KR100445951B1 - 고압 처리 장치 - Google Patents

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가부시키가이샤 고베 세이코쇼
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Abstract

본 발명의 과제는 크린룸 내에 일부를 설치할 수 있는 콤팩트한 구성의 장치로서, 고압 처리를 안정되게 행할 수 있는 고압 처리 장치를 제공하는 것이다.
피처리 부재에 가압하에서 고압 유체와 고압 유체 이외의 약액을 접촉시켜, 피처리 부재 상의 불필요 물질의 제거 처리를 행하는 고압 처리 장치로서, 복수의 고압 처리 챔버와, 각 고압 처리 챔버에 고압 유체를 공급하기 위한 공통의 고압 유체 공급 수단과, 각 고압 처리 챔버에 약액을 공급하기 위한 공통의 약액 공급 수단과, 상기 피처리 부재의 처리 후에 상기 고압 처리 챔버로부터 배출되는 고압 유체와 약액과의 혼합물로부터 기체 성분을 분리하기 위한 분리 수단을 구비한 고압 처리 장치이다.

Description

고압 처리 장치{High Pressure Processing Device}
본 발명은, 반도체 기판과 같은 표면에 미세한 요철(미세 구조 표면)을 갖는 피처리 부재를 효율적으로 세정 등을 할 때에 최적의 고압 처리 장치에 관한 것으로, 예를 들어 크린룸에 설치되어, 반도체 제조 프로세스로 기판 표면에 부착된 레지스트 등의 오염 물질을 기판으로부터 박리 제거하기 위해 이용되는 고압 처리 장치에 관한 것이다. 또한 본 발명은, 기판 표면에 부착된 수분을 제거하는 건조 처리나, 기판 표면에 존재하는 불필요한 부분을 제거하는 현상 처리에 이용되는 고압 처리 장치에 관한 것이다.
반도체 제조 프로세스 중에서 레지스트를 이용하여 패턴 형성하는 경우, 패턴 형성 후에 불필요해지는 레지스트나, 에칭시에 생성되어 기판 상에 잔존해 버리는 에칭 폴리머 등의 불필요 오염 물질을 기판으로부터 제거하기 위한 세정 공정이 필수 공정이 된다.
반도체 제조 프로세스는 크린룸 내에서 행해지므로, 세정 공정도 크린룸 내에 있어서 행하는 것이 바람직하다. 그러나, 크린룸은 그 건설뿐만 아니라, 유지에 있어서도 상당히 경비가 들기 때문에, 세정 장치도 설치 면적이 작아 기능성 및 세정성이 우수한 것이 요구된다.
종래는, 반도체 세정 방법으로서 박리액(세정액)에 반도체 기판 등을 침지하고, 그 후 알코올이나 초순수에 의해 린스하는 습식 세정 방법이 채용되어 왔다. 박리액에는 유기계나 무기계의 화합물이 이용되어 왔지만, 액체의 표면 장력이나 점도가 높은 등의 원인에 의해, 미세화된 패턴의 오목부에 박리액을 침투시킬 수 없다는 문제나, 박리액이나 린스액을 건조시킬 때에 기액 계면에 생기는 모관력이나 건조시의 가열에 의한 체적 팽창 등에 의해 패턴의 볼록부가 도괴되어 버리는 문제 등이 있었으므로, 최근에는 예를 들어 초임계 이산화탄소와 같은 저점도의 고압 유체를 박리액 또는 린스액으로서 사용하는 검토가 이루어져 있다.
예를 들어, 일본 특허 공개 평5-226311호에는 크린룸 내에 설치 가능한 세정 장치로서, 초임계 유체로 반도체 웨이퍼 표면의 수분, 유지분, 에스테르 등의 오염물을 용해 제거하기 위한 장치가 개시되어 있다. 고압 또는 초임계 유체로서 대기압하에서 간단하게 기화하여, 안전성이 우수하고, 게다가 저렴한 이산화탄소를 이용한다고 하면, 이산화탄소 유체는 헥산 정도의 용해력를 갖고 있으므로, 상기 공보에 개시되어 있는 바와 같이, 기판 표면의 수분이나 유지분 등의 제거는 용이하게 행할 수 있지만, 레지스트나 에칭 폴리머 등의 고분자 오염 물질에 대한 용해력은 불충분하여, 이산화탄소 단독으로 이들의 오염 물질을 박리 및 제거하는 것은 어렵다. 이로 인해, 이산화탄소에 다시 약액을 첨가하여 고분자 오염 물질을 박리 및 제거하는 것이 바람직하다.
한편, 세정 공정의 효율을 높이기 위해서는, 고압 유체를 보유 지지하여 세정을 행하는 고압 처리 챔버를 복수 설치하고, 각 챔버 내에서 각 피처리 부재에 대해 세정 공정을 행해야 한다. 그러나, 각 챔버에 고압 유체와 약액을 정확하게 공급할 수 있고, 게다가 설치 면적이 작은 콤팩트한 설계 장치에 대해서는, 상기 일본 특허 공개 평5-226311호에서는 아무런 고려도 되어 있지 않다.
또, 복수의 챔버를 마련하여 각각의 챔버 내에서 다른 공정을 행하는 경우, 고압 유체의 공급량이 타임 테이블에 따라서 달라지게 되므로, 장치 전체에서 압력을 적절하게 유지하는 것이 어려워, 각각의 조작을 안정되게 행하는 것이 어렵다고 하는 문제도 발견되고 있다.
그래서 본 발명에서는 크린룸 내에 일부를 설치할 수 있는 콤팩트한 구성의 장치로서, 고압 처리를 안정되게 행할 수 있는 고압 처리 장치를 제공하는 것을 과제로 하고 있다.
도1은 본 발명의 고압 처리 장치의 일실시예를 도시한 설명도.
도2의 (a)는 스태틱 믹서의 단면 설명도로, 도2의 (b)는 믹싱 엘리먼트의 사시 설명도.
도3은 본 발명의 고압 처리 장치의 다른 실시예를 도시한 설명도.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
1 : 고압 유체 공급 수단
12 : 압송 펌프
30, 31 : 고압 처리 챔버
2A : 제1 약액 공급 수단
2B : 제2 약액 공급 수단
4 : 분리 수단
5 : 액화 수단
6 : 출입 수단
청구항 1에 관한 본 발명의 고압 처리 장치는, 피처리 부재에 가압하에서 고압 유체와 고압 유체 이외의 약액을 접촉시켜, 피처리 부재 상의 불필요 물질의 제거 처리를 행하는 고압 처리 장치로서, 복수의 고압 처리 챔버와, 각 고압 처리 챔버에 고압 유체를 공급하기 위한 공통의 고압 유체 공급 수단과, 각 고압 처리 챔버에 약액을 공급하기 위한 공통의 약액 공급 수단과, 상기 피처리 부재의 처리 후에 상기 고압 처리 챔버로부터 배출되는 고압 유체와 약액과의 혼합물로부터 기체 성분을 분리하기 위한 분리 수단을 구비하고 있는 것에 요지를 갖는다.
고압 처리 챔버를 복수 구비하고 있으므로 제거 처리 공정의 효율이 상승하여, 각 챔버에 대해 고압 유체 공급 수단과 약액 공급 수단을 공통으로 하고 있으므로, 콤팩트한 고압 처리 장치가 되었다.
청구항 2에 관한 발명은, 상기 장치 중에서 적어도 복수의 고압 처리 챔버를 고청정도실 내에 설치하고, 적어도 고압 유체 공급 수단을 고청정도실 밖에 설치하는 것이다. 이 구성에 따르면, 크린룸(고청정도실) 내에 있어서의 점유 면적을 작게 할 수 있으므로 바람직하다.
청구항 3에 관한 발명은, 상기 장치 중에서 복수의 고압 처리 챔버를 고청정도실 내에 설치하고, 고압 유체 공급 수단과 약액 공급 수단과 분리 수단을 고청정도실 밖에 설치하는 것이다. 이 구성에 따르면, 크린룸(고청정도실) 내에 있어서의 점유 면적을 보다 작게 할 수 있으므로, 한층 바람직하다.
청구항 4에 관한 발명은, 분리 수단과 고압 유체 공급 수단을 연결하는 동시에, 분리 수단과 고압 유체 공급 수단 사이에 액화 수단을 배치하고, 액화 수단을 고청정도실 밖에 설치하는 것이다. 이에 따르면, 분리 수단에 의해 분리된 기체 성분을 액화시켜 유체화할 수 있으므로, 고압 유체를 순환 사용할 수 있다. 또한, 액화 수단은 크린룸 밖에 설치되므로, 크린룸 내의 점유 면적을 증대시키는 일은 없다.
청구항 5에 관한 발명은, 약액 공급 수단과 각 고압 처리 챔버 사이에 약액의 공급량을 제어하기 위한 약액 공급 제어 수단을 각 고압 처리 챔버마다 배치하는 동시에, 각 약액 공급 제어 수단과 각 고압 처리 챔버 사이에, 고압 유체와 약액을 혼합하기 위한 혼합 수단을 각각 배치하고, 각 약액 공급 제어 수단과 각 혼합 수단을 고청정도실 내에 설치하는 것이다. 각 고압 처리 챔버마다 약액 공급 제어 수단을 설치함으로써, 각 고압 처리 챔버마다 다른 고압 처리가 가능해져, 장치 전체의 불필요 물질의 제거 효율이 향상된다. 또한, 고압 유체가 약액 공급 수단으로 혼입하는 것을 막는 효과도 있다. 또한 혼합 수단에 의해, 고압 유체와 약액이 양호한 혼합 상태로 고압 처리 챔버에 도입되므로, 제거 효율이 향상된다.
청구항 6에 관한 발명은, 청구항 5에 기재된 혼합 수단으로서 고압 유체와 약액의 흐름 방향을 규제하여 합류시킴으로써 고압 유체와 약액을 혼합시키는 구성을 채용하는 것이다. 관로 중에서, 고압 유체와 약액의 흐름을 분할하거나, 변위시키거나 함으로써 유동 방향을 규제해 주면, 고압 유체와 약액이 관의 상하 방향으로 변위하면서 상류로부터 하류로 흘러가므로, 양자는 충분히 혼합하게 된다.
청구항 7에 관한 발명은, 각 고압 처리 챔버마다 가열 수단을 배치하여, 가열 수단을 고청정도실 내에 설치한 것이다. 고압 처리 챔버에서 행해지는 고압 처리에 적합한 온도로 고압 유체 및 약액을 가열할 수 있고, 고압 처리 챔버마다 고압 유체 및 약액의 온도를 바꾸는 것도 가능하므로, 매우 섬세한 제거 처리의 조건 설정을 행할 수 있다.
청구항 8에 관한 발명은, 각 고압 처리 챔버마다 각각 분리 수단을 설치하는 것이다. 이 구성을 채용하면, 고압 유체로부터 기체 성분을 분리할 때의 조건을 고압 처리 챔버의 제거 조건 등에 따라서 적절하게 변경할 수 있다.
청구항 9에 관한 발명은, 액화 수단에 의해 액화된 유체를 불필요 물질을 포함하지 않은 고압 유체로서 분리 수단으로 복귀시키기 위한 복귀 수단을 설치하는 것이다. 분리 수단에 있어서 증류 조작이 행해지는 경우의 환류를 위해, 액화 수단에 의해 액화된 유체의 일부를 이용함으로써, 분리 수단에서의 분리성을 높일 수 있다.
청구항 10에 관한 발명은, 각 고압 처리 챔버마다 각각 제1 분리 수단을 설치하는 동시에, 이들 제1 분리 수단의 하류에 각 고압 처리 챔버에 공통의 제2 분리 수단을 설치하는 것이다. 각 고압 처리 챔버 내에서 행해지고 있는 처리에 따른 분리 조작을 각 제1 분리 수단으로 행할 수 있고, 공통되는 분리 조작에 대해서는 제2 분리 수단을 이용하여 행하므로, 매우 섬세한 분리 조작을 효율적으로 행할 수 있다.
청구항 11에 관한 발명은, 청구항 10에 관한 발명에 있어서 액화 수단에 의해 액화된 유체를 불필요 물질을 포함하지 않은 고압 유체로서 제2 분리 수단으로 복귀시키기 위한 복귀 수단을 마련하는 것이다. 분리 수단을 제1과 제2로 나눈 것에 수반하여, 액화 수단에 의해 액화된 유체를 불필요 물질을 포함하지 않은 고압 유체로서 제2 분리 수단으로 복귀시켜 분리성을 높이는 것이다.
청구항 12에 관한 발명은, 고압 유체 공급 수단이 고압 유체용 매체 저장소와, 이 저장소의 하류의 승압 수단과, 이 승압 수단의 하류의 가열 수단을 구비하고, 승압 수단에 의해 승압된 고압 유체의 적어도 일부를 가열 수단의 상류측으로부터, 고압 유체용 저장소로 복귀시키는 것이 가능한 환류로가 형성되어 있는 것이다. 이 구성을 채용함으로써, 고압 처리 챔버로 압송해야 할 고압 유체량이 적을 때에도, 승압 수단의 공급 압력을 일정하게 할 수 있어, 항상 안정된 고압 처리를 행할 수 있다.
청구항 13에 관한 발명은, 고압 유체 공급 수단이 고압 유체용 매체 저장소와, 이 저장소의 하류의 승압 수단과, 이 승압 수단의 하류의 가열 수단을 구비하고, 승압 수단으로부터 가열 수단을 지나서 도출된 고압 유체의 적어도 일부를 분리 수단으로 보내는 바이패스로가 형성되어 있는 것이다. 고압 처리 챔버로부터분리 수단으로 도입되어 오는 분리 대상물의 양이 적을 경우에, 가열 후의 고압 유체를 분리 수단으로 이송함으로써, 분리 수단에서의 처리량을 일정 레벨로 유지할 수 있으므로, 분리 수단 혹은 액화 수단에서의 처리를 안정되게 행할 수 있다.
청구항 14에 관한 발명은, 청구항 10 내지 청구항 12의 장치에 있어서 고압 유체 공급 수단이 고압 유체용 매체 저장소와, 이 저장소의 하류의 승압 수단과, 이 승압 수단의 하류의 가열 수단을 구비하고, 승압 수단으로부터 가열 수단을 지나서 도출된 고압 유체의 적어도 일부를 제1 분리 수단 및 제2 분리 수단의 적어도 한 쪽으로 이송하는 바이패스로가 형성되어 있는 것이다. 고압 처리 챔버로부터 제1 또는 제2 분리 수단으로 도입되어 오는 분리 대상물의 양이 적을 경우에, 가열 후의 고압 유체를 제1, 제2 분리 수단으로 이송함으로써, 이들의 분리 수단에서의 처리량을 일정 레벨로 유지할 수 있으므로, 제1, 제2 분리 수단 혹은 액화 수단에서의 처리를 안정되게 행할 수 있다.
본 발명의 고압 처리 장치에 있어서의 처리라 함은, 예를 들어 레지스트가 부착된 반도체 기판과 같이 오염 물질이 부착되어 있는 피처리 부재로부터, 오염 물질을 박리 및 제거하는 세정 처리를 대표적인 예로서 들 수 있다. 피처리 부재로서는 반도체 기판에 한정되지 않으며, 금속, 플라스틱, 세라믹스 등의 각종 기재 상에, 다른 종류의 물질인 비연속 또는 연속층이 형성 혹은 잔류되어 있는 것이 포함된다. 또한, 세정 처리에 한정되지 않고, 고압 유체와 고압 유체 이외의 약액을 이용하여, 피처리 부재 상으로부터 불필요한 물질을 제거하는 처리(예를 들어, 건조, 현상 등)는 모두 본 발명의 고압 처리 장치의 대상으로 할 수 있다.
본 발명의 고압 처리 장치에 있어서 이용되는 고압 유체로서는 안전성, 가격, 초임계 상태로 하는 것이 용이하다는 등의 점에서, 이산화탄소가 바람직하다. 이산화탄소 이외에는 물, 암모니아, 아산화 질소, 에탄올 등도 사용 가능하다. 고압 유체를 이용하는 것은 확산 계수가 높고, 용해한 오염 물질을 매체 속에 분산할 수 있기 때문이며, 보다 고압으로 하여 초임계 유체로 한 경우에는 기체와 액체 중간의 성질을 갖게 되어 미세한 패턴 부분에도 보다 한층 침투할 수 있게 되기 때문이다. 또한, 고압 유체의 밀도는 액체에 가깝고, 기체에 비해 훨씬 대량의 첨가제(약액)를 포함할 수 있다.
여기서, 본 발명에 있어서의 고압 유체라 함은, 1 ㎫ 이상의 압력의 유체이다. 바람직하게 이용할 수 있는 고압 유체는 고밀도, 고용해성, 저점도, 고확산성의 성질이 인정되는 유체이며, 보다 바람직한 것은 초임계 상태 또는 아임계 상태의 유체이다. 이산화탄소를 초임계 유체로 하기 위해서는 31 ℃, 7.1 ㎫ 이상이라 하면 좋다. 세정 및 세정 후의 린스 공정이나 건조 및 현상 공정 등은 5 내지 30 ㎫의 아임계(고압 유체) 또는 초임계 유체를 이용하는 것이 바람직하고, 7.1 내지 20 ㎫하에서 이들의 처리를 행하는 것이 보다 바람직하다. 이하, 본 발명의 고압 처리 장치로 행하는 제거 처리로서 세정 처리를 대표예로 설명하지만, 상기한 바와 같이 고압 처리는 세정 처리만으로는 한정되지 않는다.
본 발명의 고압 처리 장치에 있어서는, 반도체 기판에 부착된 레지스트나 에칭 폴리머 등의 고분자 오염 물질도 제거하므로, 이산화탄소 등의 고압 유체만으로는 세정력이 불충분한 점을 고려하여 약액을 첨가하여 세정 처리를 행한다. 약액으로는 세정 성분으로서 염기성 화합물을 이용하는 것이 바람직하다. 레지스트에 많이 이용되는 고분자 물질을 가수 분해하는 작용이 있어, 세정 효과가 높기 때문이다. 염기성 화합물의 구체예로서는 제4급 암모늄 수산화물, 제4급 암모늄 불화물, 알킬아민, 알칸올아민, 히드록실아민(NH2OH) 및 불화암모늄(NH4F)으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종류 이상의 화합물을 들 수 있다. 세정 성분은 고압 유체에 대해, 0.05 내지 8 질량 % 포함되어 있는 것이 바람직하다. 또, 건조나 현상을 위해 본 발명의 고압 처리 장치를 이용하는 경우는 건조 또는 현상해야 할 레지스트의 성질에 따라서, 크실렌, 메틸이소부틸케톤, 제4급 암모늄 화합물, 불소계 폴리머 등을 약액으로 하면 좋다.
상기 염기성 화합물 등의 세정 성분이 고압 유체에 비상용인 경우에는 이 세정 성분을 이산화탄소에 용해 혹은 균일 분산시키는 조제가 될 수 있는 상용화제를 제2 약액으로서 이용하는 것이 바람직하다. 이 상용화제는 세정 공정 종료 후의 린스 공정으로, 오염을 재부착시키지 않도록 하는 작용도 갖고 있다.
상용화제로서는 세정 성분을 고압 유체와 상용화시킬 수 있으면 특별히 한정되지 않지만, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올 등의 알코올류나, 디메틸술폭시드 등의 알킬술폭시드가 바람직한 것으로서 들 수 있다. 세정 공정에서는 상용화제는 고압 유체의 10 내지 50 질량 %의 범위에서 적절하게 선택하면 좋다.
이하, 본 발명의 고압 처리 장치를 도면을 참조하면서 설명한다. 도1에는, 본 발명의 고압 처리 장치의 일실시예를 도시했다. 부호 1은 고압 유체 공급 수단이며, 필수 구성 요소인 고압 유체용 매체 저장소(10)와 가압 펌프(12) 외에, 도면의 예에서는 과냉각기(11)와 가열기(13)를 구비하고 있다. 고압 유체로서, 액화 또는 초임계 이산화탄소를 이용하는 경우, 저장소(10)에는 통상 액화 이산화탄소가 저류되어 있고, 가속도 저항을 포함한 배관 압력 손실이 큰 경우에는 과냉각기(11)로 미리 유체를 냉각하여 가압 펌프(12) 내에서의 가스화를 방지하면 좋고, 가압 펌프(12)로 유체를 가압하면 고압 액화 이산화탄소를 얻을 수 있다.
고압 챔버(30, 31)를 대기압에 개방한 경우 등, 시스템 내의 이산화탄소가 감소한 만큼을 보급할 필요가 있지만, 액화 이산화탄소가 들어 간 고압 봄베로부터 액형으로 이산화탄소를 보급하는 경우는 직접 저장소(10)로 보급하면 좋고, 가스형으로 보급하는 경우는 응축기(5)를 경유하여 보급하면 좋다.
가열기(13)는 이산화탄소를 세정 처리 온도에 도달하도록 가열하기 위한 것이지만, 처리 온도 이하로 가열해 두거나, 또는 가열하지 않고, 후술하는 고압 처리 챔버마다 마련한 가열 수단으로, 각 챔버에서의 처리에 적합한 온도로 각각 가열하는 구성으로 해도 좋다.
본 장치에서는 저장소(10) 및 가압 펌프(12)를 필수 구성 요소로 하는 고압 유체 공급 수단(1)은 각 챔버(30, 31)에 공통이다. 이에 의해, 가압 펌프(12)의 가동율을 상승시켜, 장치 전체의 설치 면적을 작게 할 수 있다. 부호 14 및 15는 각 챔버로 고압 유체를 공급하는 양이나 타이밍 등을 조정하기 위한 고압 유체 공급 제어 수단이며, 구체적으로는 고압 밸브이다.
도1에서는 고압 처리 챔버가 제1 고압 처리 챔버(30)(이하, 제1 챔버)와 제2고압 처리 챔버(31)(이하, 제2 챔버)의 2개 배치된 장치예를 도시하고 있다. 물론 챔버는 2개 이상이라면 몇 개가 있더라도 좋다. 챔버로서는 개폐 가능한 덮개를 갖고, 고압을 유지할 수 있는 용기라면 특별히 한정되지 않는다.
부호 2A는 제1 약액(세정 성분) 공급 수단, 부호 2B는 제2 약액(상용화제) 공급 수단이다. 세정 성분과 상용화제와 같이 다른 2종류 이상의 약액을 사용하는 경우, 이 도면예와 같이 복수의 약액 공급 수단을 배치할 수 있지만, 각 챔버에 대해 제1 및 제2 약액 공급 수단을 공통으로 함으로써, 장치를 콤팩트하게 할 수 있다. 각 약액 공급 수단을 크린룸 밖에 설치해도 좋다. 크린룸 내의 점유 면적을 한층 작게 할 수 있다.
제1 약액 공급 수단(2A)은 제1 약액 저장소(20)와 압송 펌프(21)로 구성되어 이루어지고, 제2 약액 공급 수단(2B)도 마찬가지로, 제2 약액 저장소(22)와 압송 펌프(23)로 구성되어 있다. 약액 공급 수단(2A, 2B)은 각 압송 펌프(21, 23)로 상기 세정 성분과 상용화제를 소정의 압력으로 하여, 제1 및 제2 챔버로 공급한다. 각 챔버 내에서의 처리에 필요한 유체 조성이 다른 경우, 고압 유체와, 제1 약액과, 제2 약액의 유통량을 챔버마다 다르게 할 필요가 있으므로, 제1, 제2 약액 공급 수단(2A, 2B)과 제1, 제2 챔버(30, 31) 사이에는 제1 약액 공급 제어 수단(24, 25)과, 제2 약액 공급 제어 수단(26, 27)을 설치한다. 각 약액 공급 제어 수단(24 내지 27)으로서는 개폐 기구를 갖고 있으면 좋고, 구체적으로는 고압 밸브를 들 수 있다. 각 약액 공급 제어 수단(24 내지 27)과, 고압 유체 공급 제어 수단(15, 16)의 개폐 조작에 의해, 챔버 내의 처리용 유체의 조성을 고압 유체와 제1 약액과제2 약액의 혼합물로 하거나, 고압 유체와 제2 약액의 혼합물로 하거나, 혹은 고압 유체만으로 하는 것이 가능하다.
각 약액 공급 제어 수단(24 내지 27)은 되도록이면 제1, 제2 챔버(30, 31)의 입구 근방에 배치하는 것이 바람직하다. 도면의 예에서는, 약액 공급 제어 수단(24, 25)(26, 27)은 혼합 수단(28, 29)과 가열 수단(32, 33)을 거치는 것만으로 제1(제2) 챔버(30, 31)에 배치되어 있다. 이 구성에 의해, 고압 유체가 약액 공급 수단으로 혼입하는 것을 방지할 수 있다. 3종류 이상의 약액을 사용할 때는 3개 이상의 약액 공급 수단을 설치해도 좋다.
도1에서는 각 챔버(30, 31)와 상기 약액 공급 제어 수단 사이에 혼합 수단(28, 29)을 배치한 예를 도시했다. 혼합 수단(28, 29)은 고압 유체와 약액을 물리적으로 혼합하는 작용을 갖는다. 혼합 수단으로서는 관로 교반 장치에 의해, 고압 유체와 약액의 흐름 방향을 규제하여 양자를 합류시키는 수단이 간편하다. 구체적으로는, 이른바 스태틱 믹서를 이용하면 좋다.
스태틱 믹서는, 도2에 도시한 바와 같이 관로 내에 직사각형의 판을 180°비틀린 형상의 방해판(믹싱 엘리먼트)[e1, e2, e3 …(도2의 (b))]을 비틀림 면을 90°씩 변위시켜 복수 배치한[도2의 (a)] 구성의 장치이다. 이 스태틱 믹서를 이용하여 고압 유체와 약액의 흐름을 분할, 반전, 변위시켜, 흐름 방향을 규제함으로써, 고압 유체와 약액이 관의 상하 좌우 방향으로 변위하면서 상류로부터 하류로 흘러가, 양자의 혼합이 행해진다. 물론, 방해판 등의 형상, 배치 갯수 등은 적절하게 설계 변경이 가능하다. 혼합 수단(28, 29)을 이용함으로써, 제1 및 제2챔버(30, 31)로 양호한 혼합 상태의 세정액이나 린스액을 도입할 수 있지만, 필수 구성 수단은 아니다.
제1 및 제2 챔버(30, 31)의 입구 근방에는 가열 수단(32, 33)을 설치해도 좋다. 제1 챔버(30)와 제2 챔버(31)에서의 고압 처리 온도를 다르게 하는 것이 가능해진다.
제1 챔버(30)의 하류에는 고압 밸브(34)가, 제2 챔버(31)의 하류에는 고압 밸브(35)가 배치되고, 각 처리가 종료되어 고압 유체 등을 분리 수단(4)으로 이송할 때에 개방된다.
분리 수단(4)은 고압 밸브(4O)와, 분리 장치(42)와, 액체(또는 고체) 성분용 고압 밸브(43)를 구성 요소로 한다. 보조적으로, 기체 성분용 고압 밸브(44, 46), 가스화 수단(41), 흡착탑 등의 정제 수단(45)을 설치해도 좋다. 도1에서는, 분리 수단(4)과 고압 유체 공급 수단(1)[구체적으로는, 유체 저장소(10)]을 연결하여, 분리 수단(4)과 유체 저장소(10) 사이에 액화 수단(5)을 배치하고, 유체를 순환 사용할 수 있도록 구성한 장치예를 도시했으므로, 분리 장치(42)에 의해 분리된 기체 성분을 기체 성분용 고압 밸브(44) 및 필요에 따라 설치되는 흡착탑(45)을 거쳐서, 액화 수단(5)으로 이송한다.
분리 장치(42)에서는 유체를 기체 성분으로 하여, 오염 물질과, 약액(세정 성분이나 상용화제)의 혼합물을 액체 성분으로 하여 기액 분리한다. 오염 물질은 고체로서 석출하여, 약액 속에 혼입하여 분리되는 경우도 있다. 분리 장치(42)로서는 단증류, 증류(정류), 플래시 분리 등의 기액 분리를 행할 수 있는 여러 가지의 장치나 원심 분리기 등을 사용할 수 있다. 액화 수단(5)으로서는 응축기 등을 들 수 있다. 응축기에서의 에너지 비용을 고려하면, 분리 장치(42)로 대기압까지 감압하는 것은 아니며, 4 내지 7 ㎫ 정도로 감압하는 것이 바람직하다.
감압된 이산화탄소 등의 유체는 온도와의 관계에서, 기체형 유체(이산화탄소 가스)와 액체형 유체(액화 이산화탄소)와의 혼합물로 이루어지는 경우가 있으므로, 분리 장치(42)에서의 분리 효율 및 유체의 리사이클 효율 증대의 관점에서는 분리 장치(42) 전의 가스화 수단(41)에 의해, 유체를 전부 가스화해 두는 것이 바람직하다. 가스화 수단(41)으로서는 가열기 등을 이용하면 좋다. 한편, 분리 장치(42)로서 원심 분리 장치나 막분리 장치를 이용하면, 고압 유체를 가스화하지 않고서, 세정 성분, 오염 물질 및 상용화제로 분리할 수 있다. 또, 유체를 순환 사용하지 않고서, 기체 성분용 고압 밸브(46)를 통해 대기에 방출할 수도 있다.
오염 물질을 포함하는 세정 성분이나 상용화제로 이루어지는 액체(또는 고체) 성분은 분리 장치(42)의 탑바닥으로부터 액체(또는 고체) 성분용 고압 밸브(43)를 통해 배출되어, 필요에 따라서 후처리된다.
또, 도면의 예에서는 제1 및 제2 챔버(30, 31)에 대해, 공통되는 분리 수단(4)만이 설치되지만, 각 챔버마다 분리 수단(4)을 설치해도 좋다. 이 경우, 하류측의 고압 밸브(4O)는 생략 가능하다. 각 챔버 내에서의 처리에 따른 분리 처리를 각 분리 수단으로 행할 수 있다. 또한, 각 챔버마다 고압 밸브(40, 43, 44, 46)와 분리 장치(42) 등으로 이루어지는 개별의 제1 분리 수단을 설치하고, 그 후 공통된 제2 분리 수단을 설치하는 장치 구성으로 해도 좋다. 각 챔버로 다른 약액을 사용하고 있는 경우에, 제1 분리 수단으로 각 챔버에 적합한 분리 조작을 행하고, 그 후 공통된 제2 분리 수단으로 정류나 정제 등의 고도의 분리 조작을 행하게 하면, 복수 약액의 사용시에 있어서도 공통 공정의 사용이 가능해져, 장치 전체에서 안정된 고압 처리를 행할 수 있다.
반도체 기판용의 고압 처리 장치로서 본 발명 장치를 이용하는 경우는, 제1 챔버(30)와 제2 챔버(31)와 출입 수단(6)을 크린룸 내에 설치하고, 그 밖의 필수 구성 요소인 고압 유체 공급 수단(1), 약액 공급 수단(2A, 2B), 분리 수단(4)은 크린룸 밖에 설치하는 구성으로 하는 것이 바람직하다. 본 발명 장치가 크린룸 내에서 점유하는 설치 면적이 작아지기 때문이다. 또한 그 밖의 보조 수단도 크린룸 밖에 설치하는 것이 바람직하다.
도1의 장치를 이용하여 세정 공정을 행하기 위해서는, 우선 제1 챔버(30) 및 제2 챔버(31)로 피처리 부재를 출입 수단(6)을 이용하여 장입함으로써 스타트한다. 출입 수단(6)은 장치의 콤팩트화를 위해, 챔버 전체에서 공통으로 하는 것이 바람직하지만, 복수의 출입 수단(6)이 있어도 상관없다. 출입 수단(6)으로서는 산업용 로봇 등의 핸드링 장치나 반송 기구가 이용 가능하다.
계속해서, 저장소(10)에 축적되어 있는 유체를 필요에 따라 과냉각기(11)로 냉각하여 완전한 액체 상태로 하여, 가압 펌프(12)로 승압하고, 가열기(13)에 의해 가열하여 초임계 유체로서, 제1 챔버(30) 및 제2 챔버(31)로 압송한다. 초임계 상태가 아니라, 아임계 상태나 고압 액체 상태로 해도 좋다.
고압 유체 공급 제어 수단(14)을 공급 모드로 하고, 고압 유체를 제1챔버(30)로 공급하면서, 제1 약액 공급 제어 수단(24) 및 제2 약액 공급 제어 수단(26)을 공급 모드로 하고, 제1 약액 저장소(20)로부터 압송 펌프(21)로 제1 약액을 혼합 수단(28)으로 압송하는 동시에, 제2 약액 저장소(22)로부터 압송 펌프(23)에 의해 제2 약액을 혼합 수단(28)으로 압송하고, 이들을 혼합 수단(28)으로 혼합하면서, 제1 챔버(30)가 소정의 압력이 되기까지 압송을 계속한다. 제1 챔버(30)를 소정의 압력까지 승압하는 데 필요로 하는 시간은 챔버의 크기에도 좌우되지만, 통상 30초 이하이다. 제1 챔버(30)로의 고압 유체와 약액의 공급이 종료하여, 세정 공정이 시작되었다면, 각 공급 제어 수단(14, 24, 26)을 공급 정지 모드로 하여, 고압 유체 공급 제어 수단(15)을 공급 모드로 함으로써, 제2 챔버(31)로의 고압 유체의 공급을 비롯하여, 계속해서 제1 약액 공급 제어 수단(25) 및 제2 약액 공급 제어 수단(27)을 공급 모드로 바꿔, 제1 약액 저장소(20)로부터 압송 펌프(21)로 제1 약액을 혼합 수단(29)으로 압송하는 동시에, 제2 약액 저장소(22)로부터 압송 펌프(23)로 제2 약액을 혼합 수단(29)으로 압송하고, 이들을 혼합 수단(29)으로 혼합하면서, 제2 챔버(31)가 소정의 압력이 되기까지 압송을 계속한다. 또, 각 챔버로의 고압 유체 등의 공급은 동시에 행해도 상관없다. 세정 공정 중은, 각 챔버(30, 31)의 하류의 고압 밸브(34, 35)는 폐쇄되어 있다. 세정 공정 시간은, 통상 120 내지 180초 정도로 충분하다.
세정 공정에 의해, 피처리 부재에 부착되어 있던 오염 물질은 챔버 내의 고압 유체와 세정 성분 및 필요에 따라 첨가되는 상용화제와의 혼합 유체에 용해하게 된다. 따라서, 제1 및 제2 챔버(30, 31)로부터 이들 오염 물질이 용해되어 있는혼합 유체를 배출할 필요가 있다. 오염 물질은 세정 성분 및 상용화제의 작용에 의해 고압 유체에 용해하고 있으므로, 제1 챔버 및 제2 챔버(30, 31)에 고압 유체 만을 유통시키면, 용해하고 있던 오염 물질이 석출되는 것이 고려되므로, 세정을 행한 후는 고압 유체와 상용화제에 의한 제1 린스 공정을 행한 후, 고압 유체만에 의한 제2 린스 공정을 행한다.
제1 린스 공정은 고압 유체 공급 제어 수단(14, 15)을 공급 모드로 하고, 제1 약액(세정 성분) 공급 제어 수단(24, 25)을 공급 정지 모드로 하고, 제2 약액(상용화제) 공급 제어 수단(26, 27)을 공급 모드로 하고, 각 챔버(30, 31)의 하류의 고압 밸브(34, 35)를 개방하여, 고압 유체 공급 수단(1)에 의해 고압 유체를, 또한 각 제2 약액 공급 수단(2B)으로부터 상용화제를 각각 각 챔버(30, 31)로 연속 공급함으로써 행한다. 챔버 내의 압력은 세정 공정과 동일하게 하는 것이 바람직하므로, 공급 속도와 배출 속도를 동일하게 하는 것이 바람직하지만, 바꾸더라도 좋다. 고압 유체와 상용화제를 단속적으로 공급하여, 공급한 만큼만 배출하는 세미배치식으로 행해도 좋다. 각 챔버(30, 31)로부터 배출되는 고압 유체는 분리 수단(4)으로 이송된다.
고압 유체와 상용화제와의 유통에 의해, 각 챔버(30, 31) 내의 오염 물질 및 세정 성분은 점차로 적어지므로, 제2 약액 공급 제어 수단(26, 27)을 제어하여 상용화제의 공급량을 서서히 줄여도 좋다. 고압 유체와 상용화제와의 유통에 의한 제1 린스 공정에서는, 각 챔버(30, 31)로부터 세정 성분과 오염 물질이 전부 배출되어, 최종적으로는 고압 유체와 상용화제로 충족되게 된다. 그래서, 계속해서 고압 유체만을 이용한 제2 린스 공정을 행한다. 또, 제1 린스 공정에 필요로 하는 시간은, 통상 30초 정도이다.
고압 유체만을 이용한 제2 린스 공정에서는 제2 약액(상용화제) 공급 제어 수단(26, 27)을 공급 정지 모드로 하고, 각 챔버(30, 31)의 내용물을 고압 유체와 상용화제의 혼합 유체로부터, 고압 유체만으로 치환한다. 이에 의해, 고압 처리가 종료한다. 또, 제2 린스 공정에 필요로 하는 시간은, 통상 30초 이하이다.
한편, 분리 수단(4)에 있어서는 고압 유체와 세정 성분과 오염 물질 및 상용화제가 각 공정에 따라서 분리 장치(42)로 유입해 오므로, 적절하게 가스화 수단(41)을 이용하면서, 분리 장치(42)로 고압 유체를 기체 성분으로서, 기체 성분용 고압 밸브(44) 및 정제 수단(45)을 통해 액화 수단(5)으로 이송한다. 혹은 기체 성분용 고압 밸브(44)를 폐쇄하고, 고압 밸브(46)를 개방하여 대기로 방출한다. 세정 성분, 오염 물질, 상용화제를 액체 성분(일부 고체가 포함되는 경우가 있음)으로서, 액체 성분용 고압 밸브(43)로부터 취출한다.
고압 처리 종료 후는 고압 밸브(34, 35)를 폐쇄하여 감압하고, 각 챔버(30, 31) 내를 대기압으로 하고, 그 후 각 챔버(30, 31)의 덮개를 개방하여, 출입 수단(6)에 의해, 피처리 부재를 취출한다. 이산화탄소는 대기압하까지의 감압에 의해 증발하므로, 반도체 기판 등의 피처리 부재는 그 표면에 얼룩 등이 생기는 일도 없으며, 또한 미세 패턴이 파괴되는 일도 없어, 건조한 상태로 취출할 수 있다.
상기한 바와 같이, 도1에 도시한 고압 처리 장치에 있어서는 제1 챔버(30)와 제2 챔버(31)가 공통된 제1 약액 공급 수단(2A)과 제2 약액 공급 수단(2B)을 갖는구성이지만, 각 공급 제어 수단(15, 16, 24 내지 27)의 조작에 의해, 각각 개별적으로 세정, 제1 린스, 제2 린스 공정을 행할 수 있다. 따라서, 피처리 부재의 오염 물질의 부착량이나 종류에 따라서, 고압 세정 처리의 각 공정을 매우 섬세하게 변경할 수 있는 데다가, 각 공정을 매우 효율적으로 행할 수 있다.
도3에는 고압 유체를 순환 사용하기 위한 수단을 추가한 장치 구성을 도시한다. 이 도면예의 장치는 가압 펌프(12)와 가열기(13) 사이에 복귀 수단용 제어 밸브(70)와, 이 복귀 수단용 제어 밸브(7O)와 분리 수단(4)의 분리 장치(42)를 연결하는 복귀 수단용 연결관(71)을 구비하고 있다. 또한, 복귀 수단용 연결관(71)의 도중에, 환류로용 제어 밸브(72)와 저장소(10)로의 연결관(73)이 형성되어 있다. 또한, 가열기(13)의 하류에 바이패스로용 제어 밸브(74)를 구비하고, 이 바이패스로용 제어 밸브(74)와 분리 수단(4)의 가스화 수단(41)을 연결하는 바이패스로용 연결관(75)을 구비하고 있다. 그 이외의 생략 부분은 도1과 동일한 구성이다.
복귀 수단은 복귀 수단용 제어 밸브(70)와 연결관(71)으로 이루어지며, 가압 펌프(12)에 의해 가압된 고압 유체의 적어도 일부를 분리 장치(42)로 증류를 행하는 경우의 환류용으로, 분리 장치(42)로서 사용되는 증류탑의 탑정상부로 이송하는 수단이다. 「오염 물질을 포함하지 않은 고압 유체」라 함은, 유체의 순환 사용에 의해, 분리 장치(42)에 의해 증류되어, 정제 수단(45)을 지나서 순화된 유체도 포함시키는 의미이다. 이러한 고압 유체를 증류시에 탑정상부로 복귀시키면, 분리 장치(42) 내에서, 고비점 성분이 응축되어 액체 성분이 되므로, 기체 성분의 고순도화가 도모되어, 분리 정도가 높아진다.
분리 수단(4)을 각 챔버마다의 제1 분리 수단과, 공통된 제2 분리 수단으로 나눈 장치를 이용하여, 제2 분리 수단으로 다단증류 등의 정류를 행하는 경우에는 제2 분리 수단의 증류탑의 임의의 부위로 복귀시킬 수도 있다.
환류로는 복귀 수단용 제어 밸브(70)와, 복귀 수단용 연결관(71)의 일부[복귀 수단용 제어 밸브(70)와 환류로용 제어 밸브(72) 사이]와, 환류로용 제어 밸브(72)와 연결관(73)으로 구성되어, 고압 유체를 저장소(10)로 복귀시키기 위한 것이다. 가압 펌프(12)를 항상 일정한 공급 압력으로 작동시켜, 안정된 고압 처리를 행하기 위해, 고압 처리 챔버(30, 31)로의 압송량이 적을 때는 이 환류로를 이용하여 고압 유체의 일부 또는 전부를 저장소(10)로 복귀시키는 것이다. 가열할 필요는 없으므로, 가열기(13)의 상류로부터 저장소(10)로 복귀시키면 좋다. 또, 도3에서는 복귀 수단과 환류로가 공통된 연결관을 사용하고 있는 부분이 있지만, 물론 각각의 연결관으로 구성해도 좋다.
바이패스로는 바이패스로용 제어 밸브(74)와, 바이패스로용 연결관(75)으로 구성되어, 가열된 고압 유체를 가스화 수단(41)으로 바이패스시킨다. 이것도, 가압 펌프(12)를 항상 일정한 공급 압력으로 작동시켜, 안정된 고압 처리를 행하기 위한 한 수단이다. 가열 후의 고압 유체를 저장소(10)로 복귀시키려고 하면, 단열 팽창에 의해 가스가 발생하는 경우가 있으므로, 액화 수단(5)보다도 상류로 복귀시키는 것이 바람직하다. 이로 인해, 분리 수단(4)으로 복귀시키는 것이지만, 가스화 수단(41)을 구비한 분리 수단(4)의 경우는 이 가스화 수단(41)으로 복귀시키면 좋다. 혹은, 고압 밸브(4O)의 바로 상류로 복귀시켜도 좋다. 이에 의해, 분리 수단(4)이나 액화 수단(5)의 안정 운전이 가능해진다.
도3에서는 복귀 수단, 환류로, 바이패스로를 전부 구비한 장치의 일예를 도시했지만, 물론 이들 중 어느 하나만을 구비하고 있어도 좋다. 또한, 각 챔버의 상류 등, 임의의 부위에 유량계를 설치하고, 유량계에 의해 각 챔버로의 유체의 유입량(혹은 유출량)을 체크하여 복귀 수단, 환류로, 바이패스로의 유량을 결정할 수 있는 시스템을 구성해도 좋다. 또한, 상기 실시예에서는 각 챔버(30, 31)의 하류의 고압 밸브(34, 35)를 폐쇄하여 처리를 행하는 예로 설명하였지만, 처리 중에 이들 밸브를 개방하여, 항상 고압 유체와 약액을 유입 및 유출을 행하는 상태로 처리를 행해도 좋다.
본 발명의 고압 처리 장치는, 반도체 제조 공정 등에서의 반도체의 세정이나 현상 등을 행하는 데 유용하지만, 적어도 고압 처리 챔버를 크린룸 내에 배치하는 것이 바람직하고, 그 밖의 수단은 크린룸의 넓이에 따라서 적절하게 배치할 수 있다.
본 발명에서는 복수의 고압 처리 챔버를 마련하여, 고압 유체 공급 수단과 약액 공급 수단은 공통으로 하였으므로, 콤팩트한 고압 처리 장치를 제공할 수 있었다. 또한, 고압 유체 공급 제어 수단 및 약액 공급 제어 수단을 각 챔버마다 마련하는 구성을 채용하면, 각 챔버로 행하는 처리에 따라서, 매우 세밀한 약액 공급 조건을 다양하게 설정할 수 있다. 따라서, 반도체 기판의 고압 유체에 의한 제거 처리에 적합하게 이용할 수 있다.

Claims (14)

  1. 피처리 부재에 가압하에서 고압 유체와 고압 유체 이외의 약액을 접촉시켜, 피처리 부재 상의 불필요 물질의 제거 처리를 행하는 고압 처리 장치로서,
    복수의 고압 처리 챔버와,
    각 고압 처리 챔버에 고압 유체를 공급하기 위한 공통의 고압 유체 공급 수단과,
    각 고압 처리 챔버에 약액을 공급하기 위한 공통의 약액 공급 수단과,
    상기 피처리 부재의 처리 후에 상기 고압 처리 챔버로부터 배출되는 고압 유체와 약액과의 혼합물로부터 기체 성분을 분리하기 위한 분리 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 고압 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서, 적어도 복수의 고압 처리 챔버를 고청정도실 내에 설치하고, 적어도 고압 유체 공급 수단을 고청정도실 밖에 설치한 것을 특징으로 하는 고압 처리 장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 복수의 고압 처리 챔버를 고청정도실 내에 설치하고, 고압 유체 공급 수단과 약액 공급 수단과 분리 수단을 고청정도실 밖에 설치한 것을 특징으로 하는 고압 처리 장치.
  4. 제2항에 있어서, 분리 수단과 고압 유체 공급 수단을 연결하는 동시에, 분리 수단과 고압 유체 공급 수단 사이에 액화 수단을 배치하고, 액화 수단을 고청정도실 밖에 설치한 것을 특징으로 하는 고압 처리 장치.
  5. 제2항에 있어서, 약액 공급 수단과 각 고압 처리 챔버 사이에, 약액의 공급량을 제어하기 위한 약액 공급 제어 수단을 각 고압 처리 챔버마다 배치하는 동시에, 각 약액 공급 제어 수단과 각 고압 처리 챔버 사이에, 고압 유체와 약액을 혼합하기 위한 혼합 수단을 각각 배치하고, 각 약액 공급 제어 수단과 각 혼합 수단을 고청정도실 내에 설치한 것을 특징으로 하는 고압 처리 장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 혼합 수단이 고압 유체와 약액의 흐름 방향을 규제하여 합류시킴으로써 고압 유체와 약액을 혼합시키는 것을 특징으로 하는 고압 처리 장치.
  7. 제2항에 있어서, 각 고압 처리 챔버마다 가열 수단을 배치하고, 가열 수단을 고청정도실 내에 설치한 것을 특징으로 하는 고압 처리 장치.
  8. 제1항 또는 제2항에 있어서, 각 고압 처리 챔버마다 각각 분리 수단을 설치한 것을 특징으로 하는 고압 처리 장치.
  9. 제4항에 있어서, 액화 수단에 의해 액화된 유체를 불필요 물질을 포함하지 않은 고압 유체로서 분리 수단으로 복귀시키기 위한 복귀 수단을 마련한 것을 특징으로 하는 고압 처리 장치.
  10. 제1항 또는 제2항에 있어서, 각 고압 처리 챔버마다 각각 제1 분리 수단을 설치하는 동시에, 이들의 제1 분리 수단의 하류에 각 고압 처리 챔버에 공통의 제2 분리 수단을 마련한 것을 특징으로 하는 고압 처리 장치.
  11. 제10항에 있어서, 액화 수단에 의해 액화된 유체를 불필요 물질을 포함하지 않은 고압 유체로서 제2 분리 수단으로 복귀시키기 위한 복귀 수단을 마련한 것을 특징으로 하는 고압 처리 장치.
  12. 제1항 또는 제2항에 있어서, 고압 유체 공급 수단이 고압 유체용 매체 저장소와, 이 저장소의 하류의 승압 수단과, 이 승압 수단의 하류의 가열 수단을 구비하고, 승압 수단에 의해 승압된 고압 유체의 적어도 일부를 가열 수단의 상류측으로부터, 고압 유체용 저장소로 복귀시키는 것이 가능한 환류로가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 고압 처리 장치.
  13. 제1항 또는 제2항에 있어서, 고압 유체 공급 수단이 고압 유체용 매체 저장소와, 이 저장소의 하류의 승압 수단과, 이 승압 수단의 하류의 가열 수단을 구비하고, 승압 수단으로부터 가열 수단을 지나서 도출된 고압 유체의 적어도 일부를 분리 수단으로 이송하는 바이패스로가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 고압 처리 장치.
  14. 제10항에 있어서, 고압 유체 공급 수단이 고압 유체용 매체 저장소와, 이 저장소의 하류의 승압 수단과, 이 승압 수단의 하류의 가열 수단을 구비하고, 승압 수단으로부터 가열 수단을 지나서 도출된 고압 유체의 적어도 일부를 제1 분리 수단 및 제2 분리 수단 중 적어도 한 쪽으로 이송하는 바이패스로가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 고압 처리 장치.
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