JP2003337205A - 反射防止樹脂シート、画像表示装置用基板、画像表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 照明光や液晶表示装置内蔵のバックライトに
起因するギラツキを防止する光拡散機能を有し、薄型か
つ軽量で耐久性に優れた液晶セル基板やエレクトロルミ
ネッセンス表示装置（以下、有機ＥＬ表示装置）用基板
等の画像表示装置用の基板等を形成しうる反射防止樹脂
シート、およびそれを用いた液晶表示装置、有機ＥＬ表
示装置等の画像表示装置を提供する。 【解決手段】 基材層上に、ガスバリア層、透明粒子を
含有するハードコート層、および当該ハードコート層形
成樹脂よりも屈折率の低い材料よりなる低屈折率層がこ
の順で基材層側から積層されている反射防止樹脂シー
ト。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はギラツキを防止し、光拡
散性に優れた画像表示装置用基板等を形成しうる反射防
止樹脂シート、およびそれを用いた液晶表示装置、エレ
クトロルミネッセンス表示装置等の画像表示装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】各種画像表示装置の一つに液晶表示装置
があるが、近年、視認性向上の要望がよりいっそう高ま
っている。表示デバイスとしての見やすさ、例えば、液
晶表示装置の高精細化、高画質化を追求するためには、
液晶表示装置ヘの外部光の映り込み、反射、ギラツキ等
を極力抑える必要がある。とりわけ、例えばカーナビゲ
ーション用モニター、ビデオカメラ用モニター、携帯電
話、ＰＨＳ、各種携帯情報端末等を屋外で使用する場合
には、視認性の低下が屋内で使用する場合に比べて顕著
である。

【０００３】このため、液晶表示装置等の画像表示装置
においては、透明粒子を有する光拡散シートを液晶セル
の視認側に貼り付け、照明光や液晶表示装置内蔵のバッ
クライトに起因するギラツキを防止し、視認性を向上さ
せる方法が知られていた。しかし、液晶表示装置の薄型
化、軽量化の点から光拡散シートを液晶セルの視認側に
貼り付ける代わりに、光拡散機能を液晶セル基板に付与
することが検討されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、照明光や液
晶表示装置内蔵のバックライトに起因するギラツキを防
止する光拡散機能を有し、薄型かつ軽量で耐久性に優れ
た液晶セル基板やエレクトロルミネッセンス表示装置
（以下、有機ＥＬ表示装置）用基板等の画像表示装置用
の基板等を形成しうる反射防止樹脂シート、およびそれ
を用いた液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置等の画像表示
装置を提供することを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決するため鋭意検討した結果、基材層上に、光拡散
機能を有するハードコート層と当該ハードコート層を形
成する樹脂よりも屈折率の低い材料よりなる低屈折率層
とを密着させて設けることにより、液晶ディスプレイへ
の外部光の映り込み、反射、ギラツキ等も抑制でき、薄
型かつ軽量の反射防止シートが得られることを見出し、
本発明を完成するに至った。

【０００６】すなわち、本発明は、基材層上に、ガスバ
リア層、透明粒子を含有するハードコート層、および当
該ハードコート層形成樹脂よりも屈折率の低い材料より
なる低屈折率層がこの順で基材層側から積層されている
ことを特徴とする反射防止樹脂シートを提供するもので
ある。画像表示装置においては、水分や酸素が液晶セル
基板を透過してセル内に侵入すると、液晶の変質や気泡
の形成による外観不良、透明導電膜パターンの断線など
を発生させるおそれがあるが、基材層とハードコート層
の間にガスバリア層を設けることで、水分やガス透過を
防止することができる。

【０００７】前記の反射防止樹脂シートにおいては、基
材層のガスバリア層とは反対側にハードコート層がもう
１層積層されていることが好ましい。該ハードコート層
は、樹脂シートの片側表面層を形成することより、基材
層の表面コート層として機能しうるため、かかるハード
コート層を設けることにより樹脂シートの耐薬品性、耐
擦傷性等が向上する。この基材層のガスバリア層とは反
対側に積層されたハードコート層は、透明粒子を含有す
ることが好ましい。光学用途を目的とする場合には、透
明性等の光学特性に優れるものであることが望ましいか
らであり、透明粒子を含有させることにより光拡散機能
が付与されバックライトに起因するギラツキを防止でき
る。なお、透明粒子は光学的に透明な粒子であればよ
い。

【０００８】本発明の反射防止樹脂シートにおいては、
前記の透明粒子が、ハードコート層形成樹脂との屈折率
差０．０３〜０．１０である球形粒子であることが好ま
しい。前記屈折率差が０．０３よりも小さい場合や０．
１０より大きい場合は、十分な光拡散機能を付与するこ
とができない。また球形粒子を用いることにより、粒子
の分散性が向上し、光学特性が良好となる。

【０００９】反射防止効果がよく、表示品位の高い反射
防止樹脂シートを得るには、屈折率が前記関係：ハード
コート層＞基材層＞低屈折率層となるように、ハードコ
ート層と反射防止層の屈折率差が大きいことが好まし
い。そのため、本発明の反射防止樹脂シートにおいて
は、前記ハードコート層の屈折率が１．４５〜１．８０
であり、かつ、前記低屈折率層の屈折率が１．３５〜
１．５０であることが好ましい。上記屈折率を有するハ
ードコート層上に上記屈折率を有する低屈折率層を積層
することにより、良好な反射防止効果が得られる。ただ
し、低屈折率層の屈折率＜ハードコート層の屈折率であ
ることが必要である。

【００１０】また、本発明の反射防止樹脂シートにおい
ては、前記基材層がエポキシ系樹脂からなることが好ま
しく、前記ハードコート層がウレタン系樹脂からなるこ
とが好ましい。基材層には、表面平滑性を得るために熱
硬化性樹脂が好ましく用いられるが、熱硬化性樹脂の中
では色相の点よりエポキシ系樹脂が特に好ましく用いら
れる。ウレタン系樹脂は、光学特性、および後述する支
持体に対する易剥離性、特にステンレス系支持体に対す
る易剥離性、ハードコート性などの点よりハードコート
層に好ましく用いられる。

【００１１】また、本発明は、前記の反射防止樹脂シー
トからなることを特徴とする画像表示装置用基板、太陽
電池用基板、およびこれらを用いた画像表示装置を提供
するものである。画像表示装置用基板としては、例え
ば、液晶セル基板、有機ＥＬ表示装置用基板等があげら
れる。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明の反射防止樹脂シートは、
基材層上に、ガスバリア層、透明粒子を含有するハード
コート層、および当該ハードコート層形成樹脂よりも屈
折率の低い材料よりなる低屈折率層がこの順で基材層側
から積層されているものである。基材層のガスバリア層
とは反対側に、ハードコート層がもう１層積層されてい
てもよい。これらの場合、ガスバリア層は耐衝撃性、耐
薬品性がハードコート層や基材層よりも劣ることがある
ので、ガスバリア層は最外層に積層されないほうがよ
い。

【００１３】本発明において、基材層を形成する樹脂と
しては、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエー
テルスルホン、ポリスルホン、ポリエステル、ポリメチ
ルメタクリレート、ポリエーテルイミドやポリアミド等
の熱可塑性樹脂、エポキシ系樹脂、不飽和ポリエステ
ル、ポリジアリルフタレートやポリイソボニルメタクリ
レート等の熱硬化樹脂があげられる。これらの樹脂は１
種または２種以上を用いることができ、他成分との共重
合体や混合物などとして用いうる。シートの表面平滑性
を得るために熱硬化性樹脂が好ましく、熱硬化性樹脂の
中では色相の点よりエポキシ系樹脂が最も好ましく用い
られる。

【００１４】本発明において基材層を形成するエポキシ
系樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ型、ビスフ
ェノールＦ型、ビスフェノールＳ型やそれらの水添加の
如きビスフェノール型、フェノールノボラック型やクレ
ゾールノボラック型の如きノボラック型、トリグリシジ
ルイソシアヌレート型やヒダントイン型の如き含窒素環
型、脂環式型、脂肪族型、ナフタレン型の如き芳香族
型、グリシジルエーテル型、ビフェニル型の如き低吸水
率タイプ、ジシクロ型、エステル型、エーテルエステル
型やそれらの変成型などがあげられる。これらは単独で
使用してもあるいは併用してもよい。上記各種エポキシ
系樹脂の中でも、変色防止性などの点よりビスフェノー
ルＡ型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、トリグリシ
ジルイソシアヌレート型を用いることが好ましい。

【００１５】このようなエポキシ系樹脂としては、一般
にエポキシ当量１００〜１０００、軟化点１２０℃以下
のものが、得られる液晶セル基板の柔軟性や強度等の物
性などの点より好ましく用いられる。さらに塗工性やシ
ート状への展開性等に優れるエポキシ樹脂含有液を得る
点などよりは、塗工時の温度以下、特に常温において液
体状態を示す二液混合型のものが好ましく用いうる。

【００１６】またエポキシ系樹脂は、硬化剤、硬化促進
剤、および必要に応じて従来から用いられている老化防
止剤、変成剤、界面活性剤、染料、顔料、変色防止剤、
紫外線吸収剤等の従来公知の各種添加物を適宜に配合す
ることができる。

【００１７】前記、硬化剤についても特に限定はなく、
エポキシ系樹脂に応じた適宜な硬化剤を１種または２種
以上用いることができる。ちなみにその例としては、テ
トラヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、ヘ
キサヒドロフタル酸やメチルヘキサヒドロフタル酸の如
き有機酸系化合物類、エチレンジアミン、プロピレンジ
アミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミ
ンやそれらのアミンアダクト、メタフェニレンジアミ
ン、ジアミノジフェニルメタンやジアミノジフェニルス
ルホンの如きアミン系化合物類があげられる。

【００１８】また、ジシアンジアミドやポリアミドの如
きアミド系化合物類、ジヒドラジットの如きヒドラジド
系化合物類、メチルイミダゾール、２−エチル−４−メ
チルイミダゾール、エチルイミダゾール、イソプロピル
イミダゾール、２,４−ジメチルイミダゾール、フェニ
ルイミダゾール、ウンデシルイミダゾール、ヘプタデシ
ルイミダゾールや２−フェニル−４−メチルイミダゾー
ルの如きイミダゾール系化合物類も前記硬化剤の例とし
てあげられる。

【００１９】さらに、メチルイミダゾリン、２−エチル
−４−メチルイミダゾリン、エチルイミダゾリン、イソ
プロピルイミダゾリン、２，４−ジメチルイミダゾリ
ン、フェニルイミダゾリン、ウンデシルイミダゾリン、
ヘプタデシルイミダゾリンや２−フェニル−４−メチル
イミダゾリンの如きイミダゾリン系化合物、その他、フ
ェノール系化合物、ユリア系化合物類やポリスルフィド
系化合物類も前記硬化剤の例としてあげられる。

【００２０】加えて、酸無水物系化合物類なども前記硬
化剤の例として挙げられ、変色防止性などの点より、か
かる酸無水物硬化剤が好ましく用いうる。その例として
は無水フタル酸、無水マレイン酸、無水トリメリット
酸、無水ピロメリット酸、無水ナジック酸、無水グルタ
ル酸、テトラヒドロフタル酸無水物、メチルテトラヒド
ロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチ
ルヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルナジック酸無水
物、ドデセニルコハク酸無水物、ジクロロコハク酸無水
物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物やクロレン
ディック酸無水物などがあげられる。

【００２１】特に、無水フタル酸、テトラヒドロフタル
酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物やメチルヘキサ
ヒドロフタル酸無水物の如く無色系ないし淡黄色系で、
分子量が約１４０〜約２００の酸無水物系硬化剤が好ま
しく用いられる。

【００２２】前記エポキシ系樹脂と硬化剤の配合割合
は、硬化剤として酸無水物系硬化剤を用いる場合、エポ
キシ系樹脂のエポキシ基１当量に対して酸無水物当量を
０．５〜１．５当量となるように配合することが好まし
く、さらに好ましくは０．７〜１．２当量がよい。酸無
水物が０．５当量未満では、硬化後の色相が悪くなり、
１．５当量を超えると、耐湿性が低下する傾向がみられ
る。なお他の硬化剤を単独で又は２種以上を併用して使
用する場合にも、その使用量は前記の当量比に準じる。

【００２３】前記硬化促進剤としては、第三級アミン
類、イミダゾール類、第四級アンモニウム塩類、有機金
属塩類、リン化合物類や尿素系化合物類等があげられる
が、特に第三級アミン類、イミダゾール類やリン化合物
類を用いることが好ましい。これらは単独であるいは併
用して使用することができる。

【００２４】前記硬化促進剤の配合量は、エポキシ系樹
脂１００重量部に対して０．０５〜７．０重量部である
ことが好ましく、さらに好ましくは０．２〜３．０重量
部がよい。硬化促進剤の配合量が０．０５重量部未満で
は、充分な硬化促進効果が得られず、７．０重量部を超
えると硬化体が変色するおそれがある。

【００２５】前記老化防止剤としては、フェノール系化
合物、アミン系化合物、有機硫黄系化合物やホスフィン
系化合物等の従来公知のものがあげられる。

【００２６】前記変性剤としては、グリコール類、シリ
コーン類やアルコール類等従来公知のものがあげられ
る。

【００２７】前記界面活性剤は、エポキシ系液晶セル基
板を流延法でエポキシ樹脂を空気に触れながら成形する
場合に、シートの表面を平滑にするために添加される。
界面活性剤としてはシリコーン系、アクリル系やフッ素
系等があげられるが、とくにシリコーン系が好ましい。

【００２８】基材層の形成法は、特に制限されず、適宜
な方式を採用することができる。例えば、エポキシ樹脂
塗工液の展開は、ロールコート法、スピンコート法、ワ
イヤバーコート法、ディップコート法、エクストルージ
ョン法、カーテンコート法、スプレコート法などの適宜
な方式にてエポキシ樹脂塗工液をガスバリア層の上に流
動展開させてシート状の展開層を形成することにより行
うことができる。必要に応じて加熱処理、光照射処理な
いし硬化処理することで被膜化する。

【００２９】基材層の厚さは、反射防止樹脂シートの使
用目的などに応じ１００μｍ以上の厚さで適宜に決定す
ることができる。一般には、剛直性ないし柔軟性や薄型
軽量性等のシートとしての特性を活かす点などより１ｍ
ｍ以下、好ましくは９００μｍ以下、特に８００μｍ以
下とされる。なお光学用途などでは２００〜５００μｍ
の厚さが有利な場合も多い。

【００３０】本発明においてガスバリア層を形成する材
料としては、水蒸気や酸素ガス等の目的とするガスの透
過阻止能に優れ、とりわけ、酸素透過係数が小さいもの
が用いられる。例えば、ポリビニルアルコールやその部
分けん化物、エチレン・ビニルアルコール共重合体等の
ビニルアルコール系ポリマーや、ポリアクリロニトリ
ル、ポリ塩化ビニリデン等があげられる。高ガスバリア
性、水分の拡散性ないし吸水度の均一性などの点より、
ビニルアルコール系ポリマーが特に好ましい。

【００３１】ガスバリア層の形成法は、特に制限され
ず、適宜な方式を採用することができる。また、ガスバ
リア層の厚みは、透明性、着色防止、ガスバリア性等の
機能性、薄型化、得られるエポキシ樹脂シートのフレキ
シビリティーなどの点により１５μｍ以下、好ましくは
１３μｍ以下、さらに好ましくは２〜１０μｍ、特に好
ましくは３〜５μｍの厚さにするのがよい。ガスバリア
層の厚みを２μｍ以上にすれば十分なガスバリア機能を
付与することができ、１０μｍ以下にすれば液晶セル基
板の黄色度指数（ＹＩ値）が小さくなる。

【００３２】本発明においてハードコート層を形成する
材料としては、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリ
エステル系樹脂、ポリビニルアルコールやエチレン・ビ
ニルアルコール共重合体の如きポリビニルアルコール系
樹脂、塩化ビニル系樹脂や塩化ビニリデン系樹脂があげ
られる。

【００３３】また、ポリアリレート系樹脂、スルホン系
樹脂、アミド系樹脂、イミド系樹脂、ポリエーテルスル
ホン系樹脂、ポリエーテルイミド系樹脂、ポリカーボネ
ート系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリオ
レフィン系樹脂、スチレン系樹脂、ビニルピロリドン系
樹脂、セルロース系樹脂やアクリロニトリル系樹脂など
も樹脂層の形成に用いることができる。なお樹脂層の形
成には、適宜な樹脂の２種以上のブレンド物なども用い
ることができる。

【００３４】これらの樹脂の中では、光学特性、および
後述する支持体に対する易剥離性、特にステンレス系支
持体に対する易剥離性、ハードコート性などの点より、
ウレタン系樹脂が好ましく、ウレタンアクリレートが特
に好ましく用いられる。なかでも、下記の化学式（化
１）で示されるウレタンアクリレートが好ましい。

【化１】

【００３５】本発明においては、ハードコート層が透明
粒子を含有することにより光拡散機能が付与される。透
明粒子としては、ガラスやシリカ等の無機材料、アクリ
ル系樹脂、ポリエステル系樹脂、エポキシ系樹脂、メラ
ミン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹
脂、ポリスチレン系樹脂、シリコーン系樹脂、ベンゾグ
アナミン、メラミン・ベンゾグアナミン縮合物やベンゾ
グアナミン・ホルムアルデヒド縮合物等の有機材料が挙
げられ、より好ましくはハードコート層を形成する樹脂
との屈折率差が０．０３〜０．１０の範囲である球形粒
子がよい。前記屈折率差が０．０３よりも小さい場合や
０．１０より大きい場合は十分な光拡散機能を付与する
ことができない。

【００３６】透明粒子は、その粒子径が実質的に０．３
〜３０μｍの範囲にあるのが好ましい。粒子径が０．３
μｍ以上あれば光の拡散性が良好となり、３０μｍ以下
であれば光の拡散性が均一となる。

【００３７】透明粒子のハードコート層に対する体積比
率は１〜５０％であることが好ましい。体積比率は（透
明粒子の体積／ハードコート層の体積）×１００で算出
することができる。ここでのハードコート層の体積とは
透明粒子を含んだハードコート層の体積のことである。
透明粒子のハードコート層に対する体積比率が１％より
も小さい場合や５０％より大きい場合は十分な光拡散機
能を付与することができない。

【００３８】ハードコート層の形成法は、特に制限され
ず、適宜な方式を採用することができる。例えば、ハー
ドコート層形成樹脂溶液に透明粒子を含有させて塗工液
を調製し、これをロールコート法、スピンコート法、ワ
イヤバーコート法、ディップコート法、エクストルージ
ョン法、カーテンコート法、スプレコート法などの適宜
な方式にて塗布後乾燥等させることにより透明粒子を含
有したハードコート層を形成することができる。乾燥
後、必要に応じて加熱処理、光照射処理ないし硬化処理
することで被膜化する。

【００３９】ハードコート層の厚さは、適宜に決定しう
るが、一般には製造時の易剥離性や剥離の際にヒビ割れ
の生じることを防止する点などより、１〜１０μｍ、好
ましくは８μｍ以下、特に２〜５μｍとすることが好ま
しい。

【００４０】本発明においてハードコート層形成樹脂よ
りも屈折率の低い材料よりなる低屈折率層を形成する材
料としては、例えば、紫外線硬化型アクリル樹脂等の樹
脂系材料、樹脂中にコロイダルシリカ等の無機微粒子を
分散させたハイブリッド系材料、テトラエトキシシラ
ン、チタンテトラエトキシド等の金属アルコキシドを用
いたゾル−ゲル系材料等があげられる。また、それぞれ
の材料は、表面の防汚染性付与するためフッ素基含有化
合物が用いられる。耐擦傷性の面からは、無機成分含有
量が多い低屈折率層材料が優れる傾向にあり、特にゾル
−ゲル系材料が好ましい。

【００４１】前記フッ素基を含有するゾル−ゲル系材料
としては、パーフルオロアルキルアルコキシシランを例
示できる。パーフルオロアルキルアルコキシシランとし
ては、たとえば、一般式（１）：ＣＦ_３（ＣＦ_２）ｎＣ
Ｈ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＲ）_３（式中、Ｒは、炭素数１〜５
個のアルキル基を示し、ｎは０〜１２の整数である）で
表される化合物があげられる。具体的には、たとえば、
トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオ
ロプロピルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオク
チルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルト
リエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメト
キシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシ
ランなどがあげられる。これらのなかでも前記ｎが２〜
６の化合物が好ましい。

【００４２】低屈折率材料としてフッ素基含有化合物を
用いるとともに、正荷電を有する官能基および／または
正荷電しうる官能基を有する化合物を用いて、見かけ
上、反射防止層の最表面を電気的に中性化するようにし
てもよい。反射防止層の最表面の帯電が低減されて、
挨、塵等の付着性、抜き取り性の問題が解消可能とな
る。

【００４３】前記の正荷電を有する官能基および／また
は正荷電しうる官能基を有する化合物としては、各種の
ものを使用できるが、当該官能基は、たとえば、アミノ
基、アンモニウム塩基等の窒素原子を含む官能基や、燐
酸基等のリン原子を含む官能基、スルホニウム基等のイ
オウ原子を含む官能基等があげられる。なかでも、アミ
ノ基、アンモニウム塩基等の窒素原子を含む官能基が、
挨、塵等の付着防止性、拭き取り性に優れており好まし
い。

【００４４】窒素原子を含む官能基を有する化合物とし
ては、たとえば、ポリエチレンイミンや、テトラブチル
アンモニウムブロマイド、テトラアンモニウムクロライ
ド等の４級アンモニウム塩があげられる。また、特にシ
ラン系化合物としては、γ−アミノプロピルトリメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ
−（β−アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメト
キシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−アミノプ
ロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）
−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン等のシラ
ンカップリング剤があげられる。

【００４５】フッ素基含有化合物と官能基を有する化合
物との配合割合は特に制限されないが、フッ素基を含有
する化合物１モル部に対して、官能基を有する化合物の
配合割合を０．１〜１．５モル部程度、さらには０．５
〜１モル部とするのが好ましい。官能基を有する化合物
の配合割合が少ないと液体をはじく性質に係わる防汚染
性は良好であるが、挨、塵等の付着防止性、抜き取り性
が充分発現し難く、一方、多すぎると挨・塵等の付着防
止性、抜き取り性は良好であるが防汚染性が低下する傾
向がある。低屈折率層形成材料は、前記各化合物を前記
配合割合となるように混合した塗工液として調製でき
る。

【００４６】また、低屈折率層形成材にはシリカ、アル
ミナ、チタニア、ジルコニア、フッ化マグネシウム、セ
リア等をアルコール溶媒に分散したゾルなどを添加して
も良い。その他、金属塩、金属化合物などの添加剤を適
宜に配合することができる。

【００４７】低屈折率層の屈折率は、ハードコート層の
屈折率よりも低い。また基材層の屈折率よりも低くなる
ように調整するのが好ましい。低屈折率層の屈折率は、
１．３５〜１．５０であるのが好ましい。

【００４８】低屈折率層の形成法は、特に制限されず、
適宜な方式にてハードコート層上に施される。例えば、
ドクターブレード法、グラビアロールコーター法、デイ
ッピング法、蒸着法等の適宜な方式にて形成することが
できる。低屈折率層の厚さは特に制限されず、通常、平
均８０〜１５０ｎｍ程度である。

【００４９】本発明による反射防止樹脂シートの流延法
による製造例を図１に、注型法による製造例を図２に示
した。

【００５０】まず注型法においては、図２に示すよう
に、表面無垢な金型１３にハードコート層形成樹脂溶液
を塗布後乾燥してハードコート層を形成する。表面無垢
な金型１４にハードコート層形成樹脂溶液を塗布後乾燥
してハードコート層を形成し、さらにガスバリア層形成
樹脂含有液を塗布後乾燥しガスバリア層を形成させる。
その後、２枚の金型を樹脂塗布面が向かい合うようにし
てスペーサー１６やシーリング材１５を介して型組を行
う。次にその隙間に基材層形成樹脂含有液を注入後硬化
させて基材層を形成し、２枚の金型から剥離した後、最
外層に低屈折率層を形成することにより、本発明の反射
防止樹脂シートを得ることができる。この場合、ハード
コート層形成樹脂溶液に透明粒子を含有させ、塗布後乾
燥させることにより透明粒子を含有したハードコート層
を形成することができる。

【００５１】図１に例示の製造工程は、支持体にエンド
レスベルトを用いて流延法により反射防止樹脂シートを
連続製造するものである。

【００５２】図１に例示の流延法にては、エンドレスベ
ルト１からなる支持体を駆動ドラム４および従動ドラム
５を介し、例えば０．１〜５０ｍ／分、好ましくは０．
２〜５ｍ／分の一定速度で走行させつつ、その上にダイ
７よりハードコート層形成樹脂溶液、ダイ９よりガスバ
リア層形成樹脂含有液を塗布して乾燥、あるいは必要に
応じ加熱または光照射等により硬化処理して皮膜１０、
１１とする。なお図例では加熱装置３、ＵＶ硬化装置８
が配置されている。

【００５３】また、ハードコート層形成樹脂溶液に透明
粒子を含有させ、塗布後乾燥させることによって、透明
粒子を含有したハードコート層を形成することができ
る。

【００５４】次に、皮膜１０、１１の上にダイ２を介し
て基材層形成樹脂含有液を塗布してシート状に展開し、
加熱または光照射により完全に硬化させ、皮膜６とす
る。図例では加熱装置３が配置されており、加熱方法は
熱風、赤外線ヒーター等により行い、これらを併用して
もよい。熱風風速は通常０．１〜５ｍ／ｓｅｃである
が、熱可塑性もしくは熱硬化性樹脂含有液の加熱の場合
は０．２〜１ｍ／ｓｅｃが好ましい。

【００５５】前記加熱装置３は樹脂含有液の温度依存に
よる低粘度化、硬化反応による増粘化で起こる粘度変化
をコントロールするため、１０ゾーン程度に分かれてい
ることが好ましい。また、各ゾーンともエンドレスベル
トの上面、下面、もしくは両面で加熱が可能である。加
熱温度は３０〜２５０℃が好ましい。加熱温度精度は±
０．５℃／ｃｍ以下が好ましく、さらに好ましくは±
０．１℃／ｃｍ以下がよい。加熱温度が３０℃未満であ
ると基材層形成樹脂が硬化しにくくなる。加熱温度が２
５０℃を超えると基材層形成樹脂含有液の粘度が低下す
るため、樹脂シートの厚みの精度が悪くなる。また加熱
温度精度が±０．５℃／ｃｍより大きくなると樹脂シー
トの厚みの精度が悪くなり外観不良が生じやすくなる。

【００５６】基材層形成樹脂含有液を吐出させるダイ２
の温度は１０〜４０℃が好ましく、さらに好ましくは２
０〜３０℃がよい。またダイの温度精度は±０．５℃以
下が好ましく、さらに好ましくは±０．１℃以下がよ
い。ダイの温度が１０℃未満になると、基材層形成樹脂
含有液の粘度が上昇するため、操作性の面で問題があ
る。４０℃を超えるとダイ中で基材層形成樹脂の硬化が
進むので塗工が困難となる。またダイの温度精度が±
０．５℃より大きくなると、樹脂シートの厚みの精度が
悪くなり外観不良が生じやすくなる。

【００５７】吐出させる基材層形成樹脂含有液の粘度は
０．１Ｐａ・ｓ〜５０Ｐａ・ｓが好ましく、エクストル
ージョンコートを行う場合は１５Ｐａ・ｓ 〜３０Ｐａ
・ｓが好ましい。前記樹脂含有液の粘度が０．１Ｐａ・
ｓ未満の場合は樹脂シートの厚みの精度が悪くなる。前
記樹脂含有液の粘度が５０Ｐａ・ｓを超える場合は操作
性が悪くなる。

【００５８】また基材層形成樹脂含有液の塗布方法とし
ては、カーテンコート、エクストルージョンコート、ロ
ールコート等が好ましく、特に好ましくはエクストルー
ジョンコートがよい。

【００５９】また加熱装置のエンドレスベルトの裏面に
はガイドロールを設置しており、水平度レベルセンサー
によって水平レベルを調整することができる。支持体水
平レベルは１ｍｍ／（５×有効巾）ｍｍ以下が好まし
く、さらに好ましくは１ｍｍ／（４０×有効巾）ｍｍ以
下がよい。水平レベルが１ｍｍ／（５×有効巾）ｍｍよ
りも大きい場合は樹脂シートの厚みの精度が悪くなる。

【００６０】流延法でハードコート層を２層有する樹脂
シートを得るためには、エンドレスベルトとは反対の最
外層にハードコート層形成樹脂溶液を塗布して乾燥、あ
るいは必要に応じて加熱または光照射等により硬化処理
すればよい。この場合、第１のハードコート層、ガスバ
リア層、基材層からなる積層体をエンドレスベルト１よ
り剥離後スピンコート法や単板ダイコータ等により第２
のハードコート層を形成することができる。またハード
コート層形成樹脂溶液に透明粒子を含有させることによ
り、透明粒子を含有したハードコート層を形成すること
ができる。

【００６１】また、支持体の両側に液流れ防止の堰を耐
熱性の樹脂で設けてもよい。具体的にはポリエチレンテ
レフタレート等が好ましく用いられる。

【００６２】支持体からの樹脂シートの回収に際して
は、必要に応じ剥離手段を用いることができる。またか
かる回収は、割れ防止などの点よりガラス転移点以上の
等の高温雰囲気下で行うことが好ましい。さらに形成さ
れた連続状態の樹脂シートは、レーザー光線や超音波カ
ッター、ダイシングやウォータージェットなどの適宜な
切断手段を介し適宜な寸法に切断して回収することもで
きる。前記の流延法によれば、支持体を介した展開層の
移動速度の調節で製造速度を容易に制御でき、またその
移動速度や展開量の調節で得られる樹脂シートの厚さも
容易に制御することができる。このようにして回収した
樹脂シートのハードコート層上に低屈折率層を適宜な方
法で形成することにより、本発明の反射防止シートを得
ることができる。

【００６３】図３及び図４には、本発明の液晶セル基板
（反射防止樹脂シート）３１を搭載した液晶表示装置の
構成例を示した。図中、１７が低屈折率層、１８、１
８’がハードコート層、１９がガスバリア層、２０が基
材層である。

【００６４】液晶表示装置は一般に、偏光板、液晶セ
ル、反射板又はバックライト、及び必要に応じての光学
部品等の構成部品を適宜に組み立てて駆動回路を組み込
むことなどにより形成される。本発明においては、上記
した液晶セル基板を用いる点を除いて特に限定はなく、
従来に準じて形成することができる。従って、本発明に
おける液晶表示装置の形成に際しては、例えば視認側の
偏光板の上に設ける光拡散板、アンンチグレア層、反射
防止膜、保護層、保護板、あるいは液晶セルと視認側の
偏光板の間に設ける補償用位相差板などの適宜な光学部
品を前記液晶セル基板に適宜に組み合わせることができ
る。なお、本発明においては、視認性向上のために、透
明粒子含有ハードコート層が液晶層に最も近くなるよう
な視認側に液晶セル基板を配置することが好ましい。

【００６５】次いで、有機エレクトロルミネセンス装置
（有機ＥＬ表示装置）について説明する。一般に、有機
ＥＬ表示装置は、透明基板上に透明電極と有機発光層と
金属電極とを順に積層して発光体（有機エレクトロルミ
ネセンス発光体）を形成している。ここで、有機発光層
は、種々の有機薄膜の積層体であり、例えばトリフェニ
ルアミン誘導体等からなる正孔注入層と、アントラセン
等の蛍光性の有機固体からなる発光層との積層体や、あ
るいはこのような発光層とペリレン誘導体等からなる電
子注入層の積層体や、またあるいはこれらの正孔注入
層、発光層、および電子注入層の積層体等、種々の組合
せをもった構成が知られている。

【００６６】有機ＥＬ表示装置は、透明電極と金属電極
とに電圧を印加することによって、有機発光層に正孔と
電子とが注入され、これら正孔と電子との再結合によっ
て生じるエネルギーが蛍光物質を励起し、励起された蛍
光物質が基底状態に戻るときに光を放射する、という原
理で発光する。途中の再結合というメカニズムは、一般
のダイオードと同様であり、このことからも予想できる
ように、電流と発光強度は印加電圧に対して整流性を伴
う強い非線形性を示す。

【００６７】有機ＥＬ表示装置においては、有機発光層
での発光を取り出すために、少なくとも一方の電極が透
明でなくてはならず、通常酸化インジウムスズ（ＩＴ
Ｏ）などの透明導電体で形成した透明電極を陽極として
用いている。一方、電子注入を容易にして発光効率を上
げるには、陰極に仕事関数の小さな物質を用いることが
重要で、通常Ｍｇ−Ａｇ、Ａｌ−Ｌｉなどの金属電極を
用いている。

【００６８】このような構成の有機ＥＬ表示装置におい
て、有機発光層は、厚さ１０ｎｍ程度ときわめて薄い膜
で形成されている。このため、有機発光層も透明電極と
同様、光をほぼ完全に透過する。その結果、非発光時に
透明基板の表面から入射し、透明電極と有機発光層とを
透過して金属電極で反射した光が、再び透明基板の表面
側へと出るため、外部から視認したとき、有機ＥＬ表示
装置の表示面が鏡面のように見える。

【００６９】電圧の印加によって発光する有機発光層の
表面側に透明電極を備えるとともに、有機発光層の裏面
側に金属電極を備えてなる有機エレクトロルミネセンス
発光体を含む有機ＥＬ表示装置において、透明電極の表
面側に偏光板を設けるとともに、これら透明電極と偏光
板との間に位相差板を設けることができる。

【００７０】位相差板および偏光板は、外部から入射し
て金属電極で反射してきた光を偏光する作用を有するた
め、その偏光作用によって金属電極の鏡面を外部から視
認させないという効果がある。特に、位相差板を１／４
波長板で構成し、かつ偏光板と位相差板との偏光方向の
なす角をπ／４に調整すれば、金属電極の鏡面を完全に
遮蔽することができる。

【００７１】すなわち、この有機ＥＬ表示装置に入射す
る外部光は、偏光板により直線偏光成分のみが透過す
る。この直線偏光は位相差板により一般に楕円偏光とな
るが、とくに位相差板が１／４波長板でしかも偏光板と
位相差板との偏光方向のなす角がπ／４のときには円偏
光となる。

【００７２】この円偏光は、透明基板、透明電極、有機
薄膜を透過し、金属電極で反射して、再び有機薄膜、透
明電極、透明基板を透過して、位相差板に再び直線偏光
となる。そして、この直線偏光は、偏光板の偏光方向と
直交しているので、偏光板を透過できない。その結果、
金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。

【００７３】

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれら実施例になんら限定されるものではな
い。各例中、特に言及しない限り、部および％は重量基
準である。本発明の屈折率の測定は、（株）アタゴ製ア
ッベ屈折率計により行った。

【００７４】実施例１ （低屈折率層形成剤の調製）トリデカフルオロヘキシル
トリエトキシシラン１モル部に対し、γ−アミノプロピ
ルトリメトキシシラン１モル部を配合し、さらにエタノ
ール溶媒にて固形成分が約１％になるように調整して、
低屈折率層形成剤を調製した。

【００７５】（ハードコート層形成樹脂液の調製）ＵＶ
硬化樹脂であるＮＫオリゴＵＮ−０１（新中村化学製）
１００重量部、イルガキュア♯１８４（チバ・スペシャ
リティー・ケミカルズ製）３重量部、平均粒径が１．８
μｍの合成シリカ粒子（屈折率１．４６）２８重量部
に、トルエン４５０重量部を混合攪拌して樹脂固形分濃
度２０％の透明粒子含有ハードコート層形成樹脂溶液を
得た。

【００７６】（基材層形成樹脂液の調製）（化２）の化
学式で示される３，４−エポキシシクロヘキシルメチル
−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート４
００重量部と（化３）の化学式で示されるメチルヘキサ
ヒドロ無水フタル酸５００重量部、（化４）の化学式で
示されるテトラ−ｎ−ブチルホスホニウムｏ，ｏ−ジエ
チルホスホロジチオエート１５重量部、グリセリン９重
量部、界面活性剤１重量部を混合攪拌して基材層形成樹
脂含有液を得た。

【００７７】

【化２】

【化３】

【化４】

【００７８】（液晶セル基板の作製）次に、図２に示し
た金型を用いて、注型法により液晶セル基板（図３参
照）を製造した。その製造方法を図２を参照しながら説
明する。

【００７９】まず、金型として４５０ｍｍ×４５０ｍ
ｍ、表面粗さＲａ＝５ｎｍの無垢金型（１３，１４）を
２枚用いた。まず一方の無垢金型には透明粒子含有ハー
ドコート層形成樹脂溶液をスピンコートにより塗布し、
トルエンを乾燥後、ＵＶを照射（中心波長２５４ｎｍ、
積算光量２０００ｍＪ/ｃｍ^２）して、膜厚２μｍの透
明粒子を含有したハードコート層１８を形成した。次に
他方の無垢金型には、加工面に透明粒子を含有しないハ
ードコート層形成樹脂溶液をスピンコートにより塗布
し、トルエンを乾燥後、ＵＶを照射（中心波長２５４ｎ
ｍ、積算光量２０００ｍＪ/ｃｍ^２）して、膜厚が２μ
ｍのハードコート層１８’を形成した。ハードコート層
の屈折率は１．５１であった。

【００８０】次に、透明粒子を含有したハードコート層
１８上にポリビニルアルコール（重合度：１，８００）
の５．５重量％水溶液をスピンコート法で塗布後乾燥し
て硬化し、膜厚３．７μｍのガスバリア層１９を形成し
た。

【００８１】次に、その２枚の金型の樹脂形成面を向か
い合わせるようにして、図２に示したように、隙間調整
用スペーサー１６及びシーリング剤１５を介して、隙間
の幅が４００μｍとなるように注型用金型を組み立て
た。その隙間に上記で調製した基材層形成樹脂含有液を
注入し、１２０℃×３０分＋１８０℃×１時間硬化させ
た。その後、２枚の金型を、割り開くと同時に、樹脂層
と金型の界面を剥離して樹脂シートを取り出した後、ハ
ードコート層１８’上に上記で調製した低屈折率層形成
剤を、乾燥・硬化時に平均厚み約１００ｎｍになるよう
に塗工して低屈折率層１７を形成し、反射防止樹脂シー
ト３１からなる液晶セル基板＜ａ＞を得た。この時の乾
燥・硬化条件は９０℃、４０時間とした。低屈折率層の
屈折率は１．４０であった。

【００８２】得られた液晶セル基板＜ａ＞の表面粗さ
は、Ｒａ＝５ｎｍであった。また液晶セル基板＜ａ＞の
平均厚みは４００μｍ、厚みの標準偏差は９μｍであっ
た。

【００８３】次に、液晶を挟んでもう一方の液晶セル基
板を以下のように作製した。まず２枚の表面無垢金型
（１３，１４）に上記ハードコート層形成樹脂溶液を塗
布後乾燥させハードコート層１８’を形成した。次にそ
の２枚の金型の樹脂形成面を向かい合わせるようにし
て、図２に示したように、隙間調整用スペーサー１６及
びシーリング剤１５を介して、隙間の幅が４００μｍと
なるように注型用金型を組み立てた。

【００８４】そしてその隙間に、黒色顔料三菱カーボン
ブラックＭＡ１００を、基材層形成樹脂含有液：ＭＡ１
００＝１０：１（重量比）の割合で分散した黒色顔料含
有基材層形成樹脂含有液を注入した後、１２０℃×３０
分＋１８０℃×１時間硬化させ、金型より液晶セル基板
＜ｂ＞を取り出した。得られた液晶セル基板＜b＞は、
両面の表面粗さＲａ＝４ｎｍ、平均厚みは４００μｍ、
厚みの標準偏差は８μｍであった。

【００８５】（液晶セルの作製）得られた液晶セル基板
＜ａ＞と＜ｂ＞を所定の形状に切り出した後、Ａｒ雰囲
気中でプラズマ処理を施し、酸化インジウム・スズ（Ｉ
ＴＯ）薄膜をスパッタリングにて形成した。次に、液晶
セル基板＜ａ＞のハードコート層１８’上、および樹脂
シート＜ｂ＞のどちらか片面のハードコート層上にＩＴ
Ｏ薄膜２１を形成した。

【００８６】その後、液晶セル基板＜ａ＞のＩＴＯ薄膜
２１を２分割した後、ラビング膜２２のラビング方向が
直交するように上記基板の一対をＩＴＯ薄膜２１を対向
させて、球形のガラスビーズよりなるギャップ調整材を
配した後、シール材で固定した。その後、トリメチルプ
ロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）１０部、および
２−ヒドロキシエチルアクリレート（ＨＥＡ）１０部、
およびアクリルオリゴマー（東亜合成化学「Ｍ−１２０
０」）２５部、光硬化開始剤としてメルク社製「ダロキ
ュア−１１７３」を０．５部、液晶としてＢＤＨ社製液
晶「Ｅ７」を５０部混合し、均一に溶解させた混合液を
注入した。その後、セルの液晶セル基板＜ａ＞側から紫
外線を照射し、図３に例示の液晶セルを作製した。

【００８７】実施例２ ２層のハードコート層が透明粒子を含有するように、２
層とも透明粒子含有ハードコート層形成樹脂溶液を塗布
した以外は、実施例１と同様に液晶セル基板＜ａ＞を形
成した。その後、実施例１と同様に液晶セル基板＜ｂ＞
と組合せ、図４に例示の液晶セルを作製した。

【００８８】実施例３ 図１に示す装置を用いて、流延法により液晶セル基板を
製造した。まず実施例１で調製した透明粒子含有ハード
コート層形成樹脂溶液をダイ７より吐出させ、ステンレ
ス製エンドレスベルト１（表面粗さＲａ＝７ｎｍ）に走
行速度：０．２ｍ／分で流延塗布し、トルエンを揮発さ
せて、ＵＶ硬化装置８で硬化（中心波長２５４ｎｍ、積
算光量２０００ｍＪ/ｃｍ^２）し、膜厚５μｍ、幅５０
０ｍｍの透明粒子を含有したハードコート層１１を得
た。

【００８９】続いて、ポリビニリルアルコールの５．５
重量％水溶液を、ダイ９より吐出させ、ハードコート層
上に流延塗布し、加熱乾燥（６０℃×１０分）させ、膜
厚４μｍ、幅４５０ｍｍのガスバリア層１０を得た。

【００９０】得られたハードコート層、ガスバリア層の
両端に幅４０ｍｍの耐熱ＰＥＴ基材テープ（ＭＴ−３１
５５：日東電工社製）を貼付け、実施例１と同様の基材
層形成樹脂含有液（２０Ｐａ・ｓ、２５℃）を、ダイ２
より吐出させ、上記ガスバリア層の表面に、塗工幅４３
０ｍｍで流延塗布し、加熱装置３により、９０℃×５
分、１２０℃×５分、１４０℃×１５分で硬化させ、１
３０℃に温調されたドラム５上でステンレス製エンドレ
スベルトとハードコート層間で剥離を行い４３０ｍｍ幅
の液晶セル基板＜ｃ＞を得た。尚、加熱部の支持体水平
レベルを２００μｍ／１０００ｍｍ、支持体上下より熱
風加熱を行い温度精度０．４℃／ｃｍとした。ハードコ
ート層上に実施例１で調製した低屈折率層形成剤を、実
施例１と同様の条件にて塗工し低屈折率層を形成し、反
射防止樹脂シートからなる液晶セル基板＜ｃ＞を得た。

【００９１】得られた液晶セル基板＜ｃ＞を流れ方向に
４９０ｍｍ間隔で切断を行い、４９０ｍｍ×４９０ｍｍ
のサイズとした。得られた液晶セル基板＜ｃ＞の厚みの
平均は４００μm、標準偏差は７μｍであった。なお、
厚みの平均値、及び標準偏差は４８０ｍｍ×４８０ｍｍ
の面内で６０点測定して求めた。また、表面粗さは、基
材層側でＲａ＝０．２ｎｍ、ハードコート層側でＲａ＝
７ｎｍであった。なお、表面粗さは、４８０ｍｍ×４８
０ｍｍの面内で１０点測定した平均値である。

【００９２】続いて、液晶セル基板＜ｃ＞のハードコー
ト層側にＩＴＯ薄膜を形成し、実施例１と同様に液晶セ
ル基板＜ｂ＞と組合せ、図５に例示の液晶セルを作製し
た。

【００９３】比較例１ ２枚の表面無垢な金属金型に実施例１で調製した透明粒
子を含有するハードコート層形成樹脂溶液を塗布した以
外は、実施例１と同様にして液晶セル基板＜ｄ＞を作製
した。次に実施例１と同様に液晶セル基板＜ｂ＞と組合
せ、図６に例示の液晶セルを作製した。

【００９４】（評価試験）実施例１〜３及び比較例１で
作製した液晶セルを用いて液晶表示装置を組み立て、暗
室中で２０°の角度でリング状照明装置を照射して、液
晶表示装置の電圧印加状態で黒色表示の表示品位を調
べ、電圧無印加状態で白色表示の表示品位を調べた。

【００９５】（反射率）反射防止樹脂シートの低屈折率
層とは反対側の最外層を、サンドペーパーを用いて荒ら
した後、黒のアクリルラッカーを塗布して反射防止層に
対して裏面側の反射光をなくした状態で、傾斜積分球付
き分光光度計（島津製作所製ＵＶ−２４００）を用い
て、全反射率を測定した。なお、反射率の測定にあたっ
ては、上記分光反射率からＣＩＥ１９３１ＸＹＺ表色系
に基づき、Ｃ光源に対する視感度補正した反射率Ｙを採
用した。

【００９６】実施例１〜３においては、黒色表示、白色
表示ともに表示品位は良好であった。一方、比較例１に
おいては白色表示においては液晶表面での照明の反射が
原因と思われるぎらつきが見られた。また、実施例１〜
３の反射率は２．４％であったが、比較例１では反射率
は３．０％となった。以上の結果から、低屈折率層を設
けた場合は、反射が抑制されていた。

【００９７】

【発明の効果】以上説明したとおり、本発明によれば、
基材層にガスバリア層、透明粒子を含有する光拡散機能
を有するハードコート層、ハードコート層形成樹脂より
も屈折率の低い材料よりなる低屈折率層を積層している
ため、照明光などの外部光や液晶表示装置内蔵のバック
ライトに起因するギラツキを防止することができるとと
もに、薄型かつ軽量の反射防止樹脂シートが得られる。

【００９８】この反射防止樹脂シートを液晶セル基板、
有機ＥＬ表示装置用基板等の画像表示装置用基板に用い
ることにより、ガラス系基板に比べて薄型かつ軽量で、
しかも耐久性に優れた基板となる。また液晶セル基板に
光拡散機能が付与されることにより、光拡散シートを液
晶セルの視認側に貼り付ける必要がなくなり、その結果
液晶セルの薄型、軽量化が可能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】流延法による液晶セル基板の製造方法の一例を
説明する図である。

【図２】注型法による液晶セル基板の製造方法の一例を
説明する図である。

【図３】実施例１の液晶セルの構成を示す断面模式図で
ある。

【図４】実施例２の液晶セルの構成を示す断面模式図で
ある。

【図５】実施例３の液晶セルの構成を示す断面模式図で
ある。

【図６】比較例１の液晶セルの構成を示す断面模式図で
ある。

【符号の説明】

１：エンドレスベルト（支持体） ２：基材層塗布用ダイ ３：加熱装置 ４：駆動ドラム ５：従動ドラム ６：基材層 ７：ハードコート層塗布用ダイ ８：ＵＶ硬化装置 ９：ガスバリア層塗布用ダイ １０：ガスバリア層 １１：ハードコート層 １２：端部補強テープ １３：表面無垢金属金型 １４：表面無垢金属金型 １５：シーリング材 １６：隙間調整用スペーサー １７：低屈折率層 １８：透明粒子を含有するハードコート層 １８’：ハードコート層 １９：ガスバリア層 ２０：基材層 ２１：ＩＴＯ ２２：ラビング膜 ２３：液晶 ２４：黒色顔料を有する基材層 ３１：液晶セル基板（反射防止樹脂シート）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 赤田 祐三 大阪府茨木市下穂積１丁目１番２号 日東 電工株式会社内 (72)発明者 原田 忠昭 大阪府茨木市下穂積１丁目１番２号 日東 電工株式会社内 (72)発明者 坂田 義昌 大阪府茨木市下穂積１丁目１番２号 日東 電工株式会社内 (72)発明者 吉武 秀敏 大阪府茨木市下穂積１丁目１番２号 日東 電工株式会社内 Ｆターム(参考） 2H042 BA02 BA12 BA20 2H091 FA37X FB02 FC07 FC18 FC22 FC23 GA01 2K009 AA02 AA15 BB23 CC09 CC35

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基材層上に、ガスバリア層、透明粒子を
   含有するハードコート層、および当該ハードコート層形
   成樹脂よりも屈折率の低い材料よりなる低屈折率層がこ
   の順で基材層側から積層されていることを特徴とする反
   射防止樹脂シート。
2. 【請求項２】 基材層のガスバリア層とは反対側にハー
   ドコート層がもう１層積層されていることを特徴とする
   請求項１に記載の反射防止樹脂シート。
3. 【請求項３】 前記基材層のガスバリア層とは反対側に
   積層されたハードコート層が透明粒子を含有することを
   特徴とする請求項２に記載の反射防止樹脂シート。
4. 【請求項４】 前記透明粒子が、ハードコート層形成樹
   脂との屈折率差０．０３〜０．１０である球形粒子であ
   ることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の反
   射防止樹脂シート。
5. 【請求項５】 前記ハードコート層の屈折率が１．４５
   〜１．８０であり、かつ、前記低屈折率層の屈折率が
   １．３５〜１．５０であることを特徴とする請求項１〜
   ４のいずれかに記載の反射防止樹脂シート。
6. 【請求項６】 前記基材層がエポキシ系樹脂からなるこ
   とを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の反射防
   止樹脂シート。
7. 【請求項７】 前記ハードコート層がウレタン系樹脂か
   らなることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載
   の反射防止樹脂シート。
8. 【請求項８】 請求項１〜７のいずれかに記載の反射防
   止樹脂シートからなることを特徴とする画像表示装置用
   基板
9. 【請求項９】 請求項８に記載の画像表示装置用基板を
   用いたことを特徴とする画像表示装置。
10. 【請求項１０】 請求項１〜７のいずれかに記載の反射
    防止樹脂シートからなることを特徴とする太陽電池用基
    板。