를 포함하는 액체를 상기 두 개의 주조 플레이트 중의 하나에 가하고 건조시켜 기체 차단층을 형성한다. 이들 두 개의 주조 플레이트는 수지로 피복된 면들이 서로 마주보도록 이격제 및 밀봉 물질에 의해 조립한다. 이어서, 기재층 형성을 위한 수지를 포함하는 액체를 주조 플레이트들 사이의 공간에 주입하고 경화시켜 기재층을 형성한다. 생성된 다층 구조물을 두 개의 주조 플레이트로부터 박리시킨다. 이로써, 하나의 지지체에 형성된 오목부 형상을 전사시킴으로써 하나의 경질 피복층이 요철을 갖는 수지 시이트를 얻을 수 있다.

본 발명의 수지 시이트의 이용은 액정 셀 기판으로만 제한되는 것은 아니며, 수지 시이트는 전자발광 부품을 위한 기판으로서 유리하게 사용될 수 있다. 전자발광 부품용 기판으로서의 본 발명의 수지 시이트의 이용은 외부 광을 확산 또는 반사시키는데 효과적이므로 표시 품질을 개선시킨다.

본 발명의 수지 시이트의 이용은 액정 셀 기판으로 제한되는 것은 아니며, 본 수지 시이트는 유기 전자발광 표시 장치를 위한 기판으로서도 유리하게 사용될 수 있다.

일반적으로, 유기 전자발광 장치는 투명 기판 및 그 위에 순서대로 놓인 투명 전극, 유기 발광층, 및 금속 전극으로 구성된 발광 유닛(유기 전자발광 유닛)을 포함한다. 유기 발광층은 다양한 종류로부터 선택된 얇은 유기막으로 구성되는 다층 구조를 가지며, 유기막의 다양한 조합물이 공지되어 있다. 이들의 예로는 트리페닐아민 유도체를 포함하는 정공 주입층 및 안트라센과 같은 형광 유기 고형물을 함유하는 발광층을 포함하는 다층 구조물, 상기와 같은 발광층 및 페릴렌 유도체를 함유하는 전자 주입층을 포함하는 다층 구조물, 및 상기와 같은 홀 주입층, 발광층 및 전자 주입층을 포함하는 다층 구조물이 포함된다.

유기 전자발광 장치는 하기의 원리를 기본으로 발광한다. 투명 전극과 금속 전극 사이에 전압을 걸어 유기 발광층에 정공 및 전자가 주입되도록 한다. 정공은 전자와 재결합하여 에너지를 생성하고, 이 에너지는 형광물질을 여기시킨다. 여기된 형광 물질은 빛을 방출하고 바닥 상태로 회복된다. 발광 과정 동안에 일어나는 재결합의 메커니즘은 일반적으로 다이오드에서와 동일하다. 이로부터 추측할 수 있듯이, 전류 및 발광 세기는 가해진 전압에 대해 매우 비선형이고, 발광은 정류가 수반된다.

유기 전자발광 장치에서, 하나 이상의 전극은 유기 발광층으로부터 방출되는 빛을 밖으로 통과시키기 위하여 투명해야 한다. 통상적으로, 인듐-주석 옥사이드(ITO)와 같은 투명한 도체로 제조된 투명 전극을 양극으로서 사용한다. 반면에, 전자 주입을 촉진시켜 발광 효율을 증가시키기 위하여, 음극으로서 작은 일함수를 갖는 물질을 사용하는 것이 중요하다. 일반적으로, Mg-Ag 또는 Al-Li 등으로 제조된 금속성 전극을 사용한다.

이러한 구성을 갖는 유기 전자발광 장치내의 유기 발광층은 약 10nm의 두께를 갖는 대단히 얇은 막이다. 이 때문에 유기 발광층은 투명 전극과 같이 거의 완전히 빛을 전달한다. 이러한 이유로, 비발광 모드의 장치 상에 입사된 빛은 투명-기판 면으로부터 투명 전극 및 유기 발광층을 통과하고, 금속 전극에 의해 반사된 후 다시 투명 기판의 전방측 표면에 도달한다. 그 결과로, 유기 발광장치의 표시 면이, 외부에서 볼 때, 거울 표면으로 보인다.

전압을 가하면 발광하는 유기 발광층, 유기 발광층의 전면 상에 배치된 투명 전극, 및 유기 발광층의 후면 상에 배치된 금속 전극으로 구성되는 유기 전자발광 유닛을 포함하는 유기 전자발광 장치는, 투명 전극의 전면 상에 배치된 편광막 및 투명 전극과 편광막 사이에 끼워 넣은 위상차막을 포함하는 구조를 갖도록 제조될 수 있다.

위상차막 및 편광막은 외부로부터 장치내에 들어와서 금속 전극에 의해 반사된 빛을 편광시키는 작용을 한다. 따라서, 이들 막은 편광 기능에 기초하여 금속 전극의 거울 표면이 외부에서 감지되는 것을 방지하는 효과를 갖는다. 특히, 위상차막이 1/4 파장 플레이트(quarter wavelength plate)로 구성되고 편광막의 편광 방향과 위상차막의 편광 방향 사이의 각도가 π/4로 조절될 때, 금속 전극의 거울 표면은 완전히 안보이게 된다.

구체적으로, 외부 광이 상기 유기 전자발광 장치를 때릴 때, 편광막은 상기 빛의 선형 편광된 부분만을 통과하도록 한다. 이러한 선형 편광된 빛이 일반적으로 위상차막에 의해 타원형 편광된 빛으로 전환되나, 위상차막이 1/4 파장 플레이트이고 편광막의 편광 방향과 위상차막의 편광 방향 사이의 각도가 π/4일 때 이것은 원형 편광된 빛으로 전환된다.

이렇게 원형 편광된 빛은 투명 기판, 투명 전극 및 얇은 유기막을 통과하고,금속 전극에 의해 반사된 후, 다시 얇은 유기막, 투명 전극 및 투명 기판을 통과하고, 위상차막에 의해 선형 편광된 빛으로 재전환된다. 이러한 선형 편광된 빛이 편광막의 편광 방향에 대해 수직인 편광 방향을 갖기 때문에, 이것은 편광막을 통과할 수 없다. 그 결과로, 금속 전극의 거울 표면은 완전히 보이지 않도록 된다.

본 발명은 하기 실시예를 참고로 하여 보다 상세하게 설명될 것이나, 본 발명이 어떠한 방법으로든 이들 실시예로 국한되는 것으로 이해되어서는 안된다. 이하, 모든 "부"는 달리 언급하지 않는 한 중량에 의한다.

실시예 1

100부의 UV-경화성 수지 NK 올리고(Oligo) UN-01(신-나카무라 케미컬 캄파니(Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)에서 제조; 고체 함량 85%), 3부의 어가큐어(Irgacure) #184(시바 스페셜티 케미컬즈(Ciba Specialty Chemicals)에서 제조) 및 28부의 합성 실리카 입자(1.8㎛의 평균 입경을 가짐)의 혼합물에 450부의 톨루엔을 가했다. 생성된 혼합물을 교반하여 균질하게 하여 투명 수지를 함유하는 경질 피복층을 형성하기 위한 용액을 얻었다. 이 수지 용액은 20%의 고형분 농도를 나타냈다.

100부의 UV-경화성 수지 NK 올리고 UN-01(신-나카무라 케미컬 캄파니에서 제조; 고체 함량 85%) 및 3부의 어가큐어 #184(시바 스페셜티 케미컬즈에서 제조)의 혼합물에 450부의 톨루엔을 가했다. 생성된 혼합물을 교반하여 균질하게 하여 경질 피복층을 형성하기 위한 수지 용액을 얻었고, 이 수지 용액은 16%의 고형분 농도를 나타냈다.

하기 화학식 1로 나타내는 3,4-에폭시사이클로헥실메틸 3,4-에폭시사이클로헥산카복실레이트 400부에 하기 화학식 2로 나타내는 메틸헥사하이드로프탈산 무수 물 500부, 하기 화학식 3으로 나타내는 테트라-n-부틸포스포늄 o,o-디에틸 포스포로디티오에이트 15부, 글리세롤 9부, 및 계면활성제 1부를 첨가하였다. 생성된 혼합물을 교반하여 균질화시켜 기재층 형성을 위한 수지를 함유하는 액체를 얻었다.

이어서, 도 11에 나타낸 주조 플레이트를 사용하는, 주조 방법으로 수지 시이트를 제조하였다. 사용된 제조 방법은 도 11을 참조하여 이후 설명할 것이다.

도 11에 나타낸 주조 플레이트중 하나는 450mm×450mm의 크기 및 5nm의 표면 조도(Ra)를 갖는 편평한 표면 주조 플레이트(19)이고, 다른 하나는 450mm×450mm의 크기를 갖고, 표면 처리되어 100nm의 표면 조도(Ra) 및 45㎛의 산곡 간격을 갖는 표면-처리된 주조 플레이트(20)이다. 우선, 투명 입자를 함유하는 경질 피복층을 형성하기 위한 수지 용액을 회전 코팅에 의해 편평한 표면의 주조 플레이트(19)에 도포한 후 건조시켜 톨루엔을 제거하였다. 생성된 피복물에 자외선(중심 파장 254nm; 적분된 광량 2000mJ/cm²)을 조사하여 투명 입자를 함유하고 2㎛의 두께를 갖는 경질 피복층을 형성하였다. 이어서, 경질 피복층 형성을 위한 수지 용액을 회전 코팅에 의해 표면 처리된 주조 플레이트(20)의 처리된 면에 도포한 후 건조시켜 톨루엔을 제거하였다. 생성된 피복물에 자외선(중심 파장 254nm; 적분된 광량 2000mJ/cm²)을 조사하여 그의 돌출부를 제외하고 그 두께가 2㎛인 경질 피복층을 형성하였다.

그 후, 5.5 중량%의 폴리(비닐 알콜) 수용액을 편평한 표면의 주조 플레이트(19) 위에 형성된 경질 피복층에 회전 코팅에 의해 도포한 후, 건조시키고, 경화시켜, 3.7㎛의 두께를 갖는 기체 차단층을 형성하였다.

주조 금형은 두 개의 주조 플레이트를 도 11에 나타낸 방법대로 간격 조절을 위한 이격제 및 밀봉물질을 통해 조립하여 수지로 피복된 면들이 각각 서로 마주보도록 하고 플레이트 사이의 간격이 400㎛가 되도록 하였다.

두 개의 주조 플레이트 사이의 공간에 기재층 형성을 위한 수지를 포함하는 상기와 같이 제조한 액체를 주입하였다. 상기 수지-함유 액체를 120℃에서 30분 동안 및 이후 180℃에서 1시간 동안 가열함으로써 경화시켰다.

그 후에, 두 개의 주조 플레이트를 분해하고 생성된 수지층을 플레이트로부터 박리하여 수지 시이트(a)를 얻었다.

이렇게 수득된 수지 시이트(a)에서, 주조 플레이트(20)의 요철 형상이 전사된 측면은 100nm의 표면 조도(Ra) 및 45㎛의 산곡 간격을 가졌고, 다른 측면은 5nm의 표면 조도(Ra)를 가졌다. 수지 시이트(a)는 평균 두께 400㎛ 및 두께 표준편차 9㎛를 나타냈다.

또 다른 수지 시이트를 하기의 방법으로 제조하였다. 이 수지 시이트는 액정 사이에 끼워 넣기 위해 수지 시이트(a)와 함께 사용되는 것이다. 우선, 경질 피복층 형성을 위한 수지 용액을 두 개의 편평한 표면의 주조 플레이트에 도포하고 건조시켜 경질 피복층을 형성하였다. 이어서, 두 개의 주조 플레이트를 간격 조절을 위한 이격제 및 밀봉 물질을 통해 도 11에 나타낸 방법대로 조립하여 각 수지로 피복된 측면이 서로 마주보고 주조 플레이트 사이의 공간이 400㎛의 폭을 갖도록 주조 금형을 제조하였다.

흑색 안료인 미쯔비시 카본 블랙(Mitsubishi Carbon Black) MA100을 기재층 형성을 위한 수지를 함유하는 액체에 분산시키고, 그 비율은 수지-함유 액체/MA100이 10/1 중량비가 되도록 하였다. 기재층 형성을 위한 상기 착색된 액체를 두 개의 주조 플레이트 사이의 공간에 주입하고 120℃에서 30분 동안 및 다시 180℃에서 1시간 동안 가열시킴으로써 경화시켰다. 생성된 수지 시이트(b)를 금형으로부터 빼냈다.

수득된 수지 시이트(b)는 각 표면에서 4nm의 표면 조도(Ra)를 가졌고, 평균 두께 400㎛ 및 두께 표준편차 8㎛를 나타냈다.

수득된 수지 시이트 (a, b)를 예정된 형상으로 절단하고 아르곤 대기하에서 플라스마로 처리하였다. 이렇게 처리된 수지 시이트 위에 스퍼터링을 이용하여 인듐-주석 옥사이드(ITO)의 박막을 증착시켰다. 이렇게 액정을 위한 투명 기판을 제조하였다.

수지 시이트(a)의 요철을 갖지 않는 표면 및 수지 시이트(b)의 다른쪽 표면 상에 ITO 막 증착을 수행하였다.

그 후, 수지 시이트(a)의 ITO 박막을 두 부분으로 나누었다. 수지 시이트 (a, b)를 구형 유리 비이드를 포함하는 간격 조절을 위한 이격제를 통해 마주보도록 배치하여 각 ITO 박막이 서로 마주보도록 하고 각 러빙 방향이 서로 수직이 되도록 하였다. 이렇게 배치된 수지 시이트(a, b)를 밀봉 물질로 고정시켰다. 이어서, 10부의 트리메틸프로판 트리아크릴레이트(TMPTA)를 10부의 2-하이드록시에틸 아크릴레이트(HEA), 25부의 아크릴계 올리고머("M-1200", 토아고세이 케미컬 인더스트리 캄파니(Toagosei Chemical Industry Co.)에서 제조), 0.5부의 광경화 개시제 "듀로큐어-1173"(Durocure-1173, 메르크(Merck)에서 제조) 및 50부의 액정 "E7"(BDH에서 제조)과 균질하게 혼합하여 제조한 용액을 수지 시이트 (a, b) 사이의 공간에 주입하였다. 상기 수지 시이트 조립체에 수지 시이트 (a) 측면으로부터 자외선을 조사하여 액정 셀을 제조하였다.

실시예 2

수지 시이트를 도 10에 나타낸 바와 같은 장치를 사용하여 순환 주조 방법으 로 제조하였다. 우선, 실시예 1에서 제조된 투명 입자를 함유하는 경질 피복층을 형성하기 위한 수지 용액을 다이(13)으로부터 방출시켜 스테인레스 강 소재의 이음매 없는 벨트(7)(100nm의 표면 조도(Ra); 40㎛의 산곡 간격) 상에서 0.2m/분의 벨트 작동 속도로 순환 주조하였다. 톨루엔이 증발된 후, 피복물을 자외선 경화 장치(14)(중심 파장 254nm; 적분된 광량 2000mJ/cm²)로 경화시켜, 투명 입자를 함유하고 5㎛의 두께 및 500mm의 폭을 갖는 경질 피복층을 얻었다.

이어서, 5.5중량%의 폴리(비닐 알콜) 수용액을 다이 (15)를 통해 방출시켜 경질 피복층 상에서 순환 주조시켰다. 피복물을 가열(60℃에서 10분 동안)하여 건조시킴으로써, 4㎛의 두께 및 450mm의 폭을 갖는 기체 차단층을 얻었다.

40mm의 폭을 갖는 내열성 PET 기재 테이프(MT-3155, 닛토덴코 가부시키가이샤(Nitto Denko Corp.)에서 제조)를 경질 피복층 및 기체 차단층으로 이루어진 생성된 두 층 구조물의 각 가장자리에 적용하였다. 상기 기술된 기재층 형성을 위한 수지를 함유하는 액체(20 Pa·s, 25℃)를 다이 (8)로부터 방출시켜 430mm의 폭을 갖는 수지층 상에서 순환 주조하였다. 피복물을 히터(9)로 90℃에서 5분 동안, 120℃에서 5분 동안 및 다시 140℃에서 15분 동안 가열하여 건조시켰다. 130℃로 유지된 드럼(11) 상에서, 생성된 다층 피복물을 스테인레스 강 소재의 이음매 없는 벨트로부터 벨트와 경질 피복층 계면에서 박리시켰다. 이렇게 430mm의 폭을 갖는 수지 시이트(c)를 얻었다. 피복 작업에서, 히터 내의 지지체를 조절하여 200㎛/1000mm의 수평 수준을 갖도록 하고, 피복물을 지지체의 상측으로부터 하측으로 뜨 거운 공기로 건조시켰다(가열 온도의 정확도는 0.4℃/cm).

수득된 수지 시이트(c)를 490mm의 간격으로 기계 방향에 대해 수직 방향으로 절단하여 490mm×490mm의 절단 조각을 얻었다. 수득된 수지 시이트 (c)는 평균 두께 400㎛ 및 두께 표준편차 7㎛를 나타냈다.

평균 두께 및 두께의 표준편차 값은 480mm×480mm의 구역내의 60개 지점에 대해 측정된 두께 값으로부터 얻은 것이다.

수지 시이트(c)는 기재층 면에서 0.2nm의 표면 조도(Ra)를 갖고, 경질 피복층 면에서 100nm의 표면 조도(Ra)를 가졌다. 경질 피복층의 표면은 40 ㎛의 산곡 간격 값을 가졌다. 각 표면 조도(Ra)의 값은 480mm×480mm의 구역내의 10개 지점에 대해 측정된 값의 평균이다.

이어서, ITO 박막을 수지 시이트(c)의 기재층 면에 증착시켰다. 액정 셀을 만들기 위하여 실시예 1에서와 같은 방법으로 상기 수지 시이트를 수지 시이트 (b)와 결합하여 사용하였다.

실시예 3

실시예 1에서와 동일한 방법으로 투명 수지 함유 경질 피복층을 형성하기 위한 수지 용액, 경질 피복층 형성을 위한 수지 용액, 및 기재층 형성을 위한 수지를 함유하는 액체를 제조하였다. 이어서, 수지 시이트를 하기 방법과 같은 주조 방법으로 제조하였다.

각각이 450mm×450mm의 면적 및 5nm의 표면 조도(Ra)를 갖는 편평한 표면의 주조 플레이트인 두 개의 주조 플레이트를 사용하였다. 우선, 투명 입자를 함유하 는 경질 피복층을 형성하기 위한 수지 용액을 회전 코팅에 의해 편평한 표면의 주조 플레이트중의 하나에 도포하고 건조시켜 톨루엔을 제거하였다. 생성된 피복물에 자외선(중심 파장 254nm; 적분된 광량 2000mJ/cm²)을 조사하여 투명 입자를 함유하고 두께가 2㎛인 경질 피복층을 형성하였다. 이어서, 경질 피복층을 형성하기 위한 수지 용액을 회전 코팅에 의해 또 다른 편평한 표면의 주조 플레이트에 도포하고 건조시켜 톨루엔을 제거하였다. 생성된 피복물에 자외선(중심 파장 254nm; 적분된 광량 2000mJ/cm²)을 조사하여 2㎛의 두께를 갖는 경질 피복층을 형성하였다.

그 후에, 5.5중량%의 폴리(비닐 알콜) 수용액을 회전 코팅에 의해 투명 입자를 함유하지 않는 경질 피복층에 도포하고, 건조시키고, 경화시켜 3.7㎛의 두께를 갖는 기체 차단층을 형성하였다.

각 수지로 피복된 면들이 서로 마주보고 플레이트 사이의 공간이 400㎛의 폭을 갖도록, 간격 조절을 위한 이격제 및 밀봉 물질에 의해 두 개의 주조 플레이트를 조립함으로써 주조 금형을 제작하였다.

두 개의 주조 플레이트 사이의 공간에 기재층 형성을 위한 수지를 함유하는 위에서 제조된 액체를 주입하였다. 수지를 함유하는 액체를 120℃에서 30분 동안 및 180℃에서 1시간 동안 가열함으로써 경화시켰다.

그 후에, 두 개의 주조 플레이트를 분해하고 생성된 수지층을 플레이트로부터 박리하여 수지 시이트(d)를 얻었다.

수득된 수지 시이트(d)는 5nm의 표면 조도(Ra)를 가졌다. 수지 시이트(d)는 400㎛의 평균 두께 및 9㎛의 두께 표준 편차를 나타냈다.

실시예 1과 동일한 방법으로 수지 시이트(b)를 제조하였다. 수득된 수지 시이트(d, b)를 예정된 형상으로 절단하고 아르곤 대기하에서 플라스마로 처리하였다. 처리된 수지 시이트 상에 스퍼터링에 의해 인듐-주석 옥사이드(ITO) 박막을 증착시켰다.

ITO 막 증착을 수지 시이트(d)의 투명 입자를 함유하는 경질 피복층 상에서 및 수지 시이트(b)의 한쪽 면의 경질 피복층 상에서 수행하였다.

그 후에, 수지 시이트(d)의 ITO 박막을 두 개의 부분으로 나누었다. 이들 두 개의 기판을 한 쌍으로서 구형 유리 비이드를 포함하는 간격 조절을 위한 이격제를 통해 마주보도록 배치하여 각 ITO 박막이 서로 마주보도록 하고 각각의 러빙 방향이 서로 수직이 되도록 하였다. 이렇게 배치된 수지 시이트 (d, b)를 밀봉 물질로 고정시켰다. 이어서, 10부의 트리메틸프로판 트리아크릴레이트(TMPTA)를 10부의 2-하이드록시에틸 아크릴레이트(HEA), 25부의 아크릴계 올리고머("M-1200", 토아고세이 캄파니(Toagosei Co.,Ltd.)에서 제조), 0.5부의 광경화 개시제 "듀로큐어-1173"(메르크에서 제조) 및 50부의 액정 "E7"(BDH에서 제조)과 균질하게 혼합하여 제조한 용액을 수지 시이트(d, b) 사이의 공간에 주입하였다. 상기 수지 시이트 조립체에 수지 시이트(d) 측면으로부터 자외선을 조사하여 액정 셀을 제조하였다.

실시예 4

액정 셀 기판을 순환 주조 방법으로 제조하였다. 우선, 실시예 1에서 제조 된 투명 입자를 함유하는 경질 피복층을 형성하기 위한 수지 용액을 다이로부터 방출시켜 스테인레스 강 소재의 이음매 없는 벨트(표면 조도(Ra) 7nm) 상에서 0.2m/분의 벨트 작동 속도로 순환 주조하였다. 톨루엔이 증발된 후, 피복물을 자외선 경화 장치(중심 파장 254nm; 적분된 광량 2000mJ/cm²)로 경화시켜 투명 입자를 함유하고 5㎛의 두께 및 500mm의 폭을 갖는 경질 피복층을 얻었다.

이어서, 5.5중량%의 폴리(비닐 알콜) 수용액을 다이를 통해 방출시켜 경질 피복층 상에서 순환 주조시켰다. 피복물을 가열(60℃에서 10분 동안)하여 건조시킴으로써 4㎛의 두께 및 450mm의 폭을 갖는 기체 차단층을 얻었다.

40mm의 너비를 갖는 내열성 PET 기재 테이프(MT-3155, 니토 덴코 코포레이션에서 제조)를 경질 피복층 및 기체 차단층으로 이루어진 생성된 두 층 구조물의 각 가장자리에 적용하였다. 상기 기술된 기재층 형성을 위한 수지를 함유하는 액체(20Pa·s, 25℃)를 다이로부터 방출시켜 430mm의 폭을 갖는 수지층 상에서 순환 주조하였다. 피복물을 히터로 90℃에서 5분 동안, 120℃에서 5분 동안, 및 다시 140℃에서 15분 동안 가열하여 건조시켰다. 130℃로 유지되는 드럼 상에서, 생성된 다층 피복물을 벨트와 경질 피복층 계면에서 스테인레스 강 소재의 이음매 없는 벨트로부터 박리시켰다. 이렇게 430mm의 폭을 갖는 수지 시이트(e)를 얻었다. 피복 작업에서, 히터 내의 지지체를 조절하여 200㎛/1000mm의 수평 수준을 갖도록 하고, 피복물을 지지체의 상측으로부터 하측으로 뜨거운 공기로 건조시켰다(가열 온도의 정확도는 0.4℃/cm).

수득된 수지 시이트(e)를 490mm의 간격으로 기계 방향에 대해 수직방향으로 절단하여 490mm×490mm의 절단 조각을 얻었다. 수득된 수지 시이트(e)는 평균 두께 400㎛ 및 두께 표준편차 7 ㎛를 나타냈다.

평균 두께 및 두께 표준편차 값은 480mm×480mm의 구역내의 60개 지점에 대해 측정된 두께 값으로부터 얻은 것이다.

수지 시이트(e)는 기재층 면에서 0.2nm의 표면 조도(Ra)를 갖고, 경질 피복층 면에서 7nm의 표면 조도(Ra)를 가졌다. 각 표면 조도(Ra)의 값은 480mm×480mm의 구역내의 10개 지점에 대해 측정된 값의 평균이다.

이어서, ITO 박막을 수지 시이트(e)의 경질 피복층 면에 증착시켰다. 액정 셀을 만들기 위하여 실시예 3에서와 같은 방법으로 상기 수지 시이트를 수지 시이트 (b)와 결합하여 사용하였다.

실시예 5

실시예 1에서와 동일한 방법으로 경질 피복층을 형성하기 위한 수지 용액 및 기재층 형성을 위한 수지를 함유하는 액체를 제조하였다. 이어서, 액정 셀 기판을 하기 방법과 같은 주조 방법으로 제조하였다.

두 개의 주조 플레이트를 사용하였는데, 그 중 하나는 450mm×450mm의 면적 및 5nm의 표면 조도(Ra)를 갖는 편평한 표면의 주조 플레이트이고, 다른 하나는 450mm×450mm의 면적을 갖고 표면 처리되어 100nm의 표면 조도 및 30㎛의 산곡 간격을 갖는 표면-처리된 주조 플레이트였다. 우선, 경질 피복층을 형성하기 위한 수지 용액을 회전 코팅에 의해 편평한 표면의 주조 플레이트에 도포하고 건조시켜 톨루엔을 제거하였다. 생성된 피복물에 자외선(중심 파장 254nm; 적분된 광량 2000mJ/cm²)을 조사하여 두께가 2 ㎛인 경질 피복층을 형성하였다. 이어서, 경질 피복층을 형성하기 위한 수지 용액을 회전 코팅에 의해 표면 처리된 주조 플레이트에 도포하고 건조시켜 톨루엔을 제거하였다. 생성된 피복물에 자외선(중심 파장 254nm; 적분된 광량 2000mJ/cm²)을 조사하여 돌출 부위를 제외하고 2㎛의 두께를 갖는 경질 피복층을 형성하였다.

그 후에, 5.5중량%의 폴리(비닐 알콜) 수용액을 회전 코팅에 의해 편평한 표면의 주조 플레이트 상에 형성된 경질 피복층에 도포하고, 건조시키고, 경화시켜 3.7㎛의 두께를 갖는 기체 차단층을 형성하였다.

간격 조절을 위한 이격제 및 밀봉 물질을 통해 각 수지로 피복된 면들이 서로 마주보고 플레이트 사이의 공간이 400㎛의 폭을 두 개의 주조 플레이트를 조립함으로써 주조 금형을 제작하였다.

그 후에, 두 개의 주조 플레이트를 분해하고 생성된 수지층을 플레이트로부터 박리하여 수지 시이트(f)를 얻었다.

수득된 수지 시이트(f)에서, 한 주조 플레이트의 요철 형상이 전사된 면은 100nm의 표면 조도(Ra) 및 30㎛의 산곡 간격을 가졌고, 다른쪽 면은 5nm의 표면 조 도(Ra)를 가졌다. 수지 시이트(f)는 400㎛의 평균 두께 및 9㎛의 두께 표준 편차를 나타냈다.

실시예 1과 동일한 방법으로 수지 시이트(b)를 제조하였다. 수득된 에폭시 수지 시이트(f, b)를 예정된 형상으로 절단하고 아르곤 대기하에서 플라스마로 처리하였다. 처리된 수지 시이트 상에 스퍼터링에 의해 인듐-주석 옥사이드(ITO) 박막을 증착시켰다.

ITO 막 증착을 수지 시이트(f)의 요철이 없는 면에서 및 수지 시이트(b)의 한쪽 면에서 수행하였다.

그 후에, 수지 시이트(f)의 ITO 박막을 두 개의 부분으로 나누었다. 수지 시이트(f, b)를 구형 유리 비이드를 포함하는 간격 조절을 위한 이격제를 통해 마주보도록 배치하여 각 ITO 박막이 서로 마주보도록 하고 각 러빙 방향이 서로 수직이 되도록 하였다. 이렇게 배치된 수지 시이트(f, b)를 밀봉 물질로 고정시켰다. 이어서, 10부의 트리메틸프로판 트리아크릴레이트(TMPTA)를 10부의 2-하이드록시에틸 아크릴레이트(HEA), 25부의 아크릴계 올리고머("M-1200", 토아고세이 캄파니에서 제조), 0.5부의 광경화 개시제 "듀로큐어-1173"(메르크에서 제조) 및 50부의 액정 "E7"(BDH에서 제조)과 균질하게 혼합하여 제조한 용액을 수지 시이트(f, b) 사이의 공간에 주입하였다. 상기 수지 시이트 조립체에 수지 시이트 (f) 측면으로부터 자외선을 조사하여 액정 셀을 제조하였다.

실시예 6

액정 셀 기판을 순환 주조 방법으로 제조하였다. 우선, 실시예 1에서 제조 된 경질 피복층을 형성하기 위한 수지 용액을 다이로부터 방출시켜 스테인레스 강 소재의 이음매 없는 벨트(100nm의 표면 조도(Ra); 30㎛의 산곡 간격) 상에서 0.2m/분의 벨트 작동 속도로 순환 주조하였다. 톨루엔이 증발된 후, 피복물을 자외선 경화 장치(중심 파장 254nm; 적분된 광량 2000mJ/cm²)로 경화시켜 5㎛의 두께 및 500mm의 너비를 갖는 경질 피복층을 얻었다.

40mm의 폭을 갖는 내열성 PET 기재 테이프(MT-3155, 니토 덴코 코포레이션에서 제조)를 경질 피복층 및 기체 차단층으로 이루어진 생성된 두 층 구조물의 각 가장자리에 적용하였다. 상기 기술된 기재층 형성을 위한 수지를 함유하는 액체(20 Pa·s, 25℃)를 다이로부터 방출시켜 430mm의 폭을 갖는 수지층 상에서 순환 주조하였다. 피복물을 히터로 90℃에서 5분 동안, 120℃에서 5분 동안, 및 다시 140℃에서 15분 동안 가열하여 건조시켰다. 130℃로 유지되는 드럼 상에서, 생성된 다층 피복물을 벨트와 경질 피복층 계면에서 스테인레스 강 소재의 이음매 없는 벨트로부터 박리시켰다. 이렇게 하여, 430mm의 폭을 갖는 수지 시이트(g)를 얻었다. 피복 작업에서, 히터 내의 지지체를 조절하여 200㎛/1000mm의 수평 수준을 갖도록 하고, 피복물을 지지체의 상측으로부터 하측으로 뜨거운 공기로 건조시켰다(가열 온도의 정확도는 0.4℃/cm).

수득된 수지 시이트(g)를 490mm의 간격으로 기계 방향에 대해 수직방향으로 절단하여 490mm×490mm의 절단 조각을 얻었다. 수득된 수지 시이트(g)는 평균 두께 400㎛ 및 두께 표준편차 7㎛를 나타냈다.

수지 시이트(g)는 기재층 면에서 0.2nm의 표면 조도(Ra)를 갖고 경질 피복층 면에서 100nm의 표면 조도(Ra)를 가졌다. 경질 피복층의 표면은 30㎛의 산곡 간격 값을 가졌다. 각 표면 조도(Ra)의 값은 480mm×480mm의 구역내의 10개 지점에 대해 측정된 값의 평균이다.

이어서, ITO 박막을 수지 시이트(g)의 기재층 면에 증착시켰다. 액정 셀을 만들기 위하여 실시예 5에서와 같은 방법으로 상기 수지 시이트를 수지 시이트 (b)와 결합하여 사용하였다.

비교예 1

실시예 1에서 제조한 경질 피복층 형성을 위한 수지 용액을 금속으로 제조된 두 개의 편평한 표면을 갖는 주조 플레이트에 도포한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 수지 시이트(h)를 제조하였다. 액정 셀을 제조하기 위하여 실시예 1과 동일하게 상기 수지 시이트를 수지 시이트 (b)와 함께 사용하였다.

평가 시험

실시예 1 내지 6 및 비교예 1에서 제조된 액정 셀을 액정 표시 장치를 조립하는데 사용하였다. 어두운 방에서, 고리 형상의 조명기를 사용하여 20˚ 각도로 액정 표시 장치에 빛을 비추었다. 이러한 조건하에서, 각 액정 표시 장치에 대해 전압을 걸어주는 동안 흑색 그림의 표시 품질에 대해 조사하고, 전압을 걸어 주지 않는 동안 흰색 그림의 표시 품질을 조사하였다.

실시예 1 내지 6에서 얻은 액정 셀을 사용하는 표시 장치는 흑색 그림 및 흰색 그림 모두에서 만족할만한 표시 품질을 나타냈다. 이와는 대조적으로, 비교예 1에서 제조한 액정 셀을 사용하는 표시 장치에서는 고리 형상의 조명기가 흑색 그림을 나타내는 표시 장치 상에 반사되었다. 더욱이, 흰색 그림을 나타내는 비교용 표시 장치는 번쩍임을 보였는데, 이는 아마도 액정 셀 표면에 조명광이 반사되었기 때문이다.

본 발명은 하기와 같은 효과를 보인다. 본 발명의 수지 시이트가 수지-기재의 시이트이므로, 이들은 유리-기재의 기판보다 다 얇고 더 가볍다. 최외층으로서 요철을 갖는 경질 피복층을 갖는 본 발명의 수지 시이트는 형광 또는 태양광과 같은 조명광 또는 키보더와 같은 주변 기기가 표시 장치 상에 반사되는 소위 고스트 현상을 방지하기 위한 눈부심 방지 기능을 갖는다. 더욱이, 최외층으로서 투명 입자를 함유하는 경질 피복층을 갖는 본 발명의 수지 시이트는 태양광으로 인하거나 또는 액정 표시 장치내 빌트인 후면광으로 인한 번쩍임을 방지하기 위한 광확산 기능을 갖는다. 수지 시이트에 이러한 눈부심 방지 기능 또는 광확산 기능을 부여함으로써 액정 셀의 가시측면에 눈부심 방지 시이트 또는 광확산 시이트를 결합시 킬 필요를 없앤다. 그 결과, 액정 셀의 두께 및 중량이 감소될 수 있다. 본 발명의 수지 시이트를 전자 발광성 부품을 위한 기판으로서 사용하는 경우, 외부 광이 수지 시이트에 의해 확산되거나 반사되어 표시 품질을 개선시킬 수 있다.

Claims

기체 차단층, 기재층 및 최외층으로서의 하나의 경질 피복층을 포함하고, 상기 경질 피복층이 그의 외표면에 요철을 갖는 수지 시이트.
제 1 항에 있어서,

요철을 갖는 표면이 80 내지 500nm의 표면 조도를 갖는 수지 시이트.
제 1 항에 있어서,

요철을 갖는 표면이 20 내지 80nm의 산곡(山谷) 간격(peak-to-valley distance)을 갖는 수지 시이트.
제 1 항에 있어서,

기재층이 에폭시 수지를 포함하는 수지 시이트.
제 1 항에 있어서,

경질 피복층이 우레탄 수지를 포함하는 수지 시이트.
지지체에 형성된 오목부 형상을 전사시켜 경질 피복층의 표면 위에 요철을 형성하는 단계를 포함하는 제 1 항의 수지 시이트의 제조 방법.
제 1 항의 수지 시이트를 사용하는 액정 표시 장치.
제 1 항의 수지 시이트를 사용하는 유기 전자발광 표시 장치.