JPH10302652A - プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 完成したパネルの解像度を向上させる。 【解決手段】 下部基板と、その上に感光性ガラスで形
成される多数個の隔壁と、隔壁及び下部基板の全面に形
成される薄膜電極と、その上に形成される蛍光体膜とを
備え、その製造方法は、平行に結合する２つの基板中の
一側の基板に均一な厚さに感光性ペーストを塗布し、焼
成して感光性ガラス層を形成する段階Ｓ１０１〜Ｓ１０
３と、感光性ガラス層上にフォトレジスト層を形成し、
その全面にパターンマスクを設け、露光及び現像して不
要な部分を取り除いて隔壁を形成する段階Ｓ１０４〜Ｓ
１０６と、隔壁と隔壁との間のフォトレジスト上に所定
の厚さに薄膜電極層を形成し、隔壁上に残っているフォ
トレジスト及び薄膜電極層の不必要な部分を取り除いて
薄膜電極を形成する段階と、薄膜電極の全面に蛍光体膜
を形成する段階とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はプラズマディスプレ
イパネル及びその製造方法に関し、特にプラズマディス
プレイパネル(Plasma Display Pannel; PDP）の一側の
基板上に感光性物質で隔壁を形成し、前記隔壁と隔壁と
の間に形成されるグルーブの全面に電極を形成するに適
したプラズマディスプレイパネル及びその製造方法に関
する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、セル内部の気体放電現象を用い
て画像を表示する発光形素子の一種としてのＰＤＰは、
パネルの製造工程が極めて簡単であり、画面の大型化が
容易であり、応答速度が速いので、大型画面を有する直
視形画像表示装置、特にＨＤＴＶ(High Definition Tel
evision)時代を指向する画像表示装置素子として注目さ
れている。

【０００３】図１は従来の技術の面放電形ＰＤＰセルを
示す図であり、理解しやすく上部基板１０上に形成され
た維持電極１１、１１’の方向を、下部基板１４上に形
成されたアドレス電極１５に対応するように９０゜回転
させて示す横断面図である。

【０００４】図１に示すように、従来の３電極面放電Ｐ
ＤＰは、画像の表示面である上部基板１０と、前記上部
基板１０と一定の距離をおいて平行に位置する下部基板
１４と、前記下部基板１４中の前記上部基板１０との対
向面に一定の間隙に配列される複数個の隔壁１６と、前
記上部基板１０と下部基板１４とが結合されて形成され
る多数個の放電空間とを含んでなる。

【０００５】具体的に、前記ＰＤＰは、複数個の隔壁１
６の間における下部基板１４上に形成されるアドレス電
極１５と、前記各放電空間の内部面のうち両側隔壁１６
面及び下部基板１４面に該当アドレス電極１５を囲むよ
うに形成されるとともに、放電時に可視光線を放出する
蛍光体膜１７と、前記上部基板１０中の下部基板１４と
の対向面に交互に一つずつ一定の間隙に形成される透明
電極８、８’及びバス電極９、９’とから構成される。
ここで、前記透明電極８、８’及びバス電極９、９’
は、アドレス電極１５に直交するように形成され、全体
画面が多数個のセルに分けられるようにする。

【０００６】又、前記透明電極８、８’、バス電極９、
９’上には放電電流を制限する誘電体膜１２が形成され
ており、前記誘電体膜１２上には透明電極８、８’、バ
ス電極９、９’、及び誘電体膜１２を保護する保護膜１
３が形成されており、各放電空間の内部にはペニング効
果(penning effect)を誘発する放電ガスが注入されてい
る。

【０００７】以下、上記のように構成される３電極面放
電形カラーＰＤＰ中の１つのセルに画像が表示される過
程を説明する。

【０００８】まず、維持電極１１、１１’に放電電圧が
供給されて放電が起こり、セル内部で電界が発生して放
電ガス中の微量電子が加速され、加速された電子と中性
粒子との衝突などにて中性粒子が早い速度で電子とイオ
ンに電離されることにより、放電ガスがプラズマ状にな
るとともに、真空紫外線が発生する。前記発生した紫外
線は蛍光体膜１７を励起させて可視光線を発生させ、こ
の際発生した可視光線は上部基板１０を介して外部へ出
射される。この後、透明電極８、８’に一定の時間の間
電圧を印加して維持電極１１、１１’間にサステーン放
電を起こし、各セルの発光を一定の期間持続させること
により、所定の画像を表示するようになる。

【０００９】次に、このように動作する従来の面放電形
カラーＰＤＰの製造方法について説明する。

【００１０】まず、上部絶縁基板１０上に透明電極８、
８’、バス電極９、９’から構成される維持電極１１、
１１’を形成する。次に、壁電荷を発生させて駆動電圧
を落とすべく、誘電体ペーストを維持電極１１、１１’
上に印刷して誘電体膜１２を形成した後、これを乾燥及
び焼成する。この際、前記誘電体膜１２は、酸化鉛Ｐｂ
Ｏ２を主成分とする低融点ガラスからなる。次いで、誘
電体膜１２の損傷を防ぐべく、酸化マグネシウムＭｇＯ
を電子ビーム蒸着法で蒸着して保護膜１３を形成する。

【００１１】一方、下部基板１４上に金属物質を厚膜印
刷してアドレス電極１５を形成した後、隣接する放電セ
ル間のクロストーク(crosstalk)を防止するために隔壁
１６を形成する。前記隔壁１６は、厚膜印刷法により下
部基板１４の定位置にガラスペーストを数回にわたって
印刷及び乾燥した後焼成して形成する。言い換えれば、
前記隔壁１６は、セラミック粉と有機バインダー溶媒と
を混ぜ合わせたペースト(paste)を１０回にわたって印
刷及び乾燥した後、４５０℃〜７００℃で焼成して形成
する。この際、１回の印刷／乾燥後の隔壁厚さは１３μ
ｍ〜１５μｍであり、反復工程により形成された最終の
隔壁厚さは１３０μｍ〜１５０μｍである。

【００１２】次いで、隔壁１６の形成された下部基板１
４上に前記アドレス電極１５及び隔壁１６の内周縁を囲
むように蛍光体膜１７を形成する。この際、前記アドレ
ス電極１５は、ニッケルＮｉ、アルミニウムＡｌなどの
金属伝導体を厚膜印刷法で印刷して形成する。

【００１３】このようにして形成された上部基板１０と
下部基板１４とを結合した後、シーリング領域をシーラ
ントにより封じることにより、密封空間を形成する。次
に、前記シーラントにより密封された空間へ放電ガスを
封入する。この際、下部基板１４のエッジに穿設してあ
った孔（図示せず）にガス注入ガラス管（図示せず）を
挿入して融着させた後、前記ガラス管を介してパネル内
部の空気を排気させる。パネル内部の排気時の真空度は
ほぼ１０^ー6〜１０^ー8Ｔｏｒｒである。そして、前記ガラ
ス管にガス注入装置を結合した後、前記ガス注入装置を
介してパネル内へ混合ガスを注入し、前記ガラス管を熱
封合せすることにより、パネルが作られる。

【００１４】上記方法により製造されるカラーＰＤＰに
おいては、隔壁の製造時に混合ペーストを数回にわたっ
て印刷及び乾燥した後、焼成して隔壁を形成するため、
ユーザの所望する品質の隔壁を作り難く、隔壁の形成時
に深さを調節し難く、製造コストが高いという問題点が
あった。

【００１５】又、従来のカラーＰＤＰは、アドレス電極
を厚膜印刷法で形成するため、基板との結合力が弱い。
更に、基板を高温で熱処理する場合、熱膨張率が変わっ
て下部基板と電極との接触面で界面クラックが発生する
ため、電極間に不安定な放電が起こり、パネルの寿命が
短くなる問題点があった。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記した従来
の技術の問題点を解決するためになされたものであり、
その目的とするところは、感光性ガラスを用いて隔壁を
形成することにより、完成したパネルの解像度を向上さ
せ得るようにしたＰＤＰ及びその製造方法を提供するこ
とにある。

【００１７】更に、本発明の他の目的は、隔壁及び電極
形成工程が簡単であり、これにより製造コストが節減さ
れるようにしたＰＤＰ及びその製造方法を提供すること
にある。

【００１８】更に、本発明の又他の目的は、基板に高付
着力を有する電極を形成してセルの放電状態及び寿命を
向上させるとともに、グルーブの全体に反射形金属電極
を形成して輝度を向上させるようにしたＰＤＰ及びその
製造方法を提供することにある。

【００１９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明のプラズマディスプレイパネルの特徴は、下部
基板と、前記下部基板上に感光性ガラスで形成される多
数個の隔壁と、前記隔壁及び下部基板の全面に形成され
る薄膜電極と、前記薄膜電極上に形成される蛍光体膜と
を備えることにある。

【００２０】更に、本発明のプラズマディスプレイパネ
ルの他の特徴は、１対の維持電極を有する上部基板と、
前記上部基板に対向して配置され、隔壁が形成される下
部基板と、前記下部基板の各隔壁の内方に交互に配列形
成され、各カラーに基づいて一定の方向に引き出される
電極引出部を有する第１、第２、第３カラー電極と、前
記電極を共通で連結するための配線とを備えることにあ
る。

【００２１】又、本発明のプラズマディスプレイパネル
の製造方法の特徴は、平行に結合する２つの基板を備え
たプラズマディスプレイパネルを形成する方法におい
て、前記２つの基板中の一側の基板に均一な厚さに感光
性ペーストを塗布し、これを焼成して感光性ガラス層を
形成する段階と、前記感光性ガラス層上にフォトレジス
ト層を形成する段階と、前記フォトレジスト層の全面に
パターンマスクを設け、露光及び現像して不要な部分を
取り除いて隔壁を形成する段階と、前記隔壁と隔壁との
間、且つフォトレジスト上に所定の厚さに薄膜電極層を
形成する段階と、前記隔壁上に残っているフォトレジス
ト及び薄膜電極層の不必要な部分を取り除いて薄膜電極
を形成する段階と、前記薄膜電極の全面に蛍光体膜を形
成する段階とを備えることにある。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、本発明のＰＤＰ及びその製
造方法の好適な実施形態を添付図面に基づき説明する。

【００２３】図２は本発明のカラーＰＤＰの隔壁製造方
法を示す工程流れ図である。

【００２４】まず、本発明の感光性物質は、酸化ケイ素
ＳｉＯ２からなる原料粉末に酸化リチウムＬｉ２Ｏ、酸
化アルミニウムＡｌ２Ｏ３が混入された組成物からな
る。この際、前記酸化ケイ素ＳｉＯ２の含量は７３ｗｔ
％〜８２ｗｔ％であり、酸化リチウムＬｉ２Ｏの含量は
６ｗｔ％〜１５ｗｔ％であり、酸化アルミニウムＡｌ２
Ｏ３の含量は４ｗｔ％〜２０ｗｔ％である。また、感光
性物質にはセリウムＣｅ、銀Ａｇ、金Ａｕ、銅Ｃｕのう
ち少なくとも一つの添加物質が混入されるが、前記添加
物質は０．００６ｗｔ％〜０．２ｗｔ％の含量を有す
る。

【００２５】次に、上記感光性物質を中性又は酸性条件
を有する開放るつぼ(open crucible)に入れて１３５０
〜１４００℃で３〜４時間の間熱処理することにより、
結晶化した感光性ガラスを作る。もしも、感光性ガラス
に含まれたドーパントの量が極めて少ない場合には、還
元条件下で澱粉又は塩化アンモニウムを添加した後、同
じ条件で熱処理して、結晶性感光性ガラスを作る。逆
に、前記ドーパントの量が多い場合には、酸化条件下で
酸化剤を添加する。この際、感光性ペーストが感光性を
失わないように適当な電気化学的環境を提供することに
注意すべきである。

【００２６】このようにして得られた感光性ガラスを粉
砕して数μｍ以下の原料粉末を作り、前記原料粉末に酸
化剤、銀、及びリチウムのうち何れか一つを触媒剤とし
て添加した後、有機バインダーを取り混ぜて感光性ペー
スト状にする。

【００２７】図２を参照すると、前記感光性ペーストを
下部基板２４上に１００μｍの厚さに均一に塗布する
（Ｓ１０１）。前記下部絶縁基板２４上に１００μｍの
厚さに塗布された感光性ペーストを５９０〜６２０℃で
１時間の間焼成して（Ｓ１０２）、図３に示すように感
光性ガラス層２０を形成する（Ｓ１０３）。次いで、焼
成された感光性ガラス層２０の表面を滑らかに研磨した
後、前記感光性２０上に図４に示すようなパターンマス
ク２９を取り付ける（Ｓ１０４）。前記パターンマスク
２９は石英からなり、パターンマスク２９の所定の領域
に形成された金属薄膜層を含む。次いで、紫外線に露出
された感光性ガラス層２０を露光した後（Ｓ１０５）、
露光工程で用いたパターンマスク２９を取り除く（Ｓ１
０６）。前記感光性ガラス層２０における紫外線に露出
された部分が結晶化されるように６００℃でヒーティン
グして現像する（Ｓ１０７）。次いで、露光された領域
つまりグルーブ２２が理想的な深さになるまでエッチン
グする（Ｓ１０８）。こうすると、図５に示すように、
下部基板２４上に形成された多数個の平行な隔壁２６と
隔壁２６との間にグルーブ(groove)２２がそれぞれ形成
される。

【００２８】前記隔壁２６及びグルーブ２２は、感光性
ガラスからなる下部基板２４を直接にエッチングする方
法で形成してもよい。前記感光性ガラス層２０は、紫外
線露出及び基板自体への持続的な熱処理により結晶化さ
れるため、食刻時に非露光部分と露光部分は３０倍程度
の食刻速度の違いを有する。ここで、食刻比の違いによ
り下部基板２４上に互いに異なる縦横比を有する隔壁２
６を形成可能である。

【００２９】又、下部基板２４は、グルーブ２２の深さ
やグルーブ２２の幅が理想的な形態になるまで約４〜１
０分間５〜１０％の弱酸であるＨＦ溶液によりエッチン
グされる。この際、前記グルーブ２２の深さは５０μｍ
〜１５０μｍであり、幅は５０μｍ〜２００μｍであ
る。ここで、好ましくは前記グルーブ２２の深さは１２
０μｍ、幅は１００μｍである。又、前記隔壁２６は底
面の幅：高さが１：３〜１：７の縦横比を有するように
形成するが、理想的な縦横比は１：５である。

【００３０】一方、図６ａ〜図６ｆは本発明のＰＤＰを
形成する工程図である。

【００３１】まず、図６ａに示すように、下部基板２４
上に均一な厚さに感光性ペーストを塗布しこれを焼成し
て感光性ガラス層２０を形成する。

【００３２】図６ｂに示すように、前記感光性ガラス層
２０の全面にフォトレジスト層２１を形成する。

【００３３】図６ｃ、図６ｄに示すように、前記フォト
レジスト２１の上部にパターンマスク２９を設けた後、
前記パターンマスク２９により露出されたフォトレジス
ト層２１の下部の感光性ガラス層２０をＲＩＥ(Reactiv
e Ion Etching)法でエッチングして、下部基板２４上に
隔壁２６を形成する。

【００３４】この際、図７に示すように、フォトレジス
ト２１により露出された感光性ガラス層２０を異方性エ
ッチング法でエッチングすると、下部基板２４上に方向
性タイプの隔壁３６が形成される。前記隔壁３６及び露
出された下部基板２４上には金属電極２５、蛍光体膜２
７が順次に積層されている。

【００３５】又、図８に示すように、フォトレジスト２
１により露出された感光性ガラス層２０を等方性エッチ
ング法でエッチングすると、下部基板２４上に等方性タ
イプの隔壁４６が形成される。前記隔壁４６及び露出さ
れた下部基板２４上には金属電極２５、蛍光体膜２７が
順次に積層されている。

【００３６】ここで、前記隔壁２６、３６、４６の形成
方法には等方性エッチング法が最も好ましく、食刻条件
によって尖頭部に行くほど一層鋭く形成することが可能
である。

【００３７】次いで、図６ｅに示すように、露出された
下部基板２４、隔壁２６と隔壁２６との間、フォトレジ
スト２１上に所定の厚さに薄膜電極層２３を蒸着する。
この際、前記薄膜電極層２３は、金Ａｕ、クロムＣｒ、
銅Ｃｕなどの金属物質からなり、薄膜蒸着法、電子ビー
ム蒸着法、電気メッキ法のうち何れか一方法により形成
される。

【００３８】図６ｆに示すように、前記隔壁２６上に残
っているフォトレジスト２１と、薄膜電極層２３の不要
な部分とを取り除いて、一定のパターンの金属電極２５
を形成する。この際、残存するフォトレジスト２１及び
薄膜電極層２３の不必要な部分は超音波又は表面研磨に
より除去される。この後、前記金属電極２５の全面に、
赤(red)、緑(green)、青(blue)の蛍光体膜２７をピクセ
ル(pixel)の位置に代わる代わる所定の厚さに形成す
る。この際、前記蛍光体膜２７は電気泳動(electrophor
esis)法により塗布されるが、印刷法で形成してもよ
い。又、前記蛍光体膜２７は標準電子励起蛍光体であ
り、塗布された蛍光体の凝集力を高めるべく懸濁性添加
物を含有している。これに適した添加物は、粉ワックス
(wax)と単一溶融塩(salt)との混合物、又は酸、溶媒剤
等の有機物などを含んでいる。

【００３９】一方、金属電極２５上に電気泳動法を用い
て蛍光体膜２７を形成する際、図９に示すような第１カ
ラー電極５０、第２カラー電極６０、及び第３カラー電
極７０による電極の配列が効果的である。従って、上部
基板１０の端部において互いに相反する電極の連結ピッ
チを最小化し、且つ配線時に回路の連結ラインを減少さ
せるべく、第１カラー電極５０、第２カラー電極６０は
１つずつ、そして第３カラー電極７０は２つずつクロス
オーバーして連結する。前記金属電極２５の形状は、図
６ｅ、図７、図８に示すようにＵ字状、台形、半円状等
を全部満足する。この際、前記金属電極２５は電極間の
距離が非常に短いため、形状に応じてはセルの放電に全
然影響を及ぼさない。

【００４０】更に具体的には、隔壁２６と隔壁２６との
間に形成された多数個のグルーブ上に多数のカラー電極
５０、６０、７０が交互に配列されるとともに、前記カ
ラー電極５０、６０、７０に電圧を印加するための電極
引出部５１、６１、７１を有する。前記電極引出部５
１、６１、７１は各カラー電極に応じて下部基板２４の
一定の方向に引き出されて配列される。前記第１カラー
電極５０の電極引出部５１と第２カラー電極６０の電極
引出部６１は、下部基板２４の互いに異なる方向に引き
出されて形成される。前記第３カラー電極７０の２つの
電極引出部７１は下部基板２４の互いに異なる方向に分
けられて引き出されて形成される。よって、前記第１、
第３カラー電極５０、７０の電極引出部５１、７１は上
部基板１０の一側端で露出されており、配線３０により
外部の誘導回路（図示せず）に連結されている。同様
に、前記第２、第３カラー電極６０、７０の電極引出部
６１、７１は上部基板１０の他側端で露出されており、
配線３０により外部の誘導回路に連結されている。

【００４１】以外の工程は従来と同様なので、詳細な説
明は省略する。

【００４２】

【発明の効果】以上説明したように、本発明のプラズマ
ディスプレイパネル及びその製造方法には次のような効
果がある。

【００４３】第１に、下部基板上の隔壁を感光性ガラス
を用いて形成することにより、隔壁形成に応ずる全体の
工程数を減少させ、材料コストを低減させることができ
るので、低コスト化が可能である。

【００４４】第２に、多様な形態の隔壁、電極、及び蛍
光体膜を順次に形成することにより、高解像度を有する
プラズマディスプレイパネルを制作することができる。

【００４５】第３に、電極を金属薄膜で形成して金属の
界面結合力が優秀なので、パネルの放電特性及び寿命を
向上させることができる。

【００４６】第４に、隔壁と隔壁との間に形成されたグ
ルーブの全面に薄膜電極が形成されるので、発光する光
を反射させて輝度を高め、更にアドレス放電を容易にす
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】一般的な面放電形ＰＤＰの単位セルの断面構造
を示す図。

【図２】本発明のＰＤＰの隔壁製造方法を示す工程流れ
図。

【図３】図２の感光性ガラス層を示す概略斜視図。

【図４】図３の感光性ガラス層をパターニングするため
の概略斜視図。

【図５】本発明のＰＤＰを示す断面図。

【図６】６ａ〜６ｆは本発明のＰＤＰを形成する工程
図。

【図７】本発明のＰＤＰの他の実施形態を示す断面図。

【図８】本発明のＰＤＰの又他の実施形態を示す断面
図。

【図９】本発明のＰＤＰ用の上部基板と下部基板とを結
合した概略斜視図。

【符号の説明】

８、８’ 透明電極 ９、９’ バス電極 １０ 上部基板 １１、１１’ 維持電極 １２ 誘電体膜 １３ 保護膜 １４、２４ 下部基板 １５ アドレス電極 １６、２６、３６、４６ 隔壁 １７、２７ 蛍光体膜 １８ 放電領域 １９ 紫外線 ２０ 感光性ガラス層 ２１ フォトレジスト ２２ グルーブ ２３ 薄膜電極層 ２５ 金属電極 ２９ パターンマスク ３０ 配線 ５０、６０、７０ 第１、第２、第３カラー電極 ５１、６１、７１ 電極引出部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｊ 17/04 Ｈ０１Ｊ 17/04

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 平行に結合する２つの基板のうち一側の
   基板上に放電空間を仕分けるための隔壁が形成されるプ
   ラズマディスプレイパネルの構造において、前記隔壁は
   感光性ガラスで形成されることを特徴とするプラズマデ
   ィスプレイパネル。
2. 【請求項２】 前記感光性ガラスは結晶性感光性ガラス
   であることを特徴とする請求項１記載のプラズマディス
   プレイパネル。
3. 【請求項３】 前記感光性ガラスは、酸化ケイ素ＳｉＯ
   ２からなる原料粉末に酸化リチウムＬｉＯ２、酸化アル
   ミニウムＡｌ２Ｏ３の混合物、微量の添加物質が混入さ
   れた組成物からなることを特徴とする請求項２記載のプ
   ラズマディスプレイパネル。
4. 【請求項４】 前記混合物の含量ｗｔ％は、酸化ケイ素
   ＳｉＯ２が７３ｗｔ％〜８２ｗｔ％、酸化リチウムＬｉ
   Ｏ２が６ｗｔ％〜１５ｗｔ％、酸化アルミニウムＡｌ２
   Ｏ３が４ｗｔ％〜２０ｗｔ％であることを特徴とする請
   求項３記載のプラズマディスプレイパネル。
5. 【請求項５】 前記添加物質は、セリウムＣｅ、銀Ａ
   ｇ、金Ａｕ、銅Ｃｕのうち少なくとも何れか一つである
   ことを特徴とする請求項３記載のプラズマディスプレイ
   パネル。
6. 【請求項６】 前記添加物質の含量ｗｔ％は０．００６
   ｗｔ％〜０．２ｗｔ％であることを特徴とする請求項３
   記載のプラズマディスプレイパネル。
7. 【請求項７】 前記隔壁と隔壁との間に形成される多数
   個のグルーブの全面に薄膜電極が形成され、前記薄膜電
   極の全面に蛍光体膜が形成されることを特徴とする請求
   項１記載のプラズマディスプレイパネル。
8. 【請求項８】 前記薄膜電極は、金Ａｕ、クロムＣｒ、
   銅Ｃｕのうち少なくとも何れか一つの金属であることを
   特徴とする請求項７記載のプラズマディスプレイパネ
   ル。
9. 【請求項９】 隔壁と隔壁との間に形成される多数個の
   グルーブ上に多数のカラー電極が反復的に配列されると
   ともに、前記カラー電極へ電圧を印加するための電極引
   出部を有するプラズマディスプレイパネルにおいて、 前記電極引出部は各カラー電極に応じて基板の一定の方
   向に引き出されて配列されることを特徴とするプラズマ
   ディスプレイパネル。
10. 【請求項１０】 前記カラー電極は、第１カラー電極、
    第２カラー電極、及び第３カラー電極が交互に配列さ
    れ、各々の電極引出部が一定の方向に引き出されて形成
    されることを特徴とする請求項９記載のプラズマディス
    プレイパネル。
11. 【請求項１１】 前記第１カラー電極の電極引出部と第
    ２カラー電極の電極引出部は基板の互いに異なる方向に
    引き出されて形成されることを特徴とする請求項１０記
    載のプラズマディスプレイパネル。
12. 【請求項１２】 前記第３カラー電極の２つの電極引出
    部は基板の互いに異なる方向に分けられて引き出されて
    形成されることを特徴とする請求項１０記載のプラズマ
    ディスプレイパネル。
13. 【請求項１３】 平行に結合する２つの基板を備えたプ
    ラズマディスプレイパネルを形成する方法において、 前記２つの基板中の一側の基板に均一な厚さに感光性ペ
    ーストを塗布し、これを焼成して感光性ガラス層を形成
    する段階と、 前記感光性ガラス層上にフォトレジスト層を形成する段
    階と、 前記フォトレジスト層の全面にパターンマスクを設置
    し、露光及び現像して不必要な部分を取り除いて隔壁を
    形成する段階と、 前記隔壁と隔壁との間、且つフォトレジスト上に所定の
    厚さに薄膜電極層を形成する段階と、 前記隔壁上に残っているフォトレジスト及び薄膜電極層
    の不必要な部分を取り除いて薄膜電極を形成する段階
    と、 前記薄膜電極の全面に蛍光体膜を形成する段階と、 を備えることを特徴とするプラズマディスプレイパネル
    の製造方法。
14. 【請求項１４】 前記蛍光体膜は電気泳動法により形成
    されることを特徴とする請求項１３記載のプラズマディ
    スプレイパネルの製造方法。