KR100584173B1 - 경화성 계에 대한 촉진제 - Google Patents

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Abstract

본 발명은,
(a) 하나 이상의 화학식
R1(R2)N-CH(R3)- (A)의 치환기에 의해 치환된 페놀성 화합물(만니히 염기)을,
(b) 하기 화학식
R4(R5)N-CnH2n-(NH-CnH2n)q-NH 2 (B)의 화합물과 반응시키는 아미노전이반응에 의해 제조된 경화성 에폭시 계 및 폴리우레탄 계에 대해 촉진제로 작용하는 화합물에 관한 것이다. 이렇게 제조된 혼합물중의 화합물은 분자당 평균 하나 이상의 화학식 (R4)(R5)N-CnH2n-(NH-CnH2n)q-NH-CH(R 3)- 의 치환기를 갖는다. 본 발명은 또한 상기 화합물의 경화성 계, 특히 경화성 에폭시 계 및 폴리우레탄 계에 대한 촉진제로서의 용도에도 관한 것이다.

Description

경화성 계에 대한 촉진제{Accelerators for hardenable systems}
본 발명은 경화성 에폭시 계 및 폴리우레탄 계에 대한 촉진제로서 작용하는 화합물에 관한 것이다. 특히 본 발명은 이하에 기재된 만니히 염기와 선택된 아민과의 아미노 전이반응 생성물로 얻어지며 경화성 에폭시 계 및 폴리우레탄 계에서 촉진제로 작용할 수 있는 화합물에 관한 것이다.
수많은 경화성 에폭시 계가 알려져있다. 공지된 용도의 경우 이들 계는 5℃ 이하로 가열되는 비교적 저온에서 너무 느리게 경화되는 단점이 있다. 동시에 비교적 높은 대기 습도에서 도료 및 필름과 같은 용도로 사용되면 가소성, 냄새, 광택 또는 접착성 등에서 불충분한 특성을 갖게된다.
이하에 기재된 본 발명에 따른 신규 화합물은 경화성 에폭시 계 및 폴리우레탄 계에서 촉진제로서 이용될 수 있는 점에서 구별되며, 앞에서 예로 든 계의 -5℃ 까지의 저온에서의 경화속도는 높은 대기 습도의 상기 기재된 결점을 충분히 또는 완전히 극복할 수 있을 정도로 증가한다. 본 발명에 따른 화합물은 또한 저분자이고 낮은 점도를 나타내는 추가의 이점을 갖는다. 또한 본 발명에 따른 화합물은 경화성 계의 화합물과 혼합가능하고 경화된 계의 특성에 결정적인 영향을 준다. 본 발명에 따른 촉진제가 경화된 계에서 화학적으로 결합되기 위하여, 상기 본 발명에 따른 화합물은 실질적으로 고농도로 존재할 수 있다. 이것은 저온(<5℃)에서 현재 공지된 촉진제를 얻을 수 없는 점에서 기본적으로 중요하다. 후자는 가교되지 않으며 고농도에서 부적합한 네트워크를 형성한다.
본 발명은 본 명세서에 정의되어 있다. 특히 본 발명은,
(a) 하나 이상의 하기 화학식(A)의 치환기에 의해 치환된 페놀성 화합물(만니히 염기)을 (b) 하기 화학식(B)의 화합물과 반응시키는 아미노 전이반응에 의해 제조되며, 또 생성된 화합물 및 생성된 화합물의 혼합물이 분자당 평균 하나 이상의 화학식 (R4)(R5)N-CnH2n-(NH-CnH2n) q-NH-CH(R3)-의 치환기를 갖는 것을 특징으로 하는, 경화성 에폭시 계 및 폴리우레탄 계에 대해 촉진제로 작용하는 화합물에 관한 것이다:
R1(R2)N-CH(R3)-
R4(R5)N-CnH2n-(NH-CnH2n)q-NH 2
식중에서,
R1 및 R2는 서로 독립해서 직쇄 또는 측쇄의 C1-C4 알킬이고,
R3은 수소, 메틸, 에틸 또는 페닐이며,
R4 및 R5는 서로 독립해서 C1-C6 알킬이거나 서로 합쳐져서 -(CH2)5- 또는 화학식 -(CH2)2-O-(CH2)2-의 기를 형성하고,
n은 2 내지 5의 정수이고 또
q는 0, 1, 2 또는 3임.
본 발명은 또한 (a) 하나 이상의 하기 화학식(A)의 치환기에 의해 치환된 페놀성 화합물(만니히 염기)을 (b) 하기 화학식(B)의 화합물과 아미노 전이반응시키는 것에 의해 생성한 화합물 및 생성한 화합물의 혼합물이 분자당 평균 하나 이상의 화학식 (R4)(R5)N-CnH2n-(NH-CnH2n) q-NH-CH(R3)- 의 치환기를 갖는 것을 특징으로 하는, 경화성 에폭시 계 및 폴리우레탄 계에 대해 촉진제로 작용하는 본 발명에 따른 화합물의 제조방법에도 관한 것이다:
R1(R2)N-CH(R3)- (A)
R4(R5)N-CnH2n-(NH-CnH2n)q-NH 2 (B)
식중에서,
R1, R2, R3, R4, R5, n 및 q는 상기 정의된 바와 같다.
본 발명은 또한 경화성 계, 특히 경화성 에폭시 계 및 폴리우레탄 계에 대한 촉진제로서 본 발명에 따른 화합물의 용도에도 관한 것이다.
본 발명은 또한 본 발명에 따른 화합물 또는 이러한 화합물을 함유하는 혼합물인 경화성 계, 특히 경화성 에폭시 계 및 폴리우레탄 계 뿐만 아니라 그로부터 제조된 경화 생성물에도 관한 것이다.
치환된 페놀성 화합물(만니히 염기)은 그중에서도 특히 저분자 디-알킬아미노메틸 치환된 페놀, 오르토-, 메타- 및 파라-크레졸, 크실렌올의 이성질체, 파라-t-부틸페놀, 파라-노닐페놀, α-나프톨, β-나프톨, 디페놀 또는 폴리페놀, 바람직하게는 레조르신, 히드로퀴논, 4,4'-디옥시디페닐, 4,4'-디옥시디페닐에테르, 4,4'-디옥시디페닐술폰, 4,4'-디옥시디페닐메탄, 비스페놀 A 뿐만 아니라 노볼락으로 표시되는 페놀과 포름알데히드의 축합물이다. 디-C1-C4 알킬아미노메틸에 의해 치환된 페놀 및 크레졸, 특히 치환된 페놀이 바람직하다.
R1 및 R2는 서로 독립해서 메틸 또는 에틸이고, 바람직하게는 R1 및 R2 는 메틸이다. R3은 수소, 메틸 또는 에틸이고, 바람직하게는 수소이다.
치환기(A)는 바람직하게는 디-C1-C4 알킬아미노메틸, 특히 디메틸아미노메틸, 에틸메틸아미노메틸 및 디에틸아미노메틸, 더욱 특히 디메틸아미노메틸이다. 아미노 전이 반응에서 유리된 저분자 디알킬아민은 낮은 비점으로 인하여 간단히 반응 혼합물부터 제거될 수 있는 것이 중요하다.
치환된 페놀성 화합물은 소위 만니히 염기이다. 이들은 페놀성 화합물을 포름알데히드, 아세트알데히드, 프로피온알데히드 또는 벤즈알데히드 및 적합한 아민과 전환반응시키는 공지 방법에 의해 수득할 수 있다.
바람직하게 이용되는 만니히 염기는 하기 화학식(I), (IIa), (IIb) 및 (III)의 치환된 페놀이며, 화학식(IIa) 및 (III)의 화합물이 더욱 바람직하다:
Figure 112001003833349-pct00001
Figure 112001003833349-pct00002
Figure 112001003833349-pct00003
Figure 112001003833349-pct00004
상기 화합물의 혼합물도 또한 사용될 수 있다. R1 및 R2 기는 화학식(A)에서 정의된 바와 같다.
상기 열거된 치환된 페놀성 화합물은 또한 상기 예로든 화학식(I), (IIa), (IIb) 및 (III)의 페놀과 유사한 방식으로 제조될 수 있다.
본 발명에 따르면 상술한 만니히 염기는 화학식 R4(R5)N-CnH2n-(NH-C nH2n)q-NH2 (B)의 화합물과 아미노 전이 반응된다. 바람직하게는 R4 및 R5는 서로 독립해서 C1-C4 알킬, 바람직하게는 메틸 또는 에틸이다. 바람직하게는 R4 및 R5 는 메틸을 의미한다. n은 2, 3 또는 4를 의미하고, 바람직하게는 4이다. q는 0 또는 1이고, 바람직하게는 0이다.
바람직한 의미에 따르면, 아미노 전이반응의 적합한 반응 생성물도 포함된다.
예컨대 화학식(III)의 화합물은, 디메틸아미노프로필아민과 H2NR의 반응 및 이탈기 디메틸아민과 DMA의 반응이 개시된, 하기 반응식(1)에 따라 디메틸아미노프로필아민과 반응된다.
Figure 112001003833349-pct00005
아미노 전이반응은 다르게는 디메틸아미노메틸-치환기 또는 필요한 경우 상술한 세 개의 치환기중의 2개를 이용하여 실시될 수 있으며, 변형되지 않은 미반응 디메틸아미노메틸 치환기는 페놀성 고리에 잔존한다. 상술한 반응식(1)(하기 행) 에는 사슬연장반응시 직쇄 또는 측쇄의 올리고머를 형성하는 이합체화 반응 및 다른 반응이 실시됨이 개시되어 있다. 적합한 올리고머 형성에 대한 설명은 하기 반응식(2)로 표시된다:
Figure 112001003833349-pct00006
상기 화학식(IV)의 화합물에서, -(CH2)s-는 상기 화학식(B)의 화합물에서 정의한 바와 같이 -CnH2n- 기에 상응한다. R6은 반응식(1) 및 반응식(2)로부터 명백한 바와 같이, 수소, -(CH2)s-N(R4)(R5) 기 또는 올리고머 기이다.
화학식(I), (IIa) 및 (III)의 만니히 염기와 디메틸아미노프로필아민과의 반응은 출발물질인 하기 화학식(V), (VI), (VII), (VIII), (IX) 및 (X)의 단량체성 화합물에 따라서 실시된다:
Figure 112001003833349-pct00007
Figure 112001003833349-pct00008
Figure 112001003833349-pct00009
Figure 112001003833349-pct00010
Figure 112001003833349-pct00011
Figure 112001003833349-pct00012
상기 화학식(V), (VI), (VII), (VIII), (IX) 및 (X)의 화합물은 신규하며 또한 본 발명의 주제이기도하다. 화학식(IIb)의 출발 화합물은 본 발명의 아미노 전 이반응 조건하에서 상응하는 2,4-치환된 생성물을 형성하게된다.
바람직하게는 화학식(IIa), (IIb) 또는 (III)의 화합물 또는 이들 화합물의 혼합물과 화학식(B)의 화합물, 더욱 특히 디메틸아미노프로필아민과의 아미노 전이반응이 실시될 수 있다. 사용한 출발물질에 따라서 상술한 바와 같이 화학식(V) 내지 (X)의 화합물의 상응하는 혼합물 뿐만 아니라 상응하는 올리고머 화합물을 수득한다. 본 발명에 따르면 만니히 염기가 분자당 평균 하나 이상의 치환기를 가질 정도로 화학식(B)의 화합물과 아미노전환 반응되어 가능한한 적은 올리고머 화합물을 형성하게된다. 바람직하게는 아미노전이 반응은 존재하는 디-C1-C4 알킬아미노 치환기의 10% 내지 100%, 바람직하게는 20% 내지 80%, 더욱 바람직하게는 50% 내지 80%가 화학식(B)의 화합물과 반응하게될 정도로 실시된다. 만니히 염기로부터 유리 된 아민을 측정하는 것을 통하여 반응 정도를 측정할 수 있다. 일반적으로 디메틸아미노 치환기의 60 내지 75 % 범위내의 반응정도일 때 단량체 및 올리고머 화합물 간의 최적 균형에 도달하게된다. 이것은 수득한 조성물의 점성 정도 나타낸다. 이들의 점성은 0.1 Pa·s 내지 100 Pa·s (25℃) 범위, 바람직하게는 1 Pa·s 내지 30 Pa·s (25℃) 범위로 존재한다. < 10 Pa·s (25℃)의 점성인 것이 바람직하다.
출발물질로 사용된 화학식(I)의 만니히 염기는 실질적으로 존재하는 모든 디알킬아미노 치환기 및 디메틸아미노 치환기가 화학식(B)의 화합물과 반응될 만큼 아미노 전이반응된다.
상기 반응물들은 반응기내에서 바람직하게는 용매 부재하에 조합되어 50 내지 150℃, 바람직하게는 100 내지 130℃로 가열된다. 이 반응은 분리된 디알킬아민 화합물을 측정하는 것을 통하여 모니터링한다. 이 반응은 소망하는 수율을 얻을 때 온도를 실온으로 감소시키는 것에 의해 중지된다. 이렇게 하여 수득한 생성물 혼합물은 저장안정성을 나타낸다. 필요한 경우 미반응 유리 아민(화학식(B))은 증류에 의해 제거할 수 있다.
본 발명에 따르면, 경화성 계, 특히 경화성 에폭시 계 및 폴리우레탄 계에서 촉진제로 작용하는 화합물이 이용된다. 원칙적으로 본 발명에 따른 화합물은 경화성 계에서 경화제(통상적으로 사용되는 경화제 대신)로서 이용될 수 있다. 그러나 공지 계에서 통상적으로 사용되는 경화제와 본 발명에 따른 촉진제의 혼합물을 사용하는 것이 유리하며, 0.5% 내지 20%, 바람직하게는 1% 내지 10%, 특히 약 5%(통상적으로 이용되는 경화제 및 본 발명에 따른 촉진제의 전체 중량 기준)의 본 발명에 따른 촉진제를 사용하는 것이 유리하다.
경화성 혼합물에 이용될 수 있는 에폭시 수지로서는 에폭시 수지 기술분야에서 통상적인 에폭시 수지가 적합하다. 에폭시 수지의 예는 다음과 같다:
I) 분자내에 두 개 이상의 카르복실기를 갖는 화합물을 에피클로로히드린 또는 β-메틸에피클로로히드린과 반응시켜 얻을 수 있는 폴리글리시딜 에스테르 및 폴리-(β-메틸글리시딜)에스테르. 분자에 2개 이상의 카르복실기를 갖는 화합물로서는 방향족 폴리카르복시산을 들 수 있다. 이러한 폴리카르복시산의 예는 옥살산, 숙신산, 글루타르산, 아디프산, 피멜산, 세바신산, 수베르산, 아젤라산 또는 이합체화되거나 삼합체화된 리놀레산이다. 또한 테트라히드로프탈산, 4-메틸테트라히드로프탈산, 헥사히드로프탈산 또는 4-메틸헥사히드로프탈산과 같은 시클로지방족 폴 리카르복시산을 사용할 수 있다. 또한 프탈산, 이소프탈산 또는 테레프탈산과 같은 방향족 폴리카르복시산을 사용할 수 있다. 분자중에 두 개의 카르복실기를 갖는 산과 에피클로로히드린 및/또는 β-메틸에피클로로히드린과의 반응생성물이 바람직하다.
II) 두 개 이상의 자유 알코올 히드록실기 및/또는 페놀 히드록실기를 갖는 화합물을 알칼리 조건하 또는 산 촉매 존재하 및 적합한 알칼리 조건하에서 반응시켜 얻을 수 있는 폴리글리시딜 에테르 또는 폴리(β-메틸글리시딜)에테르. 이 유형의 글리시딜에테르는 예컨대 에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜 및 고급 폴리(옥시에틸렌)글리콜, 프로판-1,2-디올 또는 폴리(옥시프로필렌)글리콜, 프로판-1,3-디올, 부탄-1,4-디올, 폴리(옥시테트라메틸렌)글리콜, 펜탄-1,5-디올, 헥산-1,6-디올, 헥산-2,4,6-트리올, 글리세롤, 1,1,1-트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 소르비톨과 같은 비고리 알코올 및 폴리에피클로로히드린으로부터 유도된다. 이러한 글리시딜 에테르는 또한 1,4-시클로헥산디메탄올, 비스-(4-히드록시시클로헥실)메탄 또는 2,2-비스-(4-히드록시시클로헥실)프로판과 같은 시클로지방족 알코올로부터 유도되거나 또는 N,N-비스(2-히드록시에틸)아닐린 또는 p,p'-비스(2-히드록시에틸아미노)디페닐메탄과 같은 방향족 고리를 갖는다. 글리시딜에테르는 또한 레조르시놀 또는 히드로퀴논과 같은 모노시클릭 페놀; 또는 비스(4-히드록시페닐)메탄, 4,4'-디히드록시비페닐, 비스-(4-히드록시페닐)술폰, 1,1,2,2-테트라키스(4-히드록시페닐)에탄, 2,2-비스-(4-히드록시페닐)프로판, 2,2-비스(3,5-디브로모-4-히드록시페닐)프로판과 같은 폴리시클릭 페놀; 또는 포름알데히드, 아세트알데히드, 클로 랄 또는 푸르푸르알데히드와 같은 알데히드와 페놀 또는 4-클로로페놀, 2-메틸페놀 또는 4-t-부틸페놀과 같이 고리에서 염소 원자 또는 C1-C9 알킬기로 치환된 페놀과의 축합반응, 또는 상술한 방법에서 언급한 비스페놀과의 축합반응을 통하여 유도될 수 있다. 2개의 유리 알코올성 히드록실기 및/또는 페놀성 히드록실기를 갖는 화합물과 에피클로로히드린 및/또는 β-메틸에피클로로히드린의 반응 생성물이 바람직하다.
III) 에피클로로히드린 및 두 개 이상의 아민 수소 원자를 함유하는 아민의 반응 생성물을 탈염화수소화시켜 얻을 수 있는 폴리-(N-글리시딜)화합물. 이러한 아민은 아닐린, n-부틸아민, 비스(4-아미노페닐)메탄, m-크실릴렌디아민 또는 비스-(4-메틸아미노페닐)메탄이다. 폴리-(N-글리시딜)화합물의 다른 예는 트리글리시딜이소시아누레이트, 에틸렌우레아 또는 1,3-프로필렌우레아와 같은 시클로알킬렌 우레아의 N,N'-디글리시딜 유도체 및 5,5-디메틸히단토인과 같은 히단토인의 디글리시딜유도체를 들 수 있다. 2개의 반응성 아민 수소원자를 함유하는 아민과 에피클로로히드린 및/또는 β-메틸에피클로로히드린의 반응 생성물이 바람직하다.
IV) 에탄-1,2-디티올 또는 비스-(4-머캅토메틸페닐)에테르와 같은 디티올로부터 유도된 디-S-글리시딜 유도체인 폴리-(S-글리시딜)화합물.
V) 비스-2,3-에폭시시클로펜틸)에테르, 2,3-에폭시시클로펜틸글리시딜에테르, 1,2-비스-(에폭시시클로펜틸옥시)에탄 또는 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3',4'-에폭시시클로헥산카르복실레이트와 같은 시클로지방족 에폭시수지.
그러나 1,2-에폭시드기가 다른 헤테로원자 및 관능기에 결합된 에폭시 수지 를 이용할 수 있다. 이러한 화합물의 예는 4-아미노페놀의 N,N,O-트리글리시딜 유도체, 살리실산의 글리시딜 에테르/글리시딜 에스테르, N-글리시딜-N'-(2-글리시딜옥시프로필)-5,5-디메틸히단토인 또는 2-글리시딜옥시-1,3-비스(5,5-디메틸-1-글리시딜히단토인-3-일)프로판을 들 수 있다. 2개의 에폭시기를 갖는 화합물이 특히 바람직하다.
본 발명에 따른 경화성 혼합물에는 에폭시 수지로서 액상 또는 점성의 폴리글리시딜 에테르 또는 폴리글리시딜 에스테르를 사용하는 것이 바람직하다.
저온 경화(< 5℃)에 적합한 상술한 방향족 및/또는 지방족 폴리글리시딜에테르가 바람직하다.
출발물질로 사용된 에폭시드 화합물은 공지된 것이거나 일부는 시중에서 구입할 수 있다. 또한 에폭시드 수지의 혼합물도 사용될 수 있다. 에폭시드에 대한 통상의 경화제로서 예컨대 아민, 카르복시산, 카르복시산 무수물 또는 페놀을 들 수 있다. 또한 이미다졸과 같은 촉매성 경화제도 예로 들 수 있다. 이러한 경화제는 예컨대 H. Lee, K. Neville, Handbook of Epoxy Resins, McGraw Hill Book Company, 1967, 10 내지 17 페이지에 기재되어 있다. 바람직한 경화제는 공지된 폴리아미노화합물, 특히 바람직한 것은 이소포론디아민 또는 디에틸렌트리아민과 같은 지방족 폴리아미노 화합물 및 공지된 고분자량 폴리아민이다.
사용된 경화제의 양은 경화제의 화학적 특징 및 경화성 혼합물 및 경화된 생성물의 소망하는 특징에 따라 선택한다. 최대량은 당분야의 전문가가 화학양론적 평가를 기준하여 쉽게 계산할 수 있을 것이다.
본 발명에 따른 화합물의 용도에 적합한 폴리우레탄 계는 예컨대 Kunststoff Handbuch Nr. 7, "Polyurethane" (Verlag Carl Hanser 1983)에 기재되어 있다(2.2장, 페이지 12 내지 19). 제시된 촉매(3.41장, 92 페이지 아래)는 본 발명에 따른 촉진제에 의해 부분적으로 또는 전체적으로 대체될 수 있다.
에폭시드 또는 폴리우레탄 성분과 본 발명에 따른 촉진제와 같은 경화제의 혼합물의 제조는 상기 성분을 손으로 혼합하거나 또는 교반기, 혼련기 또는 로울러와 같은 공지된 혼합기를 사용하여 혼합하는 공지 방식으로 실시할 수 있다. 용도에 따라서 충전제, 안료, 염료, 균염제 또는 용융제와 같은 유용한 부가물을 상기 혼합물에 부가할 수 있다. 상업적으로 본 발명에 따른 수지는 원래 공지된 방식으로 2성분계로 제공될 수 있다.
실시예 1
3: 7 중량비율의 만니히 염기 디-(2,6-디메티랑미노메틸)-페놀 및 트리스-(2,4,6-트리메틸아미노메틸)-페놀의 혼합물 2407 g (26 당량) 및 2652 g (26 몰)의 디메틸아미노프로필아민을 환류냉각기 및 교반기를 구비한 가열가능한 유리용기에 장입하고 교반하에서 120℃로 가열하였다. 아미노 전이반응의 결과로 유리된 디메틸아민(비점 9℃)을 환류 냉각기를 통하여 제거하고, -78℃에서 축합시키고 측정하였다. 약 4시간 후 화학양론적으로 유효한 디메틸아민의 70몰%가 유리되었다. 이때 1253 g(12.28 몰)의 디메틸아미노프로필아민을 제공하였다. 이 상태에서 반응혼합물의 냉각을 통하여 반응을 중단시켰다. 수득한 반응혼합물을 증류장치에 제공하였 다(가열자켓 온도: 90℃). 냉각기를 -22℃로 냉각시켰다. 배기된 장치의 압력은 15-25 밀리바아이었다. 증류생성물인 디메틸아미노프로필아민은 무색, 투명하며 HPLC- 및 NMR 측정에 의해 100% 순수하였다. 스트리핑된 잔류물은 25℃에서 2000 mPa·s의 점도를 갖고 0.3%의 디메틸아미노프로필아민을 함유한다.
실시예 2
실시예 1에서 제조한 촉진제를 하기 표 1에 기재된 바와 같이 사용하였다. 표 1에는 종래기술에 따른 촉진제를 사용하여 얻은 결과 함께 본 발명에 따른 결과가 제시되어 있다.
Figure 112001003833349-pct00013
주: 1) 기준 = 주성분 에폭시수지 및 임의로 부가되는 첨가제
2) 기준 = 배합된 경화제
IPD = 이소포론디아민 (힐스-쉐미 아게 제품)
TMD = 트리메틸-헥사메틸렌디아민 (힐스-쉐미 아게 제품)
3) 괄호안의 값은 얻을 수 있는 최종 경화물중의 값(%)를 의미한다.
실시예 3
본 실시예에서는 아민 경화제의 양을 감소시키면 중합성 매트릭스에서 촉진제의 양이 더 많이 제공됨을 나타낸다. 상응하는 데이터는 표 2에 나타낸다.
Figure 112001003833349-pct00014
주: 1) 기준 = 주요성분 에폭시 수지 및 임의로 부가되는 첨가제
2) 기준 = 배합물
3) 부드러움 = 경화가 부족하여 측정할 수 있는 경화도를 나타내지 않음
실시예 4
본 실시예에서는 MDI(공업용 4,4'-디이소시아나토디페닐메탄, 예컨대 BASF, BAYER, DOW 제품) 및 폴리에테르폴리올로된 폴리우레탄계에서의 작용을 나타낸다.
Figure 112001003833349-pct00015

Claims (18)

  1. (a) 하나 이상의 하기 화학식(A)의 치환기에 의해 치환된 페놀성 화합물(만니히 염기)을,
    (b) 하기 화학식(B)의 화합물과 반응시키는 아미노 전이반응에 의해 제조되며, 또
    생성된 화합물 및 생성된 화합물의 혼합물이 분자당 평균 하나 이상의 화학식 (R4)(R5)N-CnH2n-(NH-CnH2n)q-NH-CH(R3)-의 치환기를 갖는 것을 특징으로 하는,
    경화성 에폭시 계 및 폴리우레탄 계에 대해 촉진제로 작용하는 화합물:
    R1(R2)N-CH(R3)- (A)
    R4(R5)N-CnH2n-(NH-CnH2n)q-NH2 (B)
    식중에서,
    R1 및 R2는 서로 독립해서 직쇄 또는 측쇄의 C1-C4 알킬이고,
    R3은 수소, 메틸, 에틸 또는 페닐이며,
    R4 및 R5는 서로 독립해서 C1-C6 알킬이거나 서로 합쳐져서 -(CH2)5- 또는 화학식 -(CH2)2-O-(CH2)2-의 기를 형성하고,
    n은 2 내지 5의 정수이고, 또
    q는 0, 1, 2 또는 3임.
  2. 제1항에 있어서, 상기 아미노 전이반응에서 만니히 염기로서 저분자 디-알킬아미노메틸 치환된 페놀, 오르토-, 메타- 및 파라-크레졸, 크실렌올의 이성질체, 파라-t-부틸페놀, 파라-노닐페놀, α-나프톨, β-나프톨, 디페놀, 폴리페놀 또는 노볼락으로 표시되는 페놀과 포름알데히드의 축합물이 사용되는 것을 특징으로 하는 화합물.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 아미노 전이반응에서 만니히 염기로서 치환된 페놀 또는 크레졸이 사용되는 것을 특징으로 하는 화합물.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, R1 및 R2는 서로 독립해서 메틸 또는 에틸이고, 또 R3은 수소, 메틸 또는 에틸인 것을 특징으로 하는 화합물.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서, 치환기(A)가 디-C1-C4 알킬아미노메틸인 것을 특징으로 하는 화합물.
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서, 만니히 염기로서 하기 화학식(I), (IIa), (IIb) 또는 (III)의 치환된 페놀 또는 상기 화합물의 혼합물이 사용되는 것을 특징으로 하는 화합물:
    Figure 112006010668708-pct00016
    (I)
    Figure 112006010668708-pct00017
    (IIa)
    Figure 112006010668708-pct00018
    (IIb)
    Figure 112006010668708-pct00019
    (III)
    식중에서, R1 및 R2는 제1항에서 정의된 바와 같음.
  7. 제1항 또는 제2항에 있어서, R4 및 R5는 서로 독립해서 C1-C4 알킬이고; n은 2, 3 또는 4이고, 또 q는 0 또는 1인 것을 특징으로 하는 화합물.
  8. 제1항 또는 제2항에 있어서, 하기 화학식(V), (VI), (VII), (VIII), (IX) 또는 (X)의 화합물, 또는 이들 화합물의 올리고머 유도체를 포함한 상기 화합물의 혼합물로 표시되는 것을 특징으로 하는 화합물:
    Figure 112006010668708-pct00020
    (V)
    Figure 112006010668708-pct00021
    (VI)
    Figure 112006010668708-pct00022
    (VII)
    Figure 112006010668708-pct00023
    (VIII)
    Figure 112006010668708-pct00024
    (IX)
    Figure 112006010668708-pct00025
    (X)
    식중에서, 말단 질소기 잔기 R1 및 R2는 제1항에서 정의된 의미를 갖는다.
  9. 제1항 또는 제2항에 있어서, 아미노 전이 반응은 존재하는 디-C1-C4 알킬아미노 치환기의 10% 내지 100%가 화학식(B)의 화합물과 반응할 정도로 분자당 평균 하나 이상의 치환기를 갖는 만니히 염기를 화학식(B)의 화합물과 반응시키는 것에 의해 실시되는 것을 특징으로 하는 화합물.
  10. 제1항 또는 제2항에 있어서, 반응혼합물의 점도가 0.1 Pa·s 내지 100 Pa·s (25℃) 범위로 존재하도록 아미노 전이 반응이 실시되는 것을 특징으로 하는 화합물.
  11. (a) 하나 이상의 하기 화학식(A)의 치환기에 의해 치환된 페놀성 화합물(만니히 염기)을 (b) 하기 화학식(B)의 화합물과 아미노 전이반응 시키는 것에 의해 생성한 화합물 및 생성한 화합물의 혼합물이 분자당 평균 하나 이상의 화학식 (R4)(R5)N-CnH2n-(NH-CnH2n)q-NH-CH(R3)- 의 치환기를 갖는 것을 특징으로 하는, 경화성 에폭시 계 및 폴리우레탄 계에 대해 촉진제로 작용하는 제1항 또는 제2항에 따른 화합물의 제조방법:
    R1(R2)N-CH(R3)- (A)
    R4(R5)N-CnH2n-(NH-CnH2n)q-NH2 (B)
    식중에서, R1, R2, R3, R4, R5, n 및 q는 제1항 내지 제8항에서 정의한 바와 같다.
  12. 제11항에 있어서, 아미노 전이 반응이 화학식(IIa), (IIb) 또는 (III)의 화합물 또는 이들 화합물의 혼합물과 화학식(B)의 화합물을 사용하여 실시되는 것을 특징으로 하는 방법.
  13. 제11항에 있어서, 존재하는 디-C1-C4 알킬아미노 치환기의 10% 내지 100%가 화학식(B)의 화합물과 반응하도록 분자당 평균 하나 이상의 치환기를 갖는 만니히 염기를 화학식(B)의 화합물과 반응시키는 것에 의해 아미노 전이 반응이 실시되는 것을 특징으로 하는 방법.
  14. 제11항에 있어서, 반응혼합물의 점도가 0.1 Pa·s 내지 100 Pa·s (25℃) 범위로 존재하도록 아미노 전이 반응이 실시되는 것을 특징으로 하는 방법.
  15. 제11항에 따라 제조된 화합물 및 이러한 화합물의 혼합물.
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