KR100265757B1 - 반도체 제조장비의 웨이퍼 오탑재 방지센서 - Google Patents

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Abstract

카세트를 사용하지 않고 웨이퍼를 처리하는 습식 세정 장치의 웨이퍼 반송부(carrier loading part) 및 웨이퍼 반송방법에 관하여 개시한다. 본 발명은 습식 세정 장치의 웨이퍼 반송부에서 카세트의 상단에 설치된 센서 고정 장치를 이용하여 웨이퍼 배치와 수직이 되는 면에서 광을 이용한 센서를 웨이퍼 외곽 구경을 따라 작동시켜 웨이퍼가 카세트 또는 습식 세정 장치에 캐리어 슬롯에 잘못 적재된 것을 감지할 수 있도록 한다. 이러한 광을 이용한 센서는 포토 센서, 레이저 센서 및 화이버 센서 중에 하나를 사용하여 복수개로 센서 고정 장치에 설치하는 것이 적합하다.

Description

반도체 제조 장비의 웨이퍼 오탑재 방지 센서{Wafer status checking sensor for prevention of miss loading in wafer processing equipment}
본 발명은 반도체 소자의 제조공정에 사용되는 습식 세정 장치(Wet Station)에 관한 것으로, 상세하게는 카세트를 사용하지 않고 웨이퍼를 처리하는 습식 세정 장치의 웨이퍼 반송부(carrier loading part) 및 웨이퍼 반송방법에 관한 것이다.
반도체 소자가 응용되는 전자기기가 점차로 경박단소화 됨에 따라 반도체 소자의 제조공정도 점자 고집적화와 빠른 동작속도 등에 초점을 맞추고 변화하고 있다. 이에 따라, 반도체 집적회로(Integrated Circuit)를 제조하기 위한 웨이퍼의 크기 또한 점차 대구경화되어 현재는 8인치 웨이퍼가 반도체 소자의 제조공정에 널리 사용되고 있다.
이러한 반도체 소자를 제조하기 위한 수많은 공정 중에 습식 식각공정이나 세정공정은 공정 중에 웨이퍼를 처리하기 위하여 화학용액을 사용한다. 일반적으로 화학용액을 사용하는 공정에서 웨이퍼의 세정은 습식 세정 장치 장비를 이용하여 공정을 진행한다. 통상, 습식 세정 장치의 구성은 크게 나누어서 ?? 웨이퍼를 적재하는 도구인 카세트(cassette)에서 장비의 캐리어로 웨이퍼를 로딩하는 반송부와, ?? 로딩된 웨이퍼를 액조(bath)에서 화학 처리하는 처리부와, ?? 화학 처리된 웨이퍼의 이온오염이나 기타 유기 오염 등을 린스 처리하는 최종 린스부와, ?? 웨이퍼를 건조시키는 건조부와, ?? 웨이퍼를 캐리어에서 다시 카세트로 이동시키는 언로딩부로 구성된다. 여기서, 상기 반송부의 역할은 웨이퍼를 카세트에서 습식 세정 장치(wet station)에 장착된 캐리어로 이동시키는 것이다. 그 이유는 카세트가 습식 세정 장치에서 사용되는 화학약품에 손상되는 문제를 방지하고, 공정중 수 차례에 걸쳐서 웨이퍼를 배치(batch)로 이동하는 공정을 용이하게 하기 위함이다. 종래에는 화학약품과 반응하지 않는 석영(Quartz)이나 태플론(Teflon)과 같은 특수한 재질로 만들어진 카세트를 이용하여 습식 세정 장치에서 웨이퍼를 별도의 캐리어로 이동시키지 않고 사용하였다. 그러나, 현재에는 8인치 웨이퍼와 같은 대구경의 웨이퍼를 사용할 경우에는 설비의 규모가 커지는 문제점으로 인하여 화학약품 처리조(bath)에서 웨이퍼를 처리하는 면적의 한계를 나타내는 문제점이 발생한다. 따라서, 지금은 8인치 웨이퍼를 가공하는 공정의 경우에 카세트를 사용하지 않는 습식 세정 장치가 널리 사용되고 있다.
도 1은 기존의 습식세정 장치의 웨이퍼 반송부에서의 문제점을 설명하기 위하여 도시한 단면도이다.
도 1을 참조하면, 카세트로부터 습식 세정 장치의 캐리어부(10)로 웨이퍼가 로딩되어 적재된 형태를 도시한 단면도이다. 상세히 설명하면, 웨이퍼(20)가 캐리어의 슬롯(30)에 한 장씩 꼽혀서 탑재되어 있는 모습을 보여준다. 본 발명에서는 설명을 용이하게 하기 위하여, 카세트(cassette)는 공정과 공정간에 웨이퍼를 이동하기 위한 도구로 지칭하고, 캐리어(carrier)는 단위 공정의 반도체 제조 장비에서 웨이퍼를 이동시키는 도구라 정의하기로 한다. 대부분의 경우에는 캐리어 한 개의 슬롯에 한 장의 웨이퍼가 탑재되어 정상적으로 공정이 진행되지만, 가끔씩 웨이퍼(20)가 한 개의 슬롯(slot)에 정상적으로 탑재되지 않고 잘못 탑재된 상태의 웨이퍼(20A)가 발생한다. 이러한 경우에는 웨이퍼의 오탑재 여부가 습식 세정 장치에 있는 반송부의 캐리어 내에서 자동적으로 확인이 되지 않기 때문에 습식 세정 장치 내에 여러 가지 문제를 유발시킨다.
이러한 문제점을 요약하여 설명하면, 첫째로 정상적으로 캐리어의 슬롯에 적재되지 않은 웨이퍼는 장비 내에서도 불안정하게 캐리어에 적재되어 웨이퍼를 가공하기 위하여 이동하는 도중에 떨어져서 웨이퍼가 깨지는 현상(wafer broken)이 발생한다. 따라서 전체 공정의 수율을 저하시키다.
둘째로 정상적으로 습식 세정 장비의 캐리어에 적재되지 않은 웨이퍼는 화학약품 처리조(bath)에서 웨이퍼를 가공하는 과정에서 웨이퍼의 쓰러짐을 유발시켜 캐리어에서 빠져 나가 화학약품 처리조에 방치되기가 쉽다. 왜냐하면, 캐리어에서 쓰러진 웨이퍼를 확인하기가 쉽지 않기 때문이다. 따라서, 연속되는 다른 웨이퍼 배치가 화학약품 처리조에 투입되어 동일한 문제를 유발시킬 경우에는 웨이퍼가 서로 섞여서 확인이 되지 않는 문제가 발생한다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 카세트를 사용하지 않고 웨이퍼를 처리하는 반도체 제조장비의 웨이퍼 반송부에서 웨이퍼가 캐리어에 잘못 적재되어 깨지거나 쓰러지는 문제를 억제할 수 있는 반도체 제조장비의 웨이퍼 반송부를 제공하는데 있다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 상기 웨이퍼 반송부를 이용하여 카세트를 사용하지 않고 웨이퍼를 처리하는 반도체 제조장비의 웨이퍼 반송방법을 제공하는데 있다.
도 1은 기존의 습식 세정 장치의 웨이퍼 반송부에서의 문제점을 설명하기 위하여 도시한 단면도이다.
도 2 및 도 3은 카세트를 사용하지 않고 웨이퍼를 처리하는 본 발명의 실시예에 의한 반도체 장치의 웨이퍼 반송부를 도시한 도면들이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
100: 실린더, 102: 카세트 운반 지지대,
104: 가이드 고정축, 106: 가이드 받침대,
108: 가이드 슬롯, 110: 카세트 받침대,
112: 카세트 지지판, 114: 웨이퍼,
116: 카세트, 118: 센서 고정 지지대,
120: 광을 이용한 센서
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 의한 카세트를 사용하지 않고 웨이퍼를 처리하는 반도체 장치의 웨이퍼 반송부는, 카세트를 탑재하고 상하운동을 수행하는 실린더를 포함하는 카세트 운반부와, 상기 카세트 운반부의 아래에서 슬롯을 구비하고 카세트 운반부에서 카세트가 아래로 내려올 때에 카세트 하부의 구멍으로 삽입되어 웨이퍼 배치를 위로 밀어 들어주는 가이드부와, 상기 카세트 운반부와 연결되어 카세트 상부에 위치한 사각기둥 형상의 센서 고정 지지대와 상기 센서 고정 지지대의 2개의 면에 광을 이용한 센서가 부착되어 웨이퍼 배치가 가이드부에 의해 위로 밀러 올라갔을 때에 상기 센서를 작동시켜 웨이퍼의 적절한 슬롯 탑재 여부를 모니터링하는 센서 고정 장치를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
상기 카세트를 사용하지 않고 웨이퍼를 가공하는 반도체 제조장비는 예컨대 습식 세정 장치(Wet Station)이고, 상기 센서 고정 지지대의 사각기둥은 상하면이 비어 가운데가 열려 있는 형상으로 웨이퍼가 가이드부에 의해 올라갔을 때에 웨이퍼에 수직이 되는 상기 사각기둥 형상의 센서 고정 지지대의 양면에 광을 이용한 센서, 예컨대 포토 센서, 레이저 센서 및 화이버 센서 중에서 하나가 복수개로 부착되어 웨이퍼 구경 외곽을 따라서 광을 조사하도록 되어 있다.
상기 다른 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명 의한 카세트를 사용하지 않고 웨이퍼를 처리하는 반도체 장치의 웨이퍼 반송방법은, 먼저 카세트로부터 웨이퍼를 일괄적으로 분리한다. 상기 일괄 분리된 웨이퍼에 광을 이용한 센서를 작동시켜 웨이퍼가 카세트의 슬롯에 적절하게 탑재되었는지를 모니터닝 한다. 상기 모니터닝이 끝난 웨이퍼를 장비 내에서 가공하기 위하여 캐리어로 이동하는 공정을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
여기서, 상기 카세트를 사용하지 않고 웨이퍼를 처리하는 반도체 제조장비는 피. 엘. 씨(PLC: Programmable Logic Controller)에 의하여 제어되는 장치로, 예컨대 습식 세정 장치(Wet Station)이다.
상기 카세트로부터 웨이퍼를 일괄적으로 분리하는 방법은 카세트의 하부에서 웨이퍼를 적재할 수 있는 슬롯이 장착된 가아드부를 사용하여, 웨이퍼를 일괄적으로 밀어 올리는 방법이 적합하다.
상기 광을 이용한 센서는 포토센서, 레이저 센서 및 화이버 센서 중에서 선택된 하나의 센서로서, 카세트에 적재된 웨이퍼와 수직이 되는 위치의 양단에 설치된다. 그리고 카세트로부터 웨이퍼가 일괄 분리되었을 때에 웨이퍼 구경의 외곽을 따라 광이 조사되도록 복수개의 센서가 설치되어 카세트에서 발생되는 웨이퍼의 오탑재 여부를 모니터링 하도록 되어 있다.
상기 다른 기술적 과제를 달성하기 위하여 카세트를 사용하지 않고 웨이퍼를 처리하는 본 발명 의한 반도체 장치의 다른 웨이퍼 반송방법은, 먼저 카세트로부터 웨이퍼를 일괄 분리한다. 상기 웨이퍼를 반도체 제조장비의 캐리어(carrier)로 적재한다. 이어서, 상기 캐리어에 적재된 웨이퍼가 적절히 슬롯에 탑재되었는지를 광을 이용한 센서를 작동시켜 모니터링 한다. 마지막으로, 상기 모니터링이 끝난 웨이퍼를 가공하기 위하여 장비내의 다른 장소로 이동하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.
따라서, 카세트를 사용하지 않지 않고 웨이퍼를 가공하는 본 발명에 따른 반도체 제조장비의 반송부와 반송방법에 의하면, 웨이퍼가 카세트나 캐리어의 슬롯에 정확히 적재되지 않은 경우에 이를 광을 이용한 센서를 이용하여 모니터링하여 공정 중에 웨이퍼가 깨지거나 섞이는 것을 억제할 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명함으로써 본 발명을 상세하게 설명한다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 첨부된 도면에서 센서 고정 장치는 본 발명의 특징부를 명료하게 하기 위하여 강조되었다. 또한, 센서 고정 장치를 작동시키는 단계는 웨이퍼를 카세트로부터 분리하면서 작동시킬 수도 있고, 이를 변형하여 캐리어에 탑재된 상태에서 작동시키는 것도 가능하다. 도면에서 동일 참조 부호는 동일 부재를 나타낸다.
도 2 및 도 3은 본 발명의 실시예에 의한 카세트를 사용하지 않고 웨이퍼를 처리하는 반도체 장치의 웨이퍼 반송부를 도시한 도면들이다.
도 2는 본 발명에 따른 카세트를 사용하지 않고 웨이퍼를 가공하는 습식 세정 장치의 반송부의 정면도이다.
도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 카세트를 사용하지 않고 웨이퍼를 처리하는 반도체 장치의 웨이퍼 반송부의 구성은 대략적으로 카세트 운반부와, 가이드부 및 센서 고정 장치로 이루어진다. 상기 카세트 운반부는 실린더(100)와 카세트 운반 지지대(102)로 이루어진다. 그리고, 상기 가이드부는 가이드 고정축(104)과 가이드 받침대(106)와 카세트 슬롯(108) 및 카세트 받침대(110)로 구성된다. 여기서 카세트 받침대(110)는 카세트 운반 지지대(102)를 통하여 실린더(100)와 연결되어 상하운동을 하도록 되어 있다. 또한 상기 가이드부는 카세트 받침대(110)의 상부에 웨이퍼(114)를 적재한 카세트(116)가 있고, 이러한 카세트(116)는 카세트 지지판(112)에 의하여 로딩이 이루어진 후에 고정되도록 되어 있다. 마지막으로 센서 고정 장치는 센서 고정 지지대(118)와 센서 고정 지지대에 설치된 복수개의 광을 이용한 센서(120)로 이루어져 있다. 상술한 반도체 제조장비의 웨이퍼 반송부는 카세트를 사용하지 않고 웨이퍼를 처리하는 시스템인 습식 식각 장치 등에 적용하는 것이 가능하다.
도 3은 본 발명의 가장 특징부인 센서 고정 장치를 확대한 사시도이다.
도 3을 참조하면, 센서 고정 장치의 센서 고정 지지대(118)의 사각기둥 형상은 상하면이 비어 가운데가 열려 있는 형상으로 카세트에 적재된 웨이퍼 배치가 가이드부에 의해 위로 밀려 올라갔을 때에 웨이퍼와 수직이 되는 센서 고정 지지대의 2개 면에 복수개의 광을 이용한 센서(120), 예컨대 포토 센서, 레이저 센서 및 화이버 센서 중의 하나가 설치되어 있다. 통상 광을 이용한 센서(120)는 발광부와 수광부를 구비하여 빛의 직진성을 이용하여 검사 대상이 되는 물체를 인지하도록 되어 있다. 따라서, 상기 복수개의 광을 이용한 센서(120)는 웨이퍼 구경의 외곽을 따라서 광을 조사하여 수광하도록 구성되어 있다. 그러므로 카세트의 슬롯에 정확히 탑재되지 않은 웨이퍼는 광을 이용한 센서(120)에서 나오는 빛을 차단하게 되므로 본 발명에 따른 센서 고정 장치로 이를 충분히 감지할 수 있다. 만약, 상기 메커니즘을 따라서 센서 고정 장치로부터 이상을 감지하면, 반도체 제조장비를 컨트롤하는 장치인 피. 엘. 씨(PLC: Programmable Logic Controller)의 프로그램을 수정하여 장비를 정지하고 경보장치를 올리도록 설계를 변경함으로써 운용자(operator)가 문제를 처리할 수 있다.
도 2 및 도 3을 참조하여 본 발명에 따른 카세트를 사용하지 않고 웨이퍼를 가공하는 반도체 제조장비에서의 웨이퍼 반송방법을 설명하기로 한다.
먼저 전제조건으로 웨이퍼를 적재한 카세트를 본 발명의 의한 반도체 제조장비의 웨이퍼 반송부로 로딩한다. 먼저, 카세트 운반부의 실린더(100)를 아래로 이동하도록 작동시켜 카세트 운반 지지대(102)를 통하여 상기 실린더(100)와 연결된 카세트 받침대(110)가 아래로 천천히 내려오도록 한다. 그러면, 가이드부의 가이드 슬롯(108)이 배치 상태의 웨이퍼(114)들을 들어올려서 카세트(116)로부터 웨이퍼(114)를 일괄적으로 분리하도록 되어 있다. 이어서, 상기 카세트 받침대(110)가 전체 상하 이동거리의 1/3정도로 내려온 지점에서 본 발명의 목적을 달성하는 가장 특징적인 요소인 센서 고정 장치를 작동시킨다. 상기 센서 고정 장치는 사각기둥 형태의 센서 고정 지지대(118)에 상하면이 뚫려서 가운데 비어 있는 형상으로 제작된다. 그리고 웨이퍼(114)가 가이드 슬롯(108)에 의하여 밀려 올라올 때, 웨이퍼(114)와 수직이 되는 센서 고정 지지대(110)의 2개 면에 복수개의 광을 이용한 센서(120)가 설치되어 있다. 따라서, 카세트 받침대(110)가 전체 이동 거리의 1/3의 범위로 내려 갔을 때에 광을 이용한 센서(120)가 웨이퍼(114)의 수직면에서 웨이퍼의 외곽 구경을 따라서 광을 조사하게 된다. 그러면, 가이드 슬롯(108)에 정확히 탑재되지 않은 웨이퍼는 광의 경로를 차단하게 되어 웨이퍼 적재의 이상 유무를 알수 있게 된다. 이때, 이상이 있으면, 반도체 제조장비, 예컨대 카세트를 사용하지 않고 웨이퍼를 처리하는 습식 세정 장치의 작동을 중단시키고 경보장치를 울리도록 장비를 컨트롤하는 PLC의 프로그램을 조정한다. 또한, 이상이 센서 고정 장치에서 감지되지 않으면, 가이드 받침대(110)는 실린더(100)의 조정에 의하여 아래로 완전히 내려오고 웨이퍼(114) 배치는 로봇 암(robot Arm, 미도시)에 의해 들려진 상태에서 카세트(116)를 언로딩(unloading) 시킨다. 그 후에는, 로봇 암은 웨이퍼 배치를 가공하기 위하여 장비내의 캐리어(미도시)로 웨이퍼 배치를 이동시킨다. 상기 광을 이용한 센서(120)는 포토 센서, 레이저 센서 및 화이버 센서 중에 하나를 사용하여 구성할 수 있다.
상기 실시예에서는 웨이퍼를 카세트로부터 일괄 분리하여 반도체 제조장비의 캐리어로 이동하기 전에 본 발명에 따른 광을 이용한 센서를 작동시켜 캐리어에 적재되어 있는 웨이퍼의 정확한 슬롯 적재 여부를 모니터링하였다. 하지만, 이를 변형시켜 카세트에서 반도체 장치의 캐리어로 웨이퍼를 완전하게 탑재시킨 후에 본 발명에 따른 광을 이용한 센서를 작동시켜 웨이퍼가 정확하게 캐리어의 슬롯에 꼽혀 있는지 여부를 모니터링할 수 있다.
이러한 변형예를 좀더 상세히 설명하기로 한다.
먼저 카세트로부터 웨이퍼를 일괄 분리한다. 이어서, 상기 일괄 분리된 웨이퍼를 반도체 장치의 캐리어에 탑재시킨다. 그리고 본 발명의 목적을 달성하기 위한 상기 도 3에 도시된 센서 고정 장치를 반도체 제조장치, 예컨대 습식 세정 장치의 캐리어 상부에 설치하고 센서 고정 장치에 장착된 광을 이용한 센서를 통하여 웨이퍼의 캐리어 슬롯 적재 여부를 모니터링한다. 마지막으로, 모니터링이 끝난 웨이퍼 배치를 가공 처리하기 위하여 장비내의 다른 장소로 이동시킨다. 여기서, 센서 고정 장치와 광을 이용한 센서의 특징에 대하여는 상기 실시예에서 충분히 설명되었기 때문에 중복을 피하기로 한다.
본 발명은 상술한 실시예에 한정되지 않으며 본 발명이 속한 기술적 사상 내에서 당 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 많은 변형이 가능함은 명백하다.
따라서, 상술한 본 발명에 따르면, 카세트를 사용하지 않고 웨이퍼를 처리하는 반도체 장비의 웨이퍼 반송부에 웨이퍼 배치가 카세트의 슬롯에 적절히 꼽혀 있는 상태를 모니터링하여 공정 중에 웨이퍼가 떨어져서 깨지거나, 다른 종류의 웨이퍼 배치와 섞이는 문제를 억제할 수 있다.

Claims (19)

  1. 카세트를 탑재하고 상하운동을 수행하는 실린더를 포함하는 카세트 운반부;
    상기 카세트 운반부의 아래에서 슬롯을 구비하고 카세트 운반부에서 카세트가 아래로 내려올 때에 카세트 하부의 구멍으로 삽입되어 웨이퍼 배치를 위로 밀어 들어주는 가이드부; 및
    상기 카세트 운반부와 연결되어 카세트 상부에 위치한 사각기둥 형상의 센서 고정 지지대와 상기 센서 고정 지지대의 2개의 면에 웨이퍼의 구경 외곽을 따라서 조사되는 광을 이용한 센서가 부착되어 웨이퍼 배치가 가이드부에 의해 위로 밀려 올라갔을 때에 광을 이용한 센서를 작동시켜 웨이퍼의 적절한 슬롯 탑재 여부를 모니터링하는 센서 고정 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 카세트를 사용하지 않고 웨이퍼를 가공하는 반도체 제조장비의 웨이퍼 반송부.
  2. 제1항에 있어서, 상기 반도체 제조장비는 습식 세정 장치인 것을 특징으로 카세트를 사용하지 않고 웨이퍼를 처리하는 반도체 장치의 웨이퍼 반송부.
  3. 제1항에 있어서, 상기 센서 고정 지지대의 사각기둥 형상은 상하면이 비어 가운데가 열려 있는 형상인 것을 특징으로 하는 카세트를 사용하지 않고 웨이퍼를 처리하는 반도체 장치의 웨이퍼 반송부.
  4. 제3항에 있어서, 상기 센서 고정 장치는 웨이퍼 배치가 가이드부에 의해 밀려 올라갔을 때에 웨이퍼와 수직이 되는 사각기둥의 양면에 광의 이용한 센서의 발광부와 수광부가 장착된 것을 특징으로 카세트를 사용하지 않고 웨이퍼를 처리하는 반도체 장치의 웨이퍼 반송부.
  5. 제1항에 있어서, 상기 광을 이용한 센서는 복수개인 것을 특징으로 하는 카세트를 사용하지 않고 웨이퍼를 처리하는 반도체 장치의 웨이퍼 반송부.
  6. 제1항에 있어서, 상기 광을 이용한 센서는 포토센서, 레이저 센서 및 화이버 센서 중에서 선택된 하나인 것을 특징으로 하는 카세트를 사용하지 않고 웨이퍼를 처리하는 반도체 장치의 웨이퍼 반송부.
  7. 카세트로부터 웨이퍼를 일괄 분리하는 제1 공정;
    상기 일괄 분리된 웨이퍼들의 구경 외곽을 따라서 조사되는 광을 이용한 센서를 작동시켜 웨이퍼의 적절한 슬롯 탑재 여부를 모니터링하는 제2 공정; 및
    상기 모니터링이 끝난 웨이퍼를 가공하기 위하여 장비내의 캐리어로 이동하는 제3 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 카세트를 사용하지 않고 웨이퍼를 처리하는 반도체 제조장비의 웨이퍼 반송방법.
  8. 제7항에 있어서, 상기 반도체 제조장비의 웨이퍼 반송방법은 화학약품 처리를 진행하는 습식 세정 장치(wet station)에 적용하는 것을 특징으로 하는 카세트를 사용하지 않고 웨이퍼를 처리하는 반도체 제조장비의 웨이퍼 반송방법.
  9. 제7항에 있어서, 제1 단계의 웨이퍼를 일괄 분리하는 방법은 카세트의 하부에서 가이드(guide)부를 사용하여 웨이퍼를 일괄적으로 밀어 올리는 방법인 것을 특징으로 하는 카세트를 사용하지 않고 웨이퍼를 처리하는 반도체 제조장비의 웨이퍼 반송방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 가이드(guide)부는 상기 카세트에 적재된 웨이퍼를 한 장씩 전체적으로 적재할 수 있는 슬롯을 포함하는 것을 특징으로 하는 카세트를 사용하지 않고 웨이퍼를 처리하는 반도체 제조장비의 웨이퍼 반송방법.
  11. 제7항에 있어서, 상기 제2 단계의 광을 이용한 센서는 포토센서, 레이저 센서 및 화이버 센서 중에서 선택된 하나를 이용하는 것을 특징으로 하는 카세트를 사용하지 않고 웨이퍼를 처리하는 반도체 제조장비의 웨이퍼 반송방법.
  12. 제7항에 있어서, 상기 제2 단계의 광을 이용한 센서는 웨이퍼와 수직이 되는 위치의 양단에서 작동하도록 설치하는 것을 특징으로 하는 카세트를 사용하지 않고 웨이퍼를 처리하는 반도체 제조장비의 웨이퍼 반송방법.
  13. 제7항에 있어서, 상기 광을 이용한 센서는 한 개 이상 설치하는 것을 특징으로 하는 카세트를 사용하지 않고 웨이퍼를 처리하는 반도체 제조장비의 웨이퍼 반송방법.
  14. 제7항에 있어서, 상기 반도체 제조장비는 피. 엘. 씨(PLC: Programmable Logic Controller)에 의하여 제어되는 것을 특징으로 하는 카세트를 사용하지 않고 웨이퍼를 처리하는 반도체 제조장비의 웨이퍼 반송방법.
  15. 카세트에서 웨이퍼를 일괄 분리하는 제1 공정;
    상기 웨이퍼를 반도체 제조장비의 캐리어로 적재하는 제2 공정;
    상기 캐리어에 적재된 웨이퍼의 적절한 슬롯 탑재 여부를 웨이퍼의 구경 외곽을 따라서 조사되는 광을 이용한 센서를 작동시켜 모니터링하는 제3 공정; 및
    상기 모니터링이 끝난 웨이퍼를 가공하기 위하여 장비내의 다른 장소로 이동하는 제4 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 카세트를 사용하지 않고 웨이퍼를 처리하는 반도체 제조장비의 웨이퍼 반송방법.
  16. 제15항에 있어서, 상기 반도체 제조장비의 웨이퍼 반송방법은 화학약품 처리를 진행하는 습식 세정 장치(wet station)에 적용하는 것을 특징으로 하는 카세트를 사용하지 않고 웨이퍼를 처리하는 반도체 제조장비의 웨이퍼 반송방법.
  17. 제15항에 있어서, 상기 제3 단계의 광을 이용한 센서는 포토센서, 레이저 센서 및 화이버 센서 중에서 선택된 하나를 이용하는 것을 특징으로 하는 카세트를 사용하지 않고 웨이퍼를 처리하는 반도체 제조장비의 웨이퍼 반송방법.
  18. 제15항에 있어서, 상기 제3 단계의 광을 이용한 센서는 웨이퍼와 수직이 되는 위치에서 작동되도록 설치하는 것을 특징으로 하는 카세트를 사용하지 않고 웨이퍼를 처리하는 반도체 장치의 웨이퍼 반송방법.
  19. 제15항에 있어서, 상기 광을 이용한 센서는 한 개 이상 설치하는 것을 특징으로 하는 카세트를 사용하지 않고 웨이퍼를 처리하는 반도체 장치의 웨이퍼 반송방법.
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