KR100286271B1 - 광도파관 프레폼의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 광도파관 섬유로 인발될 수 있는 프레폼의 제조방법에 관한 것으로, 최소한 제1 전구체 화합물이 하나의 산화자리에서 산화되고, 상기 제1 전구체 화합물과 다른 최소한 제2 전구체 화합물이 제2 산화자리에서 산화된다. 특히 이 방법은 제1 및 제2 전구체 화합물이 서로 화학적으로 상용성이 없거나 제2 전구체 화합물의 유속이 제1 전구체 화합물의 유속보다 상당히 적은 경우에 적용된다.

Description

광도파관 프레폼의 제조방법
제1도는 본 발명의 방법에 사용된 다중버너 OVD장치의 개략도이고,
제2도 및 제3도는 본 발명의 방법에 사용된 버너이다.
본 발명은 광도파관 섬유로 인발될 수 있는 광도파관 프레폼(preform)을 제조하는 방법에 관한 것이다.
이러한 프레폼을 제조하는 방법이 여러개 공지되어 있다. 이 방법들은 외부증착법(outside vapor deposition, 이하 OVD라 칭함), 수정된 화학증착법(modified chemical vapor deposition, 이하 MCVD라 칭함), 축증착법(vapor axial deposition, 이하 VAD라 칭함) 및 플라즈마-향상 화학증착법(plasma-enhanced chemical vapor deposition, 이하 PECVD라 칭함)을 포함한다.
상기 개개방법은 통상적으로 ⅰ) 예를들면, 증착튜브내 또는 증착기판에 인접한 가스/산소버너의 불꽃 또는 고온 플라즈마 대역과 같은 산화자리에 프레폼을 형성하는 유리함유 증기흐름을 이송하는 단계, ⅱ) 상기 증기흐름을 산화시켜 미립자상 또는 슈트(soot)상의 산화생성물을 형성하는 단계, 및 ⅲ) 튜브 또는 기판상에 상기 미립자상 또는 슈트상의 생성물을 포집하여 프레폼을 형성하는 단계를 포함한다(상기 PECVD 공정에서는 상기 중간슈트 형성단계가 없이 튜브상에 기상으로부터 유리가 직접 증착된다). 상기 OVD 및 VAD방법에 의해 생성된 결과 슈트 프레폼은 그 다음 소결공정에 의해 더 진행되어 광도파관 섬유로 인발되는 투명유리를 형성한다. MCVD 및 PECVD에 의해서 제조된 프레폼은 통상적으로 증착단계 후 투명하며 소결공정없이도 섬유로 인발될 수 있다. 굴절율 또는 열팽창계수와 같은 결과 생성물의 다양한 특성을 수정하기 위해 도펀트(dopant)가 증기흐름에 포함될 수 있다.
SiO2-기본 광도파관 섬유가 오랫동안 상업적으로 선호되어 왔다. 방사상으로(radially) 변하는 굴절율 구배(profile)을 가진 프레폼을 제공함으로써 꼭 필요한 도파관 특성을 지닌 광도파관 섬유가 이로부터 인발될 수 있다. 적절한 도파관 특성을 제공하기 위해서 SiO2는 여러 화합물로 도핑되어 굴절율을 변화시킨다. 이들 화합물은 예를들면, GeO2, TiO2및 P2O5를 함유한다. 이들 화합물을 함유하는 증기는 통상 GeCl4, TiCl4및 POCl3와 같은 금속할라이드를 사용하여 제공된다. 예를들면 블랑켄쉽(Blankenship)의 미합중국 특허 제4,314,837호(Blankenship ' 837)를 참조바란다.
희토류 원소와 같은 어떤 화합물은 유리구조에 도입되어 레이저 특성(lasing) 및 신호증폭특성을 포함한 다른 광학기능을 제공할 수 있다는 것 역시 공지되어 있다. 예를들면, 디지노바니(DiGiovanni)등의 유럽특허출원 제0,469,795호를 참조바란다. 또한 상기 원소를 용이하게 증기화될 수 있는 형태로 함유하는 화합물이 β-디케톤네이트 복합체를 포함하여 유용하다는 것도 공지되어 있다. 이에 대해서는 예를들면 밀러(Miller)등의 미합중국 특허 제4,501,602호를 참조바란다. ErO2전구체를 제공하기 위한 전형적인 재료로 에르븀 헵타플루오로 메틸옥탄디온(erbium heptafluoromethyloctanedione, Er(fod)3)이 있다.
희토류 도펀트를 함유하는 프레폼을 제조하는 다른 방법은 졸-겔법(예를들면, 디지노바니등의 미합중국 특허 제5,123,940호 참조) 및 용액도핑법(예를들면, 아인슬리(Ainslie)등의 미합중국 특허 제4,923,279호 참조)을 포함한다. 이들방법은 별도의 공정단계들을 함유하며 결과 프레폼에서 희토류 도펀트의 농도를 조절하기가 어렵다.
증기흐름을 산화자리로 이송시키는 선행 방법들은 산화가 일어나기 전에 도펀트 전구체와 SiO2전구체를 혼합시키는 공정을 포함하고 있다. 예를들면, 맨스필드(Mansfield)등의 미합중국 특허 제4,826,288호(희토류 화합물, 알루미늄 화합물 및 유리형성원소들을 함유하는 증기가 반응 즉, 산화반응 대역으로 들어가기 직전에 혼합되는 MCVD 공정), 투미넬리(Tumminelli)의 미합중국 특허 제5,141,549호(희토류 화합물, 알루미늄 화합물 및 SiO2화합물을 함유하는 증기가 산화버너에서 혼합되어 SiO2슈트 전체에 상기 희토류 및 알루미나 화합물이 균일하게 분포되도록 하는 평탄한 광도파관의 제조방법)을 참조바란다.
파우워즈(Powers)의 미합중국 특허 제4,639,079호에서는 코아지역이 원추형 형상의 층에 부설된 광섬유 프레폼을 제조하는 VAD방법을 개시하고 있다. 상기 원추형 형상의 층은 두개의 하부층으로 구성된다. 하나의 하부층은 고농도의 도펀트를 가지며 다른 하부층은 낮은 농도 또는 도펀트 농도를 가지지 않는다. 이들 하부층은 이렇게 생성된 프레폼의 한폭부위를 가로지르는 다수의 버너에 의해 제조된다. 각각의 버너는 최소한 SiO2전구체를 함유하며 다른 수준의 도펀트 전구체(예를들면 GeO2)를 함유한다.
그러나, 본 발명자들은 β-디케토네이트로부터 형성된 희토류 화합물을 함유하는 증기는 금속 할라이드로부터 형성된 증기와 화학적으로 상용되지(compatible)못한다는 것을 알았다. 산화공정전에 이들 화학적으로 상용되지 못하는 증기들을 혼합함으로써 증기흐름에서 반응이 일어나도록 한다. 이들 증기상의 반응은 증기흐름에서 불필요한 미립자의 형성을 초래하며 이는 산화슈트 생성물의 비균일 침착 그리고 버너 오리피스의 막힘 및 계속적으로 제조된 프레폼의 오염과 같은 장비에 대한 문제점을 야기시킬 수 있다.
따라서, 본 발명의 목적은 기본유리 전구체를 함유하는 증기의 산화와는 별도로 도펀트를 함유하는 증기를 산화시켜 도펀트가 기본유리에 첨가되도록 하여 광도파관 섬유가 인발되는 프레폼을 제조하는 증착법을 제공하는데 있다.
본 발명의 다른 목적은 10,000ppm보다 적으며, 몇몇 경우에는 1ppm만큼 적은 도펀트 농도가 정확하고 반복적으로 프레폼에 첨가되는 방법을 제공하는데 있다.
본 발명의 다른 목적은 프레폼에 다양한 구성성분의 전구체를 함유하는 최소한의 부분의 증기가 산화에 앞서서 서로 화학적으로 상용되지 못하며, 광도파관 섬유로 인발되는 프레폼을 제조하는 증착법을 제공하는 데 있다.
본 발명의 또다른 목적은 프레폼에 다양한 구성성분의 전구체를 함유하는 증기의 산화조건이 증기흐름에서의 반응물의 양에 대해 최적화 되도록 하며 광도파관 섬유로 인발되는 프레폼을 제조하는 증착법을 제공하는 데 있다.
제1도에 도시된 바와같이 버너 1 및 2는 각기 타켓 맨드럴(3)에 대해서 미세 산화입자 생성물의 분리된 흐름을 향하도록 한다. 맨드럴(3)은 그 주변에 미세 산화입자 생성물을 침착시키도록 회전된다. 버너(1 및 2)와 맨드럴(3)사이의 상대적인 축운동은 맨드럴(3)의 길이를 따라 침착을 야기시킨다. 맨드럴(3)상에 미세 산화입자 생성물의 축적은 축적된 슈트(4)를 야기시킨다.
증기이동 시스템은 Blankenship '837호와 유사한데, 이것의 관련부분이 참조로 사용되었다. 산화생성 전구체를 함유하는 증기는 각각의 이송시스템(5 및 6)에 의해서 표시된 별도의 시스템에 의해 버너(1 및 2)로 이송된다. 버너(1)에는 SiO2전구체 증기가 제공된다. 양호한 실시예에서 버너(1)에는 GeO2전구체 증기가 역시 공급된다. 증기 공급원, 버너연료 및 산소 그리고 흐름조절 시스템 및 혼합장치는 도시되어 있지 않다. 할라이드 증기에 노출된 시스템의 어느 부위도 증기의 응축을 방지하는데 충분한 온도로 유지된다.
버너(2)에 공급되는 성분이 SiO2전구체와 다른 재료로 구성된다고 할지라도 버너(2)에는 이송시스템(6)으로 도시된대로 유사한 시스템으로부터 증기가 공급된다. 적절한 경우에는 다수의 도펀트 공급원이 버너(2)에 증기를 공급하기 위해서 사용될 수도 있다. 또한 제2도에는 단지 2개의 버너판을 도시하였지만 최소한 하나의 버너는 다른 버너들중 최소한 하나에 의해 공급된 것과 다른 산화생성물 또는 다른 산화생성물의 결합물을 공급하면서 2개이상의 버너가 사용될 수도 있다.
제1도에 도시한 바와 같이 버너(2)로부터의 미립자 흐름(8)은 버너(1)로부터의 미립자 흐름(7)이 축적된 슈트(4)와 접촉하는 지점으로부터 놓여진 지점에서 축적된 슈트(4)와 접촉한다. 다시 말하면, 버너(1)의 하나의 통과는 한층의 SiO2함유 축적된 슈트 및 미립자 흐름(7)에서 함유된 다른 성분을 제조할 것이고, 버너(2)의 하나의 통과는 미립자 흐름(8)에서의 성분을 함유하는 한층의 축적된 슈트를 제공할 것이다.
두개의 미립자 흐름에서의 성분은 같지 않기 때문에 교체되는 층들은 다양한 산화생성물의 균일한 혼합물을 함유하지는 않을 것이다. 전술한 선행기술에서는 다양한 산화물의 균일한 혼합물을 함유하는 프레폼을 제조하는 것이 목적이었다. 본 발명자들은 매우 적은 수준의 도펀트 농도인 경우 교체되는 층의 비균일성은 결과 광도파관 섬유의 광학특성에는 나쁜 영향을 미치지 않는다는 것을 알았다. 이에 대한 하나의 이유는 버너(2)로의 도펀트 유입은 버너(1)로의 SiO2전구체의 유입보다 상당히 적기 때문에 버너(2)에 의해 침착된 슈트층은 통상 버너(1)에 의해 침착된 슈트층보다 훨씬 얇다는 것이다.
버너(2)로의 전구체 증기의 유입이 버너(1)로의 전구체 증기유입보다 상당히 적을 경우, 전구체 증기의 분리 역시 중요하다. 이는 다른 버너가스유입(즉, 산소 및 연료)은 전구체 증기의 수준에 대해 최적화되도록 한다. 이는 개개성분이 적절한 산화 및 좀 더 효율적이 침착이 일어나도록 한다.
전구체 증기의 분리로부터 야기된 잇점은 다음과 같은 사항을 포함한다:
1. 고온을 요하는 증기의 경우, 증기 이송라인만 고온이 요구됨.
2. 증기 이송라인에서 응축이 덜됨.
3. 증기 이송라인내 및 버너표면에서 미립자를 형성할 수 있는 클로라이드 및 유기금속과 같은 비조화성 증기사이에서의 반응이 감소됨.
4. 모든 도펀트 반응에 대해서 산화조건이 최적화되기 때문에 좀더 완벽한 산화 및 좀 더 효율적인 고침착이 됨.
5. 증기생성물의 분리로 인하여 증기 이송라인의 오염이 감소됨(한 종류의 도펀트에서 다른 종류로 변경시킬 경우 좀 더 융통성이 부여됨).
6. 변하는 모양의 도펀트 구배를 용이하게 생성할 수 있음.
또한 본 발명은 도펀트 농도수준이 10,000 ppm보다 상당히 높은 상황에서도 적용될 수 있다고 사료된다. 이는 필요한 굴절율 구배를 얻기 위해 GeO2로 도핑된 종래의 SiO2-기본단일모드 광도파관 섬유로 인발되는 프레폼을 제조하는 경우이다. 본 발명의 방법에 의한 침착의 불균일 특성은 결과 단일모드 프레폼에서 도펀트 구배의 충분한 조절을 제공한다.
본 발명의 또다른 실시예는 산화다음까지 전구체 증기흐름의 분리를 유지하나 이 예에서는 슈트스트림이 타겟 맨드럴상에서 실질적으로 거의 같은 지점을 향하도록 하여 슈트스트림이 맨드럴에서 또는 근처에서 서로 만나도록 한다. 이 예는 좀 더 균일한 슈트혼합물을 제공한다. 또한 이 예는 슈트스트림의 상호작용으로 인하여 침착효율의 감소를 야기시킬 것이다. 또한 이 방법으로 침착된 슈트의 조성을 조절하는데 어느 정도 나쁜 영향을 미칠수 도 있을 것이다.
본 발명은 섬유 증폭기용으로서 ErO2가 도핑된 SiO2-GeO2기본 광도파관 섬유의 적용시 유용하다. ErO2를 위한 양호한 전구체는 β-디케토네이트중 하나이다. 상기 β-디케토네이트로 부터의 증기는 SiO2또는 GeO2를 제공하기 위해 통상 사용되는 증기와는 조화를 이루지 못하며 이송시스템에서 미립자형성을 초래할 수도 있다. 이러한 미립자 형성을 방지하고자 증기분리가 필요하다.
본 발명의 하나의 실시예에서 SiO2의 전구체는 옥타메틸사이클로테트라실옥산(OMCTS) 또는 도빈스(Dobbins)등의 미합중국 특허 제5,043,002호에 개시된 이와 유사한 화합물이고, GeO2의 전구체는 GeCl4이다. 이들 전구체들은 기상에서 서로 화학적으로 조화를 이루지 못하며 산화되기 전에 서로 혼합되면 증기이송 시스템내에서 미립자를 형성할 수 있다. 따라서, 산화되기 전까지 증기흐름을 분리시키는 것이 바람직하다. 본 발명의 다중 버너방법은 특히 이러한 목적에 잘 부합된다. 전술한 바와같이 본 발명의 방법은 산화조건을 버너 1에 SiO2전구체 그리고 버너 2에 GeO2전구체의 유속에 대해 분리해서 최적화되도록 한다. 물론 GeO2전구체를 제외한 도펀트 재료는 버너 2에 이송될 수 있다.
하기 실시예는 본 발명을 좀 더 상세히 설명하기 위한 것이지, 이것이 본 발명의 범주를 한정하는 것은 아니다. 하기 예에서 사용된 반응물 이송시스템은 Blankenship '837호에 개시된 것과 유사하다. 버너는 Blankenship '837호 및 배커(Backer)등의 미합중국 특허 제5,140,665호에 개시된 것과 유사하며, 제2도에 도시된 바와 같이 제2도는 중심 증기튜브(22), 내부 보호고리(23), 연료 사전혼합 오리피스(24) 및 외부보호 오리피스(25)를 가지는 버너면(21)을 도시하고 있다. 슈트프레폼을 투명유리로 전환시키는데 사용되는 탈수 및 응고공정은 딜루카(DeLuca)의 미합중국 특허 제3,933,454호 및 파우워즈의 미합중국 특허 제4,125,388호에 개시된 것과 유사하다.
[실시예 1]
프레폼이 제조되고 이로부터 하나의 불연속 증폭기 섬유가 인발된다. 상기 섬유는 약 1.0%의 굴절율 델타(delta)를 제공하는 GeO2로 도핑된 SiO2코아 및 약 1.453의 굴절율을 가진 SiO2의 클래딩으로 구성된다. 상기 GeO2-도핑된 SiO2코아는 300ppm의 ErO2를 역시 함유한다. 결과섬유는 15m의 길이이상으로 980㎚ 빛으로 펌핑되었을 경우 15㏈m이상의 출력을 보였다.
상기 SiO2및 GeO2전구체는 제2도에 도시된 버너와 유사한 디자인의 버너(1)에 이송된다. 이들 증기의 원료는 각기 SiCl4및 GeCl4이다. 상기 증기는 버너(1)의 가스/산소불꽃에 도입전에 혼합된다.
ErO2전구체는 코아 침착동안만 버너(2)에 이송된다. 이 예에서 버너(2) 역시 제2도에 도시된 버너디자인과 유사하다. 아르곤은 증기를 이송하기 위하여 약 165℃로 Er(fod)3를 통해 거품화된다.
침착은 두개의 고정버너의 전면 앞뒤에서 맨드럴이 횡단하는 노(lathe)에서 행하여진다. 상기 맨드럴은 약 168rpm으로 회전한다. 상기 프레폼은 한쪽방향으로 23㎜/sec의 버너 전면에서 횡단한다. 상기 프레폼은 1282mm/sec의 속도로 출발지점으로 되돌려진다.
본 예에서는 두가지 침착이 행하여진 반면에 한쪽 방향으로만의 침착이 선택적으로 사용될 수 있다. 한폭방향으로의 침착은 버너로부터 방출되는 슈트스트림이 프레폼에 충돌하는 동안 프레폼에 대해 한쪽 방향으로 버너를 이동시킴으로써 달성된다. 전체 축길이의 프레폼이 버너에 의해 횡단될 때 버너는 슈트스트림이 프레폼에 더이상 충돌하지 않도록 경사지게 할 수 있다. 그 다음 버너 및 프레폼은 버너가 출발지점으로 되돌아 가도록 각각에 대해 이동될 수 있다. 그 다음 상기 버너는 다시 경사지게 하여 슈트스트림이 프레폼에 충돌하도록 하며 이 사이클은 원하는 크기의 프레폼이 달성될 수 있는데 필요한 만큼 반복된다. 본 발명자들은 본 발명에 의한 ErO2(및 Al2O3(포함될 겅우))의 한쪽 방향의 침착이 두 방향의 침착과 필적할 만 하다는 것을 알았다.
[실시예 2]
본 발명의 다른 실시예에서는 버너(2)의 디자인이 다소 변경되고 Al2O3가 프레폼에 첨가된 것을 제외하고는 상기 실시예 1에 언급된 대로 프레폼을 제조하였다. 결과섬유는 약 1.0%의 굴절율 미분치(differential)를 제공하는 GeO2로 도핑된 SiO2코아 및 약 1.453의 굴절율을 가진 SiO2클래딩으로 구성된다. 상기 GeO2-도핑된 코아는 약 300ppm ErO2및 약 0.8wt% Al2O3를 함유한다. 제3도에 도시된 바와같이 버너는 3개의 중심 증기튜브(31, 32 및 33)을 함유하고 있다. 내부 증기튜브(31)는 ErO2전구체를 산화자리로 이송시키기 위해 사용된다. 외곽 증기튜브(33)는 Al203전구체를 산화자리로 이송시키기 위해 사용된다. 중간 증기튜브(32)는 내부 증기튜브(31)와 외곽 증기튜브(33)사이의 산소보호를 제공하기 위하여 사용된다. 내부 보호고리(34), 연류 사전혼합 오리피스(35) 및 외곽보호 오리피스(36)는 제2도의 것과 유사하다.
SiO2, GeO2, ErO3및 Al2O3전구체는 각기 SiCl4, GeCl4, Er(fod)3및 AlCl3이다. 상기 ErO2및 Al2O3전구체는 코아침착동안만 버너(2)에 이송된다. ErO2전구체는 약 165℃에서 Er(fod)3로 거품화된 아르곤으로 이송된다. Al2O3는 약 105℃로 AlCl3로 거품화된 산소로 이송된다.
[실시예 3]
프레폼이 제조되고 이로부터 분산된 증폭기 섬유가 인발되었다. 상기 섬유는 바가바툴라(Bhagavatula)의 미합중국 특허 제4,715,679호에 개시된 분할된(segmented) 코아를 가진 분산-변이 프로파일(dispersion-shifted profile)을 제조하기 위하여 GeO2로 도핑된 SiO2코아로 구성된다. 내부코아는 삼각형의 형상을 가지고 있고 약 1%의 최대 굴절율 미분치에 대해 최대 약 20wt.%의 GeO2를 함유하며, 코아의 약화된 영역은 SiO2로 구성되고, 상기 코아의 외곽링은 약 0.25%의 굴절율 미분치에 대해 약 6wt.%의 GeO2를 함유한다. 상기 GeO2-도핑된 SiO2내부코아는 1ppm ErO2및 0.25wt.%의 Al2O3를 함유한다. 클래딩은 약 1.453의 굴절율을 가진 SiO2로 구성된다. 결과섬유는 0.5mW/㎞의 투명도(전체길이에서 일체의 손실이 없도록 하는데 필요한 펌프 파우어)를 가지고 있다.
SiO2및 GeO2전구체는 버너(1)에 이송된다. 버너(1)는 제2도에 도시된 것과 유사하다. 이들 증기의 원료는 각기 SiCl4및 GeCl4이다.
ErO2및 Al2O3는 코아침착동안만 버너(2)에 이송된다. 버너(2)의 구조는 제3도의 것과 유사하다. 이들의 원료는 각기 Er(fod)3및 AlCl3이다. 상기 ErO2전구체는 약 110℃에서 Er(fod)3로 거품화된 아르곤으로 이송된다. Al2O3는 약 105℃로 AlCl3로 거품화된 산소로 이송된다.
본 발명은 양호한 실시예에 의해 도시되고 설명되었지만 하기 특허 청구범위에 의해 한정된 본 발명의 사상 및 범주를 벗어나지 않고 상기 예의 상세 설명 및 형태에는 본 발명에 속하는 전문가에 의해서 여러 변경이 가해질 수도 있다. 예를들면, 본 발명은 주로 증폭기 섬유에 관련하여 설명되어 있지만 이는 다른섬유 적용분야 및 평탄형 증폭기 도파관의 프레폼의 증착에도 적용될 수 있다. 또한 본 발명은 SiO2-기본 광도파관 섬유와 관련되어 설명되어 있지만 이는 다른 기본유리 조성물로 구성된 광도파관 섬유에도 적용될 수 있다.

Claims (20)

  1. 하기 (a) 내지 (j)의 공정으로 구성되고 광도파관 섬유로 인발되는 프레폼을 제조하는 방법.
    (a) 최소한 하나의 제1 전구체를 함유하는 제1 증기흐름을 생성하는 공정,
    (b) 상기 제1 증기흐름을 제1 산화자리로 이송시키는 공정,
    (c) 상기 제1 증기흐름을 산화시켜 제1 슈트스트림을 제조하는 공정,
    (d) 상기 제1 슈트 스트림을 맨드럴로 보내는 공정,
    (e) 상기 제1 슈트 스트림의 최소한 한 부분을 상기 맨드럴상에서 포집하는 공정,
    (f) 상기 제1 전구체는 함유하지 않으나 최소한 하나의 제2 전구체로 함유하는 하나의 제2 증기흐름을 생성하는 공정,
    (g) 상기 제2 증기흐름을 제2 산화자리로 보내는 공정,
    (h) 상기 제2 증기흐름을 산화시켜 제2 슈트 스트림을 제조하는 공정,
    (i) 상기 제2 슈트 스트림을 상기 맨드럴로 보내는 공정, 및
    (j) 상기 제2 슈트 스트림의 최소한 한 부분을 상기 맨드럴상에서 수집하는 공정.
  2. 제1항에 있어서, 상기 최소한 하나의 제1 전구체가 상기 제1 증기흐름이 산화된 다음 SiO2를 형성하는 화합물로 구성되는 것을 특징으로 하는 광도파관 프레폼의 제조방법.
  3. 제2항에 있어서, 제1 증기흐름을 생성하는 상기 공정이 SiCl4와 같은 금속 할라이드를 사용하여 상기 제1 증기흐름을 생성하는 것으로 더 구성되는 것을 특징으로 하는 광도파관 프레폼의 제조방법.
  4. 제2항에 있어서, 제1 증기흐름을 생성하는 상기 공정이 OMCTS와 같은 유기금속 화합물을 사용하여 상기 제1 증기흐름을 생성하는 것으로 더 구성되는 것을 특징으로 하는 광도파관 프레폼의 제조방법.
  5. 제2항에 있어서, 제1 증기흐름을 생성하는 상기 공정이 SiO2및 GeO2전구체를 생성하고 상기 제1 증기흐름을 상기 제1 산화자리로 이송하기전에 상기 전구체들을 조합하는 것으로 더 구성되는 것을 특징으로 하는 광도파관 프레폼의 제조방법.
  6. 제1항에 있어서, 상기 제2 증기흐름이 GeO2, TiO2, 희토류 산화물 또는 다른 금속산화물중 최소한 하나의 전구체를 함유하는 것을 특징으로 하는 광도파관 프레폼의 제조방법.
  7. 제6항에 있어서, 제2 증기흐름을 생성하는 상기 공정이 β-디케토네이트 복합체의 군으로부터 선택된 화합물을 사용햐는 것으로 더 구성되는 것을 특징으로 하는 광도파관 프레폼의 제조방법.
  8. 제1항에 있어서, 최소한 하나의 세번째 증기흐름을 생성하고 상기 최소한 하나의 세번째 증기흐름을 산화시켜 최소한 하나의 세번째 슈트 스트림을 생성하는 것으로 더 구성되는 것을 특징으로 하는 광도파관 프레폼의 제조방법.
  9. 제1항에 있어서, 상기 제1 슈트 스트림이 상기 맨드럴상에 제1 지점으로 보내어지고 상기 제2 슈트 스트림이 상기 제1 지점으로부터 대치된 상기 맨드럴상의 제2 지점으로 보내어지는 것을 특징으로 하는 광도파관 프레폼의 제조방법.
  10. 제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2 슈트 스트림이 상기 맨드럴상에서 실질적으로 같은 지점으로 보내어지는 것을 특징으로 하는 광도파관 프레폼의 제조방법.
  11. 최소한 제1 및 제2 전구체 화합물로부터 제조되며, 상기 제2 전구체 화합물은 상기 제1 전구체 화합물과 다르고, 최소한 상기 제1 전구체 화합물을 함유하는 제1 증기흐름이 제2 증기흐름과 상기 제1 및 제2 증기흐름이 각기 제1 및 제2 슈트입자 흐름으로 산화될 때까지 분리되며, 상기 제2 증기흐름은 상기 제1 전구체 화합물을 함유하지 않고 최소한 상기 제2 전구체 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 광섬유 프레폼의 제조방법.
  12. 제11항에 있어서, 상기 제1 전구체 화합물이 상기 제1 증기흐름을 산화시킨 다음 SiO2를 형성하는 것을 특징으로 하는 광섬유 프레폼의 제조방법.
  13. 제12항에 있어서, 상기 제1 증기흐름이 SiCl4와 같은 금속 할라이드로 구성된 것을 특징으로 하는 광섬유 프레폼의 제조방법.
  14. 제12항에 있어서, 상기 제1 증기흐름이 OMCTS와 같은 유기금속 화합물로 구성된 것을 특징으로 하는 광섬유 프레폼의 제조방법.
  15. 제12항에 있어서, 상기 제1 증기흐름이 SiO2및 GeO2전구체 화합물로 더 구성된 것을 특징으로 하는 광섬유 프레폼의 제조방법.
  16. 제11항에 있어서, 상기 제2 증기흐름이 GeO2, TiO2, 희토류 산화물 또는 다른 금속산화물중 최소한 하나의 전구체를 함유하는 것을 특징으로 하는 광섬유 프레폼의 제조방법.
  17. 제16항에 있어서, 상기 제2 증기흐름이 β-디케토네이트 복합체의 군으로 부터 선택된 화합물에서 생성되는 것을 특징으로 하는 광섬유 프레폼의 제조방법.
  18. 제11항에 있어서, 제1, 제2 및 최소한 제3 증기흐름이 산화되어 각기 제1, 제2 및 최소한 제3 슈트 스트림을 생성할 때까지 상기 제1 및 제2 증기흐름으로 분리된 최소한 제3 증기흐름으로 더 구성된 것을 특징으로 하는 광섬유 프레폼의 제조방법.
  19. 제11항에 있어서, 상기 제1 슈트 스트림이 상기 맨드럴상에 제1 지점으로 보내어지고 상기 제2 슈트 스트림이 상기 제1 지점으로부터 대치된 상기 맨드럴상의 제2 지점으로 보내어지는 것을 특징으로 하는 광섬유 프레폼의 제조방법.
  20. 제11항에 있어서, 상기 제1 및 제2 슈트 스트림이 상기 맨드럴상에서 실질적으로 같은 지점으로 보내어지는 것을 특징으로 하는 광섬유 프레폼의 제조방법.
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