KR100646273B1 - 노광장치 및 수차보정방법 - Google Patents

노광장치 및 수차보정방법 Download PDF

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Abstract

노광장치는, 기압을 검출하는 기압계와, 투영광학계의 렌즈를 구동하는 렌즈구동부와, 노광광원의 파장을 바꾸는 광원 파장 변경부와, 웨이퍼 스테이지를 광축방향으로 구동하는 스테이지 구동부를 구비한다. 이 장치는, 기압의 변동에 의해 발생하는 수차를 렌즈구동부, 광원 파장 변경부 및 스테이지 구동부에 의해서 보정할 수 있다. 여기서, 해당 노광장치의 노광의 숏중에는 렌즈구동부 및/또는 스테이지 구동부를 사용하여 수차가 보정된다. 비노광상태(숏간)에서는, 광원 파장 변경부 및/또는 렌즈 구동부와, 스테이지 구동부를 사용하여 수차가 보정된다.
노광장치, 기압계, 렌즈 구동부, 광원 파장 구동부, 스테이지 구동부

Description

노광장치 및 수차보정방법{EXPOSURE APPARATUS AND ABERRATION CORRECTION METHOD}
도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 의한 노광장치의 구성도,
도 2는 제 1 실시예에 의한 보정연산부의 구성예를 나타낸 블록도,
도 3은 제 1 실시예에 따른 수차보정의 타이밍도,
도 4는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 노광장치의 구성도,
도 5는 제 3 실시예에 의한 보정연산부의 구성예를 나타낸 블록도,
도 6은 제 3 실시예에 의한 교정연산부의 구성예를 나타낸 블록도,
도 7은 본 발명의 제 4 실시예에 따른 보정연산부의 구성예를 나타낸 블록도,
도 8은 본 발명의 제 5 실시예에 따른 보정연산부의 구성예를 나타낸 블록도,
도 9는 제 1 실시예에 따른 조명광학계 및 노광광원의 구성예를 나타낸 블록도,
도 10은 반도체 디바이스의 제조공정을 도시한 도면,
도 11은 웨이퍼 프로세스의 상세한 흐름도.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
10 : 보정연산부 50 : 렌즈 구동부
60 : 주 제어부 65 : 스테이지 구동부
70 : 레이저 구동부 80 : 노광광원
90 : 조명광학계 100 : 렌즈구동기구
본 발명은, 기압변화에 따라서 발생하는 투영광학계의 수차를 보정하여 고정밀도의 노광처리를 가능하게 하는 기술에 관한 것으로, 특히, 반도체 노광장치와 디바이스 제조장치에 적용하는 것이 바람직하다.
반도체 노광장치에서 기압이 변화되면, 광학특성오차인 수차가 발생한다. 일상의 완만한 기압변화에 의해서 발생하는 수차의 보정방법에 관해서는, 예를 들면 일본특개평 8-305034호 공보에 개시된 것이 있다. 일본특개평 8-305034호 공보에서는, 주로 투영광학계를 단일 유리재료로서 구성하고, 웨이퍼마다 기압을 측정하여, 기압변화에 따라서 노광광원의 파장을 바꿈으로써 수차를 보정함과 아울러, 프로세스간의 배율차를 보정하기 위해서 투영렌즈를 광축방향으로 구동하여 투영배율보정을 행한다.
최근의 IC 또는 LSI 등의 반도체 집적회로는, 점점 패턴이 미세화함에 따라, 노광결상 특성의 고정밀도화가 요구되고 있다. 이 때문에, 약간의 기압의 변화이더라도 허용하는 것은 어렵게 되어 있다. 노광장치가 설치되어 있는 환경하에서, 인적요인 등으로 인한 조금이지만 급격한 기압변화에 의해서 발생하는 수차의 보정방법에 관해서는, 예를 들면 일본특허공개 2001-085292호 공보에 개시된 것이 있다. 일본특허공개 2001-085292호 공보에서는, 클린 룸에서의 도어의 개폐에 의해 0.5hPa/sec 전후의 기압변화가 발생하는 경우가 있기 때문에, 응답성이 좋은 레이저 간섭계를 사용한 기압계에 의해 기압변화를 검출하고, 투영렌즈를 광축방향으로 구동하여 상기 검출된 기압변화에 의해 발생한 수차를 보정하는 방법이나, 노광광원의 파장을 바꿔 상기 검출된 기압변화에 의해 발생한 수차를 보정하는 방법이 기재되어 있다.
일반적으로, 기압변화에 의해서 발생하는 수차는, 투영배율과 포커스가 대단히 크고, 보정에 의해 감소할 필요성이 있다. 한편, 왜곡, 구면수차, 코마, 비점수차, 상면만곡 등의 수차는 비교적 작기 때문에 노광 특성상 문제가 되지 않는다.
그러나, 상기 나타낸 일본특개평 8-305034호 공보에서는, 노광중의 기압변화에 의해서 발생하는 수차를 보정하는 수단을 갖고 있지 않다. 또한, 투영광학계가 단일 유리재료로 구성되어 있지 않은 경우의 수차보정수단에 관해서도 고려되어 있지 않다. 또한, 일본특허공개 2001-085292호 공보에서는, 응답성이 좋은 레이저 간섭계를 사용한 기압계에 의해 보정하는 방법이 서술되어 있고, 레이저 간섭계를 사용하는 기압계는, 온도와 습도의 환경조건변화로 인한 기압오차가 발생하기 때문에 정확한 수차를 보정할 수 없을 가능성이 있다.
본 발명은, 상기한 과제를 감안하여 이루어진 것으로, 약간의 기압변화나 급격한 기압변화에 의해서 발생하는 광학계의 수차를 보정하여, 고정밀도의 노광처리 를 가능하게 하는 것을 목적으로 한다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 노광장치는, 이하의 구성을 구비한다. 즉, 노광장치는, 투영광학계의 근방 또는 내부의 기압을 계측하는 기압계측수단과, 상기 투영광학계의 렌즈구동에 의한 수차조정을 포함하고, 상기 기압계측수단에 의해서 계측된 기압에 따라서, 수차에 대한 보정을 반복하여 실행하는 제 1 보정수단과, 노광광원의 파장변경에 의한 수차조정을 포함하고, 상기 기압계측수단에 의해서 계측된 기압에 따라서, 상기 제 1 보정수단에 의한 수차보정의 반복보다도 긴 시간 간격으로, 수차보정을 실행하는 제 2 보정수단을 구비한다.
또한, 상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 국면에 따른 노광장치는, 이하의 구성을 구비한다. 즉, 노광장치는, 기압의 절대값을 검출하는 제 1 기압계와, 기압의 절대값 또는 상대값을 상기 제 1 기압계보다도 고속으로 검출하는 제 2 기압계와, 상기 제 1 기압계의 출력에 따라서 상기 제 2 기압계의 출력을 교정하고, 그 교정결과를 계측된 기압값으로서 출력하는 교정수단과, 상기 교정수단에 의해서 출력된 기압값에 따라서 수차보정을 행하는 수차보정수단을 구비한다.
또한, 상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 수차보정방법은, 투영광학계의 근방 또는 내부의 기압을 계측하는 기압계측수단에 의해 계측된 기압값에 따라서 수차를 보정하는 수차보정방법에 있어서, 상기 투영광학계의 렌즈구동에 의한 수차조정을 포함하고, 상기 기압계측수단에 의해서 계측된 기압값에 따라서, 소정 수의 수차에 대한 보정을 반복하여 실행하는 제 1 보정단계와, 노광광원의 파장변경에 의한 수차조정을 포함하고, 상기 기압계측수단에 의해서 계측된 기압에 따라서, 상기 제 1 보정단계에 의한 수차보정의 반복보다도 긴 시간간격으로, 수차보정을 실행하는 제 2 보정단계를 포함한다.
또한, 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 또 다른 국면에 따른 수차보정방법은, 노광장치에서 기압변화에 의한 수차를 보정하는 방법에 있어서, 기압의 절대값을 검출하는 제 1 기압계의 출력에 따라서, 기압의 절대값 또는 상대값을 상기 제 1 기압계보다도 고속으로 검출하는 제 2 기압계의 출력을 교정하고, 그 교정결과를 계측된 기압값으로서 출력하는 교정단계와, 상기 교정단계에서 출력된 기압값에 따라서 수차보정을 행하는 수차보정단계를 포함한다.
본 발명의 다른 특징 및 이점을 첨부도면을 참조한 다음의 설명으로부터 명백해지고, 동일한 참조문자는 도면 전체에 걸쳐서 동일 또는 유사한 부품을 나타낸다.
[발명의 실시예]
이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명한다.
<제 1 실시예>
도 1은 제 1 실시예에 따른 노광장치의 구성도이다. 도 1을 참조하면, 노광광원(80)으로부터 출사된 노광광은, 조명광학계(90)에 의해, 레티클 스테이지(142)에 설치된 레티클(140)을 조사한다. 레티클(140)을 투과한 노광광은, 투영광학계(101)의 렌즈군(102, 104, 106, 108, 110)을 투과하여, 웨이퍼 스테이지(130)에 설치된 웨이퍼(132)에 도달한다. 이렇게 해서, 레티클(140) 상에 그려진 미세 패턴을 웨이퍼(132)상의 각 칩에 노광한다. 이때, 본 실시예에서는, 렌즈로서 5장의 렌즈가 도시되어 있지만, 통상의 노광장치에서는, 20장∼30장 렌즈를 구비한다.
노광광원(80)에는, KrF 또는 ArF의 레이저광원이 자주 사용된다. 노광광원(80) 및 조명광학계(90)는, 도 9에 나타낸 간략화된 구성으로 나타낼 수 있다.
도 9를 참조하여 노광광원(80)과 조명광학계(90)를 설명한다. 노광광원(80)은, 레이저 공진기(82), 투과미러(84), 파장선택소자(86) 및 파장선택소자 구동기구(88)로 구성된다. 파장선택소자(86)로서, 프리즘, 격자, 에탈론을 사용함으로써 파장대역이 좁아질 수 있다. 파장선택소자 구동기구(88)에 의해서 파장선택소자(86)의 각도를 바꿈으로써 레이저 광의 파장을 바꿀 수 있다. 파장선택소자 구동기구(88)는, 스텝모터나 압전소자 등으로 구성할 수 있다. 노광광원(80)에서 출사된 레이저광은, 조명광학계(90)의 콘덴서 렌즈(92)를 투과한 후, 미러(94)에 의해 레티클을 조사하도록 그 레이저광이 유도된다.
도 1로 되돌아가서 설명을 계속한다. 레이저 구동부(70)는, 상술한 도 9의 파장선택소자 구동기구(88)를 구동하여 노광광원(80)의 레이저광의 파장을 바꿀 수 있다. 렌즈구동부(50)는, 렌즈구동기구(100)를 구동하여 렌즈(104)를 광축방향으로 변위시킨다. 렌즈구동기구(100)는, 공기압을 이용한 액추에이터나, 압전소자 등으 로 구성할 수 있다. 이때, 제 1 실시예는 렌즈구동기구의 1계통만 도시되어 있지만, 복수의 렌즈구동기구가 포함되어도 된다.
노광장치 전체는, 주 제어부(60)에 의해 제어된다. 웨이퍼 스테이지(130)는, 스테이지 구동부(65)에 의해 스텝 앤드 리피트(step-and-repeat) 또는 스텝 앤드 스캔 구동이 행하여진다.
기압계(120)는, 노광장치내의 기압을 측정한다. 이 기압계(120)는, 노광장치내의 아무 장소, 또는, 투영광학계(101)의 부근, 또는, 투영광학계(101)의 내부에 설치되어도 된다. 기압계(120)의 출력신호는, 보정연산부(10)에 입력된다. 보정연산부(10)는 기압계(120)에 의해 입력된 측정값에 따라서 레이저 구동부(70)에 레이저광의 파장의 변경을 지시하고, 렌즈구동부(50)에 렌즈의 광축방향으로의 구동을 지시하고, 스테이지 구동부(65)에 스테이지의 Z 방향의 구동을 지시하여, 기압의 변화에 의한 수차를 보정한다.
다음에, 보정연산부(10)의 구성 및 동작에 관해서 도 2 및 도 3을 참조하여 설명한다.
도 2는 보정연산부(10)의 구성도이다. 모델연산부(20)는, 기압계(120)에서 측정된 기압데이터와 투영광학계(101)의 렌즈들(102, 104, 106, 108, 110)의 분위기 압력과의 응답오차를 보상한다. 일반적으로, 투영광학계내의 렌즈의 분위기 압력은, 노광장치내의 기압변화에 응답하여 1차 지연특성을 나타낸다. 이 때문에, 기압계(120)가 투영광학계의 외부에 설치되어 있는 경우는, 미리 기압계(120)의 기압특성과 렌즈들의 분위기 압력특성을 측정하여 모델을 발생한다. 그리고, 모델연산 부(20)는, 이 모델을 참조하여, 기압계(120)의 계측값을 보상하여 렌즈들의 분위기 압력을 얻는다. 또한, 기압계(120)를 투영광학계 내부에 설치한 경우는, 응답 오차가 작기 때문에, 모델연산부(20)를 생략할 수 있다. 이때, 기압계(120)의 검출노이즈가 큰 경우는, 필요에 따라서 필터링 등의 평활화를 하여도 된다.
데이터 보유부(22)는, 주 제어부(60)로부터의 타이밍신호에 따라 모델연산부(20)로부터의 신호를 보유한다. 타이밍신호는, 노광종료 직후 사용하는 것이 바람직하다. 이 동작에 관해서 도 3a 내지 도 3e를 참조하여 설명한다.
도 3a 내지 도 3e는 보정연산부(10)의 동작을 나타낸 타이밍도이다. 도 3a는, 기압계(120)에 의해 검출된 기압 데이터를 나타낸다. 모델연산부(20)에서 응답 오차의 보상연산이 이루어진 경우는, 모델연산부(20)의 출력으로 한다. 도 3b는 노광, 즉 숏(shot)의 ON/OFF를 나타내고 있다. 비노광 상태의 수차보정은, 노광이 종료하여 OFF로 되었을 때의 기압 데이터를 사용한다. 상술한 것처럼, 노광종료 직후의 기압데이터(도 3a의 ×표)를 사용하는 것이 바람직하다. 도 3e는, 데이터 보유부(22)에서의 기압 데이터 보유모양을 나타낸다. 도 2의 주 제어부(60)로부터의 타이밍신호에 따라 노광종료 직후의 기압데이터를 보유한다. 도 3d에 관해서는 후술한다.
도 2로 되돌아가 보정연산부(10)의 동작설명을 계속한다. 데이터 보유부(22)에서 보유된 노광종료 직후의 기압 데이터는, 가감산기(26)에 의해 기압의 기준값 24와 비교되고, 그 차가 연산된다. 그 차는, 수차보정 연산부(28)에 입력된다. 수차보정 연산부(28)에서는, 노광종료 직후에 갱신되는 가감산기(26)로부터의 기압차 데이터에 따라서 수차의 보정에 필요한 광원의 파장 변경량과 렌즈구동량을 산출한다.
일반적으로, 기압변화에 의해서 발생하는 수차는, 투영배율과 포커스가 대단히 커서, 보정에 의해 감소할 필요가 있다. 한편, 왜곡, 구면수차, 코마, 비점수차, 상면만곡 등의 수차는 비교적 작기 때문에 노광 특성상 문제가 되지 않는다.
투영광학계의 렌즈는, 그 광학설계에 의해, 광축방향으로 변위시키는 것에 따라, 수차를 변화시킬 수 있다. 통상, 하나의 렌즈를 렌즈구동기구에 의해 광축방향으로 변위시킴으로써, 하나의 수차를 크게 변화시키도록 설계하는 경우가 많다. 예를 들면, 렌즈구동기구(100)에 의해 렌즈(104)를 광축방향으로 변위시킴으로써, 투영배율을 변화시키도록 광학설계를 행한다. 이때, 투영배율이 변화될 때에, 왜곡, 구면수차, 코마, 비점수차, 상면만곡 등의 그 밖의 수차는 조금 변하여도 되는 가능성이 있다. 이들이 정밀도상 문제없으면 무시해도 된다. 그러나, 문제가 되는 경우는, 다른 렌즈를 렌즈구동기구를 사용하여 광축방향에 대해 변위시켜, 수차를 감소해야 한다. 따라서, 일반적으로는, n군의 렌즈를 광축방향으로 변위시킴으로써, n개의 수차를 보정할 수 있도록 광학설계를 행한다. 한편, 노광광의 파장 변화에 따라 각 수차는 변화한다. 파장변화에 대한 수차의 감도는, 렌즈설계에 따라서 다르기 때문에, 일률적으로는 규정할 수 없다. 그렇지만, 역시, 파장변화에 따라, 크게 변화되는 수차와 약간 밖에 변화하지 않는 수차가 존재한다.
또한, 상술한 바와 같이, n군의 렌즈를 광축방향으로 변위시키고, 또한 노광광의 파장을 바꿔서 수차를 보정하는 경우는, n+1개의 수차를 보정할 수 있다.
예를 들면, 3군의 렌즈구동과 노광광의 파장을 바꿔 4개의 수차, 가령, 투영배율, 왜곡, 코마, 상면만곡을 보정하는 경우를 생각하여 보자. 통상, 기압변화에 의해 발생하는 각 수차는, 기압에 대하여 선형이도록 광학설계가 이루어진다. 그래서, 기압변화에 대하여 각 수차는 선형으로 변화한다고 가정하고, 투영배율감도 δMag, 왜곡 δDist, 코마 δCm, 상면만곡 δFc의 다음의 기압감도를 갖는 것으로 가정한다. 이때, 기압이 기준값으로부터 △P 변화한다면, 기압변화에 의해 발생하는 수차는, 이하의 (1)식으로부터 △Mag, △Dist, △Cm, △δFc가 예측된다. 이것들의 수차를 보정하는 데 필요한 3군의 렌즈구동량과 노광광의 파장구동량을, △L1, △L2, △L3, △λ로 하고, 각 렌즈구동과 파장구동에 의한 각 수차감도를 4행 4열의 행렬 A로서 나타낸다. 행렬연산 (2)식 및 (3)식에 의거하여 기압변화에 의해 발생하는 수차의 보정에 필요한 각 구동량, △L1, △L2, △L3, △λ은, 행렬연산 (4)식을 풀음으로써 산출될 수 있다. 여기에, A-1는, 4행 4열의 행렬 A의 역행렬이다.
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Figure 112004009883028-pat00002
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수차보정 연산부(28)에서는, 노광종료 직후에 반복적으로 가감산기(26)로부터 출력된 기압차 데이터에 의거하여, (1)식에 의해 기압변화에 의해 발생하는 수차를 예측하고, (4)식에 의해 수차의 보정에 필요한 렌즈구동량과 노광광의 파장구동량을 산출한다. 그 산출된 렌즈구동량은, 가산기(34)에 입력된 후, 렌즈구동부(50)에 출력된다. 렌즈구동부(50)는, 이 렌즈구동량에 따라서 렌즈구동기구부를 사용하여 렌즈를 광축방향으로 변위시킨다. 또한, 수차보정 연산부(28)에 의해서 산출된 노광광의 파장 변경량은 레이저 구동부(70)에 입력된다. 레이저 구동부(70)는, 입력된 파장 변경량에 따라서, 노광광원(80)의 파장선택소자 구동기구(88)에 의해 노광광의 파장을 변경한다. 이상의 n 군의 렌즈구동과 노광광의 파장변경에 의해 n+1개의 수차가 보정될 수 있다.
이때, 포커스는, 웨이퍼 스테이지(130)를 광축방향으로 구동함으로써도 보정할 수 있다. 웨이퍼 스테이지(130)에 의한 보정은 다음과 같이 행해진다. 우선, 기 압변화에 의해서 발생하는 포커스오차와, 상기 렌즈구동이나 파장변경에 의해서 발생하는 포커스오차는, 별도로 수차보정 연산부(28)에서 계산하여, 포커스 보정을 위한 웨이퍼 스테이지 구동량을 얻는다. 이 웨이퍼 스테이지 구동량을 가산기(36)에 입력하고, 스테이지 구동부(65)에 출력한다. 스테이지 구동부(65)는, 웨이퍼 스테이지(130)를 광축방향으로 변위시켜 포커스를 보정한다. 상술한 n군의 렌즈구동과 노광광의 파장변경에 의한 수차보정에 추가하여, 이러한 웨이퍼 스테이지 광축방향구동에 의한 수차보정은, n+2개의 수차를 보정할 수 있다.
이상과 같이 수차보정 연산부(28)는, 노광이 종료할 때마다 기압변화에 의해서 발생하는 수차의 보정에 필요한 렌즈구동량과 노광광의 파장변경량(아울러 웨이퍼 스테이지의 광축방향 구동량)을 산출한다. 이들 구동량에 의거하여, 도 3c에 나타낸 타이밍에서 보정이 행해지게 된다. 이것을 숏간 보정(shot-interval correction)이라고 부르기로 한다. 이 숏간 보정은, 노광종료 직후의 기압 데이터를 기초로 숏들 사이에서 행해지게 된다.
이때, 투영광학계의 렌즈가 단일 유리재료로 구성되어 있는 경우는, 노광광의 파장을 바꾸는 것에 의해 모든 수차를 보정하는 것이 가능하다. 이 경우, 수차보정 연산부(28)는, 노광종료 직후에 반복적으로 가감산기(26)로부터 출력된 기압차 데이터에 의거하여, 광학설계목적을 위해 선형 근사된 기준기압으로부터의 기압변화에 대한 노광광의 파장변경량 특성을 나타낸 식을 사용하여 파장변경량을 산출한다. 그리고, 이 파장변경량을 레이저 구동부(70)에 입력하여, 노광광원(80)의 파장선택소자 구동기구(88)에 의해 노광광의 파장을 바꿔, 기압변화에 의해서 발생한 수차를 보정한다. 이 경우, 숏간 보정은 노광광의 파장변경에 대해서만 행하고, 렌즈구동이나 웨이퍼 스테이지의 광축방향의 구동을 행할 필요는 없다.
다음에, 노광중의 기압변화에 대한 실시간 보정에 관해서 설명한다.
도 3a에 나타낸 바와 같이, 기압은 항상 변화하고 있고, 인적요인 등에 의해 약간의 또는 급격한 기압변화가 발생하기도 한다. 예를 들면, 클린 룸에서의 도어의 개폐에 의해 약 0.5hPa/sec의 기압변화가 발생할 수 있다. 상술한 숏간 보정에 의해서 기압변화로 인한 수차를 보정하였지만, 도 3a와 같이, 노광중에 기압이 변화되면, 수차가 발생하여, 고정밀도의 노광을 할 수 없게 된다. 따라서, 본 실시예에 따른 보정연산부(10)에서는, 노광중(숏중)의 기압변화에 따른 실시간 보정구동을 행한다.
도 2의 보정연산부(10)에 있어서, 데이터 보유부(22)의 출력은, 가감산기 26과 가감산기 30에 입력된다. 가감산기 30에서, 데이터 보유부(22)의 출력은 모델연산부(20)로부터의 기압 데이터와 비교되어, 그 기압차분 값이 출력된다. 이 기압차분 값은, 도 3d에 나타낸 바와 같이, 숏간 보정을 한 후의 기압변화분을 나타내고 있고, 시시각각, 즉 실시간으로 수차보정 연산부(32)에 입력된다. 이때, 본 실시예에서는, 노광광원의 파장 등의 다른 요인을 비노광상태에서 조정하여, 수차보정을 위한 렌즈구동위치를 중립위치로 되돌린다. 따라서, 수차압보정을 위한 렌즈구동량은, 비노광상태에서 리셋트 되고, 렌즈구동량의 적산값이 억제된다. 이것에 의해, 작은 렌즈 구동범위에 의해 기압변화에 의한 수차를 보정할 수 있어, 렌즈구동기구의 간략화, 소형/경량화가 가능해진다.
수차보정 연산부(32)에서는, m군의 렌즈를 광축방향으로 변위시켜, m개의 수차를 보정하기 위한 렌즈구동량을 산출한다. 이때, m은 1군 이상으로, 숏간 보정에 사용한 n군 이하의 군수이다.
예를 들면, m=3군의 렌즈구동에 의해 3개의 수차, 가령 투영배율, 왜곡, 코마를 보정하는 경우를 생각하여 본다. 수차보정 연산부(32)에 입력되는 기압변화분을 △PRT로 하면, 이 기압변화에 의해 발생한 수차는, 이하의 (5)식으로부터 △MagRT, △DistRT, △CmRT로 예측된다. 이것들의 수차를 보정하는 데 필요한 3군의 렌즈구동량을, △L1RT, △L2RT, △L3RT로 하고, 각 렌즈구동에 따라 수차감도를 3행 3열의 행렬 ART로서 나타낸다고 한다. 행렬연산 (6)식, (7)식에 의거하여, 기압변화에 의해 발생하는 수차의 보정에 필요한 각 구동량 △L1RT, △L2RT, △L3RT은, 행렬연산 (8)식을 풀음으로써 산출된다. 여기서, ART-1는, 3행 3열의 행렬 ART의 역행렬이다.
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이상과 같이, 수차보정 연산부(32)는, 숏간 보정을 한 기압변화 데이터, 즉 기압차분 값이 가감산기(30)로부터 실시간으로 수신한다. 그리고, 수차보정 연산부(32)는, 실시간으로 출력된 기압차 데이터(본 실시예에서는 전회의 숏종료로부터의 기압변화분)에 따라서 (5)식을 사용하여 기압변화에 의해 발생하는 수차를 실시간으로 예측하고, (8)식으로부터 수차의 보정에 필요한 렌즈구동량을 실시간으로 산출한다. 그 산출된 렌즈구동량은, 가산기(34)에 입력되어, 상술한 숏간 보정에 의한 렌즈구동량이 가산되어, 렌즈구동부(50)에 출력된다. 렌즈구동부(50)는, 렌즈구동기구부를 사용하여 렌즈를 광축방향으로 실시간으로 변위시켜, 기압변화에 의해서 발생한 수차를 실시간으로 보정한다.
이때, 포커스는, 웨이퍼 스테이지를 광축방향으로 구동함으로써 보정할 수 있다. 따라서, 웨이퍼 스테이지(130)를 광축방향으로 변위시켜 포커스를 보정하도록 구성하여도 된다. 이 경우, 기압변화 데이터에 의해서 발생하는 포커스 오차나, 상기 렌즈구동에 의해서 발생하는 포커스오차는, 별도로 수차보정 연산부(32)에서 계산하여 실시간으로 포커스를 보정하기 위한 웨이퍼 스테이지 구동량을 얻는다. 이 웨이퍼 스테이지 구동량을 가산기(36)에 입력하고, 수차보정 연산부(28)로부터의 포커스보정신호(숏간용의 보정신호)를 가산하여, 스테이지 구동부(65)에 출력한다. 이 스테이지 구동부(65)는, 웨이퍼 스테이지(130)를 광축방향으로 변위시켜 포커스를 보정한다.
이때, 이 경우는, m군의 렌즈구동과 웨이퍼 스테이지 광축방향 구동에 의해, m+1개의 수차를 보정하는 것이 가능해진다. m=n 군으로 하면, n+1개의 수차를 실시간으로 보정할 수 있다.
이상과 같이 수차보정 연산부(32)는, 노광중의 기압변화에 의해서 발생하는 수차의 보정에 필요한 렌즈구동량(아울러, 웨이퍼 스테이지 광축방향 구동량)을 산출한다. 이들 구동량에 의해서, 노광중의 기압변화에 의한 수차를 도 3d에 나타낸 타이밍에서 보정할 수 있다. 이것을 실시간 보정이라고 부른다. 이와 같이, 본 제 1 실시예에서는, 노광종료 직후는 숏간 보정에 의해 수차의 보정이 이루어지고, 숏간의 기압변화에 의한 수차는 실시간 보정에 의해 보정된다.
이상 설명한 바와 같이, 제 1 실시예에 의하면, 투영광학계의 렌즈가 단일 유리재료로 구성되어 있지 않은 경우는, n군의 렌즈구동과 광원 파장구동과 웨이퍼 스테이지의 광축방향구동에 의해, 기압변화에 의해서 발생하는 수차를 보정할 수 있다. 숏간 동안에는, n+2개의 수차를 보정하고, 숏중에서는 실시간으로 n+1개의 수차를 보정하는 것이 가능해진다. 한편, 투영광학계의 렌즈가 단일 유리재료로 구성되어 있는 경우는, n군의 렌즈구동과 광원 파장구동과 웨이퍼 스테이지의 광축방향 구동에 의해, 기압변화에 의해서 발생하는 수차를 보정할 수 있다. 숏간 중에는 노광광의 파장을 구동하는 것에 의해 모든 수차를 보정하고, 숏중에는 n 군의 렌즈구동과 웨이퍼 스테이지의 광축방향구동에 의해 실시간으로 n+1개의 수차를 보정하는 것이 가능해진다.
따라서, 투영광학계의 렌즈들이 단일 유리재료로 구성되어 있는 경우 또는 그렇지 않은 경우에도, 노광중 또는 비노광상태의 약간의 기압변화나 급격한 기압변화에 의해서 발생하는 수차를 실시간으로 보정할 수 있다. 그 결과, 고정밀도의 노광을 가능하게 하는 노광장치를 구성할 수 있다.
<제 2 실시예>
다음에, 제 2 실시예에 관해서 설명한다. 제 1 실시예에서는, 숏간 중 및 숏중에 수차보정동작을 바꾼다. 제 2 실시예에서는 긴 시간간격에서의 보정과, 짧은 시간간격에서의 보정으로서, 수차보정동작을 바꾼다.
이하에 설명하는 제 2 실시예에서는, 짧은 시간간격에서의 수차보정은 렌즈의 광축방향구동에 의해 수차를 보정하고, 긴 시간간격에서의 수차보정은 노광광의 파장변경 또는 렌즈의 광축방향구동과 노광광의 파장변경에 의해 수차를 보정한다. 여기서, 짧은 시간간격에서의 수차보정은, 웨이퍼 노광처리의 노광중 및 비노광상태에서 반복 실행되고, 긴 시간간격에서의 수차보정은 웨이퍼 교환처리시에 실행된다.
제 2 실시예에 따른 보정연산부(10)의 구성은, 제 1 실시예(도 2)와 동일하다. 그러나, 제 2 실시예에서는, 주 제어부(60)로부터 출력된 타이밍신호가 다르 다.
보다 구체적으로는, 도 2에서의 주 제어부(60)로부터 데이터 보유부(22)로의 타이밍신호는, 1웨이퍼에 대한 노광처리가 모두 종료한 뒤에 출력된다. 이 타이밍에서, 모델연산부(20)로부터의 신호가 데이터 보유부(22)에 보유된다. 웨이퍼교환기간이 긴 경우는, 수회의 타이밍신호를 출력하여 데이터 보유부(22)의 기압 데이터를 갱신하여도 된다. 이 타이밍신호에 따라 실행된 수차보정을 긴 시간간격의 수차보정으로 한다. 따라서, 긴 시간간격의 수차보정은 제 1 실시예에서의 숏간 보정과 마찬가지다.
웨이퍼 교환이 종료하고, 새롭게 로드된 웨이퍼로의 노광처리가 시작되면, 주 제어부(60)로부터의 타이밍신호는 해당 웨이퍼에 대한 노광처리가 모두 종료할 때까지 출력되지 않는다. 따라서, 데이터 보유부(22)는 기압데이터를 유지하는 동안, 1웨이퍼의 노광중 및 비노광상태의 기압변화에 의한 수차의 보정은, 제 1 실시예의 실시간 보정과 같은 보정이 반복하여 행해지게 된다. 이 수차보정을 짧은 시간간격의 수차보정으로 한다.
이상과 같이, 제 2 실시예에서도, 투영광학계의 렌즈가 단일 유리재료로 구성되어 있지 않은 경우는, n군의 렌즈의 구동과 광원 파장구동과 웨이퍼 스테이지의 광축방향구동에 의해, 기압변화에 의해서 발생하는 수차를 보정할 수 있다. 웨이퍼 교환시에는 n+2개의 수차를 보정하고, 숏중 및 숏간중에는 실시간으로 n+1개의 수차를 보정할 수 있다. 한편, 투영광학계의 렌즈가 단일 유리재료로 구성되어 있는 경우는, n 군의 렌즈구동과 광원 파장구동과 웨이퍼 스테이지의 광축방향구동 에 의해, 기압변화에 의해서 발생하는 수차를 발생할 수있다. 웨이퍼 교환시에는 노광광의 파장을 구동함에 의해 모든 수차를 보정하고, 숏중 및 숏간중에는 실시간으로 n+1개의 수차를 보정할 수 있다.
따라서, 투영광학계의 렌즈가 단일 유리재료로 구성되어 있는 경우 또는 그렇지 않은 경우도, 노광중 및 비노광상태의 약간의 기압변화나 급격한 기압변화에 의해서 발생하는 수차를 실시간으로 보정할 수 있다. 그 결과, 고정밀도의 노광을 가능하게 하는 노광장치를 구성할 수 있다.
<제 3 실시예>
다음에, 본 발명에 따른 제 3 실시예에 관해서 설명한다. 제 3 실시예에서는, 제 1 및 제 2 실시예에 의한 수차보정을 보다 신속하고 고정밀도로 하기 위해서, 기압변화를 검출하는 기압계의 고속화 및 고정밀도화를 꾀한다.
도 4는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 노광장치의 구성도이다. 제 1 실시예(도 1)와 마찬가지의 동작을 하는 구성부에 관해서는, 동일번호를 부착하고, 그 설명을 생략한다. 이하, 제 1 실시예와 다른 구성부에 관해서 상세히 설명한다.
제 3 실시예(도 4)에서는, 도 1의 구성에 새로운 기압계(122)가 추가되고, 보정연산부(10a)가 설치된다. 여기서, 설명의 편의상, 기압계 120을 제 1 기압계, 기압계 122를 제 2 기압계라고 칭한다.
제 1 기압계(120)는 기압의 절대값을 고정밀도로 측정하는 기압계(환경에 따른 교정기능을 갖는 기압계)이다. 제 2 기압계(122)는 제 1 기압계보다도 고속으로 기압의 절대값 또는 상대값을 측정하는 기압계이다. 기압의 절대값을 측정하는 제 1 기압계는 온도나 습도의 영향을 받지 않고 고정밀도로 기압을 측정할 수 있지만, 온도 또는 습도의 영향을 제거한 뒤에 기압측정값을 출력하기 때문에, 센서로서의 응답속도는 느리다. 한편, 기압의 절대값 또는 상대값을 측정하는 제 2 기압계, 예를 들면, 레이저 간섭계에 의해 구성되는 파장 트랙커(wavelength tracker)에 의한 기압측정의 응답속도는 매우 고속이다. 파장 트랙커는, 매질, 즉, 공기의 굴절률을 레이저광을 이용하여 측정하는 계측기로, 기압, 온도 및 습도에 대한 굴절률을 고속으로 출력한다.
HeNe 레이저를 사용하는 파장 트랙커의 출력식은, n을 굴절률, P[Torr]를 압력, T[℃]를 온도, H[%]를 상대습도라고 하면, Elden의 공식으로부터 아래와 같이 나타낸다:
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Figure 112004009883028-pat00010
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a = 3.83639 × 10-7
b = 0.003661
c = 0.817
d = 0.0133
e = 5.607943 × 10-8
온도 T와 상대습도 H가 일정하면, 기압 P에 따라 파장 트랙카 출력의 굴절률 n이 변화한다. 이 굴절률 n에 의거하여 역산하여 기압 P를 상기 (9)식으로부터 산출할 수 있다. 따라서, 파장 트랙카는, 기압계로서의 역할을 할 수 있다.
그러나, 파장 트랙카는 온도와 상대습도에 대해서도 감도를 갖기 때문에, 파장 트랙카를 기압계로서 사용할 때는, 이 환경조건들이 일정할 필요가 있다. 파장 트랙카는, 온도 변동 0.01℃에 대하여 기압계로서의 기압오차는 0.034hPa, 습도변동 1%에 대하여 기압계로서의 기압오차는 0.045hPa가 된다. 이 때문에, 기압오차를 감소하여 보다 고정밀도의 기압변화에 의한 수차보정을 행하는데는, 적어도, 온도변화를 0.01℃이하, 습도변화를 1% 이하로 억제할 필요가 있다.
일반적으로, 노광장치 내부는 장치 정밀도를 유지하기 위해서 약 0.01℃ 이하의 정밀도로 온도를 제어한다. 온도변화는 충분히 작기 때문에, 온도변화로 인한 파장 트랙카의 계측오차는 무시할 수 있다. 그러나, 습도에 관해서는, 액티브 제어가 행하여지고 있지 않은 경우가 많고, 습도가 약간 완만하게 변화되기도 한다. 이 경우, (9)식 및 (10)식으로부터 분명한 바와 같이, 습도변화에 의해 파장 트랙카로부터 출력된 굴절률이 변화되어, 기압오차가 발생한다.
또한, 습도의 변동이 작은 경우에서도, 습도는 굴절률의 오프셋으로서 나타난다. 이 때문에, 정확히 습도값을 검출하여 (9)식 및 (10)식으로부터 습도에 의한 굴절률의 오프셋을 보정하지 않으면, 정확한 기압값을 산출할 수 없다.
그래서, 제 3 실시예에서는, 제 1 기압계(120)로서 응답속도가 느리지만 온 도 또는 습도의 영향을 받지 않고 기압의 절대값을 검출하는 기압계를 구비하고, 제 2 기압계(122)로서 고속으로 기압의 절대값 또는 상대값을 검출하고 온도 또는 습도의 영향을 쉽게 받는 기압계를 구비한다. 응답속도는 느리지만 고정밀도로 기압의 절대값을 검출할 수 있는 제 1 기압계(120)의 출력에 의해, 응답속도는 빠르지만 습도 등의 기압이외의 환경변화에 대하여도 민감한 제 2 기압계(122)의 출력을 교정한다. 이에 따라, 노광 중 또는 비노광상태의 약간의 기압변화나 급격한 기압변화를 고속으로 고정밀도로 검출하여 기압변화에 의한 수차를 실시간으로 보정할 수 있다. 따라서, 고정밀도의 노광을 가능하게 하는 노광장치를 실현하는 것이 가능하다.
도 5는 제 3 실시예에 따른 보정연산부(10a)의 구성도이다. 제 1 실시예의 보정연산부(10)(도 2)와 마찬가지의 동작을 하는 구성요소에 관해서는, 동일 참조번호를 부여하여, 그 설명을 생략한다. 보정연산부(10a)에는, 교정연산부(18)가 새롭게 추가된다.
도 6을 참조하여 교정연산부(18)의 동작을 설명한다. 제 1 기압계(120)의 출력은 평균화 처리부 14에 입력되고, 제 2 기압계(122)의 출력은 평균화 처리부 12에 입력된다. 평균화 처리부(12, 14)에 의해서 각 기압데이터는 평균화되어, 연산부(15)에 입력된다. 연산부(15)에서는, 제 1 기압계(120)로부터 출력된 평균화 처리부 14의 출력데이터에 의거하여 제 2 기압계(122)로부터 출력된 평균화 처리부 12의 출력데이터의 오프셋을 산출한다. 구체적으로는, 평균화 처리부 14와 평균화 처리부 12로부터의 각 데이터의 차를 계산한다. 연산부(15)에서 산출된 오프셋은, 교정부(16)에 입력된다. 교정부(16)는, 제 2 기압계(122)로부터 시시각각, 즉, 실시간으로 송신되어 오는 기압 데이터에 대하여 연산부(15)로부터 출력된 오프셋신호에 의거하여 교정을 시행하여, 그 교정된 데이터를 정확한 기압 데이터로서 모델연산부(20)에 출력한다.
여기서, 평균화 처리부 12 및 14에서의 평균화시간은, 수십초∼수분전후이어도 되고, 수십분∼수시간이어도 된다. 예를 들면, 습도변동이 수분∼수십분의 속도로 변화될 가능성이 있는 경우는, 1웨이퍼분의 노광처리가 행하여지고 있는 동안에 각 기압데이터를 평균화하고, 웨이퍼교환이 행하여지고 있는 동안에 연산부(15)에 의해 오프셋을 산출하여 그 값을 갱신한다. 그리고, 웨이퍼 노광처리에서는, 이 갱신된 오프셋을 사용하여 제 2 기압계(122)로부터의 데이터를 교정한다. 이와 같이하면, 1웨이퍼마다 교정데이터인 오프셋값을 연산부(15)에 의해 산출하고 갱신하여, 제 2 기압계(122)에 의해 출력된 데이터를 교정할 수 있다. 또한, 습도변동이 작은 경우에는, 레티클을 교환할 때나, 노광장치가 가동될 때에, 평균화 처리부 12 및 14에 의해 수분전후의 평균화처리를 행하고, 연산부(15)에 의해 오프셋을 산출하고 그 값을 갱신하여, 제 2 기압계(122)의 데이터를 교정부(16)에 의해 교정한다.
상술한 바와 같이, 교정연산부(18)는, 응답속도는 느리지만 고정밀도로 기압의 절대값을 측정할 수 있는 제 1 기압계(120)에 의해 출력된 데이터를 사용하여, 응답속도는 빠르지만 습도변동 등으로 인한 기압측정오차를 일으키는 제 2 기압계(122)에 의해 출력된 데이터를 교정한다. 그 결과로서, 응답속도가 빠르고 고정밀도인 기압데이터를 얻을 수 있다. 또한, 도 5에 나타낸 바와 같이, 모델연산부(20) 및 다른 구성요소의 구성은, 제 1 및 제 2 실시예와 마찬가지다.
따라서, 교정연산부(18)로부터 고속으로 고정밀도로 얻어진 기압 데이터에 의거하여, 제 1 실시예에서 설명한 바와 같이, 기압변화에 의한 수차를 숏간중 또는 실시간으로, 고정밀도로 보정할 수 있다. 또한, 제 2 실시예에서 설명한 바와 같이, 짧은 시간간격과 긴 시간간격으로 수차보정을 실행할 수 있다.
예를 들면, 제 3 실시예에 제 1 실시예의 수차보정방법을 적용하면, 투영광학계의 렌즈가 단일 유리재료로 구성되어 있지 않은 경우는, n군의 렌즈구동과 광원 파장구동과 웨이퍼 스테이지의 광축방향구동에 의해, 기압변화에 의해서 발생하는 n+2개의 수차를 숏간중에 보정하고, 숏중에는 n군의 렌즈구동과 웨이퍼 스테이지의 광축방향구동에 의해 실시간으로 n+1개의 수차를 보정할 수 있다. 또한, 투영광학계의 렌즈가 단일 유리재료로 구성되어 있는 경우는, 숏간중에는 노광광의 파장을 구동함으로써 기압변화에 의해서 발생하는 모든 수차를 보정하고, 숏중에는 n군의 렌즈구동과 웨이퍼 스테이지의 광축방향구동에 의해 실시간으로 n+1개의 수차를 보정할 수 있다.
특히, 제 3 실시예의 기압 계측에 의하면, 응답속도는 느리지만 고정밀도로 기압의 절대값을 검출할 수 있는 제 1 기압계(120) 출력을 사용하여, 응답속도는 빠르지만 습도 등의 기압이외의 환경변화에 대하여 민감한 기압의 절대값 또는 상대값을 검출하는 제 2 기압계(122)의 출력을 교정하기 때문에, 노광중 또는 비노광상태의 약간의 기압변화나 급격한 기압변화를 고속으로 고정밀도로 검출할 수 있 다. 따라서, 투영광학계의 렌즈가 단일 유리재료로 구성되어 있는 경우이거나 그렇지 않은 경우에, 노광중 또는 비노광상태의 약간의 기압변화나 급격한 기압변화에 의해서 생기는 수차를 실시간으로 보정하는 것이 가능하다.
이때, 제 3 실시예에 제 2 실시예의 수차보정방법을 적용할 수 있는 것은 말할 필요도 없다. 이 경우, 짧은 시간간격으로 렌즈구동 및 웨이퍼 스테이지의 광축방향으로의 구동에 의해 수차를 보정하고, 긴 시간간격으로 노광광의 파장변경 또는 렌즈구동과 노광광의 파장변경에 의해 수차를 보정하도록 구성된다. 여기서, 짧은 시간간격은, 웨이퍼 노광처리의 노광중 또는 비노광상태에 행해지는 보정간격으로 하여도 된다. 또한, 긴 시간간격은, 웨이퍼 교환처리를 할 때에 비노광상태에서 실행된 보정간격으로 하여도 된다.
<제 4 실시예>
다음에, 제 4 실시예에 관해서 설명한다. 제 4 실시예에서는, 투영광학계의 렌즈가 단일 유리재료로 구성되어 있거나, 또는 그 렌즈들이 단일 유리재료라고 간주할 수 있는 특성을 갖는 경우의 수차보정에 관해서 설명한다. 따라서, 제 4 실시예에서는, 레이저광의 파장변경에 의해, 모든 수차에 관해서 항상 실시간으로 보정을 한다.
도 7은 제 4 실시예에 따른 보정연산부(10b)의 구성도이다. 제 4 실시예의 보정연산부는, 제 3 실시예(도 5)의 보정연산부(10a)로부터 데이터 보유부(22), 가감산기(30), 수차보정 연산부(32)를 제외한 구성으로 되어 있다. 또한, 수차보정 연산부 28b는 수차보정 연산부 28과 유사하지만, 레이저 구동부(70)에 파장변경신호를 출력할 뿐이다.
제 4 실시예의 투영광학계(101)를 구성하는 렌즈는, 단일 유리재료로 구성되어 있거나, 또는 단일 유리재료라고 간주할 수 있는 특성을 갖는다. 그 렌즈들을 단일 유리재료라고 간주할 수 있기 때문에, 노광광의 파장을 변경함에 의해 기압변화에 의해서 발생하는 모든 수차를 보정하는 것이 가능해진다.
교정연산부(18)에 의해 실시간으로 송신되어 오는 제 2 기압계(122)로부터의 데이터가 제 1 기압계(120)로부터의 데이터에 따라서 교정되고, 그 교정된 데이터는 필요에 따라서 모델연산부(20)에 의해 소정의 모델화 연산이 시행된다. 그리고, 그 출력값은 기압 기준값(24)과 비교되어, 가감산기(26)에 의해 차가 산출된다. 수차보정 연산부(28b)는, 기압 계측값(모델연산부(20)의 출력)의 기준기압(기준값(24))으로부터의 변화를 산출하는 노광광의 파장변경량 특성식을 사용하여 파장변경량을 산출한다. 그 산출된 파장변경량은 레이저 구동부(70)에 입력된다. 레이저 구동부(70)는, 파장변경량에 따라서, 노광광원(80)의 파장선택소자 구동기구(88)에 의해 파장을 변경한다. 이와 같이 하여, 기압에 의해서 발생한 수차를 보정한다. 이 경우, 실시간 보정은, 노광광의 파장변경에 대해서만 행하고, 렌즈구동이나 웨이퍼 스테이지의 광축방향의 구동을 행할 필요는 없다.
이상과 같이, 제 4 실시예에 의하면, 투영광학계의 렌즈가 단일 유리재료로 구성되어 있는 경우에, 기압변화에 의한 수차보정을 숏간 및 노광광의 파장변경에 의해 실시간으로 행한다. 특히, 응답속도는 느리지만 고정밀도로 기압의 절대값을 검출할 수 있는 제 1 기압계(120)의 출력을 사용하고, 응답속도는 빠르지만 습도 등의 기압이외의 환경변화에 민감한 (기압의 절대값 또는 상대값을 검출하는) 제 2 기압계(122)의 출력을 교정한다. 이에 따라, 노광중 또는 비노광상태의 약간의 기압변화나 급격한 기압변화를 고속으로 고정밀도로 검출할 수 있다. 따라서, 기압변화에 의한 수차를 실시간으로 보정하여, 고정밀도의 노광을 가능하게 하는 노광장치를 구성할 수 있다.
<제 5 실시예>
다음에, 본 발명의 제 5 실시예에 관해서 설명한다. 제 5 실시예는, 투영광학계의 렌즈가 단일 유리재료로 구성되어 있지 않은 경우를 설명한다.
도 8은 제 5 실시예에 따른 보정연산부(10c)의 구성도이다. 제 5 실시예의 보정연산부는, 제 4 실시예(도 7)의 보정연산부(10b)의 수차보정 연산부 28b를 수차보정 연산부 28c로 치환한 구성으로 되어 있다. 수차보정 연산부 28c는 수차보정 연산부 28와 마찬가지이고, 기압변화에 의한 수차를 보정하기 위해서, 렌즈구동부에 대하여 렌즈구동신호를, 스테이지 구동부(65)에 대하여 웨이퍼 스테이지의 광축방향구동신호를, 레이저 구동부(70)에 대하여 파장구동을 위한 신호를 출력한다.
제 5 실시예에 따른 투영광학계의 렌즈는, 단일 유리재료로 구성되어 있지 않다. 그래서, 수차보정 연산부(28c)에서는, 실시간으로 보내져오는 가감산기(26)로부터의 기압차 데이터에 의거하여, (1)식으로부터 기압변화에 의해 발생하는 수차를 예측하고, (4)식으로부터 수차의 보정에 필요한 렌즈구동량과 노광광의 파장 변경량을 산출한다. 그 산출된 렌즈구동량은, 렌즈구동부(50)에 출력되고, 렌즈구동 기구부에 의해 렌즈를 광축방향으로 변위시켜, 기압변화에 따라서 발생한 수차를 보정한다. 또한, 그 산출된 노광광의 파장변경량은 레이저 구동부(70)에 입력되고, 노광광원(80)의 파장선택소자 구동기구(88)에 의해 파장을 바꿔 기압변화에 의해서 발생한 수차를 보정한다.
이때, 포커스는 웨이퍼 스테이지(130)를 광축방향으로 구동하여 보정할 수 있다. 웨이퍼 스테이지(130)에 의한 보정은, 다음과 같이 행해진다. 우선, 기압변화에 의해서 발생하는 포커스 오차와, 상기 렌즈구동이나 파장변화에 의해서 발생한 포커스오차는, 별도로 수차보정 연산부 28c에서 계산하여, 포커스보정을 위한 웨이퍼 스테이지 구동량을 얻는다. 이 웨이퍼 스테이지 구동량은, 스테이지 구동부(65)에 출력된다. 스테이지 구동부(65)는, 웨이퍼 스테이지(130)를 광축방향으로 변위시켜 포커스를 보정한다. 상술한 n군의 렌즈구동과 노광광 파장변경에 의한 수차보정(n+1개의 수차보정)에 추가하여, 이러한 웨이퍼 스테이지 광축방향구동에 의한 수차보정을 추가함으로써, n+2개의 수차를 보정할 수 있다.
제 5 실시예의 수차보정 연산부(28c)는, 노광중 또는 비노광상태인지에 상관없이, 항상 기압변화에 의해서 발생하는 수차의 보정에 필요한 렌즈구동량과 노광광의 파장변경량(아울러, 웨이퍼 스테이지 광축방향 구동량)을 산출한다. 특히, 응답속도는 느리지만 고정밀도로 기압의 절대값을 검출할 수 있는 제 1 기압계(120)의 출력을 사용하여, 응답속도는 빠르지만 습도 등의 기압이외의 환경변화에 민감한 제 2 기압계(122)의 출력(기압의 절대값 또는 상대값)을 교정한다. 이에 따라, 노광중 또는 비노광상태의 약간의 기압변화나 급격한 기압변화를 고속으로 고정밀도로 검출할 수 있다. 따라서, 기압변화에 의한 수차를 실시간으로 보정하여, 고정밀도의 노광을 가능하게 하는 노광장치를 구성할 수 있다.
<반도체 제조장치에의 적용>
다음에, 상기 설명한 노광장치를 이용한 반도체 디바이스의 제조방법의 실시예를 설명한다. 도 10은 미소 디바이스(IC나 LSI 등의 반도체칩, 액정패널, CCD, 박막자기헤드, 마이크로머신 등)의 제조흐름을 나타낸다.
단계 S101(회로 설계)에서는 반도체 디바이스의 회로 설계를 행한다. 단계 S102(마스크 제조)에서는 설계한 회로패턴을 형성한 마스크를 제조한다. 한편, 단계 S103(웨이퍼 제조)에서는 실리콘 등의 재료를 사용하여 웨이퍼를 제조한다. 단계 S104(웨이퍼 프로세스)에서는 전공정이라고 불리고, 상기 준비한 마스크와 웨이퍼를 사용하여, 리소그래피기술에 의해서 웨이퍼 상에 실제 회로를 형성한다. 다음에, 단계 S105(조립)에서는 후공정이라고 불리고, 단계 S104에서 제조된 웨이퍼를 사용하여 반도체칩을 제조한다. 이 단계 S105는, 조립공정(다이싱, 본딩), 패키징공정(칩 봉입) 등의 공정을 포함한다. 단계 S106(검사)에서는, 단계 S105에서 제조된 반도체 디바이스의 동작확인 테스트, 내구성 테스트 등의 검사를 행한다. 이러한 공정들로 제조된 반도체 디바이스를 출하(단계 S107)한다.
도 11은 상기 웨이퍼 프로세스의 상세한 흐름을 나타낸다. 단계 S111(산화)에서는, 웨이퍼 표면을 산화시킨다. 단계 S112(CVD)에서는, 웨이퍼 표면에 절연막 을 형성한다. 단계 S113(전극형성)에서는, 웨이퍼 상에 전극을 형성한다. 단계 S114(이온주입)에서는, 웨이퍼에 이온을 주입한다. 단계 S115(레지스트 공정)에서는, 웨이퍼에 감광제를 도포한다. 단계 S116(노광)에서는, 상기 설명한 노광장치에 의해서 마스크의 회로패턴을 웨이퍼에 노광한다. 단계 S117(현상)에서는, 노광된 웨이퍼를 현상한다. 단계 S118(에칭)에서는, 현상한 레지스트 이미지 이외의 부분을 제거한다. 단계 S119(레지스트 박리)에서는, 에칭공정 후 불필요한 레지스트를 제거한다. 이 단계들을 반복함으로써, 웨이퍼상에 다중 회로패턴이 형성된다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 약간의 기압변화나 급격한 기압변화에 의해서 발생하는 광학계의 수차를 보정하여, 고정밀도의 노광처리를 실현할 수 있다.
본 발명의 사상 및 범주를 벗어나지 않고서 본 발명의 실시예들을 다양하고 명백히 폭넓게 할 수 있기 때문에, 본 발명은 청구범위에 기재된 것 외에 본 발명의 특정 실시예들로 한정되지 않는다는 것을 알 수 있다.

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  13. 마스크의 패턴을 통해 웨이퍼를 광에 노출하기 위한 노광장치로서,
    상기 광을 발생하기 위한 광원과,
    상기 패턴을 웨이퍼 상에 투영하기 위한 투영광학계와,
    상기 노광장치의 기압을 계측하기 위한 기압계측수단과,
    상기 투영광학계의 렌즈를 구동하기 위한 렌즈구동수단과,
    상기 광의 파장을 변경하기 위한 파장변경수단과,
    상기 노광장치가 노광상태일 경우에, 상기 기압계측수단에 의해 출력된 신호에 의거하여 상기 렌즈구동수단이 렌즈를 구동하도록 지시하고, 상기 노광장치가 비노광상태일 경우에만, 상기 기압계측수단에 의해 출력된 신호에 의거하여 상기 파장변경수단이 파장을 변경하도록 지시하며, 상기 렌즈구동수단이 상기 파장의 변경에 따라 상기 렌즈의 위치를 중립 위치로 리셋트 하도록 지시하는 지시수단을 구비한 것을 특징으로 하는 노광장치.
  14. 제 13 항에 있어서,
    비노광상태에서 보정되는 상기 투영광학계의 수차의 수는 노광상태일 경우보다 더 많은 것을 특징으로 하는 노광장치.
  15. 제 13 항에 있어서,
    상기 지시수단은 노광상태와 비노광상태 모두에서 상기 렌즈구동수단이 렌즈를 구동하도록 지시하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  16. 제 13 항에 있어서,
    웨이퍼를 이동하기 위한 이동수단을 더 구비하고,
    상기 지시수단은 상기 이동수단이 신호에 의거하여 노광상태에서 웨이퍼를 이동하도록 지시하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  17. 마스크의 패턴을 웨이퍼에 투영하기 위한 투영광학계와, 노광장치의 기압을 계측하기 위한 기압계측수단과, 상기 투영광학계의 렌즈를 구동하기 위한 렌즈구동수단과, 광의 파장을 변경하기 위한 파장변경수단을 구비하는 노광장치를 이용하여, 마스크의 패턴을 통해 웨이퍼를 광에 노출하기 위한 노광방법으로서,
    상기 노광장치가 노광상태일 경우에, 상기 기압계측수단에 의해 출력된 신호에 의거하여 상기 렌즈구동수단이 렌즈를 구동하도록 지시하는 제1지시단계와,
    상기 노광장치가 비노광상태일 경우에만, 상기 기압계측수단에 의해 출력된 신호에 의거하여 상기 파장변경수단이 파장을 변경하도록 지시하는 제2지시단계와,
    상기 렌즈구동수단이 상기 파장의 변경에 따라 상기 렌즈의 위치를 중립 위치로 리셋트 하도록 지시하는 제3지시단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 노광방법.
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Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3833209B2 (ja) * 2003-10-24 2006-10-11 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイス製造方法
US20050192895A1 (en) * 2004-02-10 2005-09-01 First Data Corporation Methods and systems for processing transactions
JP4752473B2 (ja) * 2004-12-09 2011-08-17 株式会社ニコン 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
TWI406101B (zh) * 2005-03-01 2013-08-21 Univ Meijo ２光束干涉曝光裝置、２光束干涉曝光方法、半導體發光元件的製造方法、及半導體發光元件
US7525638B2 (en) * 2005-03-23 2009-04-28 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2006133800A1 (en) 2005-06-14 2006-12-21 Carl Zeiss Smt Ag Lithography projection objective, and a method for correcting image defects of the same
JPWO2007096949A1 (ja) * 2006-02-21 2009-07-09 富士通マイクロエレクトロニクス株式会社 露光装置、露光方法、及び電子装置の製造方法
US8045134B2 (en) * 2006-03-13 2011-10-25 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, control system and device manufacturing method
DE102006023876A1 (de) * 2006-05-19 2007-11-22 Carl Zeiss Smt Ag Optische Abbildungseinrichtung
US8027023B2 (en) 2006-05-19 2011-09-27 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical imaging device and method for reducing dynamic fluctuations in pressure difference
DE102006032877A1 (de) * 2006-07-15 2008-01-17 Carl Zeiss Smt Ag Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
US7372633B2 (en) * 2006-07-18 2008-05-13 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, aberration correction device and device manufacturing method
JP4366386B2 (ja) 2006-09-07 2009-11-18 キヤノン株式会社 露光装置およびデバイス製造方法
US20080159644A1 (en) * 2006-12-28 2008-07-03 Kelly Sean C Condition dependent sharpening in an imaging device
JP2009004509A (ja) 2007-06-20 2009-01-08 Canon Inc 露光装置およびデバイス製造方法
DE102007036813B4 (de) * 2007-08-03 2010-12-30 Vistec Semiconductor Systems Gmbh Verfahren zum Bestimmen von Positionen von Strukturen auf einem Substrat
JP2009094163A (ja) * 2007-10-04 2009-04-30 Canon Inc 温度制御装置、露光装置およびデバイス製造方法
DE102008042356A1 (de) * 2008-09-25 2010-04-08 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsbelichtungsanlage mit optimierter Justagemöglichkeit
CN102540745B (zh) * 2010-12-22 2014-01-22 上海微电子装备有限公司 一种基于空间像主成分控制的曝光系统
JP6025419B2 (ja) * 2012-06-27 2016-11-16 株式会社ニューフレアテクノロジー 検査方法および検査装置
DE102012212758A1 (de) * 2012-07-20 2014-01-23 Carl Zeiss Smt Gmbh Systemkorrektur aus langen Zeitskalen
CN108292104B (zh) * 2015-11-20 2020-09-25 Asml荷兰有限公司 光刻设备及方法
JP7213761B2 (ja) * 2019-06-18 2023-01-27 キヤノン株式会社 露光装置、および物品製造方法
US11581692B2 (en) 2019-06-18 2023-02-14 KLA Corp. Controlling pressure in a cavity of a light source
DE102022200539A1 (de) 2022-01-18 2022-11-17 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System für die Projektionslithographie

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4666273A (en) * 1983-10-05 1987-05-19 Nippon Kogaku K. K. Automatic magnification correcting system in a projection optical apparatus
JP2516194B2 (ja) * 1984-06-11 1996-07-10 株式会社日立製作所 投影露光方法
JPS618922A (ja) * 1984-06-25 1986-01-16 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 投影光学装置
US5095190A (en) * 1987-03-03 1992-03-10 Canon Kabushiki Kaisha Exposure apparatus
DE3733823A1 (de) * 1987-10-07 1989-04-20 Zeiss Carl Fa Verfahren zur kompensation des einflusses von umweltparametern auf die abbildungseigenschaften eines optischen systems
KR920005348Y1 (ko) * 1988-03-01 1992-08-03 미쓰비시전기주식회사 압력센서
JP2864060B2 (ja) * 1991-09-04 1999-03-03 キヤノン株式会社 縮小投影型露光装置及び方法
JPH0645228A (ja) 1992-07-23 1994-02-18 Nikon Corp 投影露光装置
JP3500619B2 (ja) * 1993-10-28 2004-02-23 株式会社ニコン 投影露光装置
JP3379200B2 (ja) * 1994-03-25 2003-02-17 株式会社ニコン 位置検出装置
JP3402850B2 (ja) * 1995-05-09 2003-05-06 キヤノン株式会社 投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
USH1937H1 (en) * 1996-02-29 2001-02-06 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Laser barometer
JPH10270333A (ja) * 1997-03-27 1998-10-09 Nikon Corp 露光装置
EP1020897A4 (en) * 1997-08-26 2004-10-27 Nikon Corp ALIGNMENT DEVICE, LIGHTING METHOD, METHOD FOR PRINTING AN OPTICAL PROJECTION SYSTEM, AND METHOD FOR COMPOSING THIS ALIGNMENT DEVICE
JP3278407B2 (ja) * 1998-02-12 2002-04-30 キヤノン株式会社 投影露光装置及びデバイス製造方法
AU5650399A (en) * 1998-09-17 2000-04-10 Nikon Corporation Method of adjusting optical projection system
JP3670900B2 (ja) 1999-08-30 2005-07-13 三菱重工業株式会社 伝送器自動校正方法及び伝送器自動校正装置
JP3387861B2 (ja) 1999-09-09 2003-03-17 キヤノン株式会社 露光装置、およびデバイス製造方法
JP4532647B2 (ja) * 2000-02-23 2010-08-25 キヤノン株式会社 露光装置
JP2001274054A (ja) * 2000-03-24 2001-10-05 Canon Inc 露光装置、半導体デバイス製造方法および半導体デバイス製造工場
JP4666747B2 (ja) * 2000-11-06 2011-04-06 キヤノン株式会社 露光装置およびデバイス製造方法
JP3619141B2 (ja) * 2000-11-10 2005-02-09 キヤノン株式会社 投影露光装置及びデバイス製造方法
JP2002222760A (ja) 2001-01-29 2002-08-09 Canon Inc 露光方法及び露光装置並びにデバイスの製造方法
JP4120855B2 (ja) 2001-04-10 2008-07-16 横河電機株式会社 圧力センサ
JP2003068622A (ja) * 2001-08-28 2003-03-07 Canon Inc 露光装置及びその制御方法並びにデバイスの製造方法

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