JP3984946B2 - 画像表示装置の製造方法 - Google Patents
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Description
基板と、該基板とともに前記気密容器を形成するための枠と、を低融点金属を含む封着材で接合するステップを有しており、
前記ステップは、前記枠と前記基板を突き当てることによって形成される該枠と該基板との隅部に沿って前記封着材を設け、前記隅部に沿った小領域毎に、前記封着材の前記枠と前記基板とに接合が可能な温度以上での加熱と固化とを順次行い、前記枠と前記基板との対向面間に前記封着材を浸入させて前記基板と前記枠とを接合するステップである
ことを特徴とする画像表示装置の製造方法である。
基板と、該基板とともに前記気密容器を形成するための枠と、を低融点金属を含む封着材で接合するステップを有しており、
前記ステップは、前記枠と前記基板を突き当てることによって形成される、該枠と該基板との隅部に沿った小領域毎に、前記枠と前記基板とに接合が可能な温度以上の温度に加熱した封着材の供給と固化とを順次行い、前記枠と前記基板との対向面間に前記封着材を浸入させて前記基板と前記枠とを接合するステップである
ことを特徴とする画像表示装置の製造方法である。
図1−aは組立工程を示しており、真空雰囲気下において、基板上に、該基板とともに気密空間を区画する部材を突き当てて隅部(入隅部)12を形成する。本例では、基板は画像形成装置を構成するリアプレート2であり、これとともに気密空間を区画する部材は画像形成装置を構成するフェースプレート1に固定されたガラス外枠3である。すなわち、リアプレート2とフェースプレート1とは相対向する一対の基板であり、フリットガラス6を用いてフェースプレート1にガラス外枠3を起立させた状態で接合固定し、このガラス外枠3の端面をリアプレート2に突き当てて隅部12を形成する。
図1−bは封着材配置工程を示しており、リアプレート2にガラス外枠3の端面を突き当てて形成した隅部12に封着材を配する。
図1−cは局部加熱工程を示しており、隅部12に配した金属In4を局部加熱手段により小領域で局部加熱して溶融させる。
図1を用いて、実施例1の気密容器の製造方法を説明する。本実施例では、以下の一連の工程を1×10-5以下の高真空雰囲気に設定された真空チャンバ内で行う。
図1において、工程1−aは組立工程を示している。フェースプレート1とリアプレート2とは相対向する一対の基板で、本実施例では、フェースプレート1は蛍光体と電子源から放出される電子を加速する加速電極が形成されたガラス基板であり、リアプレート2は電子源基板である。これらの基板1,2の間に設けるガラス外枠3の高さが、これらの間隔を規定している。
図1において、工程1−bは封着材配置工程を示している。本実施例では、封着材として金属In4を用いており、ガラス外枠3をリアプレート2上に突き当てて形成された隅部12に線材として成形された金属In4を配置する。本実施例では、3軸ロボットを用いて、1mmφの線状の金属In4を隅部12に配置した。
図1において、工程1−cは局部加熱工程を示しており、上記真空チャンバ内で行われる。局部加熱手段としては超音波半田ゴテ5を用い、この超音波半田ゴテ5により隅部12に配した金属In4を溶融させると、隅部12において、封着材である金属In4がリアプレートと枠のそれぞれと気密な接合を形成する。これによりリアプレートと枠とが突き当てにより形成された隅部の封着部材を介して接合される。
実施例2では、装置の小型化を図るために、局部加熱手段として半導体レーザーを用いている。以下、図4を用いて、実施例2の気密容器の製造方法について説明するが、工程4−a〜工程4−bまでは、実施例1における工程1−a〜工程1−bと同様に実施する。
図4において、工程4−cは局部加熱工程を示している。本実施例では、局部加熱手段として、約800nmの波長の半導体レーザー8を用いている。この半導体レーザー8は、約10Wのパワーの光を不図示の集光レンズにより1mmφ程度に集光して、金属In4に照射する。このように半導体レーザー8の集光加熱による方が、実施例1の超音波半田ゴテを用いる場合よりも、局部加熱手段を小型化できるので、特に、ガラス外枠3の高さが2mm弱程度の薄型の気密容器を製造する場合にも、容易に封着作業を行うことができる。
金属In4のような低融点金属は高価な材料であるため、封着材の量をなるべく減らすことが望ましい。
図7において、工程7−cは局部加熱工程を示している。本実施例では、溶融した金属In4とガラス外枠3との密着力を高めるために、ガラス外枠3をアシスト加熱している。アシスト加熱は該アシスト加熱のみでは封着材が封着可能な状態にまで加熱されない条件の加熱である。このアシスト加熱を行うためにフェースプレート1及びリアプレート2の外面をホットプレート11,11で挟み込んでいる。このアシスト加熱を行った上で、更に金属In4の局部加熱を行う。
工程7−dは補強工程を示しており、新たにこの工程を追加することで、溶着部(封着部)を補強することができる。工程7−cにおいて、少量の金属In4で気密性は確保できたものの、気密容器として、応力が加わり変形し、移動・落下などの衝撃を受けた際には、接合線が剥離して気密性を損なうことになる。そのため、機能的に気密性は充分でないものの強力に接着できる接着剤10を用いて補強することが望ましい。
次に、図8を用いて、実施例4の気密容器の製造方法について説明する。本実施例では、フェースプレートト1とガラス外枠3、リアプレートト2とガラス外枠3との双方の封着を行っている。
図8において、工程8−aは組立工程を示している。予め、リアプレート2に接着剤10を用いてガラス外枠3を起立させた状態で固定しておく。この接着剤10は気密容器の内部に残存することになるので、硬化後に放出ガスの少ないものを選択し、さらに極力少ない量を用いて接着する。この接着剤10によりリアプレート2の気密性を確保するものではないため、仮組としての充分な強度が得られれば、点付けによる固定するだけで充分である。
図8において、工程8−bは封止材の配置工程を示している。実施例1と同様に、封止材として線材として成形された金属In4を用い、リアプレート2とガラス外枠3との隅部12に配する。この工程では、予め、ガラス外枠3の外周部全体を覆うのに充分な量の線状の金属In4が配される。
図8において、工程8−cは局部加熱工程を示している。本実施例では、局所加熱手段として半導体レーザー8を用い、この半導体レーザー8によりリアプレート2とガラス外枠3との隅部12に配した金属In4を溶融する。
工程8−dは冷却状態を示しているが、本発明では局部加熱を採用しているので、溶着部(封着部)は局部加熱手段の移行により順次冷却することになり、冷却時間も短く、ガラス外枠3の全体を覆うようにリアプレート2からフェースプレート1までに至る封着部材が形成される。封着部材はガラス外枠3、リアプレート2、フェースプレート1のそれぞれと気密な接合を形成している。
2 リアプレート
3 ガラス外枠
4 金属In
5 超音波半田ゴテ
7 下地膜
8a レーザービーム
8 半導体レーザ
9 ディスペンサ
10 接着剤
11 ホットプレート
12 隅部
13 開先部
Claims (4)
- 表示素子と、該表示素子を内包する気密容器と、を有する画像表示装置の製造方法であって、
基板と、該基板とともに前記気密容器を形成するための枠と、を低融点金属を含む封着材で接合するステップを有しており、
前記ステップは、前記枠と前記基板を突き当てることによって形成される該枠と該基板との隅部に沿って前記封着材を設け、前記隅部に沿った小領域毎に、前記封着材の前記枠と前記基板とに接合が可能な温度以上での加熱と固化とを順次行い、前記枠と前記基板との対向面間に前記封着材を浸入させて前記基板と前記枠とを接合するステップである
ことを特徴とする画像表示装置の製造方法。 - 表示素子と、該表示素子を内包する気密容器と、を有する画像表示装置の製造方法であって、
基板と、該基板とともに前記気密容器を形成するための枠と、を低融点金属を含む封着材で接合するステップを有しており、
前記ステップは、前記枠と前記基板を突き当てることによって形成される、該枠と該基板との隅部に沿った小領域毎に、前記枠と前記基板とに接合が可能な温度以上の温度に加熱した封着材の供給と固化とを順次行い、前記枠と前記基板との対向面間に前記封着材を浸入させて前記基板と前記枠とを接合するステップである
ことを特徴とする画像表示装置の製造方法。 - 前記ステップは、真空雰囲気下で行うことを特徴とする請求項1または2に記載の画像表示装置の製造方法。
- 前記封着材を配する部位に、下地膜として該封着材と濡れ性の良い材料を形成することを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の画像表示装置の製造方法。
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