KR100257788B1 - 웨이퍼 이송용 반송유니트의 로봇암 위치조정장치 - Google Patents

웨이퍼 이송용 반송유니트의 로봇암 위치조정장치 Download PDF

Info

Publication number
KR100257788B1
KR100257788B1 KR1019970046240A KR19970046240A KR100257788B1 KR 100257788 B1 KR100257788 B1 KR 100257788B1 KR 1019970046240 A KR1019970046240 A KR 1019970046240A KR 19970046240 A KR19970046240 A KR 19970046240A KR 100257788 B1 KR100257788 B1 KR 100257788B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
wafer
sensor
robot arm
light emitting
light emission
Prior art date
Application number
KR1019970046240A
Other languages
English (en)
Other versions
KR19990024868A (ko
Inventor
최진영
박경대
강희영
강성윤
Original Assignee
김광교
대한민국디엔에스주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 김광교, 대한민국디엔에스주식회사 filed Critical 김광교
Priority to KR1019970046240A priority Critical patent/KR100257788B1/ko
Priority to US09/139,270 priority patent/US6089763A/en
Priority to JP10254321A priority patent/JP3056468B2/ja
Publication of KR19990024868A publication Critical patent/KR19990024868A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100257788B1 publication Critical patent/KR100257788B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67739Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • H01L21/67742Mechanical parts of transfer devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67259Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection

Abstract

본 발명은 웨이퍼를 파지하여 이송시키는 반송유니트의 로봇암의 이동위치를 간편하고 정확하게 조정할 수 있도록 한 것으로, 반도체 제조설비용 반송유니트의 일측에 이동가능하게 설치되어 웨이퍼를 파지하여 이송시키는 로봇암에 있어서, 상기 웨이퍼의 위치를 확인하는 검출부를 형성하되 로봇암에 의해서 이동되는 웨이퍼가 안착되는 지지판의 상면에 발광센서를 설치하고 이의 직상방에 발광센서에서 발생되는 빔을 수광하는 수광센서를 설치한 것과, 상기 로봇암으로 파지하는 웨이퍼와 동일하게 형성되며 빔이 이동하는 통공이 중앙부에 형성된 지그 웨이퍼로 구성된 것이다.

Description

웨이퍼 이송용 반송유니트의 로봇암 위치조정장치
본 발명은 웨이퍼 이송용 반송유니트의 로봇암 위치조정장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 웨이퍼를 파지하여 이송시키는 반송유니트용 로봇암의 이동위치를 간편하고 정확하게 조정할 수 있도록 한 것이다.
일반적으로, 반도체 제조설비는 도 1에 도시된 바와같이 웨이퍼를 적재하고 상기 웨이퍼를 선택적으로 분리시키는 인덱서(1)와, 분리된 웨이퍼를 이동시키는 반송유니트(2)와, 상기 웨이퍼의 상면에 일정한 두께의 감광액이 도포되도록 회전시키는 스핀유니트(3)와, 웨이퍼를 일정온도로 가열 및 냉각시키는 베이트유니트(4)로 구성되어 있다.
이와같은 반도체 제조설비에서 웨이퍼를 제조하기 위하여 상기 웨이퍼를 각 공정으로 이동시키고자 할 때에는 반송유니트(2)에 설치된 로봇암(4)으로 상기 웨이퍼를 파지하여 이동시키고 있으며 상기 로봇암(4)의 이동위치는 웨이퍼의 종류에 따라 로봇암(4)이 이동하는 거리 및 정지위치를 정확하게 조정하여야 하므로 상기 조정작업을 간편하고 정확하게 수행할 수 있는 조정장치가 절실히 요구되고 있는 실정이다.
종래에는 웨이퍼를 교환하여 로봇암(4)의 이동거리 및 정지위치를 조정하기위해서는 작업자가 조작부를 조작하면서 상기 조작부에 의해서 이동되는 로봇암(4)을 육안으로 확인하여 상기 로봇암(4)에 파지된 웨이퍼가 정확하게 안착될 수 있도록 조정을 하였으므로 작업자의 숙련도에 따라 조정작업의 정확도가 다르게 조정되었음은 물론 작업시간이 많이 소요되었다.
그리고 상기 로봇암(4)이 설비의 내부로 인입되어 작업자가 육안으로 확인할 수 없는 위치에서의 조정작업은 정확도가 더욱 저하된다.
따라서 상기 로봇암(4)의 위치조정작업 불량으로 인하여 웨이퍼의 안착이 불안정하게 됨에 따라 불량품이 제조되었음은 물론 심할 경우에는 웨이퍼 및 제조설비가 파손되는 등의 문제점이 있었다.
본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로서, 지그 웨이퍼에 통공을 형성하고 상기 통공으로 통과되는 빗을 감지하여 웨이퍼를 파지하여 이송시키는 로봇암의 위치조정 작업을 신속하고 간편하게 할 수 있는 웨이퍼 이송용 반송유니트의 로봇암 위치조정장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 고안은 반도체 제조설비용 반송유니트의 일측에 이동가능하게 설치되어 웨이퍼를 파지하여 이송시키는 로봇암에 있어서, 상기 웨이퍼의 위치를 확인하는 검출부를 형성하되 로봇암에 의해서 이동되는 웨이퍼가 안착되는 지지판의 상면에 발광센서를 설치하고 이의 직상방에 발광센서에서 발생되는 빔을 수광하는 수광센서를 설치한 것과, 상기 로봇암으로 파지하는 웨이퍼와 동일하게 형성되며 빔이 이동하는 통공이 중앙부에 형성된 지그 웨이퍼로 구성된 것이다.
도 1은 일반적인 반도체 제조설비를 도시한 사시도,
도 2는 본 발명에 따른 위치조정장치를 도시한 사시도,
도 3a 및 도 3b는 본 발명 위치조정장치로 로봇암의 위치를 조정하는 상태의 평면도,
도 4는 본 고안의 다른 실시예를 도시한 평면도.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
4 : 로봇암 5 : 플레이트
6 : 발광센서 7 : 수광센서
9 : 웨이퍼 9a : 통공
이하 본 발명을 도시한 첨부도면 도 2 및 도 3을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 2는 본 발명에 따른 위치조정장치를 도시한 사시도이고, 도 3a 및 도 3b는 본 발명 위치조정장치로 로봇암의 위치를 조정하는 상태의 평면도로서, 본 발명은 웨이퍼가 안착되는 지지판(5)의 상면에 빔이 발생되는 발광센서(6)가 설치되어 있고 상기 발광센서(6)의 둘레면에는 웨이퍼를 이동시키는 다수의 핀(8)이 설치되어 있으며 상기 핀은 고정 또는 승강가능하게 설치할 수도 있다.
상기 발광센서(6)의 직상방에는 빔을 수광하는 수광센서(7)가 설치되어 있고 상기 발광센서(6) 및 수광센서(7)를 제거하고 발광센서(6)가 설치되는 위치에 반사센서(6a)를 설치할 수도 있다.
한편 상기 반도체 제조설비에서 제조하고자하는 웨이퍼와 동일하게 형성된 지그 웨이퍼(9)의 중심부에는 발광센서(6)에서 발생된 빔이 이동하는 통공(9a)이 형성되어 있다.
이와같은 본 발명 위치조정장치로 웨이퍼의 종류가 변경되어 로봇암(4)의 이동거리 및 정지위치를 조정할 때에는 변경된 웨이퍼와 동일하게 형성된 지그 웨이퍼(9)를 로봇암(4)으로 파지한 상태에서 도 3a와 같이 지그 웨이퍼(9)가 플레이트(5)의 상부로 위치되도록 상기 로봇암(4)을 이동시킨다.
상기 로봇암(4)의 이동이 완료된후 플레이트(5)의 상면에 설치된 발광센서(6)를 작동시키면 상기 발광센서(6)에서 발생된 빔은 지그 웨이퍼(9)에 의해서 차단되어 수광센서(7)에서는 감지하지 못하게 된다.
이때 작업자는 조작부를 조작하여 상기 로봇암(4)에 파지된 지그 웨이퍼(9)의 통공(9a)이 도 3b에 도시된 바와같이 발광센서(6)와 수광센서(7)의 사이에 일치되어 상기 발광센서(6)에서 발생된 빔이 통공(9a)을 통해서 수광센서(7)가 수광하도록 로봇암(4)을 이동시키면 로봇암(4)의 조정작업이 완료된다.
따라서 발광센서(6)에서 발생된 빔이 수광센서(7)로 수광되도록 조작부를 조작하는 간단한 작업으로 또한 상기 로봇암(4)의 조정작업이 완료되므로 상기 로봇암(4)이 제조설비의 내부로 인입되어 육안으로 확인할 수 없을 때에도 정확하게 위치조정작업을 수행할 수 있게 된다.
한편 도 4에 도시된 바와같이 발광센서(6)를 지지판(5)의 상면 다수곳에 설치하고 이와 동일한 수의 수광센서(7)를 설치하고 상기 발광센서(6)에서 발생된 빗이 통과되는 통공(9a)을 지그 웨이퍼(9)에 형성하되 발광센서(6) 및 수광센서(7)와 동일한 수만큼 형성할 수도 있다.
그리고 상기 발광센서(6) 및 수광센서(7) 그리고 통공(9a)의 배열은 삼각형 또는 사각형등의 다각형을 이루도록 배열하거나 원형을 이루도록 배열할 수도 있다.
이상에서와 같이 본 발명은 웨이퍼의 종류를 변경할 때 로봇암(4)의 위치를 간편하고 정확하게 조정하여 작업시간을 단축할 수 있게 됨은 물론 조정불량에 의한 웨이퍼 및 제조설비의 파손을 미연에 방지하여 생산성 향상에 따른 수율을 향상시킬 수 있게 되는 효과가 있다.

Claims (3)

  1. 반도체 제조설비용 반송유니트의 일측에 이동가능하게 설치되어 웨이퍼를 파지하여 이송시키는 로봇암(4)에 있어서, 상기 웨이퍼(W)의 위치를 확인하는 검출부를 형성하되 로봇암(4)에 의해서 이동되는 웨이퍼가 안착되는 지지판(5)의 상면에 발광센서(6)를 설치하고 이의 직상방에 발광센서(6)에서 발생되는 빔을 수광하는 수광센서(7)를 설치한 것과, 상기 로봇암(4)으로 파지하는 웨이퍼와 동일하게 형성되며 빔이 이동하는 통공(9a)이 중앙부에 형성된 지그 웨이퍼(9)로 구성됨을 특징으로하는 웨이퍼 이송용 반송유니트의 로봇암 위치조정장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 지지판(5)의 상면에 반사센서(6a)를 설치하여서 됨을 특징으로하는 웨이퍼 이송용 반송유니트의 로봇암 위치조정장치.
  3. 제 1 항에 있어서, 지지판(5)의 상면에 다수의 발광센서(6)를 설치하고 이의 직상방에 발광센서(6)에서 발생되는 빔을 수광하는 수광센서(7)를 설치한 것과, 상기 로봇암(4)으로 파지하는 웨이퍼와 동일하게 형성되며 상기 발광센서(6)에 대응하는 다수의 통공(9a)이 형성된 지그 웨이퍼(9)로 구성됨을 특징으로하는 웨이퍼 이송용 반송유니트의 로봇암 위치조정장치.
KR1019970046240A 1997-09-09 1997-09-09 웨이퍼 이송용 반송유니트의 로봇암 위치조정장치 KR100257788B1 (ko)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019970046240A KR100257788B1 (ko) 1997-09-09 1997-09-09 웨이퍼 이송용 반송유니트의 로봇암 위치조정장치
US09/139,270 US6089763A (en) 1997-09-09 1998-08-25 Semiconductor wafer processing system
JP10254321A JP3056468B2 (ja) 1997-09-09 1998-09-08 半導体ウエハーの加工処理システム

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019970046240A KR100257788B1 (ko) 1997-09-09 1997-09-09 웨이퍼 이송용 반송유니트의 로봇암 위치조정장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR19990024868A KR19990024868A (ko) 1999-04-06
KR100257788B1 true KR100257788B1 (ko) 2000-06-01

Family

ID=19521013

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019970046240A KR100257788B1 (ko) 1997-09-09 1997-09-09 웨이퍼 이송용 반송유니트의 로봇암 위치조정장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100257788B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102345669B1 (ko) 2020-12-24 2021-12-30 하나 마이크론(주) 반도체 후공정용 표준협업 이동체 장치

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010081473A (ko) * 2000-02-15 2001-08-29 황인길 반도체 제조 장비의 웨이퍼 이송 장치
KR100462894B1 (ko) * 2002-12-13 2004-12-17 삼성전자주식회사 웨이퍼 반송암 억세스 위치 보정장치

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102345669B1 (ko) 2020-12-24 2021-12-30 하나 마이크론(주) 반도체 후공정용 표준협업 이동체 장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR19990024868A (ko) 1999-04-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1316989B1 (en) Method and apparatus for calibrating marking position in chip scale marker
KR100265757B1 (ko) 반도체 제조장비의 웨이퍼 오탑재 방지센서
US6616762B2 (en) Treatment solution supply apparatus and treatment solution supply method
US5197089A (en) Pin chuck for lithography system
US10782614B2 (en) Edge exposure device and method
KR20040014213A (ko) 레티클 핸들링 방법, 레티클 핸들링 장치 및 노광장치
KR101084620B1 (ko) 프록시미티 노광 장치, 그 마스크 반송 방법 및 패널 기판의 제조 방법
KR101917720B1 (ko) 웨이퍼 마킹 장치 및 웨이퍼 마킹방법
KR100257788B1 (ko) 웨이퍼 이송용 반송유니트의 로봇암 위치조정장치
WO2003098668A2 (en) Pre-aligner
TW201729389A (zh) 標記位置校正裝置及方法
CN113275758A (zh) 一种芯片规模晶圆级标记系统及激光标记方法
JP2651617B2 (ja) 板状物の載置装置
NL8002009A (nl) Inrichting om een halfgeleiderplaatje direkt met een patroon te belichten.
JP5392946B2 (ja) プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のマスク搬送方法、及び表示用パネル基板の製造方法
KR20120030841A (ko) 웨이퍼 마캉장치, 마킹위치 검사부재 및 웨이퍼 마킹장치의 제어방법
KR100543441B1 (ko) 반도체 웨이퍼 이송 장치의 포지션 설정 방법 및 그 장치
KR20030046317A (ko) 웨이퍼 주변 노광방법 및 장치
KR102223762B1 (ko) 기판처리장치 및 방법
KR101927695B1 (ko) 반송 로봇의 자세 보정 방법
JP5537063B2 (ja) プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のギャップ制御方法、及び表示用パネル基板の製造方法
JP3416577B2 (ja) マスク着脱機構と方法
KR200195139Y1 (ko) 반도체 노광장비의 웨이퍼 정렬장치
KR20220149866A (ko) 웨이퍼 마킹장치 및 이의 마킹방법
JP2011123103A (ja) プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のギャップ制御方法、及び表示用パネル基板の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20090129

Year of fee payment: 10

LAPS Lapse due to unpaid annual fee