KR100562173B1 - 산화티탄 콜로이드졸 및 그 제조방법 - Google Patents

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Abstract

중성에 있어서 안정적이고, 상온건조에서도 무색투명한 도막을 형성하는 중성 산화티탄 콜로이드졸은 산화티탄 콜로이드 입자 50∼100중량부와, 티탄이온에 대한 착화제 5∼50중량부를 함유하는 산성 산화티탄 졸에 가령 암모니아 화합물, 알칼리금속화합물 및 아민화합물의 1원 이상으로 되는 알칼리성물질 1∼50중량부를 첨가하여 필요에 따라 얻어진 혼합액의 pH를 5∼10으로 조절하고, 또는 상기 pH를 6∼12로 조절한 후 여기에 탈이온처리를 실시하고, 그에 따라 산화티탄 콜로이드입자를 부로 대전시키는 것에 의해 얻어진다.
산화티탄 콜로이드졸, 착화제, 알칼리성 물질, 코팅제

Description

산화티탄 콜로이드졸 및 그 제조방법{TITANIUM OXIDE COLLOIDAL SOL AND PROCESS FOR THE PREPARATION THEREOF}
본 발명은 산화티탄 콜로이드졸 및 그 제조방법에 관한 것이다. 더 상세히 말하자면, 본 발명은 주로 반도체 광매체로서 이용되는 이산화티탄의 콜로이드졸 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 산화티탄 콜로이드졸은 자외선흡수, 오염방지, 친수, 방담(防曇), 항균, 탈취 및 수처리 등의 각종 기능성 코팅제 원료로 이용할 수 있다.
종래, 유기계 도료에 비교하여 내열성, 내마모성 등에 있어서 우수한 세라믹도료로는 알칼리금속 규산염계, 인산염계, 실리카졸계, 금속산화물계 등의 도료가 알려져 있다.
이들 도료는 내열성, 내마모성이 우수하다는 등의 무기계 도료의 특징을 가지고 있으나, 근년, 세라믹피막에 다시 새로운 기능을 구비시키고자 하는 시도가 금속산화물계를 중심으로 행해지고 있다.
각종 세라믹스중에도 산화티탄은 우수한 광촉매 효과를 나타낼 수 있고, 여기에 자외선을 조사하여 높은 산화력을 발휘한다.
때문에, 광촉매 활성이 우수한 산화티탄을 금속, 유리, 세라믹 등의 피도물 표면에 존재시킴으로써 오염의 부착방지, 악취성분의 분해, 수질의 정화, 방청, 항균, 조류(藻類)의 번식방지, 난분해성 폐기물 분해의 촉진 등에 유효하다는 것이 알려져 있다.
상기 특성을 갖는 산화티탄 피막을 소재표면에 형성하는 것을 목적으로 하는 각종 산화티탄도료 및 그 제조방법이 지금까지 몇몇이 제안되어 있다.
산화티탄 피막의 형성방법으로는 티탄의 알콕시드를 가수분해한 것을 도포하는 방법, 즉, 졸-겔법이 가장 일반적이고, 이와 비슷한 기술로는 가령 특개평 4-83537호 공보에 개시된 바와같이, 티탄알콕시드에 이미드 또는 글리콜을 첨가하는 방법, 및 특개평 7-100378호 공보에 개시된 바와같이, 티탄알콕시드에 알콜아민류를 첨가하는 방법 등이 알려져 있다.
또, 상기 방법외에, 산화티탄 졸을 제조하는 방법으로는 특개평 6-293519호 공보에 개시된 바와같이, 수열처리에 의해 결정화시킨 산화티탄 미립자를 pH3이하의 산용액중에 분산시켜, 이 분산액을 도포하는 방법이 알려져 있다.
그러나, 상기 졸-겔법 및 산으로 해교 또는 분산시키는 방법은 콜로이드용액이 산성이기 때문에 금속이나 종이 등의 표면에 도포하면 이들 소재를 부식 또는 열화시키는 큰 문제점이 있었다. 또, 수지, 세라믹 또는 유리등 내산성이 양호한 소재에 도포할 경우에도 코터, 인쇄기나 스프레이 건 등 도포기기에 부식을 일으키고 또, 작업원에 대한 도포작업환경의 악화가 문제로 되어 있었다.
이들 문제점을 해결하기 위한 수단으로는 특개평 9-71418호 공보에 개시된 바와같이, 과산화수소수와 산화티탄을 함유하는 졸액 및 그 제조방법이 알려져 있다. 이 졸액은 중성으로 할 수 있는 이점을 가지고 있으나, 그러나 산화제를 함유하고 있기 때문에 금속의 부식 방지에는 효과가 적다는 것, 및 졸액이 황색으로 착색되어 있고, 가열건조하지 않으면 무색의 피막이 얻기 어려운 등의 문제점이 있었다.
발명의 개시
본 발명의 목적은 종래의 광촉매산화티탄 용액의 상기 문제점을 해결하여 중성에 있어서도 안정되고, 안전하게 코팅작업을 행할 수 있고, 상온건조에 의해서도 무색투명의 피막을 형성할 수 있는 산화티탄 콜로이드졸 및 그 제조방법을 제공함에 있다.
상기 목적은 하기 본 발명의 산화티탄 졸 및 그 제조방법에 의해 달성할 수 있다.
본 발명의 산화티탄 콜로이드졸은 50∼100중량부의 부로 대전하고 있는 산화티탄 콜로이드입자와, 5∼50중량부의 착화제와, 1∼50중량부의 알칼리성 물질을 함유하는 것이다.
본 발명의 산화티탄 졸은 5∼10의 pH를 갖는 것이 바람직하다.
본 발명의 산화티탄 콜로이드졸의 제조방법(1)은 50∼100중량부의 산화티탄 콜로이드 입자 및 5∼50중량부의 착화제를 함유하는 산성산화티탄 콜로이드졸에 알칼리성 물질을 첨가하여 졸액의 pH를 5∼10으로 조정하여 그에 따라 상기 산화티탄 콜로이드 입자를 부로 대전시키는 것을 포함하는 것이다.
본 발명의 산화티탄 콜로이드졸의 제조방법(2)는 50∼100중량부의 산화티탄 콜로이드 입자 및 5∼50중량부의 착화제를 함유하는 산성산화티탄 콜로이드졸에 알칼리성 물질을 첨가하여 졸액의 pH를 6∼12로 조정하여, 다시 이 졸액에 탈이온 처리를 실시하여 그에 따라 상기 산화티탄 콜로이드 입자를 부로 대전시키는 것을 포함하는 것이다.
발명을 실시하기 위한 최량의 형태
본 발명자들은 우선 염화티탄 및 황산티탄 등의 무기 타탄염 또는 티탄알콕시드를 산성으로 물과 반응시켜서 가수분해하고, 이산화티탄 콜로이드 용액을 조제하고, 다음에 이 산화티탄의 산성 콜로이드졸의 대전거동에 대하여 분석하였다. 그 결과, 산성에 있어서는 산화티탄 콜로이드 입자가 안정된 정전하를 띄고 있으나, 이것을 알칼리용액으로 중화해가면 pH가 3∼5의 범위내에서는 산화티탄 콜로이드 입자는 거의 전하를 상실하고, 콜로이드입자가 현저히 불안정하게 되고, 이것이 강하게 응집하여 재분산하기 어려워지고, 또 알칼리성을 강하게하면 상기 응집한 산화티탄 콜로이드 입자는 부로 대전하는 것이 확인되었다.
그래서, 본 발명자들은 산화티탄 콜로이드입자에 중성영역에서도 안정된 전하와 양호한 분산성을 구비시키는 방법에 대하여 검토를 거듭하였다.
그 결과, 산화티탄 산성 콜로이드졸액에 알칼리금속의 수산화물, 또는 암모니아 수용액을 첨가하여 졸액의 pH를 알칼리성 영역으로 하여도 산화티탄 콜로이드 입자는 강하게 응집하여 재분산이 불가능해지고, 슬러리상의 현탁액이 되어 버리는 현상이 확인되고, 이 현상의 원인은 졸액중에 존재하는 Ti4+이온이 교질상의 수산화티탄을 생성하고, 이것이 이산화티탄 입자끼리를 결합시키는 것, 및 중성부근에 있어서의 콜로이드 입자의 부대전이 약하기 때문에 입자간의 반발력이 작은 것에 있다는 것을 발견하였다.
또한, 미리 산성산화티탄 콜로이드졸에 Ti4+이온과 착체를 형성가능한, 다가 카르복실산, 히드록시카르복실산, 및 피로인산 등과 같은 축합인산 등에서 선택된 착화제를 첨가하여 산화티탄 콜로이드 입자표면을 표면개질한 후, 이 콜로이드졸액에 암모니아수, 모르폴린 등의 알칼리성분을 첨가하여 콜로이드졸액의 pH를 상승시켜서 소망치로 조정함으로써 산화티탄 콜로이드입자를 부로 대전시킬 수 있다는 것, 및 중성∼알칼리성의 pH영역에 있어서, 산화티탄 콜로이드 입자의 부전하에 의해 안정되게 분산한 산화티탄 콜로이드졸이 얻어진다는 것, 및 이 졸을 피처리물에 도포함으로써 상온건조에 의해서도 무색투명하고 우수한 밀착성을 갖는 이산화티탄 피막이 얻어진다는 것이 발견되었다.
또한, 산화티탄 졸의 조성으로서 부대전의 산화티탄 콜로이드 입자성분과, 상기 착화제와, 알칼리성 성분을 함유하는 중성 졸이 양호환 안정성과 분산성을 가지고, 상기 소망성능을 만족한다는 것이 발견되었다.
또, 상기 조성의 산화티탄 졸의 제조방법에 대하여 다시 검토한 결과, 산화티탄 콜로이드 입자 성분과 착화제 성분을 함유하는 졸에 알칼리성 물질을 가하여 졸액을 가하여 졸액을 중성∼알칼리성으로 하고, 또, 이 액을 투석이나 이온교환수 지 처리 등의 탈이온처리에 제공함으로써 불순물이 더 적은 산화티탄졸이 얻어진다는 것이 발견되어 거기에 의거하여 본 발명이 완성되었다.
본 발명의 산화티탄 졸은 50∼100중량부의 산화티탄 콜로이드 입자를 함유하는 것이고, 또 이 산화티탄 콜로이드 입자는 중성졸 용액중에 있어서 부로 대전해 있다. 중성영역에서 산화티탄 콜로이드 입자가 정으로 대전하고 있으면 콜로이드입자의 분산이 불안정하게 된다. 입자대전의 정부는 제타전위측정장치에 의해 쉽게 알 수 있다.
본 발명에 사용되는 산화티탄의 종류는 아나타제형 이산화티탄(메타티탄산을 포함한다), 오르토티탄산 및 루틸형 등, 다른 이산화티탄을 사용할 수 있으나 이들중에서 아나타제형 이산화티탄(메타티탄산을 포함한다)및 오르토티탄산을 사용하는 것이 가장 바람직하다.
본 발명에 있어서, 산화티탄 콜로이드입자의 입경에는 특히 한정은 없으나 일반적으로 1nm∼500nm가 바람직하고, 3∼120nm가 더욱 바람직하다.
본 발명에 있어서, 이산화티탄 콜로이드 입자는 염화티탄, 옥시염화티탄, 황산티탄 및 황산티타닐 등의 무기티탄 화합물의 적어도 1종을 물에 용해하여 필요에 따라 염산 또는 질산등을 촉매로 첨가하고 상온 또는 가열에 의해 가수분해 함으로써 얻어진다. 또, 다른 이산화티탄 콜로이드입자 조제방법으로서 티타늄알콕시드, 티탄늄아세틸아세토네이트 등의 유기티탄화합물의 가수분해법을 사용할 수 있다. 상기 방법에 의해 산성용액중에 형성된 산화티탄 콜로이드 입자는 정으로 대전해 있기 때문에 이 졸액에 알칼리성분을 첨가하여 졸액의 pH를 6이상으로 조정할 때에 졸액중에 착화제를 첨가함으로써 이산화티탄 입자를 부로 대전시키는 것이 필요하다.
또, 본 발명의 산화티탄 졸중에는 착화제가 5∼50중량부의 비율로 함유되는 것이 필요하다. 본 발명에 있어서 사용되는 착화제는 킬레이트성 화합물을 포함하고, 이 킬레이트성 화합물로는 그 분자골격중에 적어도 1개의 카르복실기가 함유되어 있는 것이 바람직하고, 게다가 Ti4+이온에 대하여 킬레이트 효과를 갖는 것이 바람직하다. 바람직한 킬레이트성 화합물은 다가카르복실산 및 히드록시카르복실산, 가령 글루콘산, 글리콜산, 유산, 타르타르산, 시트르산, 말산 및 숙신산 등 및 축합인산, 가령 피로인산 및 트리폴리인산 등 및 그 염이고, 가장 바람직한 착화제는 상기 축합인산, 특히 피로인산 및 트리폴리인산이다.
본 발명의 산화티탄 콜로이드졸 중에는 착화제 외에 1∼50중량부의 알칼리성 물질이 함유될 필요가 있고, 또 졸액의 pH가 5∼9범위로 조정되어 있는 것이 바람직하다. 알칼리성 물질은 졸액중에 잔존해 있는 염산이온 또는 황산이온 등의 산성이온을 중화하여 이산화티탄 콜로이드 입자에 의해 안정된 부전하를 주기 위하여 유효하다.
본 발명의 산화티탄 콜로이드졸에 사용되는 알칼리성 물질은 암모늄 화합물, 알칼리금속 화합물 및 아민류중에서 선택된 적어도 1종을 함유하는 것이 바람직하고, 가령 수산화암모늄(암모니아수), 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화리튬, 규산나트륨, 및 에틸렌디아민 및 트리에틸렌테트라민 등의 폴리아민 등을 사용할 수 있 다. 또, 바람직한 알칼리성 물질로서, 모르폴린 등의 옥사진, 피페리딘 및 콜린을 사용할 수 있다. 본 발명의 이산화티탄 콜로이드졸을 코팅제로 사용할 경우는 코팅층의 소성에 있어, 이 코팅층에서 휘발되기쉬운 옥사진, 피페리딘, 수산화암모늄, 트리에탄올아민 등의 저분자량 아민을 사용하는 것이 바람직하다.
착화제 및 알칼리성 물질로는 가령 피로인산암모늄 유산암모늄 및 타르타르산수소 콜린 등과 같이 착화제 및 알칼리성 물질의 양 성능을 겸비하고 있는 화합물을 사용하여도 된다.
본 발명의 산화티탄 콜로이드졸 중에 함유되는 기타성분으로는 사용한 티탄원료에 유래하는 염소이온, 황산이온, 및/또는 알콜등이 함유될 수 있으나, 잔여성분은 실질상 물로 되는 것이다. 본 발명의 이산화티탄 콜로이드졸을 코팅제로 사용할 경우는 보조용제로서 물의 일부를 알콜, 글리콜, 케톤 등의 수용성 용제로 치환하는 것도 바람직하다. 또, 이 경우, 실리카졸이나 알킬트리메톡시실란 등의 실란유도체 등을 바인더로서 첨가하여 도막물성을 개선시키는 것도 가능하다.
본 발명방법 (1) 및 (2)에 있어서, 산화티탄 콜로이드입자의 중량에 대한 착화제 중량비가 과소하면 콜로이드입자의 분산이 불충분하고, 안정된 졸을 얻을 수 없다. 또, 착화제의 중량비가 과대하면 얻는 도막의 경도가 저하되므로 바람직하지 않다. 또, 알칼리성물질의 비율이 과대하면 도막경도가 저하하고, 또는 알루미늄, 아연 등의 금속에 대하여 부식성을 보이기 때문에 바람직하지 않고, 또 그것이 과소할 경우는 졸액이 산성이 되므로 바람직하지 않다.
본 발명의 산화티탄 콜로이드졸 제조방법(1)에 있어서, 50∼100중량부의 산 화티탄 콜로이드입자와 5∼50중량부의 착화제를 함유한 산성 산화티탄 졸에 알칼리성물질을 첨가하여 졸액의 pH를 5∼10으로 조정하여 그에 따라 산화티탄 콜로이드 입자를 부로 대전시키는 것이다.
본 발명방법 (1) 또는 (2)에 있어서 사용되는 산성 산화티탄 졸은 염화티탄, 옥시염화티탄, 황산티탄 및 황산티타닐 등에서 선택된 1종 이상의 무기티탄화합물을 물에 용해하여 여기에 필요에 따라 염산 및/또는 질산으로 또는 촉매를 첨가하여 상온 또는 가열에 의해 가수분해함으로써 얻어진다. 또는 산화티탄 콜로이드 입자는 티타늄알콕시드, 또는 티타늄아세틸아세토네이트 등의 유기티탄 화합물을 가수분해함으로써도 얻을 수 있다.
본 발명방법 (1) 또는 (2)에 사용되는 착화제는 바람직하게는 다가카르복실산, 및 히드록시카르복실산 등과 같이 분자골격중에 적어도 1개의 카르복실기를 갖는 킬레이트성 화합물, 가령 글루콘산, 글리콜산, 유산, 타르타르산, 시트르산, 말산 및 숙신산 등, 및 피로인산 및 트리폴리인산 등의 축합인산 및 그들의 염에서 선택할 수 있다.
본 발명의 산화티탄 졸의 제조방법 (1) 및 (2)에 있어서 사용되는 알칼리물질로는 수산화암모늄 등의 암모늄화합물, 에탄올아민 등의 아민류, 모르폴린 등의 옥사진, 피페리딘 및 콜린 등을 사용하는 것이 바람직하다. 산화티탄 콜로이드졸이 코팅제로 사용될 때는 알칼리금속의 수산화물은 비교적 바람직하지 않다. 알칼리성 물질의 첨가량은 졸액의 pH가 5∼10의 범위가 되는 양이다. 알칼리성 물질의 첨가에 의해 산화티탄 콜이드졸 중의 이산화티탄 콜로이드 입자는 부로 대전한다.
본 발명의 제조방법 (1)에 있어서 알칼리성 물질을 첨가하기 전에 이산화티탄 콜로이드 입자와 착화제와의 혼합액중에 다시 에폭시실란 또는 메틸실란 등의 실란유도체 또는 그 부분가수분해생성물을 첨가해 두면 알칼리성물질의 첨가에 의해 얻는 산화티탄 콜로이드입자의 전하를 더욱 안정화하고, 이를 코팅제로 사용할 경우의 도공성도 향상할 수 있다.
본 발명의 제조방법 (2)에 있어서 사용되는 산화티탄 콜로이드입자 및 착화제는 본 발명의 상기 제조방법(1)에 사용되는 산화티탄 콜로이드입자 및 착화제와 같은 것을 사용할 수 있다. 한편, 본 발명의 제조방법(2)에 사용되는 알칼리성물질은 상기 본 발명방법(1)에 사용되는 알칼리성물질과 같은 것을 사용할 수 있으나, 수산화나트륨, 수산화칼륨 및 수산화리튬등의 알칼리 금속화합물의 사용도 바람직하다.
본 발명의 제조방법(2)에 있어서, 알칼리성 물질은 졸액의 pH를 6∼12, 바람직하게는 7∼9까지 상승시킴에 필요한 양으로 첨가된다. 알칼리성 물질 첨가후의 졸액의 pH가 6미만일 경우, 콜로이드입자의 분산이 불충분하게 되고, 또 졸액의 pH가 12를 넘으면 얻는 산화티탄 콜로이드졸은 거기에 접촉하는 금속재료에 대하여 강한 부식성을 나타내기 때문에 바람직하지 않다.
본 발명의 제조방법(2)에서는 알칼리성물질을 첨가한후, 다시 이 졸액에 탈이온처리를 실시하여 졸액중의 잉여 이온을 제거한다.
상기 탈이온처리의 방법은 반투막에 의한 확산투석, 이온교환막에 의한 전기투석, 또는 이온교환 수지와의 접촉처리를 사용하는 것이 바람직하고, 이 탈이온처리를 실시함으로써 산화티탄졸 중의 알칼리이온 및 산성아니온 등의 협잡이온이 제거되고, 산화티탄의 순도를 높이고, 더욱 실용적으로 도막성능이 높은 졸을 얻을 수 있다. 탈이온처리에 의해 산화티탄 콜로이드졸의 pH는 5∼9가 되는 것이 바람직하고, 6∼8.5가 되는 것이 바람직하다.
피처리물에 본 발명의 산화티탄 콜로이드졸을 도포할 경우, 그 도포량은 이산화티탄 부착량으로서 200∼2000mg/㎡가 되도록 조정하는 것이 바람직하다. 도포량의 건조는 가열건조만이 아니라 실온으로 건조할 수도 있다. 착화제로서 카르복실산 등의 유기화합물이 사용되고, 또 100℃이하의 온도로 건조시킬 경우는 도포충의 건조중 또는 건조후에 얻은 도포층에 파장 400nm미만이 자외선을 조사하여 착화제를 분산시키는 것이 바람직하다.
본 발명의 부 대전 산화티탄 콜로이드졸은 카르복실기를 갖는 킬레이트성 화합물, 및/또는 축합인산 또는 그 염을 함유하는 착화제에 의해 종래의 산성 산화티탄 졸중에 미반응성분으로서 잔존해 있던 4가 티탄이온을 마스킹하여 그에 의해 산화티탄 콜로이드 입자가 중성영역에 있어서의 겔화 석출하는 것을 방지하고 또 산화티탄 콜로이드입자에 흡착한 착화제에 대전한 부전하가 정으로 대전해 있는 산화티탄 콜로이드입자를 중화하고, 또 부로 대전되는 작용을 나타내고, 따라서, 안정된 중성산화티탄 졸이 얻어진다. 산화티탄 콜로이졸의 도막형성후에는 거기에 함유되는 유기 킬레이트제는 이산화티탄의 광촉매효과에 의해 물과 탄산가스로 분해되고, 따라서 그것이 해작용을 미치는 일은 없다.
또, 유기클레이트제의 카르복실기의 산성 및 이산화티탄 제조원료에 유래하 는 Cl-, SO4 2-등의 협잡산성 아니온에 의한 산성은 암모늄, 아민류, 알칼리금속, 옥사진 및 피페리딘 등의 알칼리성 물질의 첨가에 의해 중화되고, 산화티탄 콜로이드졸을 완전히 중성의 졸로 할 수 있다.
본 발명의 부 대전 산화티탄 콜로이드졸을 착화제를 함유하는 산성 산화티탄 졸에 상기 알칼리성 성분을 첨가함으로써 제조가능하나, 여기에 또, 가령 반투막에 의한 투석등의 방법으로 탈이온처리를 실시함으로써 더욱 양질의 산화티탄 콜로이드졸을 얻을 수 있다.
본 발명을 하기 실시예에 의해 다시 설명하나, 본 발명은 이들 실시예로 아무런 제약을 받는 것은 아니다.
실시예 1∼18 및 비교예 1∼4
실시예 1∼18 및 비교예 1∼4에 있어서, 하기 재료가 사용되었다.
(1) 산화티탄 콜로이드
하기 2종류(A,B)중 어느 하나를 사용하였다.
A) 비교예 1, 비교예 2, 실시예 1∼7, 실시예 12, 실시예 14 및 실시예 16∼18에 있어서는 산화티탄 콜로이드로서 하기 방법에 의해 조제한 것을 사용하였다.
스미토모 시틱스(주)제 염화티탄수용액(Ti: 15∼16중량%)을 물로 희석하여 이온교환막으로 탈이온처리하여 옥시염화티탄 수용액을 조제하고, 이것을 70∼85℃의 온도로 가열하여 가수분해하고, pH 1∼2의 이산화티탄 콜로이드졸을 얻었다. 투 과형 전자현미경으로 측정된 이산화티탄 결정 입자경은 0.002∼0.01㎛이었다. 이 콜로이드졸중의 산화티탄 콜로이드입자의 건조중량 농도는 5.0%였다.
B) 비교예 3, 비교예 4, 실시예 8∼11, 실시예 13 및 실시예 15에서는 니혼아에로질(주)제 이산화티탄 분체 입자(입자경: 0.02㎛, 아나타제+루틸혼합형)를 수중에 분산하고, 염산을 첨가하여 분산액의 pH를 1.5로 조정하여 얻은 이산화티탄 콜로이드졸을 사용하였다.
(2) 착화제
착화제로는 글루콘산, 글리콜산, 유산, 타르타르산, 시트르산, 말산, 피로인산, 및 트리폴리인산중에서 표 1, 2에 나타낸 바와 같이 선택하여 사용하였다. 이들 약품은 와코순약(주)제 시약 1급품을 사용하였다.
(3) 알칼리성 물질
암모니아수(수산화암모늄), 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화리튬, 트리에탄올아민, 트리에틸렌테트라민, 몰르폴린(테트라히드로-1,4-옥사진), 피페리딘, 및 콜린중에서 표 1, 표 2에 나타낸 것과 같이 선택하여 사용하였다. 이들 약품은 시약 1급품 또는 상당품을 사용하였다.
표 1 및 표 2에, 비교예 및 실시예에서 사용된 산화티탄 콜로이드졸의 조성을 표시한다.
얻어진 졸에 대하여 제타전위 측정장치에 의해 산화티탄 입자의 하전의 정부를 측정하였다.
또, 각 졸을 알루미늄, 산성지, 아연도금강판 또는 스텐레스판으로 되는 기 재 표면에 바코터로 10ml/㎡의 도포량으로 도포하고, 80℃로 건조하여 얻은 도막의 외관품질 및 광촉매활성(지방산분해속도: 단위; mg/㎡·day)을 측정하였다.
기재로는 비교예 1, 실시예 1, 실시예 5, 실시예 7, 실시예 8, 실시예 13 및 실시예 17에서는 알루미늄합금을 사용하고, 비교예 2, 실시예 3 및 실시예 6에서는 산성지를 사용하고, 비교예 3, 실시예 2, 실시예 11 및 실시예 12에서는 아연도금강판을 사용하고, 비교예 4, 실시예 4 및 실시예 9, 10에서는 강판을 사용하고, 실시예 14 및 실시예 16은 스텐레스강판(SUS 304)을 사용하였다. 또한, 실시예 15 및 실시예 18에서는 폴리에스테르필름에 실리콘수지 프라이머를 도포한 것을 기재로서 사용하였다.
원료산화티탄 졸로는 상기 산성졸 A) 또는 B)를 사용하였다. 비교예 1에 있어서는 착화제를 첨가하지 않고 알칼리성 물질을 첨가하여 졸액의 pH를 7에서 8로 조정하였다. 또, 비교예 2, 비교예 4, 실시예 1∼4, 실시예 8∼9 및 실시예 12∼15에 있어서는 산성졸에 착화제를 첨가하고 다음에 알칼리성 물질을 가하여 그 pH치를 표 1에 나타낸 pH치로 각각 조정하였다.
또한, 비교예 3, 실시예 5∼7, 실시예 10∼11에 있어서는 산성졸 A) 또는 B)를 사용하여 여기에 착화제를 첨가하고 또 알칼리성 물질을 졸액의 pH가 6∼12가 되기 까지 첨가하여 산화티탄 입자를 분산시켰다. 또한 실시예 5, 실시예 6, 실시예 10 및 실시예 16∼18에 있어서는 얻은 산화티탄 콜로이드졸액을 반투막(셀로판막)을 사용하여 탈이온수 중에서 24시간 확산투석하였다. 또한, 실시예 7, 실시예 11 및 실시예 18에 있어서는 졸액을 확산투석 대신 아니온교환수지 및 캐티온 교환 수지가 든 컬럼을 통과시켜서 여기에 탈이온 처리를 실시하였다.
도막성능 평가는 하기의 시험법 및 평가기준에 의해 행하였다.
(도포외관)
녹발생 유무 또는 변색유무에 대하여 육안관찰하여 양호 및 불량의 2단계로 평가하였다.
(밀착성)
도막의 밀착성에 대하여 JIS-K 5400 바둑눈 테이프법 도막부착성 시험에 준하여 도막의 밀착성을 양호, 다소불량, 불량의 3단계로 판정하였다.
(피막경도)
JIS-K5400연필 세게긁기 시험용 연필로 도막을 세게긁어, 경도를 연필경도로 측정하였다(종이 이외의 기재에 대하여 평가).
(광촉매활성)
시험편상에 도막을 도포 건조한 시험편에 대하여 스테아린산을 에탄올에 희석하여 도포하고, 20W블랙라이트로 자외선을 24시간 조사하고, 조사전후의 중량차에서 24시간당 지방산 분해속도(단위: mg/㎡·day)를 구하였다.
실시예 1∼18 및 비교예 1∼4의 산화티탄 콜로이드졸의 조성 및 도막성능을 표 1 및 표 2에 표시한다.


Figure 112000015658346-pct00001
Figure 112003037383359-pct00003
표 1 및 표 2로 분명한 바와같이, 종래의 산화티탄 졸 또는 그 제조방법에 의한 비교예 1∼4의 산화티탄 졸은 부식이나 열화되기 쉬운 소재에 대하여 만족할 만한 도장성능을 얻을 수 없었다. 본 발명에 관한 실시예 1∼18의 산화티탄졸 및 산화티탄 졸의 제조방법에 따르면, 모두 양호한 도장성능이 얻어졌다.
상기로 상세하게 설명한 바와같이 본 발명의 티탄콜로이드졸은 부식되기 쉬운 금속소재나 열화되기 쉬운 유기소재와 같이, 종래에는 그 사용이 곤란하다고 하던 기재에 대해서도 그 코팅제로서의 사용이 가능한, 안정적이고 양호한 분산성을 갖는 중성의 광촉매 산화티탄 졸이고, 이 산화티탄 콜로이드졸을 오염분해, 자외선흡수, 살균, 가스분해나 수질정화 등의 각종 목적에 응용할 경우도 넓은 범위의 소재에 적용할 수 있게 되고, 작업환경이나 안전면에서의 문제도 해결된다. 따라서, 본 발명의 산화티탄 콜로이드졸 및 그 제조방법은 실용상 높은 평가를 갖는 것이다.

Claims (12)

  1. 50∼100중량부의 부로 대전하고 있는 산화티탄 콜로이드입자와, 5∼50중량부의 착화제와, 1∼50중량부의 알칼리성 물질을 함유하는 산화티탄 콜로이드졸로서, 상기 착화제는 적어도 1개의 카르복실기를 갖는 킬레이트성 화합물, 축합인산 및 축합인산염으로 구성되는 군에서 선택된 적어도 1종을 포함하고, 상기 알칼리성 물질은 암모늄 화합물, 알칼리금속 화합물 및 아민 화합물로 구성되는 군에서 선택된 적어도 1종을 포함하는 것을 특징으로 하는 산화티탄 콜로이드졸.
  2. 제 1 항에 있어서, 산화티탄 졸의 pH가 5∼10 것을 특징으로 하는 산화티탄 콜로이드졸.
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 제 1 항에 있어서, 상기 알칼리성 물질을 위한 아민 화합물이 옥사진, 피페리딘 및 콜린 화합물 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 산화티탄 콜로이드졸.
  7. 50∼100중량부의 산화티탄 콜로이드 입자와, 적어도 1개의 카르복실기를 갖는 킬레이트성 화합물, 축합인산 및 축합인산염에서 선택된 적어도 1종을 포함하는 5∼50중량부의 착화제를 함유하는 산성산화티탄 콜로이드졸에, 암모늄 화합물, 알칼리금속 화합물 및 아민 화합물 중에서 선택된 적어도 1종을 함유하는 알칼리성 물질을 혼합하여 졸의 pH를 5∼10으로 조정하고, 그에 따라 상기 산화티탄 콜로이드입자를 부로 대전시키는 것을 특징으로 하는 산화티탄 콜로이드졸의 제조방법.
  8. 50∼100중량부의 산화티탄 콜로이드입자와, 적어도 1개의 카르복실기를 갖는 킬레이트성 화합물, 축합인산 및 축합인산염에서 선택된 적어도 1종을 포함하는 5∼50중량부의 착화제를 함유하는 산성 산화티탄 콜로이드졸에, 암모늄 화합물, 알칼리금속 화합물 및 아민 화합물 중에서 선택된 적어도 1종을 함유하는 알칼리성물질을 혼합하여 졸액의 pH를 6∼12로 조정하고, 또한 이 졸액에 탈이온처리를 실시하여 그에 따라 상기 산화티탄 콜로이드입자를 부로 대전시키는 것을 특징으로 하는 산화티탄 콜로이드졸의 제조방법.
  9. 삭제
  10. 삭제
  11. 삭제
  12. 제 7 항 또는 제 8 항에 있어서, 상기 알칼리성 물질을 위한 아민 화합물이 옥사진, 피페리딘 및 콜린 화합물 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 산화티탄 콜로이드졸의 제조방법.
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Families Citing this family (70)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6846460B1 (en) 1999-01-29 2005-01-25 Illumina, Inc. Apparatus and method for separation of liquid phases of different density and for fluorous phase organic syntheses
ATE464876T1 (de) * 1999-07-02 2010-05-15 Mitsubishi Gas Chemical Co Zusammensetzungen für die zahnbleiche und verfahren zur bleiche von verfärbten zähnen
JP3749641B2 (ja) * 1999-11-11 2006-03-01 株式会社日本触媒 光触媒粉体及び光触媒膜の製造方法
FR2803224B1 (fr) * 1999-12-30 2002-09-27 Rhodia Chimie Sa Dispersion colloidale aqueuse a base d'au moins un compose d'un metal et d'un complexant, procede de preparation et utilisation
JP4647803B2 (ja) * 2000-04-21 2011-03-09 昭和電工株式会社 光触媒粉体の製造法
RU2179954C1 (ru) * 2000-06-22 2002-02-27 Стремилова Нина Николаевна Композиция для очистки природных и сточных вод и способ получения композиции для очистки природных и сточных вод (варианты)
KR20000063580A (ko) * 2000-07-25 2000-11-06 김종호 박막용 산화티탄 광촉매의 제조 방법
JP4486233B2 (ja) * 2000-08-23 2010-06-23 レンゴー株式会社 触媒含有機能材およびその製造方法
JP4557197B2 (ja) * 2000-11-01 2010-10-06 多木化学株式会社 光触媒組成物及びその製造方法
JP4521795B2 (ja) * 2000-11-08 2010-08-11 多木化学株式会社 酸化チタンゾル組成物
FR2816610B1 (fr) * 2000-11-10 2003-08-15 Rhodia Chimie Sa Dispersion aqueuse de dioxyde de titane, substrat obtenu a partir de cette dispersion et procede d'autonettoyage dudit substrat
WO2002049963A1 (fr) * 2000-12-19 2002-06-27 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Compose de titane, solution aqueuse contenant du titane, et procede de production de cette derniere
US7060643B2 (en) * 2000-12-28 2006-06-13 Showa Denko Kabushiki Kaisha Photo-functional powder and applications thereof
TW575523B (en) * 2001-05-22 2004-02-11 Kansai Paint Co Ltd Inorganic film-forming coating composition and inorganic film-forming method by use of the same
WO2003008079A2 (en) * 2001-07-18 2003-01-30 University Of Massachusetts Metal oxide films
TWI240700B (en) * 2001-07-19 2005-10-01 Sumitomo Chemical Co Ceramics dispersion liquid, method for producing the same, and hydrophilic coating agent using the same
US20050061205A1 (en) * 2001-08-10 2005-03-24 Nihonkoken Kougyo Kabushiki Kaisha Titanium oxide composition having high brilliant color, composition comprising coating and cosmetic composition, and method for their preparation
KR20010099352A (ko) * 2001-09-21 2001-11-09 최명식 광촉매 도료가 코팅된 자동차 유리
JP4521801B2 (ja) * 2001-09-25 2010-08-11 多木化学株式会社 有機溶媒分散型酸化チタンゾル及びその製造方法
JP3822479B2 (ja) 2001-10-10 2006-09-20 株式会社カネカ 還元型補酵素ｑ水溶液の安定化組成
EP1449891B1 (en) * 2001-10-30 2008-01-09 Kansai Paint Co., Ltd. Coating composition for forming titanium oxide film, process for forming titanium oxide film and metal substrate coated with titanium oxide film
US7378371B2 (en) 2001-12-21 2008-05-27 Show A Denko K.K. Highly active photocatalyst particles, method of production therefor, and use thereof
JPWO2003053576A1 (ja) 2001-12-21 2005-04-28 昭和電工株式会社 高活性光触媒粒子、その製造方法及びその用途
US7414009B2 (en) 2001-12-21 2008-08-19 Showa Denko K.K. Highly active photocatalyst particles, method of production therefor, and use thereof
WO2004000923A1 (en) * 2002-06-24 2003-12-31 The Procter & Gamble Company Food package
DE10229761B4 (de) * 2002-07-03 2004-08-05 Degussa Ag Wässerige Dispersion, enthaltend pyrogen hergestellte Metalloxidpartikel und Phosphate, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung
ATE442467T1 (de) * 2002-07-09 2009-09-15 Leibniz Inst F R Neue Material Substrat mit photokatalytischer tio2-schicht
US7449245B2 (en) * 2002-07-09 2008-11-11 Leibniz-Institut Fuer Neue Materialien Gemeinnuetzige Gmbh Substrates comprising a photocatalytic TiO2 layer
KR20040073070A (ko) * 2003-02-13 2004-08-19 한국생산기술연구원 금속 콜로이드 용액의 제조 방법
KR100541750B1 (ko) * 2003-04-03 2006-01-10 (주)선한엠엔티 중성 이산화티탄 콜로이드 용액, 그것의 제조방법 및그것을 포함하는 코팅제
TW592837B (en) * 2003-04-25 2004-06-21 Chung Shan Inst Of Science Photo-catalyst-coated air-cleaning fluorescent lamp and method for producing the same
JP4542322B2 (ja) * 2003-09-10 2010-09-15 株式会社Ｙｏｏコーポレーション アモルファス被膜及び防曇性アモルファス被膜
KR100611632B1 (ko) * 2003-11-14 2006-08-11 (주)지엔씨글로텍 광촉매 조성물 및 그 제조방법
WO2005060610A2 (en) * 2003-12-11 2005-07-07 The Trustees Of Columbia University In The City Ofnew York Nano-sized particles, processes of making, compositions and uses thereof
ATE538073T1 (de) * 2004-04-26 2012-01-15 Showa Denko Kk Beschichtungsstoff und dessen verwendung
EP1785398A4 (en) * 2004-08-26 2010-10-06 Mitsui Chemicals Inc ULTRAFINE TITANIUM OXIDE PARTICLES RUTILE
JP4646055B2 (ja) * 2004-10-20 2011-03-09 多木化学株式会社 酸化タンタルゾル及びその製造方法
CN1304107C (zh) * 2004-10-22 2007-03-14 马贞亮 光催化活性纳米TiO2溶胶的制备方法
KR100656367B1 (ko) * 2005-11-24 2006-12-13 한국전자통신연구원 저온에서 소결 가능한 반도체 전극용 조성물 및 이를이용한 염료감응 태양 전지
US7945973B2 (en) * 2006-04-06 2011-05-24 Obalit Khorshid Fluid control system, device and method
US20090297626A1 (en) * 2006-11-03 2009-12-03 The Trustees Of Columbia University In The City Of New York Methods for preparing metal oxides
US7659226B2 (en) * 2007-02-26 2010-02-09 Envont Llc Process for making photocatalytic materials
US7704470B2 (en) * 2007-04-24 2010-04-27 Haydock Consulting Services, Lc Removal of contaminants from by-product acids
US7763565B2 (en) * 2007-08-31 2010-07-27 Millennium Inorganic Chemicals, Inc. Transparent, stable titanium dioxide sols
JP4730400B2 (ja) * 2007-10-09 2011-07-20 住友化学株式会社 光触媒体分散液
US8663380B2 (en) * 2007-11-16 2014-03-04 Cristal Usa Inc. Gas phase production of coated titania
US20090148605A1 (en) * 2007-12-05 2009-06-11 Akhtar M Kamal Process for the production of coated titanium dioxide pigments
US20090162560A1 (en) * 2007-12-21 2009-06-25 Envont L.L.C. Hybrid vehicle systems
US20090163656A1 (en) 2007-12-21 2009-06-25 Envont Llc Hybrid vehicle systems
US20090163647A1 (en) * 2007-12-21 2009-06-25 Envont Llc Hybrid metal oxides
US7648936B2 (en) * 2008-01-29 2010-01-19 Lyondell Chemical Technology, L.P. Spray-dried transition metal zeolite and its use
JP4977051B2 (ja) * 2008-01-30 2012-07-18 テイカ株式会社 中性領域で安定な酸化チタン分散液
US7820724B2 (en) 2008-02-14 2010-10-26 Millennium Inorganic Chemicals, Inc. Colloidal titanium dioxide sols
WO2009133895A1 (ja) * 2008-05-02 2009-11-05 ポーラ化成工業株式会社 チタニア微粒子複合体及び該チタニア微粒子複合体を含有する組成物
US7846866B2 (en) * 2008-09-09 2010-12-07 Guardian Industries Corp. Porous titanium dioxide coatings and methods of forming porous titanium dioxide coatings having improved photocatalytic activity
US20100062265A1 (en) * 2008-09-09 2010-03-11 Guardian Industries Corp. Titanium Dioxide Coatings and Methods of Forming Titanium Dioxide Coatings Having Reduced Crystallite Size
US20100062032A1 (en) * 2008-09-09 2010-03-11 Guardian Industries Corp. Doped Titanium Dioxide Coatings and Methods of Forming Doped Titanium Dioxide Coatings
US8647652B2 (en) * 2008-09-09 2014-02-11 Guardian Industries Corp. Stable silver colloids and silica-coated silver colloids, and methods of preparing stable silver colloids and silica-coated silver colloids
US8545899B2 (en) * 2008-11-03 2013-10-01 Guardian Industries Corp. Titanium dioxide coatings having roughened surfaces and methods of forming titanium dioxide coatings having roughened surfaces
JP2010274142A (ja) * 2009-04-30 2010-12-09 Shin-Etsu Chemical Co Ltd 光触媒粒子の分散液及びその製法
GB0916329D0 (en) 2009-09-17 2009-10-28 Tioxide Europe Ltd Stable nano titania sols and a process for their production
US20110076450A1 (en) * 2009-09-29 2011-03-31 Sharma Pramod K Titanium dioxide coatings and methods of forming improved titanium dioxide coatings
GB2487751A (en) * 2011-02-03 2012-08-08 Tioxide Europe Ltd Nanotitania coating composition
EP2490235B1 (en) * 2011-02-16 2014-04-02 Imec Electron transporting titanium oxide layer
DE102011114363A1 (de) * 2011-09-27 2013-03-28 Kronos International, Inc. Stabile nanopartikuläre Suspension und Verfahren zur Herstellung
JP5458129B2 (ja) * 2012-03-09 2014-04-02 テイカ株式会社 中性領域で安定な酸化チタン分散液
WO2014118372A1 (en) * 2013-02-02 2014-08-07 Joma International A/S An aqueous dispersion comprising tio2 particles
WO2014118371A1 (en) * 2013-02-03 2014-08-07 Joma International A/S A catalytic substrate surface containing particles
CN108603049B (zh) 2015-10-21 2021-06-01 东纳斯公司 减少nox的涂层和用其减少nox的方法
CN113428888A (zh) * 2020-03-23 2021-09-24 厦门稀土材料研究所 一种高分散氧化铈纳米溶胶及其制备方法和应用

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2819177A (en) 1956-02-09 1958-01-07 American Cyanamid Co Stable colloidal titania monohydrate dispersions
US3147131A (en) * 1961-05-02 1964-09-01 Nat Lead Co Method for treating titanium dioxide pigments
DE1271862B (de) * 1966-05-07 1968-07-04 Titan Gmbh Verfahren zur Herstellung eines Titandioxid-Pigmentes mit verbesserten Eigenschaften
FR1531403A (fr) * 1967-02-17 1968-07-05 Thann Fab Prod Chem Perfectionnement aux procédés de dispersion et d'hydroclassification des suspensions aqueuses d'oxyde de titane préparées en vue du traitement de surface de ces pigments et produits obtenus par ces procédés
US3582275A (en) 1967-06-03 1971-06-01 Mizusawa Industrial Chem Process for the preparation of titanium oxide
US3663284A (en) * 1970-01-09 1972-05-16 Marine Colloids Inc Titanium dioxide suspensions
US4448609A (en) * 1981-04-10 1984-05-15 Laporte Industries Limited Process for the production of aqueous dispersions of pigmentary titanium dioxide
DE3378530D1 (en) * 1982-08-13 1988-12-29 Atomic Energy Authority Uk Process for the preparation of dispersions and gels
EP0261560B1 (en) * 1986-09-22 1992-04-01 Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. Titania sol and process for producing same
EP0376216B1 (en) * 1988-12-28 1994-11-30 Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. Titanium dioxide aggregates, process for producing same and electrophotographic photosensitive material containing same
US5059248A (en) * 1989-08-11 1991-10-22 Warner-Jenkinson Company, Inc. Stable, fluid, aqueous pigment dispersions for use in film coating tablets and the like
DE4329129A1 (de) * 1993-08-30 1995-03-02 Merck Patent Gmbh Photostabilisierung von Titandioxidsolen
EP0684075B1 (en) 1993-12-10 2003-03-26 Toto Ltd. Multi-functional material having photo-catalytic function and production method therefor
TW445285B (en) * 1996-05-24 2001-07-11 Nihon Parkerizing Titanium dioxide ceramic paint and methods of producing same
JP3542234B2 (ja) 1996-07-01 2004-07-14 日本パーカライジング株式会社 金属材料の酸化チタン被覆方法

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