KR100485542B1

KR100485542B1 - 평판-패널표시장치

Info

Publication number: KR100485542B1
Application number: KR1019970709146A
Authority: KR
Inventors: 제리 디. 셔머론
Original assignee: 엘지전자 주식회사
Priority date: 1996-04-09
Filing date: 1997-03-11
Publication date: 2005-08-31
Also published as: KR19990022704A; MX9800005A; WO1997038435A1; JPH11508084A; AU2074797A; US5723945A; EP0830705A1; EP0830705A4; CN1175459C; CN1193411A

Abstract

본 발명은 밀봉 형태의 가스 충진 포위체를 포함하는 평판-패널 표시 장치(10)에 관한 것이다. 상기 포위체는 다수의 전극(20) 및 상기 전극을 도포하는 유전체 박막(22)을 지니는 상부 유리 기판(12) 및 상기 상부 유리 기판으로부터 이격 배치된 하부 유리 기판(14)을 포함한다. 상기 하부 유리 기판은 다수의 교호 형태로 배치된 배리어 리브(24) 및 미크로-그루브를 포함한다. 전극(40)은 각각의 미크로-그루브상에 배치되고 형광 재료(42)는 각각의 전극 피막의 일부상에 배치된다.

Description

평판-패널 표시 장치{FLAT-PANEL DISPLAY}

본 발명은 평판-패널 표시 장치 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로는, 본 발명은 높은 애스펙트 비의 베리어 리브를 갖는, 완벽한 색상, 높은 해상도를 수용할 수 있는 평판-패널 표시 장치 및 그 제조 방법에 관한 것이다.

평판-패널 표시 장치는 2차원 매트릭스로 배열되어 있고 픽섹(pixel)이라 불리고 있는 디스플레이 화소의 대형 배열로 구성된 전자 표시 장치이다. 평판-패널 표시 장치의 예에는 전자-발광 디바이스, AC 플라스마 패널, DC 플라스마 패널 및 전계 방출 표시 장치 등이 있다.

평판-패널 플라스마 표시 장치의 기본 구조는, 각각의 유리 플레이트의 내부면상에 전극을 구성하는 도체 패턴이 있으며 가스가 충진된 갭만큼 분리되어 있는 두 개의 유리 플레이트를 포함한다. 도체는, 당해 기술 분야에서 공지된 박막 기술로써, 수평방향의 전극 및 수직방향의 컬럼(column) 전극이 서로에 대하여 직각으로 배치되는 x-y 매트릭스로 형성된다.

AC-플라스마 패널 표시 장치의 전극은 유리 유전체 박막으로 도포된다. 유리플레이트는 스페이서(spacer)로 고정된 두 개의 플레이트사이의 간격으로 샌드위치형태를 이루도록 합체된다. 그러한 플레이트의 에지 부분은 밀봉되어 있으며 상기 플레이트 사이의 중공(中空) 부분은 진공 상태로 되고 네온 및 아르곤 혼합물로 충진된다.

가스가 이온화될 때에는, 유전체가 소형의 캐패시터와 같이 충전하여서, 구동 전압 및 용량 전압의 합이 커짐에 따라, 상기 유리 플레이트사이에 포함된 가스를 여기시켜 글로 방전을 일으키게 된다. 행 및 열 전극 양단간에 전압이 가해짐에따라, 작은 광 방출 픽셀은 가시적인 화소를 형성한다.

배리어 리브(barrier rib)는 일반적으로 앞서 언급한 바와 같은 절연 기판 사이에 배치되어, 전극사이의 교차-색상(cross-color) 및 교차-픽셀(cross-pixel)의 간섭을 방지하고, 해상도를 증가시켜 선명한 화소를 제공한다. 그러한 배리어 리브는, 바람직한 픽셀 피치(pitch)를 획득하기 위하여 배리어 리브 높이, 폭 및 패턴 갭을 이용함으로써 유리 플레이트사이에 균일한 방전 공간을 제공한다. 예를들어, 플라스마 표시 장치 패널의 배리어 리브는, 높이가 약 100μ이고, 폭은 가능하면 좁게 하며, 바람직하게는 20μ미만이며, 약 120μ의 피치로 이격된 구성을 갖는 것이 가장 바람직하다. 이러한 요건은, 인치당 72 라인의 색상 픽셀 피치, 즉 적색, 녹색 및 청색의 형광색 배열을 갖는 인치당 216 라인의 서브-픽섹(sub-pixel) 피치와 동등한 형태의 인쇄업계의 표준을 달성하기 위하여 필요하다. 이러한 패턴은 평판 패널에서의 색상 출력을 달성하기 위하여 흔히 사용되고 있으며, 대각선 치수가 20 내지 40인치 정도인 여러 음극선관 표시 장치는 컴퓨터 단말 장치 및 텔레비젼 수상기에서 그래픽 및 텍스트 정보를 표시하는 데 사용된다.

이들 배리어 리브를 제조하기 위하여, 유리 재료의 다중 스크린 인쇄 방법,샌드블래스팅(sandblasting), 스퀴징(squeezing) 방법, 포토리도그래피 방법 및 이중 층 방법을 포함하는 여러 방법들이 제안되고 개발되어 왔다.

배리어 리브는, 후막 인쇄 방법을 사용하여, 낮은 해상도에서 200μ정도의 두께로 대부분 성공적으로 형성되어 왔다. 이러한 방법은, 유리 기판상에 여러 라인으로 방전 전극을 제공하는 단계, 유전체막을 인쇄하여 소성처리(firing)하는 단계, 인쇄 스크린을 사용하여 그러한 플레이트상에서의 인접 전극사이에 유리 페이스트(paste)의 층을 인쇄하는 단계 및 상기 페이스트를 건조시키는 단계를 포함한다. 상기 인쇄 및 건조 단계는 약 5 내지 10번 반복되며, 그 이후에는 페이스트는상당히 높은 온도, 대개는 500 내지 680℃에서 소성처리 또는 경화되어 상기 페이스트룰 고체 리브(solid rib)로 소결시킨다. 해상도를 높이려는 시도는 지금까지 이루어져 왔지만 큰 면적에 걸쳐서의 다수의 재정렬 단계 및 또한 상기 페이스트가고온의 경화 사이클 동안 그의 형상을 상실하려는 경향에 기인하여 극히 어려운 일이다.

배리어 리브를 제조하는 다른 방법은 방전 전극 패턴상에 포토레지스트 재료의 유기질 막(organic film)을 형성하는 단계 및 그루브(groove)를 유리 페이스트로 충진시키는 단계를 포함한다. 유기질 재료는 고온의 경화 사이클 동안에 타버린다. 이러한 방법은, 페이스트가 고온의 경화 사이클 동안에 그의 형상을 상실하려는 경향 때문에 낮은 피치 디바이스로 제한된다. 게다가, 소성 및 연소 과정에 의하여 감광막이 제거됨으로써, 유리 페이스트와 결합함으로써 형성되는 배리어 리브의 형상이 변화되고 그러한 배리어 리브의 일부가 변형되거나 배리어 리브가 파손된다. 따라서, 정해진 애스펙트 비(aspect ratio;높이/기폭)를 갖고 균일하며 안정적인 배리어 리브를 형성하는 것은 어렵다는 점을 알 수 있다.

이의 개량 방법은, 미국 특허 제5,116,271호의 명세서에 기재되어 있으며, 방전 전극의 패턴상에 포토레지스트 재료의 유기질 막을 형성하는 단계 및 유기질막이 정해진 시간 동안 발열 이벤트에 직면하는 온도보다 낮은 온도로 예열하는 단계로 이루어져 있다. 유기질 막사이 및 유기질 막에 인접하여 절연 재료를 도포한 후에 소성처리를 함에 있어서, 유기질 막을 연소하는 과정 동안 유기질 막의 형상의 변화가 절연 재료에 의해 형성된 배리어 리브의 형상의 변화를 억제시키는 효과가 있다. 절연 재료는, 예열 온도에서 유연해지는 유리 성분 및 유기질 막의 경화 또는 소성처리 온도부근에서 유연해지는 다른 유리 성분을 포함하는 유리 페이스트로 이루어져 있다. 애스펙트 비의 개선이 이루어질 수는 있지만, 높은 해상도의 플라스마 표시 장치 패널을 제조하는 데에는 여전히 불충분하다.

또한, 벌크(bulk)형태를 이루면서, 수 미크론 밖에 않되는 정밀도로 그러한 기계적 특징의 형상을 제조 및 유지할 수 있는 유리-세라믹 재료도 공지되어 있다.이러한 재료는 감광 유리이며, 1950년대 내지는 1970년대에 개발되었고 일반적으로는 파이로서램(pyroceram) 또는 포토서램(photoceram)으로서 알려져 있다. 감광 유리를 연구하는 중에 코닝 유리 공장(Corning Glass Works)에서 종사하는 스투키(Stookey)에 의해 기본 원리가 밝혀져서 발명되었다. 그러한 감광 유리는 공지되어 있으며, 예컨대, 아나콜리 베레크노이(Anatolii Berezhnoi) 명의의 "유리 세라믹 및 포토-시탈(Glass Ceramics and Photo-Sitalls)" 「Plenum Press l970」 과 같은 문헌에 기록되어 있다. 그러한 유리는 코닝 사의 상표인 포토서램(Fotoceram)과 같은 다양한 상표명으로 시판되어 왔다.

최근 몇해 동안에 이들 재료를 사용하는 가장 일반적인 용도로는, 잉크 제트프린터 오리피스 등과 같은 용도의 현미경적인 수준의 부품을 만드는 데 있다. 또한, 이들 재료는 오늘날 세라믹 조리용품과 같은 제품에서는 일반적으로 사용되는 것이지만, 미크로-기계 기술에서는 광범위하게 사용되고 있지 않는 것처럼 보여 왔는 데, 그 이유는 상기 재료가 대체 재료 및 기술에 비하여 비교적 비용이 많이 들기 때문이다.

이러한 감광 재료의 조성분은 여러 유리 시스템을 형성하는 데 사용될 수 있는 데, 예를 들면 어느 한 감광 유리 재료는 Li₂O--Al₂O₃--SiO₂ 로 구성되어 있다. 또한, 이 같은 유리는, 특정의 기능을 제공하는 소수의 구성도 갖는다. 예를 들면, Ce 및 Ag, Au 또는 Cu 중 어느 하나가 감광제로서 도입되고, Na가 플럭스(flux)로서 사용된다.

이러한 유리가 1350-1400℃의 온도로 배치로(batch furnace)에서 가열된 다음에 급속 냉각될 때에는 상기 유리가 감광 특성을 나타낸다. 예를 들면, 약 140 내지 340 나노미터(nm)의 Ag 범위에서 자외선(UV) 방사에 노광되면, 결합이 파괴되어 개개의 원자를 형성한다. 이는, 상기 유리내에, 유리가 520℃ 부근의 온도로 가열될 경우 자유로운 원자가 응집되는 잠상(latent image)을 형성한다. 만약 상기 유리가 약 600℃로 더 높이 가열될 경우, Li 메타실리케이트(metasilicate), Li 디실리케이트(disilicate) 및 베이스 유리의 유크립티트(Eucryptite) 및 스포듀민(Spodumene) 상(phase)인 것이 전형적인 결정(crystal)은 응집제로서 작용하는 은의 응집물의 노광 부위에 선호적으로 형성한다. 지배적인 결정 상의 형태 및 결정의 사이즈는 가열 사이클의 정확한 시간과 온도에 의해 결정된다. 이러한 결정 상, 특히 Li 메타실리케이트가 약한 HF에서, 노광되지 않은 영역에 여전히 존재하는 본래의 유리보다 상당히 빠른 속도로 에칭된다는 점이 밝혀졌다.

이러한 재료로부터 정확한 기계적 형상을 만들어내기 위하여는, UV 방사 광선이 표면에 진입할 때 UV 방사 광선을 왜곡시키지 않도록 표면이 선택적으로는 평탄하게 만들어져야 한다. 그러므로, 표면은 노광되기 전에 연삭되어 연마되어야 한다. 이는 그의 처리를 비교적 비용이 많이 들게 한다. 이러한 기술을 직접 사용하면, 비용 문제 뿐만 아니라, 벌크 재료를 종래의 방식으로 사용할 경우 에칭 깊이제어 및 에칭처리에 의한 잔류물의 문제에 기인하여 표시 장치 배리어 리브를 제조하는 데에는 실용적이지 못하다.

본 발명의 목적은 선행 기술과 관련된 문제점을 극복하면서 평판 패널 표시장치의 해상도 및 기하학적 구조의 정확성을 상당히 개선시키는 배리어 리브 및 그러한 배리어 리브를 형성하는 기법을 제공하는 것이다. 본 발명의 다른 목적은 색상 플라스마 패널 표시 장치의 리브를 직접 형성하는 데 사용하기 위한 감광 재료의 유리 기판을 제공하는 것이다. 본 발명의 또 다른 목적은 전극 및 형광 재료가 배리어 리브에 의해 형성된 패턴에 자체적으로 정렬되는 평판-패널 표시 장치를 제조하는 방법을 제공하는 것이다. 본 발명의 또 다른 목적은 상부 유리 기판, 에칭가능한 내면을 갖는 하부 유리 기판, 및 기판 각각의 내면상에 제공되는 전극을 지니며, 하부 유리 기판의 전극이 전기적으로 절연되어 있지 않은 것을 특징으로 하는 평판-패널 표시 장치를 제공하는 것이다. 본 발명의 또 다른 목적은 제조 및/또는 사용에 있어서 간단하고 경제적인 평판-패널 표시 장치를 제공하는 것이다.

도1은 하부 유리 플레이트상에 놓인 감광 유리 층에 대한 일부 사시도이다.

도2는 마스크를 통과한 자외선(UV) 방사에 선택적으로 노광되는 도1의 감광유리 층 및 하부 유리 플레이트에 대한 일부 사시도이다.

도3은 UV 방사에 노광된 감광 유리의 부위를 제거한 후의 도2의 감광 유리 층 및 하부 유리 플레이트에 대한 일부 단면도이다.

도4는 전극을 포함하는 도3의 감광 유리 층 및 하부 유리 플레이트에 대한 일부 단면도이다.

도5는 전극 일부상에 도포된 형광 재료를 포함하는 도4의 감광 유리 층 및 하부 유리 플레이트에 대한 일부 사시도이다.

도6은 상부 유리 플레이트 및 시일(seal) 부분을 포함하는 도5의 감광 유리 층 및 하부 유리 플레이트에 대한 일부 사시도이다.

도7은 도6의 감광 유리 층, 하부 유리 플레이트 및 상부 유리 플레이트에 대한 일부 확대 사시도이다.

도8은 본 발명에 따른 교호 형태로 배치된 배리어 리브에 대한 확대 단면도이다.

도9는 본 발명에 따른 교호 형태로 배치된 배리어 리브에 대한 확대 단면도이다.

도10은 본 발명에 따른 교호 형태로 배치된 배리어 리브에 대한 확대 단면도이다.

도11은 본 발명에 따른 교호 형태로 배치된 배리어 리브에 대한 확대 단면도

이다.

도12는 플라스마 표시 장치 패널의 상호 접속을 사용하는 전극을 예시하는 본 발명에 따른 플라스마 표시 장치 패널에 대한 확대 사시도이다.

간단히 요약하면, 본 발명은 밀봉 형태의 가스 충진 포위체를 포함하는 평판-패널 표시 장치를 제공한다. 그러한 포위체는 다수의 전극 및 그 전극을 도포하는 전자 방출 막을 지니는 상부 유리 기판 및 상기 상부 유리 기판으로부터 이격 배치되어 있는 하부 유리 기판을 포함한다. 하부 유리 기판은 교호(交互) 형태로 배치되는 다수의 배리어 리브 및 미크로-그루브를 포함한다. 전극은 각각의 미크로-그루브상에 배치되어 있으며 형광 재료는 각각의 전극 일부상에 배치되어 있다.

각각의 미크로-그루브는 베이스 및 상방으로 연장된 주변 측벽을 포함하며 각각의 배리어 리브는 베이스, 크레스트(crest) 및 상기 베이스에서 크레스트에 이르기까지 연장된 측벽을 포함한다. 인접한 미크로-그루브의 주변 측벽은 중간 배리어 리브의 크레스트에 의해 서로 접속되어 있다. 상기 전극은 상기 베이스 및 각각의 미크로-그루브의 상방으로 연장된 주변 측벽 중 최소한 일부분를 따라 배치되어 있다.

첨부된 도면을 참조하여 기술한 이하 본 발명의 실시예에 대한 상세한 설명으로부터 본 발명의 부가적인 특징 및 기타 목적 및 이점이 분명해질 것이다.

이하의 설명에서는, 동일한 참조 부호는 동일하거나 대응하는 부품을 지칭한다. 또한, 이하의 설명에서는, "상부", "하부", "전방", '후방", 및 위치 및 방향을 나타내는 유사한 용어는 도면을 참조하며 설명을 간단하게 하기 위해 사용된다.그 이외에도, 명료 및 간결하게 하기 위하여, 구조의 어느 특징 및 세부는 강조되지만, 그러한 세부가 종래의 것이며 당업자에게 공지된 경우에는 그러한 세부에 대하여는 설명하지 않는다. 예를 들면, 평판-패널 표시 장치용의 제어 회로는 당업자간에는 공지된 제어 회로이기 때문에 예시하지 않았다.

동일한 참조 부호가 동일한 요소를 나타내는 도면을 참조하면, 도1 내지 도12는 본 발명에 따른 평판-패널 표시 장치(10)를 제조하기 위한 기본적인 구조 및 단계를 보여 준다. 비록 본 발명이 주로 플라스마 표시 장치 패널과 연관지어 설명되어 있지만, 본 발명은 대부분의 평판-패널 표시 장치에 대하여 동등하게 사용될 수 있다는 점이 용이하게 인식될 것이다. 따라서, 플라스마 패널 표시 장치와 관련한 본 발명의 설명은 권리주장된 바와 같은 발명의 범위를 국한시키는 것으로 해석되어선 않된다.

본 발명에 따른 광학 이미지(optical image)를 표시하기 위한 평판-패널 표시 장치(10)는 도7에 도시되어 있다. 평판-패널 표시 장치(10)는 플라스마 표시 장치 패널로서 예시되어 있고, 평판-패널 표시 장치를 형성하도록 작동적으로 조립될 수 있는 개별적으로 제조된 부품을 포함한다.

일반적으로, 플라스마 표시 장치 패널은, 상부 유리 기판(12) 및 이격배치된 하부 유리 기판(14)을 포함하는 밀봉 형태의 가스 충진 포위체를 포함한다. 상부 유리 기판(12)은 도12에 도시된 바와 같이, 하부 유리 기판(14)상에 중첩되어 있다. 그러한 유리 기판(12,14)은 광투과성이 있고 균일한 두께를 갖는 데, 예를 들면 상기 유리 기판(12,14)은 약 1/8-1/4 인치의 두께일 수 있다.

상부 유리 기판(12)은 주 성분으로서 SiO₂, Al₂O₃, MgO₂ 및 CaO를 포함할 수 있으며, 부속 성분으로서 Na₂O, K₂O, PbO, B₂O₃ 등을 포함할 수 있다. 상부 유리 기판(12)의 내부 표면(18)상에는 다수의 전극(20)이 배치되어 있다. 그러한 전극은 당해 기술 분야에서 공지되어 있는 형태의 전극이다. 바람직한 실시예에서는, 전극(20)은, 서로에 대하여 대체로 평행하게 배치되어 있고, Au 등과 같은 증발 금속으로부터 제조된 박막 전극이다. 당해 기술 분야에서 공지된 형태의 유전체 막 또는 전자 방출 재료와 같은 균일한 전자 방출 막(22)은 표시 장치 제조 기술 분야에서 공지된 다양한 플래너(planar) 기법으로 전극(20)을 도포한다. 유전체 막은 납유리재료 등과 같은 적절한 재료로 구성될 수 있으며, 전자 방출 재료는 다이어몬드 오버코팅, MgO 등과 같은 적당한 재료로 구성될 수 있고, 표면 막(도시되지 않음)으로서 도포될 수 있다. 전자 방출 막(22)은 MgO로 구성되는 제2 박막(도시되지 않음)으로 피복될 수 있다.

하부 유리 기판(14)은 하부 유리 기판(14)의 내면(16)을 따라 연장하는 다수의 평행한 배리어 리브(24) 및 미크로-그루브(26)를 포함한다. 그러한 배리어 리브(24) 및 미크로-그루브(26)는 하부 유리 기판의 내면을 에칭함으로써 상기 패널(10)의 하부 유리 기판(14)을 형성하는 유리에서 에칭될 수 있거나 또는 그러한 배리어 리브 및 미크로-그루브는 분리된 유리 층(28)에서 형성될 수 있으며, 이러한 층(28)은 분리된 유리 층을 부분적으로나 또는 전체적으로 에칭처리함으로써 하부 유리 기판의 일부를 형성한다. 그런 다음, 분리된 유리 층(28)은 하부 유리 기판(14)상에 배치되어, 에칭처리 이전이나 이후에 하부 유리 기판의 일체 부분을 형성할 수 있다.

어느 공정이 사용되든, 배리어 리브(24) 및 미크로-그루브(26)는 에칭처리가능한 유리 재료로부터 형성되는 것이 바람직하며, 이러한 재료는 예컨대, 적절한 응집제로 도우핑된 유리-세라믹 복합체를 선택적으로 결정화한다.

적당한 응집제로 도우핑된 적절한 유리-세라믹 복합체의 예는 적절한 응집제로 도우핑된 감광 유리이다. 감광 유리는 약 90 중량%의 Li₂O-Al₂O₃-SiO₂이며 Ce, Ag, Au 및 Cu로부터 선택된 1 또는 그 이상의 불순물을 포함할 수 있다. 바람직한 실시예에서는, 감광 유리는 약 73 내지 82 중량%의 SiO₂, 약 6 내지 15 중량%의 Li₂O 및 약 4 내지 20 중량%의 Al₂O₃ 및 Ce, Ag, Au 및 Cu로부터 선택된 약 0.006 내지 0.2중량%의 1 또는 그 이상의 불순물을 포함한다.

감광 유리는 우선, 개방된 노(爐;crucible)에서, 통상 중성화되거나 또는 산화된 상태에서 3 내지 4시간 동안 1350 내지 l400℃에서 배치 용융(batch melt)으로 그의 성분을 가열하지만, Ag 또는 Cu의 함량이 극히 낮은 경우에는 환원된 상태에서 그의 성분을 가열함으로써 감광 콜릿(collet)으로서 준비된다. 산화 조건을 만들어내기 위하여는, 당해 기술 분야에서 공지된 형태의 산화제가, 통상 배치 용융 상태로 도입되고, 만약 환원 조건이 필요한 경우에는 스타치(starch) 또는 NH₄Cl이 첨가된다. 그런 다음, 콜릿을 파편 형태로 조각내고 볼 밀링(ball milling)에 의해 분말 형태로 파쇄시킨다. 감광 유리를 미리 검출함으로써, 하부 유리 기판(14)의 감광 특성을 상실시키지 않도록 하기 위하여, 파쇄 작업 중에 정확한 전기-화학적 환경을 제공하려는 주의를 기울려야 한다는 점이 이해될 것이다. 이는 파쇄제에 산화제 또는 Ag 또는 Li의 염을 첨가함으로써 이행될 수 있다.

다른 실시예에서는, 분말은, 통상 질산염의 염과 같은 감광 유리와 글리세린과 같은 적당한 연소 시스템의 적당한 혼합물을 형성함으로써 준비될 수 있다. 만약 이러한 분말을 500 내지 600℃의 적당한 온도의 노에 넣은 경우, 이 물질은 급속하게 자기 발화하고 급속하게 연소하여, 용이하게 분말 형태로 파쇄될 수 있는 바람직한 조성 및 특징을 갖는 폼(foam) 형상의 제품을 형성한다.

어느 한 실시예에서든, 결과적으로 생성된 분말은 부형제(vehicle)와 혼합되고 하부 유리 기판(14)에 균일하게 도포되어, 예를 들면 하부 유리 기판상에서의 스크린 인쇄로 내면(16)을 형성할 수 있다. 그런 다음, 하부 유리 기판(14)은, 약 1시간 동안 590 내지 620℃로 가열되어, 균일한 유리 형상의 감광 표면 층의 형태로 분말을 소결시킨다. 분말은, 하부 유리 기판(14)의 광감 특성을 유지하기 위하여 소결을 통해 의도적이지 않은 UV 방사에 대하여 보호받아야 한다는 점이 인식될 것이다.

감광 유리가 충분히 냉각된 경우에, 하부 유리 기판(14)은, 대개는 수정으로 이루어진 마스크(30)를 통해 약 250 내지 340nm에서 UV 방사에 노광된다. 마스크는, 형성될 미크로-그루브(26)의 패턴에 대응하는 특히 바람직한 패턴의 감광 유리에 UV 방사를 통과시킬 수 있다.

변형 실시예에서는, 마스크(30)는, 감광 유리상에 당해 기술 분야에서 공지된 형태의 표준 네가티브 포토-레지스트를 직접 형성함으로써, 경우에 따라서는, 우선 마스크 재료로서 도포된 다음, 차후에 다른 목적으로 사용될 수 있는 표면상에 직접 마스크를 형성하도록 선택적으로 에칭처리되는 금속 성분의 박막 층으로 패터닝될 수 있다.

UV 방사는, 감광 유리내에서의 Ag, Au 또는 Cu 결합을 파괴하여 Ag, Au 또는 Cu의 개별 원자를 형성한다. Ag, Au 또는 Cu 원자는, 마스크(30)의 패턴에 대응하는 잠상을 감광 유리에 형성한다.

일단 감광 유리가 UV 방사에 노광되면, 감광 유리는, Ag, Au 또는 Cu 원자가 응집하도록 약 520℃로 다시 가열된다. 그런 다음, 감광 유리(28)는, 약 600℃로 가열되어, 감광 유리, 예컨대 Li 메타실리케이트, Li 디실리케이트, 유크립타이트 및 감광 유리의 스포듀민 상이 응집제로서 작용하는 Ag, Au 또는 Cu 응집제의 주변을 형성하고, 노광되는 마스크(30) 패턴의 부위에 에칭가능한 결정을 형성한다. 감광 유리(28)에 형성된 결정 상의 형태 및 사이즈는 가열 시간 및 가열 온도의 함수로서 결정된다.

변형 실시예에서는, 응집제를 포함하는 결정질의 유리와 같은 예비-감광 재료, 및 응집제를 포함하지 않는 결정질의 유리와 같은 비-감광 재료가 먼저 준비될 수 있다. 감광 재료는 종래 방식으로 준비된 두꺼운 포토레지스트 층의 패턴으로 미크로-그루브내에 배치될 수 있다. 변형적으로는, 분말은, 미크로-그루브에 보다 용이하게 주입하여 미크로-그루브를 충진시키도록 퇴적될 수 있다. 그런 다음에는, 포토-레지스트를 제거하고, 제2 형태의 비-감광 유리 분말을, 포토레지스트의 제거에 의해 형성된 빈 공간에 충진시킨다. 이러한 성분이 그후 결정을 성장시키기 위해 앞서 설명한 바와 같이 연소된다.

그 결과, 하부 유리 기판(14)은, 하부 유리 기판의 내면에 1차적으로 20 내지 200 마이크로미터의 두께로 형성되는 바람직한 감광 패턴을 갖는다. 본 발명은, 감광 유리(28)의 세라믹 및 유리 재료에 대한 서로 다른 에칭 속도를 이용한다. 세라믹 상(phase)은, UV 노광 및 그후에 수반되는 전체 기판의 열처리로부터 생긴다. 세라믹 상은 유리 상보다 30배 빠른 속도로 에칭된다. 에칭 속도의 차는, 하부 유리 기판(14)에 높은 애스펙트 비의 배리어 리브를 형성시킬 수 있다.

그런 다음, 하부 유리 기판(14)은, 약 5 내지 10%의 약한 HF 산 용액에서 약4 내지 10분 동안, 또는 결정화된 재료의 거의 전체가 바람직한 깊이로 제거되어, 미크로-그루브(26) 및 배리어 리브(24)를 형성할 때까지 에칭된다. 미크로-그루브(26)는 약 50 내지 150㎛의 깊이, 바람직하게는 약 120㎛의 깊이, 및 약 50 내지 200㎛의 폭, 바람직하게는 최소한 약 100㎛의 폭일 수 있다. 미크로-그루브(26) 및 배리어 리브(24)가 유리 층을 에칭함으로써 분리된 유리 층(28)에 형성될 때, 서로 다른 열팽창 특성을 갖는 재료의 사용으로 나타나는 문제들을 극복하도록 미크로-그루브의 깊이가 유리 층의 전체 두께와 동일한 것이 바람직하다.

도8 내지 도11에 도시된 바와 같이, 배리어 리브(24) 및 미크로-그루브(26)는, 마스크(30)내의 개구부의 사이즈 및/또는 형상을 변화시킴으로써 적당한 사이즈 및 형상으로 된다. 각각의 배리어 리브(24)는, 베이스(32), 및 베이스에서 크레스트(36)로 수직 방향으로 연장하는 측벽(34)을 포함한다. 바람직한 실시예에서는,배리어 리브(24)는 균일한 베이스(32)의 폭 및 높이, 및 3:1 이상의 높은 애스펙트 비, 바람직하게는 5:1 이상의 높은 애스펙트 비, 가장 바람직하게는 7:1 이상의 높은 애스펙트 비를 갖는다. 배리어 리브(24)사이에는 인접한 배리어 리브의 측벽에대응하는 측벽(34) 및 베이스(38)를 지니는 길이 방향으로 연장하는 미크로-그루브(26)가 형성되어 있다.

각각의 미크로-그루브(26)의 주변 측벽(34) 및 베이스(38)를 따라 전극(40)이 배치되어 있다. 전극(40)은, 베이스(38)및 주변 측벽(34)을 따라 배치되어, 연소의 균일성을 증대시키고, 미크로-그루브(26)의 표면 전체를 따라 최적의 형광 피막을 제공한다. 전극(40)은, 미크로-그루브 표면(34,38)상에서 Cr 및 Au 또는 Cu 및 Au의 박층을 선택적으로 금속화시킴으로써 퇴적된다. 그러한 금속화는, 박막 퇴적(deposition), E-빔 퇴적 또는 당해 기술 분야에서 공지된 전기적이지 않은 퇴적에 의해 달성될 수 있다. 바람직한 실시예에서는, 약 300 내지 1,000Å 단위 Cr에 이어서 약 1,000 내지 20,000Å 단위 Au가 E-빔 퇴적에 의해 퇴적될 수 있지만, 1내지 2㎛의 Cu에 이어서 Au의 박층이 전자적인 퇴적이외의 퇴적에 의해 퇴적될 수 있다.

전극 금속은, 적절한 폴리머로 미크로-그루브(26)를 연마, 충진 및 에칭함으로써, 또는 미분 파라미터로서 크레스트를 사용하는 당해 기술 분야에서 공지된 다양한 다른 기법에 의해 각각의 배리어 리브(24)의 크레스트(36)로부터 제거될 수 있다.

각각의 미크로-그루브(26)의 전극(40)의 일부상에는 형광 재료(42)가 배치되어 있다. 바람직한 실시예에서는, 형광 재료(42)는, 당해 기술 분야에서 공지된 바와 같은 전기-포레지스(electro-phoresis)에 의해 퇴적된다. 형광 재료(42)는, 당해 기술 분야에서 공지된 형태의 표준 전자 여기 형광 재료이다. 완벽한 색상 표시를 위해서, 적색(42a), 녹색(42b) 및 청색(42c)과 같은 다중-색상 형광은 세 개의 그룹을 지니며, 적당한 픽셀의 위치에서 선 또는 점으로 도포된다. 형광 재료(42)의 도포는, 약 3-30 초 아이들(idle) 기간에 대하여 약 50-500 밀리초 범위의 반복시간의 펄스에 의해 달성되어, 결과적으로 생성된 형광 재료의 두께 및 도포의 균일성을 촉진시킬 수 있다. 형광 재료의 퇴적 조(bath)는 퇴적된 형광 재료의 접착을 촉진시키기 위하여 현탁 재료내에 첨가 재료를 포함할 수 있다. 적당한 첨가물 은, 분말 왁스만을 포함하거나 또는 불용성 염, 산 또는 용융 재료 또는 그들의 파생물과 조합된 분말 왁스를 포함한다.

각각의 미크로-그루브(26)상에 배치된 전극은 제1의 색상 전극, 제2의 색상전극 및 제3의 색상 전극의 배열이 반복적으로 배치되는 다수의 전극을 형성한다. 각 배열의 제1의 색상 전극은 상부 유리 기판을 넘어 하부 유리 기판의 제1 단부로 연장하고, 각 배열의 제2의 색상 전극은 상부 유리 기판을 넘어 제 1 단부에 대향하는 하부 유리 기판의 제2 단부로 연장하며, 각 배열의 제3의 색상 전극은 상부 유리 기판을 넘어 하부 유리 기판의 제1 단부 및 하부 유리 기판의 제2 단부로 교호 형태로 연장한다. 전체-색상 표시를 위하여, 색상 전극은, 도면에 도시된 바와 같은 적당한 픽셀의 위치에서 교호 형태로 반복하도록 분리 배치된 적색 (42a), 녹색(42b)및 청색(42c)의 형광 재료에 의해 형성될 수 있다. 형광 색상은, 미크로-그루브(26)에 인접하여 교호 형태로 스트라이프(stripe) 패턴을 만들어내도록 배치된다. 평판-패널 표시 장치(10)의 해상도는 단위 면적당 픽셀의 수에 의해 결정된다.

변형 실시예에 있어서, 형광 재료(42)의 퇴적은, 2개의 대향하는 외부 접속 단부 면적의 피치를 최소화시킴으로써, 제조 중에 필요한 크로스오버(crossover) 버스의 수를 최소화하도록 단부(46)에 대하여 두 개씩 배치된 4개의 버스(bus)형 전극 그룹에의 접속에 의해 이행될 수 있고, 색상(42a,42b) 각각에 대하여는 하나의 버스형 전극에의 접속에 의해 그리고 색상(42c)에 대하여는 두 개의 버스형 전극의 접속에 의해 이행될 수 있다.

미크로-그루브(26)상의 형광 재료(42) 및 전극(40)은, 스퍼터링(sputtering)또는 UV 손상을 저감시키기 위하여 또는 형광 재료사이의 2차 방출 특성의 차를 최소화시키기 위하여 박막 층으로 피복될 수 있다. 그러한 박막 층은, 당해 기술 분야에서 공지된 MgF의 박막 등일 수 있다.

유리 기판(12,14)사이에는 진공이 형성되고, 인듐 등의 금속 시일(seal)과 같은 종래의 유리 시일(44)로 밀봉되어 이온 가스로 충진된다. 유리 기판(12) 및 유리 기판(14)의 미크로-그루브(26)사이의 공극 또는 갭은 약 25 내지 100 미크론이다. 바람직한 실시예에서는, 이온화 가스는 형광 재료(42)를 여기시키기에 충분한 UV 방사를 발생시키는 2 또는 그 이상의 가스의 적당한 비율의 혼합물이다. 예를 들면, 적당한 이온화 가스 혼합물은 네온 및 5 내지 20 중량%의 크세논 및 헬륨을 포함한다.

패널(10)의 픽셀 유지 및 어드레스 기능은, 대향하는 기판(12,14)사이에서 또는 교차점 근방에서의 안정적인 방전 시퀀스를 야기시키는 펄스형 전위의 선택적인 타이밍에 의해 달성된다. 펄스형 전극 전위는 상부 유리 기판(12)상의 쌍을 이룬 전극 그룹 및 하부 유리 기판(14)의 전극사이에 걸릴 수 있다. 보다 구체적으로는, 전극(20)의 인접하는 쌍은 상부 유리 기판(12)의 양측으로 연장되고 외부적으로는 당해 기술 분야에서 공지된 바와 같은 적당한 구동 회로 및 전원에 접속되어 있다. 마찬가지로, 배리어 리브(24)를 포함하는 대향하는 하부 유리 기판(14)의 전극(40)은, 외부적으로는 당해 기술 분야에서 공지된 바와 같은 적당한 구동 회로 및 전원에 개별 접속되어 있다.

다음에는, 본 발명에 따른 배리어 리브(24) 및 미크로-그루브(26)의 제조 및 본 발명에 따른 평판-패널 표시 장치(10)에 대한 예가 상세하게 설명된다. 그러한 예들은 본 발명의 범위를 제한하는 것이 아님을 이해할 것이다.

예1

배리어 리브(24) 및 미크로-그루브(26)는 Ag로 도핑되고 약 1 밀리의 두께 및 6 평방인치의 포토서램의 연마 부분에 형성되었다. 배리어 리브 및 미크로-그루브는, 약 4 피트의 거리에서 약 6 분 동안 수정상의 Cr, Au 마스크를 통해 UV 방사에 포토서램을 노광함으로써 형성되었다. UV 방사는, 인쇄 산업에서의 노광용으로 통상 사용되는 시판되고 있는 변형 올라이트 전구(Olite bulb)로부터 공급되었다.올라이트 전구는 안전 유리를 제거하고, 그 안전 유리를 수정 마스크로 교체함으로서 변형되었다. 올라이트 전구는, 약 320nm의 파장을 발생시켜, 그 파장이 포토서램을 관통하게 하였다.

그런 다음, UV 처리된 포토서램은 노에 넣고 약 5℃/분의 속도로 약 590 ℃로 램프가열된 후, 약 1 시간 동안 이러한 온도로 유지되고, 이후로는 약 6℃/분의 속도로 냉각되었다. 냉각 후, 포토서램은 약 6 분 동안 10%의 HF 용액을 포함하는 트레이(tray)에서 에칭되어, 약 100㎛의 폭 및 0.00045 인치의 깊이를 갖는 미크로-그루브 및 배리어 리브를 형성하였다. 그후, 포토서램은 부드러운 납 유리 분말로 샌드블래스팅되어, 미크로-그루브 각각의 하부에 남아있는 파편을 제거하였다.

예2

예1의 미크로-그루브 및 배리어 리브를 포함하는 포토서램 기판은, 당해 기술 분야에서 공지된 형태의 직경이 40 인치인 E-빔 시스템 박스 코터(coater)에서 약 1500Å의 Cr에 이어서 약 12000Å의 Au로 금속화되었다. 그후, 기판은, 스프레이 방법으로의 약 3번의 시플리 미크로포지트 포지티브 레지스트(Shipley Microposit Positive Resist)인 포토레지스트로 피복되었다. 최후의 피막의 도포시, 기판은 약 190℉로 가열되었다. 그런 다음, 기판은 약 30분 동안 은은하게 굽고 전술한 올라이트 시스템하에서 이지만 소정 위치의 안전 유리에 약 2분 동안 노광됨으로써, 약 340-360 nm의 최단 파장에 기판이 노광되었다. 그런 다음, 기판은, 약간 부식성을 갖는 용액에 약 30초 동안 배치되고, Au 에칭용의 표준 포타시움 아이오딘(potassium iodine)용액에 이어서 Cr 에칭용의 표준 용액을 포함하는 트레이에서 에칭처리되었다. 이러한 용액은 포토레지스트 노광으로 노광된 배리어 리브의 상부 표면상의 도전성 금속을 제거하였다. 미크로-그루브내의 재료는 노광되지 않는다. 왜냐하면 포토레지스트는, 노광이 소정의 디벨로프 시간에서의 폴리머 크로스링크를 파괴하지 않도록 충분히 두꺼웠기 때문이었다.

그런 다음, 기판은 약 2 리터의 이소프로필 알콜 및 약 2 내지 10㎛의 입자사이즈를 갖는 약 5 그램의 선택된 형광 재료를 포함하는 탱크에 배치되고, 5x10^-3몰 농도의 질산 마그네슘과 섞은 다음에, 약 100 볼트의 전압이 형광 재료 퇴적용의 선택된 전극에 가해지며, 선택된 형광 재료를 갖지 않는 애노드 및 미크로-그루브 모두에는 0 볼트가 가해졌다. 형광 재료 퇴적 시간은 약 2분이었다. 3가지 서로 다른 색상의 형광 재료가 전술한 방법에 의해 도포된 후에는, 기판이 최종 제품을 오염시키지 않기 위하여 수산화물 전체를 산화물 형태로 변환시키도록 약 1 시간 동안 약 410℃로 가열되었다. 그런 다음, 기판은, 납 유리와 같은 산업 표준 시일재료를 통해 쌍을 이룬 아트워크(artwork) 패턴을 갖는 전방 플레이트에 정합된 다음, 약 1 시간 동안 410℃로 가열되어 시일을 달성하였다.

다음에는, 평판-표시 장치 패널이 10 내지 7 토르(torr)의 진공이 형성되어, 10 시간의 사이클 동안 385℃까지 가열되었다. 냉각된 후에는, 약 5 중량%의 크세논 가스 및 95 중량%의 네온 가스의 혼합물이 상기 패널에 500 토르의 압력으로 도입되어, 본 발명에 따른 플라스마 평판 패널 표시 장치를 제조하였다.

본 발명은 주로, 비디오 표시 장치, 컴퓨터에서 보조 설계 표시 장치, 항공기 관제 컨트롤러용의 표시 장치, 프로그래머용의 다중 페이지 표시 장치 등과 같은 용도에서 찾아 볼 수 있는 대형의 고해상도 색상 평판 패널 표시 장치와 관련하여 개발된 것이지만, 그러한 평판 패널 표시 장치는 대형 패널 표시 장치가 필요하거나 또는 유리한 대부분의 예에 응용할 수 있다는 점이 이해될 것이다.

본 명세서에서 언급된 문헌, 특허 및 특허 출원은 본원에 참고로 기재한 것이다.

지금까지 본 발명의 현재로서 바람직한 실시예를 설명하였지만, 본 발명은 첨부된 청구의 범위내에서 다른 형태로 구현될 수 있다는 점을 이해하여야 한다.

Claims

밀봉 형태의 가스 충진 포위체를 포함하는 평판-패널 표시 장치에 있어서, 상기 포위체는:

다수의 상부 유리 기판 전극 및 상기 상부 유리 기판 전극을 도포하는 전자방출 막을 갖는 상부 유리 기판;

상기 상부 유리 기판으로부터 이격배치되어 있으며, 다수의 교호 형태로 배치된 배리어 리브 및 미크로-그루브를 지니고, 각각의 배리어 그루브 리브가 베이스, 크레스트 및 상기 베이스로부터 상기 크레스트로 연장하는 측벽을 포함하는 하부 유리 기판;

금속으로 형성되어 있으며 각각의 미크로-그루브내에 배치되어 있고 상기 측벽의 최소한 일부에 이르기까지 연장하는 하부 유리 기판 전극; 및

각각의 하부 유리 기판 전극상에 배치되어 있으며 각각의 하부 유리 기판 전극과 일치하는 형광 재료

를 포함하는 것을 특징으로 하는 평판-패널 표시 장치.
제1항에 있어서, 각각의 미크로-그루브는 베이스 및 상방으로 연장하는 주변 측벽을 포함하고 상기 인접한 미크로-그루브의 주변 측벽이 중간 배리어 리브의 크레스트에 의해 상호접속되어 있는 것을 특징으로 하는 평판-패널 표시 장치.
제2항에 있어서, 상기 하부 유리 기판은 선택적으로 결정화되는 에칭 가능한 유리 재료의 내면을 포함하는 것을 특징으로 하는 평판-패널 표시 장치.
제2항에 있어서, 상기 전자 방출 막은 전자 방출 재료인 것을 특징으로 하는 평판-패널 표시 장치.
제2항에 있어서, 상기 전자 방출 막은 유전체 막인 것을 특징으로 하는 평판-패널 표시 장치.
제2항에 있어서, 각각의 하부 유리 기판 전극은 Cr 및 Au; Cu 및 Au; Ta 및 Au; Ag; Cr; Cu 및 Cr; 또는 ITO 및 Au로부터 선택된 1 또는 그 이상의 층을 선택적으로 금속화시킴으로써 퇴적되는 것을 특징으로 하는 평판-패널 표시 장치.
제2항에 있어서, 적색, 녹색 및 청색의 형광 재료가 분리된 인접 미크로-그루브에 퇴적되는 것을 특징으로 하는 평판-패널 표시 장치.
제2항에 있어서, 상기 배리어 리브는 3:1 이상의 애스펙트 비를 갖는 것을 특징으로 하는 평판-패널 표시 장치.
제2항에 있어서, 상기 배리어 리브는 5:1 이상의 애스펙트 비를 갖는 것을 특징으로 하는 평판-패널 표시 장치.
제2항에 있어서, 상기 미크로-그루브는 깊이가 약 50 내지 150㎛이고 폭이 약 20 내지 200㎛인 것을 특징으로 하는 평판-패널 표시 장치.
제2항에 있어서, 상기 미크로-그루브는 깊이가 약 120㎛이고 폭이 최소한 약 100㎛인 것을 특징으로 하는 평판-패널 표시 장치.
제3항에 있어서, 상기 에칭가능한 유리 재료는 최소한 하나의 응집제로 도우핑된 유리-세라믹 복합체인 것을 특징으로 하는 평판-패널 표시 장치.
제12항에 있어서, 상기 유리-세라믹 복합체는 감광 유리인 것을 특징으로 하는 평판-패널 표시 장치.
제3항에 있어서, 상기 에칭가능한 유리 재료는 약 90 중량%의 Li₂O-Al₂O₃-SiO₂ 및 Ce, Ag, Au 및 Cu로 이루어진 그룹으로부터 선택된 최소한 하나의 불순물을 포함하는 것을 특징으로 하는 평판-패널 표시 장치.
제3항에 있어서, 상기 에칭가능한 유리 재료는 약 73 내지 82 중량%의 SiO₂, 약 6 내지 15 중량%의 Li₂O, 약 4 내지 20 중량%의 Al₂O₃ 및 Ce, Ag, Au 및 Cu로 이루어진 그룹으로부터 선택된 약 0.006 내지 0.2 중량%의 최소한 하나의 불순물을 포함하는 것을 특징으로 하는 평판-패널 표시 장치.
제1항에 있어서, 상기 상부 유리 기판의 전극은 박막 전극인 것을 특징으로 하는 평판-패널 표시 장치.
제16항에 있어서, 상기 박막 전극은 증발형 Cr 및 Au; Cu 및 Au; Ta 및 Au; Ag, Cr, Cu 및 Cr; 또는 ITO 및 Au로부터 준비되는 것을 특징으로 하는 평판-패널 표시 장치.
제5항에 있어서, 상기 유전체 막은 MgO의 박막으로 피복되는 것을 특징으로 하는 평판-패널 표시 장치.
제1항에 있어서, 각각의 미크로-그루브상에 배치된 하부 유리 기판 전극은 제1 전극, 제2 전극 및 제3 전극을 포함하는 반복 배열로 상기 하부 유리 기판내에 배치되어 있는 다수의 전극을 형성하며;

상기 제1 전극은 접속 단부를 지니며 상기 상부 유리 기판을 넘어 상기 하부유리 기판의 제1 노광 단부로 연장하고;

상기 제2 전극은 접속 단부를 지니고 상기 상부 유리 기판을 넘어 상기 제1 노출 단부와 대향하는 상기 하부 유리 기판의 제2 노출 단부로 연장하며; 그리고

각 배열의 상기 제3 전극은 상기 상부 유리 기판을 넘어 상기 제1 및 제2 노출 단부 중 하나로 연장하는 접속 단부를 지니며, 각각의 교호 형태의 전극 배열의 상기 제3 전극 접속 단부는 상기 하부 유리 기판의 제1 노출 단부 및 제2 노출 단부사이에서 교호하는 것을 특징으로 하는 평판-패널 표시 장치.
밀봉 형태의 가스 충진 포위체를 포함하는 평판-패널 표시 장치에 있어서, 상기 포위체는:

다수의 상부 기판 전극 및 상기 상부 기판 전극을 도포하는 유전체 박막을 갖는 상부 유리 기판;

상기 상부 유리 기판으로부터 이격배치되어 있으며, 선택적으로 결정화되는 에칭가능한 유리 재료의 내면을 지니고 다수의 교호 형태로 배치된 배리어 리브 및 미크로-그루브를 지니며, 각각의 미크로-그루브가 미크로-그루브 및 상방으로 연장하는 주변 측벽을 포함하고 각각의 배리어 리브가 3:1 이상의 애스펙트 비를 지니며 배리어 리브 베이스, 크레스트 및 상기 배리어 리브 베이스에서 상기 크레스트로 연장하는 측벽을 포함하고, 인접한 미크로-그루브의 주변 측벽이 중간 배리어 리브의 크레스트에 의해 상호접속되어 있는 하부 유리 기판;

금속으로 형성되어 있으며 상기 측벽의 최소한 일부에 이르기까지 연장하는 하부 유리 기판 전극; 및

각각의 하부 유리 기판 전극상의 분리된 인접 미크로-그루브에 배치되어 있는 적색, 녹색 및 청색의 형광 재료

를 포함하는 것을 특징으로 하는 평판-패널 표시 장치.
제20항에 있어서, 상기 배리어 리브는 5;1 이상의 애스펙트 비를 갖는 것을 특징으로 하는 평판-패널 표시 장치.
제20항에 있어서, 상기 미크로-그루브는 깊이가 약 50 내지 150㎛이고 폭이 약 50 내지 200㎛인 것을 특징으로 하는 평판-패널 표시 장치.
제20항에 있어서, 상기 하부 유리 기판은 선택적으로 결정화되는 에칭가능한 유리 재료의 내면을 포함하고 상기 에칭가능한 유리 재료는 적어도 하나의 응집제로 도우핑된 유리-세라믹 복합체인 것을 특징으로 하는 평판-패널 표시 장치.
제23항에 있어서, 상기 유리-세라믹 복합체는 감광 유리인 것을 특징으로 하는 평판-패널 표시 장치.
제2항에 있어서, 상기 배리어 리브는 높이가 약 100㎛이며 폭이 20㎛ 미만이고 약 120 피치로 이격배치되어 있는 것을 특징으로 하는 평판-패널 표시 장치.