JPS62202833A - 石英系ガラス光フアイバ母材の製造方法 - Google Patents

石英系ガラス光フアイバ母材の製造方法

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JPS62202833A
JPS62202833A JP4493786A JP4493786A JPS62202833A JP S62202833 A JPS62202833 A JP S62202833A JP 4493786 A JP4493786 A JP 4493786A JP 4493786 A JP4493786 A JP 4493786A JP S62202833 A JPS62202833 A JP S62202833A
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JP
Japan
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fluorine
soot
core
boron
doped
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JP4493786A
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Hiroyuki Tanaka
田中 絋幸
Toshikazu Omae
俊和 御前
Tetsuo Ishijima
石島 哲夫
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Mitsubishi Cable Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Cable Industries Ltd
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Publication date
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    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/01446Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
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    • C03B2201/08Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、石英系ガラス光ファイバ母材の製造方法に関
する。
[従来の技術〕 石英系ガラス光ファイバ母材は、石英ガラスからなるコ
アとその周囲に屈折率がコアよりも小さい石英系ガラス
のクラッドから形成されている。
クラッドの屈折率を下げるために従来よりクラッドには
、フッ素あるいはホウ素がドープされている。
[発明が解決しようとする問題点コ 石英ガラスからなるコアの外周に外付は法により石英ガ
ラスの中にフッ素のみがドープされるドーパントガスを
用いてクラッドを形成するばあい、フッ素はほとんどド
ープされず、屈折率の低下はほとんど望めない。
また、石英ガラス中にホウ素のみがドープされるドーパ
ントガスを用いてクラッドを形成するばあいは、フッ素
とは異なり、かなりの量をドープすることができるが、
その屈折率の低下効果はフッ素をドープしたばあいの約
1710程度であるため、多量のホウ素をドープする必
要がある。しかしながら、多量のホウ素をドープしよう
とするとガラススートが発泡し、均一なスートが形成さ
れない。したがってホウ素のドープ量にも限りがある。
そこで上記のような欠点を解消しうるドーパントガスと
してBF3が用いられている。ドーパントガスとしてB
F3を用いたばあい、フッ素はホウ素との共併効果によ
り、クラッドとしての石英ガラス中にドープされやすく
、より一層クラッドの屈折率を低下せしめ、またコアで
ある石英ガラスとの熱膨張係数の差を小さくすることが
できる。
しかしながら、外付は法によってBF3をドーパントソ
ースガスとしてクラッドを石英ガラスコア上に形成させ
たばあい、石英ガラスの屈折率とクラッドの屈折率の差
は、たかだか0.4%程度であり、さらに低屈折率を有
するクラッドが望まれている。
また石英ガラスコア上に外付は法でドーパントガスとし
てBF3を用い、フッ素とホウ素がドープされた石英ガ
ラスクラッドを形成しようとするとコアとスートの焼結
時における密着性がわるく、光フアイバ母材の作製が困
難である。
そこで本発明者らは、上記問題点に鑑みて鋭意研究を重
ねた結果、かかる問題点を解決しつる光フアイバ母材の
製造方法を見出し、本発明を完成するに至った。
[問題点を解決するための手段] すなわち、本発明はコアの外周にSiO2のスートを設
け、さらにその外周にフッ素とホウ素がドープされたS
iO2のスートを設けたのち、フッ素含有焼結ガス中で
焼結することを特徴とする石英ガラス系光フアイバ母材
の製造方法に関する。
[作用および実施例] 本発明の石英系ガラス光ファイバ母材の製造方法によれ
ば、コアの外周にSiO2のスートを設けたのち、その
外周にフッ素とホウ素がドープされた3102のスート
を設けるので、コアと、フッ素とホウ素がドープされた
5i02のスートとの密着性が向上し、しかもコア上に
形成されたスートの焼結は、フッ素含有焼結ガス中で行
なわれるので、スート中にはフッ素がさらに含有せられ
、したがって石英ガラスの屈折率とクラブトの屈折率の
差が一層大きくなる。
本発明に用いるコアとしては、Cus Fes 00%
Crなどのような光伝送損失を大とならしめるような不
純物の含有率が、たとえばloppm以下の通常使用さ
れている純石英ガラスを使用しうる。
かかるコアの外周に5IO2のスートが形成せられるが
、該スートの厚さは、コアとスートの焼結時の密着性を
保つために1■以上であるのが好ましい。
本発明に用いるSiO2のスート形成ガスとしては5i
Ha、5IH3CN 、 SiH2C12,5111C
# 3.5iCLa、5IH3Br5SiH2l3r2
.5illBr3.5i13ra 、5IH31、S 
i H212、S I II I 3.511a 、5
IH3(OCRl)、5iH2(OCRl3) 2.5
ill(OCH3)3、Sl (OCRl3) 4など
のシラン化合物または気化性のシラン誘導体、チッ素、
アルゴン、ヘリウムなどの不活性ガス、酸素、水素など
が用いられる。
かかるシラン化合物または気化性のシラン誘導体、不活
性ガス、酸素、水素などの混合割合は、光ファイバの用
途によって適宜調整して用いられる。該SiO2のスー
トをたとえば気相軸付法によって形成せしめるばあいに
は、多重管バーナに上述のSiO2のスート形成ガスを
所定量流し、火炎加水分解によりコアの近傍に形成せし
めることができる。
コアの近傍に5IO2のスートを形成せしめたのち、さ
らにその外周にフッ素とホウ素がドープされたSiO2
のスートを形成せしめる。
フッ素とホウ素がドープされた5i02のスート形成ガ
スとしては、上記のようなシラン化合物または気化性の
シラン誘導体、不活性ガス、酸素、水素などのほか、フ
ッ素とホウ素のドーパントソースガスが用いられる。
かかるドーパントソースガスとしては、フッ素をドープ
するばあいには、CCN3 P 5Cll! F2、C
F4などのフレオン類、CIP、CIP3、BrPなど
のフレオン相互の化合物、SFs、F2、F20、Si
F4などが、またホウ素をドープするばあいには、81
13、BH2C1、BIICj 2  BCI! 3、
BH2Br。
[311r3、B)121 、  Btllz 、B1
3などのボランまたは気化性のボラン誘導体が用いられ
る。
また本発明において、フッ素とホウ素がドープされた5
to2のスートを形成せしめるために用いるドーパント
ソースガスとしては、上記のフッ素化合物ガスおよびホ
ウ素化合物ガスを同時に用いてもよいが、フッ素とホウ
素が同時にスート中にドープされるためには、ドーパン
トソースガスとしてBl)3を用いるのが好ましい。
また、ドーパントソースガスには、チッ素、アルゴン、
ヘリウムなどの他のガスを混合してもよい。
かかるフッ素とホウ素がドープされた5i02のスート
形成ガス、シラン化合物または気化性のシラン誘導体、
不活性ガス、酸素、水素などの混合割合は、光ファイバ
の用途によって異なるが、その混合割合は、用途に応じ
て適宜設定される。該フッ素とホウ素がドープされたS
iO2のスートを気相軸付法により5I02のスート上
に形成せしめるばあいには、多重管バーナにより上述の
フッ素とホウ素がドープされたSiO2のス−1・形成
ガスを所定瓜流し、火炎加水分解により形成せしめるこ
とができる。
形成せしめられたフッ素とホウ素がドープされた5i0
2のスートの厚さは、えられる光ファイバの用途によっ
て異なるが、通常5〜30fflff1程度となるよう
に調整される。
上記のようにしてコアの外周に5i02のスートを、さ
らにその外周にフッ素とホウ素がドープされたSiO2
のスートを設けたのち、ついでフッ素含有焼結ガス中で
焼結することにより、光フアイバ母材が形成される。
前記フッ素含有焼結ガス中には、たとえばフッ素ガスを
はじめCCl3 P 、  CCl2F2、CClF2
、CF4などのフレオン類、CIF、IJF3、BrF
などのフレオン相互の化合物、SFs、F20 、Si
F4などのフッ素化合物、チッ素、アルゴン、ヘリウム
などの不活性ガス、酸素などが含有される。
フッ素含有焼結ガス中に含有されるフッ素あるいはフッ
素化合物は、目的とする光ファイバの。
クラッドの屈折率に応じて適宜その添加量を調整して用
いられるため、−概にその添加量を決定することはでき
ないが、通常、フ・ソ素含有焼結ガス中に1〜30容量
%含存されるのが好ましい。
前記焼結は、通常、電気炉などを用いて約1400〜約
IB00℃の温度範囲で行なわれる。
かくしてえられる光フアイバ母材は、フッ素とホウ素が
ドープされた5i02のスートが5io2のスートを介
してコア上に形成されたものであるので、フッ素とホウ
素がドープされたSiO2とコアとの密着性が向上し、
しかもスートをコア上に形成させたのち、フッ素含を焼
結ガス中で焼結されるので、クラッド中にフッ素がさら
にドープされものとなる。
つぎに本発明を実施例に基づいてさらに詳細に説明する
が、本発明はかかる実施例のみに限定されるものではな
い。
実施例1、比較例1および2 第1図に示される多重管バーナ(1)に81(JaO1
20g/win(30℃) 、H25,ON /win
、 Ar1.38 II /+inおよび028.!J
 /winを送る一方、’y ラット用多m管t<−+
(2)カラ5iCI!a  0.25 D/mln、 
Ar 1.4ff /m1nS)125.01 /ml
n、 028.5R/winおよびBF2を第1表に示
す流量となるように調整して送り、第1表に示す太さの
石英ガラスコア(3)を回転上昇させながらその表面上
に5i02のスート(4)およびフッ素とホウ素がドー
プされたSiO2のスート(5)を形成せしめた。
つぎにスートが形成された石英ガラスコアとスートの複
合体を電気炉に入れ、1500℃で焼結を行なった。な
お、焼結時の焼結ガスの組成は、第1表に示すように調
整した。
また、比較のため、焼結をフッ素含有焼結ガス中で行な
わなかったものおよび石英ガラスコア外周に5to2の
層を形成させなかったものを作製した。
かくしてえられた光ブアイバ母材の石英ガラスとクラッ
ドとの屈折率の差(Δn)およびその外観について調べ
た。その結果を第1表に併記する。
【発明の効果コ 本発明の製造方法によってえられた光フアイバ母材は、
フッ素とホウ素がドープされたSiO2からなるクラッ
ドとコアとの密着性に優れており、しかも形成されたス
ートはフッ素含有焼結ガス中で焼結されるので、コア中
にフッ素が含有されやすく、したがってフッ素含有焼結
ガスに含有されるフッ素濃度を調整することにより、目
的に応じた低屈折率を有するコアを容易に作製すること
ができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図は実施例1、比較例1および2の光フアイバ母材
の製造工程の説明図を示す。 (図面の主要符号) (1)、(2):多重管バーナ (3):石英ガラス (4) : SiO2のスート (5):フッ素とホウ素がドープ されたSiO2のスート

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 コアの外周にSiO_2のスートを設け、さらにそ
    の外周にフッ素とホウ素がドープされた SiO_2のスートを設けたのち、フッ素含有焼結ガス
    中で焼結することを特徴とする石英系ガラス光ファイバ
    母材の製造方法。
JP4493786A 1986-02-28 1986-02-28 石英系ガラス光フアイバ母材の製造方法 Pending JPS62202833A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0604785A1 (en) * 1992-12-28 1994-07-06 Corning Incorporated Method of making optical waveguide preforms

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0604785A1 (en) * 1992-12-28 1994-07-06 Corning Incorporated Method of making optical waveguide preforms
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