KR100578126B1 - 웨트 스테이션 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 웨트 스테이션에 관한 것으로, 반도체 웨이퍼를 세정/식각하기 위해 액체를 저장하는 배스들과, 상기 배스들 사이를 격리하는 차단막과, 상기 차단막의 상단에 결합되는 회전축과 그리고, 상기 회전축과 연결되는 구동부를 포함하되, 상기 구동부는 상기 배스들과 이격되도록 배치하여 액체가 각종부품에 침투하는 것을 방지하는 웨트 스테이션에 관한 것이다.
웨트 스테이션, 배스, 세정, 식각, 차단막, 반도체, 웨이퍼, 화학용액

Description

웨트 스테이션{Wet Station}
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 웨트 스테이션의 구조가 간략히 도시된 사시도;
도 2는 도 1에 도시된 A부의 확대도; 그리고,
도 3은 구동부의 동작으로 인해 차단막이 회전축에 감긴 상태를 도시한 실시예이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
10 : 배스 20 : 차단막
30 : 회전축 40 : 물받이부
41a, 41b : 골 50 : 구동부
60 : 베어링 70a : 제 1센서
70b : 제 2센서 80 : 측벽
100 : 웨트 스테이션
본 발명은 웨이퍼를 세정/식각하기 위해 액체를 사용하는 웨트 스테이션에 관한 것으로, 더욱 구체적으로는 배스들 사이를 격리하는 차단막과, 이 차단막을 구동하는 구동부를 상기 배스들과 이격되도록 상부에 배치하여 액체의 침투로 인한 각종 부품의 부식을 방지하기 위한 웨트 스테이션에 관한 것이다.
반도체 소자를 제조하는 공정은 실리콘 재질의 웨이퍼의 표면 위로 확산, 사진, 식각, 박막 등의 제조공정이 반복되는 것이 일반적이며, 이러한 각 공정들 사이에서 다음 공정으로 넘어갈 때마다 탈이온수, 또는 화학용액 등의 세정액으로 씻어내는 세정공정이 요구된다.
일반적으로, 웨트 스테이션은 웨이퍼가 담겨질 수 있도록 상부면이 개방되고 화학용액으로 채워진 내ㆍ외조의 배스들과, 이러한 배스들 내에서 화학용액을 순환하기 위한 순환부 및 히터를 포함하며, 배스들 사이에는 격벽이 설치된다.
이러한 격벽은 PVC재질의 두꺼운 두께를 갖고, 웨트 스테이션 내부 즉, 배스 하부에 설치되는 공압실린더와 연결되어 배스들의 사이를 개폐하는 것이다.
그러나, 상술한 바와 같이 격벽을 상ㆍ하로 동작되도록 하는 공압실린더가 배스 하부에 설치되어 액체의 침투가 발생되고, 이로 인해 공압실린더 및 각종 부품에 부식을 초래하여 동작불능이 발생한다.
또한, 격벽이 두께를 갖고 딱딱한 재질로 구성되어 다음 공정의 진행시 웨이퍼를 운반하는 로봇과의 충돌시 충격을 받게되는 문제점도 동반하였다.
본 발명은 상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 차단막을 제어하는 모터 및 각종 부품의 부식을 방지하여 웨트 스테이션의 수명을 연장하는데 그 목적이 있다.
전술한 목적을 달성하기 위해 안출한 본 발명인 웨트 스테이션은, 반도체 웨이퍼를 세정/식각하기 위해 액체를 저장하는 배스들과, 상기 배스들 사이를 격리하는 차단막과, 상기 차단막의 상단에 결합되는 회전축과, 그리고 상기 회전축과 연결되는 구동부를 포함하되, 상기 구동부는 상기 배스들과 이격되도록 배치하므로 써, 본 발명의 목적을 달성할 수 있다.
상기 웨트 스테이션은, 상기 차단막의 하단에 결합되는 물받이부를 더 포함한다.
상기 물받이부는 길이방향으로 한쌍의 골들이 형성되고, 상기 한쌍의 골들 사이에 상기 차단막의 하단이 결합되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 웨트 스테이션은, 상기 회전축과 인접하는 위치에 설치되는 제 1센서와, 상기 배스에 인접한 위치에 설치되는 제 2센서, 그리고 상기 제 1센서와 상기 제 2센서에 의해 상기 차단막의 개폐 여부를 감지하여 상기 구동부를 제어하는 제어부를 더 구비하는 것을 특징으로 한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명인 웨트 스테이션의 바람직한 실시예를 설명하면 다음과 같다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 웨트 스테이션의 구조가 간략히 도시된 사시도이며, 도 2는 도 1에 도시된 A부의 확대도이고, 도 3은 구동부의 동작으로 인해 차단막이 회전축에 감긴 상태를 도시한 실시예이다.
첨부된 도 1및 도 3을 참조하면 본 발명에 따른 웨트 스테이션(100)은 종래와 마찬가지로 크게 구분하여 볼 때 웨이퍼가 담겨질 수 있도록 상부면이 개방되고 액체로 채워진 내조/외조의 배스(10)들과, 이러한 배스(10)들로 액체를 순환시키기 위한 순환부(도시하지 않음) 및 열을 공급하는 히터(도시하지 않음)를 포함한다.
상기 배스(10)들은 웨이퍼의 공정 진행 방향으로 나란히 배치되는 것이 일반적이며, 이러한 배스(10)들 사이에는 차단막(20)이 설치된다.
상기 차단막(20)은 개방되어진 배스(10)의 상부면을 격리하므로 써, 세정 및 식각 등의 공정 진행시 액체가 배스(10)들간에 튀이는 것을 방지하기 위한 것으로 그 표면에는 테프론 코팅이 되어 있다.
상기 차단막(20)의 상단은 회전축(30)과 결합되어 있으며, 이 회전축(30)의 양측 끝단에는 베어링(60)과 결합되고, 상기 베어링(60)은 측벽(80)에 삽입되어 고정되므로 써, 회전축(30)의 원활한 회전이 이루어지도록 하는 것이다.
또한, 상기 회전축(30)은 단면이 원형으로 써, 일측은 구동부(50)와 연결되고, 상기 구동부(50)의 동작으로 인해서 상기 차단막(20)이 상기 회전축(30)에 감기거나 풀리게 되어 상기 배스(10)들간의 상부면을 개방하거나 차단하는 것이다.
이러한 구동부(50)는 상기 측벽(80)의 상부에 설치된다. 즉, 배스(10)의 내조/외조에 담겨지는 액체들이 침투하지 않도록 상기 배스(10)들과 이격되는 높이에 설치되는 것이다.
한편, 상기 차단막(20)의 하단에는 물받이부(40)가 결합되는데, 첨부된 도 2의 A부 확대도를 참조하도록 한다.
상기 물받이부(40)의 상부 중심부에는 길이방향으로 차단막(20)이 결합되고, 상기 차단막(20) 양측으로 한쌍의 골(41a,41b)들이 형성된다.
상기 골(41a,41b)은 상기 차단막(20)과 동일한 길이방향으로 일정한 깊이를 갖도록 형성하는 것이 바람직하며, 상기 골(41a,41b)은 상기 차단막(20)의 양측단보다 연장되도록 형성된다.
상기 물받이부(20)의 하부면을 길이방향으로 절단하여 평면을 갖도록 하므로 써, 물받이부(20)가 배스(10)의 경계턱과 밀착되도록 한다.
한편, 전술한 웨트 스테이션(100)은, 차단막(20)이 상ㆍ하로 움직이는 측벽(80)에 제 1센서(70a)와 제 2센서(70b)를 설치하는데, 상기 제 1센서(70a)는 구동부(50) 및 회전축(30)과 인접한 위치에 설치되고, 상기 제 2센서(70b)는 배스(10)에 인접한 위치에 설치되어, 구동부(50)는 상기 제 1센서(70a)와 상기 제 2센서(70b)에 의해 차단막(30)의 개폐를 수행하게 된다.
이때, 상기 차단막(30)의 개폐여부는 상기 구동부(50)를 제어하는 제어부(도시하지 않음)에 의해서 동작되는데, 상기 제 1센서(70a)와 상기 제 2센서(70b)로부터 신호를 전달받은 후, 구동부(50)에 신호를 인가하여 상기 구동부(50)를 제어하므로 써, 상기 차단막(20)이 회전축(30)에 감기고 풀리게 되어 차단막(20)의 개폐가 이루어진다.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명인 웨트 스테이션(100)은, 차단막(20)을 구동하는 구동부(50) 및 제어부가 배스(10)와 이격되는 상부에 배치되므로 써, 세정 및 식각에 의한 부식을 방지하므로 써, 부품의 수명을 연장하고 차단막(20)의 두께를 얇은 재질로 구성하여 재료를 절감하였으며, 다음 공정 진행시 차단막(20)을 개폐하는 과정에서 구동부(50)의 과부하를 줄일 수 있고, 웨이퍼를 인계하는 로봇과의 충돌시 그 충격을 경감할 수 있다.
이상과 같이 본 발명인 웨트 스테이션은 다음과 같은 효과가 있다.
첫 번째, 차단막을 개폐하는 회전축과 구동부가 배스의 상부에 설치되므로 써, 세정과 식각 공정시에 쓰이는 액체의 침투를 원천적으로 차단하여 각종 부품의 부식을 방지할 수 있다.
두 번째, 차단막의 하단에는 물받이부를 결합하도록 하므로 써, 얇고 유연한 차단막의 흔들림을 방지하여 물받이부 하단과 접촉되는 배스 사이에서 액체가 모이게 되는 현상을 방지할 수 있다.
세 번째, 차단막의 하단에 결합되고, 이를 중심으로 양측에는 길이방향으로 한쌍의 골들을 형성하므로 써, 차단막에서 흐르는 액체의 흐름을 물받이부의 양측 끝으로 흐르도록 안내하였다.
네 번째, 차단막의 개폐 여부를 감지하는 제 1센서와 제 2센서를 구비하고, 이들을 제어하는 제어부로 인해 구동부의 작동여부를 제어할 수 있도록 하였다.
다섯 번째, 부드럽고 유연한 차단막은 그 표면에 테프론 코팅을 하여 차단막의 표면에 묻게되는 액체의 흐름을 원활하게 하였으며, 다음 공정 진행시에 웨이퍼를 운반하는 로봇과 충돌시 충격을 완와하였다.

Claims (5)

  1. 반도체 웨이퍼를 세정/식각하기 위해 액체를 저장하는 배스들과;
    상기 배스들 사이를 격리 및 개방하는 차단막과;
    상기 차단막의 상단에 결합되는 회전축과;
    상기 회전축과 연결되는 구동부와; 그리고,
    상기 차단막의 하단에 결합되는 물받이부를 포함하되;
    상기 차단막은 상기 회전축이 회전함에 따라 상하방향으로 이동하며;
    상기 구동부는 상기 배스들과 이격되도록 배치되는 것을 특징으로 하는 웨트 스테이션.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 물받이부는 길이방향으로 한쌍의 골들이 형성되고,
    상기 한쌍의 골들 사이에 상기 차단막의 하단이 결합되는 것을 특징으로 하는 웨트 스테이션.
  3. 제 1항 내지 제 2항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 차단막은 그 표면에 테프론 코팅된 것을 특징으로 하는 웨트 스테이션.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 웨트 스테이션은,
    상기 회전축과 인접하는 위치에 설치되는 제 1센서와;
    상기 배스에 인접한 위치에 설치되는 제 2센서; 그리고,
    상기 제 1센서와 상기 제 2센서에 의해 상기 차단막의 개폐 여부를 감지하여 상기 구동부를 제어하는 제어부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 웨트 스테이션.
  5. 반도체 웨이퍼를 세정/식각하기 위해 액체를 저장하는 배스들과;
    상기 배스들 사이를 격리 및 개방하는 차단막과;
    상기 차단막의 상단에 결합되는 회전축과;
    상기 회전축과 연결되는 구동부와;
    상기 회전축과 인접하는 위치에 설치되는 제 1센서와;
    상기 배스에 인접한 위치에 설치되는 제 2센서; 그리고,
    상기 제 1센서와 상기 제 2센서에 의해 상기 차단막의 개폐 여부를 감지하여 상기 구동부를 제어하는 제어부를 포함하되;
    상기 차단막은 상기 회전축이 회전함에 따라 상하방향으로 이동하며;
    상기 구동부는 상기 배스들과 이격되도록 배치되는 것을 특징으로 하는 웨트 스테이션.
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