KR100252041B1 - 캐리어 내에서의 웨이퍼 로딩 상태 검출장치 및 방법 - Google Patents

캐리어 내에서의 웨이퍼 로딩 상태 검출장치 및 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR100252041B1
KR100252041B1 KR1019970056443A KR19970056443A KR100252041B1 KR 100252041 B1 KR100252041 B1 KR 100252041B1 KR 1019970056443 A KR1019970056443 A KR 1019970056443A KR 19970056443 A KR19970056443 A KR 19970056443A KR 100252041 B1 KR100252041 B1 KR 100252041B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
wafer
pulse
sensor
slot
carrier
Prior art date
Application number
KR1019970056443A
Other languages
English (en)
Other versions
KR19990034747A (ko
Inventor
김용초
정희찬
Original Assignee
윤종용
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 윤종용, 삼성전자주식회사 filed Critical 윤종용
Priority to KR1019970056443A priority Critical patent/KR100252041B1/ko
Priority to TW087103390A priority patent/TW368715B/zh
Priority to JP10171786A priority patent/JPH11145250A/ja
Priority to US09/115,687 priority patent/US6052193A/en
Publication of KR19990034747A publication Critical patent/KR19990034747A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100252041B1 publication Critical patent/KR100252041B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67259—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
    • H01L21/67265—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection of substrates stored in a container, a magazine, a carrier, a boat or the like
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01D5/00—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
    • G01D5/26—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light
    • G01D5/32—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light
    • G01D5/34—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light the beams of light being detected by photocells
    • G01D5/342—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light the beams of light being detected by photocells the sensed object being the obturating part

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Warehouses Or Storage Devices (AREA)

Abstract

캐리어 내에서의 웨이퍼 로딩 상태 검출 장치 및 방법을 제공한다. 본 발명에 따른 웨이퍼 로딩 상태 검출 장치는 발광부와 수광부로 구성되고 상기 발광부와 수광부 사이에서 웨이퍼의 검출 유무에 따라 소정의 펄스를 발생시키는 투과형 웨이퍼 센서를 포함한다. 상기 발광부와 수광부는 2개의 암을 포함하는 웨이퍼 센서 지지부에 의하여 각각 지지된다. 또한, 상기 웨이퍼 센서 지지부를 지지하는 포스트를 포함하며, 상기 포스트는 구동 메카니즘에 의하여 상하 방향으로 소정 거리 만큼 왕복 이동 가능하다. 상기 포스트 근방에서 상기 포스트의 길이 방향에 따라 슬롯 바가 고정적으로 설치된다. 상기 슬롯 바에는 그 길이 방향에 따라 일정 간격으로 복수의 슬롯이 형성되어 있다. 광센서가 상기 슬롯 바의 슬롯이 형성된 면에 대향하도록 상기 포스트에 설치된다. 상기 광센서는 상기 포스트가 이동함에 따라 종동(從動)되면서 상기 슬롯 바의 전체 길이에 걸쳐서 슬롯의 유무에 따라 소정의 펄스를 발생시킨다. 펄스 비교 장치는 상기 웨이퍼 센서로부터의 펄스와 상기 광센서로부터의 펄스를 비교하여 각 펄스간의 매칭 여부를 검출한다.

Description

캐리어 내에서의 웨이퍼 로딩 상태 검출 장치 및 방법
본 발명은 반도체 제조 장치 및 방법에 관한 것으로, 특히 반도체 소자를 제조하기 위한 세정 공정 전에 웨이퍼가 캐리어 내에 정상적으로 로딩되었는지를 검사하는 웨이퍼 로딩 상태 검출 장치 및 방법에 관한 것이다.
반도체 소자의 제조 공정중에는 여러 차례의 웨이퍼 세정 공정을 거치게 된다. 그 중에서 특히 스핀 스크러버(spin scrubber)에 의한 웨이퍼 세정시에는 웨이퍼가 캐리어 내에 소정의 매수씩 로딩된 상태로 스핀 스크러버의 인덱서(indexer)에 공급된다. 인덱서에서 캐리어 내에 로딩된 웨이퍼의 개수가 카운팅(counting)된 후, 스타트(start) 신호에 따라 상기 캐리어로부터 웨이퍼가 인덱서 암(indexer arm)에 의하여 낱장씩 순서대로 필요한 세정 장치까지 자동으로 전달되어 소정의 세정 공정을 행하게 된다. 그런데, 상기 캐리어 내에서 웨이퍼가 각 슬롯(slot)의 위치에 바르게 로딩되어 있지 않고 기울어지거나 어긋난 상태로 로딩되어 있는 경우가 있을 수 있다. 이와 같이 웨이퍼의 로딩 상태가 불량한 경우에, 그 상태로 인덱서상에서 후속의 세정 단계로 공정이 진행되면 웨이퍼가 파손되거나 설비의 부품이 파손되어 설비 가동이 중단되고, 결과적으로 세정 설비의 가동 시간이 줄어들고 생산성이 저하된다.
본 발명의 목적은 스핀 스크러버에 의한 세정 공정을 행하기 전에 캐리어 내에 웨이퍼가 로딩되어 있는 상태를 미리 검출하여 웨이퍼의 파손이나 설비 부품의 파손을 방지할 수 있는 웨이퍼 로딩 상태 검출 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 상기한 바와 같은 웨이퍼 로딩 상태 검출 장치를 사용하여 캐리어 내에서의 웨이퍼 로딩 상태를 검출하는 방법을 제공하는 것이다.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 웨이퍼 로딩 상태 검출 장치의 구성을 개략적으로 도시한 도면이다.
도 2a 및 도 2b는 각각 웨이퍼 센서로부터 발생된 펄스의 예를 도시한 것이다.
도 3은 광센서로부터 발생된 펄스를 도시한 것이다.
도 4a 및 도 4b는 각각 캐리어 내에 웨이퍼가 정상적으로 로딩되어 있는 경우 및 정상적으로 로딩되어 있지 않은 경우에 웨이퍼 센서로부터 발생된 펄스와 광센서로부터 발생된 펄스를 비교한 것이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
10 : 웨이퍼 센서, 10a : 발광부
10b : 수광부, 20 : 웨이퍼 센서 지지부
20a, 20b : 암, 30 : 포스트
40 : 슬롯 바, 42 : 슬롯
50 : 광센서, 70 : 펄스 비교 장치
100 : 캐리어, 100a : 측면
100b : 저면, 100c : 입구측 상면
100d : 벽면, 102 : 웨이퍼
104 : 슬롯, 200 : 인덱서
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 웨이퍼 로딩 상태 검출 장치는 발광부와 수광부로 구성되고 상기 발광부와 수광부 사이에서 웨이퍼의 검출 유무에 따라 소정의 펄스를 발생시키는 투과형 웨이퍼 센서를 포함한다. 상기 발광부와 수광부는 2개의 암을 포함하는 웨이퍼 센서 지지부에 의하여 각각 지지된다. 또한, 상기 웨이퍼 센서 지지부를 지지하는 포스트를 포함하며, 상기 포스트는 구동 메카니즘에 의하여 상하 방향으로 소정 거리 만큼 왕복 이동 가능하다. 상기 포스트 근방에서 상기 포스트의 길이 방향에 따라 슬롯 바가 고정적으로 설치된다. 상기 슬롯 바에는 그 길이 방향에 따라 일정 간격으로 복수의 슬롯이 형성되어 있다. 광센서가 상기 슬롯 바의 슬롯이 형성된 면에 대향하도록 상기 포스트에 설치된다. 상기 광센서는 상기 포스트가 이동함에 따라 종동(從動)되면서 상기 슬롯 바의 전체 길이에 걸쳐서 슬롯의 유무에 따라 소정의 펄스를 발생시킨다. 펄스 비교 장치는 상기 웨이퍼 센서로부터의 펄스와 상기 광센서로부터의 펄스를 비교하여 각 펄스간의 매칭 여부를 검출한다.
상기 웨이퍼 센서는 웨이퍼 세정 장치, 즉 스핀 스크러버(spin scrubber)의 인덱서(indexer) 부분에 설치된다.
상기 웨이퍼 센서의 발광부와 수광부 사이의 공간에 복수의 웨이퍼를 수용하는 캐리어가 놓일 수 있도록 웨이퍼 센서 지지부의 2개의 암은 서로 소정 거리 이격되어 있다.
상기 펄스 비교 장치는 상기 웨이퍼 센서로부터 발생된 펄스의 온/오프 상태와 상기 광센서로부터 발생된 펄스의 온/오프 상태를 비교하고, 각 펄스간의 온 또는 오프 상태가 일치하지 않는 부분이 검출되면 알람을 발생시킨다.
상기 슬롯 바에 형성된 슬롯은 2 ± 0.1mm의 폭을 가진다.
상기 다른 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 웨이퍼 로딩 상태 검출 방법에서는 복수의 웨이퍼가 수용된 캐리어를 캐리어 내의 각 슬롯에서 웨이퍼가 수평 상태로 놓여지도록 위치시킨다. 발광부 및 수광부를 갖춘 웨이퍼 센서를 사용하여 상기 발광부로부터의 빛을 상기 캐리어의 저면으로부터 입구측 상면까지 투과시켜서 웨이퍼의 유무를 검출한다. 상기 웨이퍼의 유무에 따라 상기 웨이퍼 센서로부터 온/오프 펄스를 발생시킨다. 일정한 온/오프 펄스와 상기 웨이퍼 센서로부터 발생된 온/오프 펄스를 비교한다. 상기 제4 단계에서의 비교 결과 온/오프 상태가 일치하지 않는 경우에 알람(alarm)을 발생시킨다.
본 발명에 의하면, 웨이퍼 세정 공정 전에 캐리어 내에서의 웨이퍼 로딩 상태를 미리 검출함으로써 웨이퍼의 파손이나 설비 부품의 파손을 방지하고, 그에 따라 반도체 소자의 생산성 저하를 방지할 수 있다.
다음에, 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 첨부 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 웨이퍼 로딩 상태 검출 장치의 구성을 개략적으로 도시한 도면이다.
도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 웨이퍼 로딩 상태 검출 장치는 발광부(10a)와 수광부(10b)로 구성된 투과형 웨이퍼 센서(10)를 포함한다. 상기 웨이퍼 센서(10)에서 상기 발광부(10a)와 수광부(10b)는 복수의 웨이퍼(102)를 수용하는 캐리어(100)가 상기 발광부(10a)와 수광부(10b) 사이의 공간에 놓이도록 소정 거리 이격되어 있고, 이와 같이 이격되어 있는 발광부(10a)와 수광부(10b)는 대략
Figure kpo00000
자 형상을 가지는 웨이퍼 센서 지지부(20)의 2개의 암(20a, 20b)의 양 끝에 각각 설치되어 있다. 바람직하게는, 도 1에 도시된 바와 같이 각 웨이퍼(102)가 상기 캐리어(100) 내에서 수평 상태로 놓여지도록 상기 캐리어(100)가 측면(100a)을 바닥에 두고 놓여진 상태에서, 상기 발광부(10a)로부터 상기 수광부(10b)까지 전달되는 빛이 상기 캐리어(100)의 저면(100b)으로부터 입구측 상면(100c)까지 대각선 방향으로 전달되도록 하기 위하여, 상기 웨이퍼 센서 지지부(20)의 각 암(20a, 20b)은 서로 다른 길이를 가진다.
상기 발광부(10a)로부터의 빛이 상기 웨이퍼(102)가 로딩된 캐리어(100) 내부에서 대각선 방향으로 전달되어야 하는 이유는 다음과 같다. 상기 캐리어(100) 내에서 각 웨이퍼(102)는 플랫 존(flat zone)의 방향이 일정하지 않게 로딩되어 있고, 그에 따라, 플랫 존의 위치에 따른 각 웨이퍼의 미소한 무게 중심 차이에 의하여 웨이퍼가 상기 캐리어(100) 내에서 약간 기울어지게 될 수 있다. 즉, 웨이퍼의 플랫 존이 상기 캐리어(100)의 벽면(100d)을 향하여 있을 때에는 웨이퍼는 상기 캐리어(100)의 입구측 상면(100c)쪽에서는 아래쪽으로 미소량 쳐지게 되고, 상기 캐리어(100)의 저면(100b)쪽에서는 미소량 들뜨게 된다. 이와 같은 경우에는 웨이퍼가 상기 캐리어(100) 내에서 정상적으로 로딩되어 있음에도 불구하고 상기 웨이퍼 센서(10)에 의하여 로딩 불량 상태로 검출될 수 있다. 이와 같은 결과를 방지하기 위한 방법으로서 상기 발광부(10a)로부터의 빛이 상기 웨이퍼(102)가 로딩된 캐리어(100) 내부에서 대각선 방향으로 전달되도록 하면 상기와 같이 웨이퍼의 플랫 존의 위치 변동에 따른 오차를 최소로 할 수 있다.
상기 웨이퍼 센서(10)는 상기 캐리어(100) 내에 수용된 각 웨이퍼(102)의 로딩 상태에 따라 소정의 펄스를 발생시킨다. 즉, 웨이퍼가 캐리어(100) 내에서 해당 슬롯(104)에 정상적으로 로딩되어 있으면 상기 발광부(10a)로부터 발광된 빛이 웨이퍼와 웨이퍼 사이에서 상기 슬롯(104)의 간격에 의하여 형성된 공간을 통과할 때에는 상기 발광부(10a)로부터의 빛이 상기 수광부(10b)까지 투과되어, 상기 발광부(10a)로부터의 광 경로에 웨이퍼가 존재하지 않는 것을 의미하는 "오프(OFF)" 펄스를 발생시킨다. 또한, 상기 발광부(10a)로부터 발광된 빛이 웨이퍼가 있는 부분을 통과할 때에는 상기 발광부(10a)로부터의 빛이 상기 웨이퍼에 의해 차단되어, 상기 발광부(10a)로부터 수광부(10b)까지의 광 경로에 웨이퍼가 존재하는 것을 의미하는 "온(ON)" 펄스를 발생시킨다.
그런데, 상기 발광부(10a)로부터 발광된 빛이 웨이퍼와 웨이퍼 사이에서 상기 슬롯(104)의 간격에 의하여 형성된 공간을 통과할 때, 웨이퍼가 캐리어(100) 내의 해당 슬롯(104)에서 어긋나 있거나 기울어져 있는 등 로딩 상태가 불량한 경우에는 웨이퍼와 웨이퍼 사이의 공간중 적어도 일부가 로딩 상태 불량인 웨이퍼에 의하여 차단되고, 그 결과 상기 발광부(10a)로부터 상기 수광부(10b)까지의 광의 투과 경로가 차단되어, 상기 발광부(10a)로부터의 광 경로에 웨이퍼가 존재하는 것을 의미하는 "온(ON)" 펄스를 발생시키게 된다.
상기 웨이퍼 센서 지지부(20)는 구동 메카니즘, 예를 들면 에어 실린더(도시 생략)에 의하여 상하 방향으로 소정 거리 만큼 왕복 이동 가능한 포스트(30)에 의하여 지지되어 있다. 상기 포스트(30)가 상하 방향으로 이동함에 따라 상기 웨이퍼 센서 지지부(20)도 상하 방향으로 이동하여 상기 캐리어(100) 내에 수용된 각 웨이터(20)의 로딩 상태가 모두 상기 웨이퍼 센서(10)에 의하여 검출되어 펄스로 나타나게 된다.
또한, 상기 포스트(30) 근방에는 상기 포스트(30)의 길이 방향에 따라서 긴 형상의 슬롯 바(40)가 고정적으로 설치되어 있다. 상기 슬롯 바(40)에는 그 길이 방향에 따라서 복수의 슬롯(42)이 일정 간격으로 형성되어 있다. 상기 슬롯(42)은 상기 캐리어(100) 내에 형성된 슬롯(104)에 대응하는 수로 형성되어 있다. 또한, 상기 포스트(30)에는 상기 슬롯 바(40)의 슬롯(42)이 형성된 면에 대향하여 광센서(50)가 설치되어 있다. 상기 광센서(50)는 상기 포스트(30)가 상하 방향으로 이동함에 따라 종동(從動)되면서 상기 슬롯 바(40)의 전체 길이에 걸쳐서 슬롯(42)의 형성 유무를 판별하고, 상기 슬롯의 유무에 따라서 소정의 펄스를 발생시킨다. 즉, 상기 광센서(50)에서는 상기 슬롯 바(40)에서 슬롯(42)이 형성되어 있는 부분을 통과할 때에는 "온" 펄스가 발생되고, 상기 각 슬롯(42)이 형성되어 있지 않은 부분을 통과할 때에는 "오프" 펄스가 발생된다. 상기 슬롯(42)은 약 2 ± 0.1mm의 폭(W)을 가지도록 형성되는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명에 따른 웨이퍼 로딩 상태 검출 장치는 상기 웨이퍼 센서(10)로부터 발생된 펄스와 상기 광센서(50)로부터 발생된 펄스를 비교하기 위한 펄스 비교 장치(70)를 포함한다. 상기 펄스 비교 장치(70)에서는 상기 웨이퍼 센서(10)로부터 발생된 펄스의 온/오프 상태와 상기 광센서(50)로부터 발생된 펄스의 온/오프 상태를 비교하고, 각 펄스간에 온 또는 오프 상태가 일치하지 않는 부분이 검출되면 알람(alarm)을 발생시킨다.
도 2a 및 도 2b는 각각 상기 웨이퍼 센서(10)로부터 발생된 펄스의 예를 도시한 것이다.
도 2a는 캐리어 내에 웨이퍼가 정상적으로 로딩된 경우 상기 웨이퍼 센서(10)에서 발생된 펄스를 도시한 것이다. 여기서, "ON"은 상기 웨이퍼 센서(10)의 발광부(10a)로부터 상기 수광부(10b)까지의 광 경로에 웨이퍼가 존재함을 의미하는 것이고, "OFF"는 상기 광 경로에서 웨이퍼가 검출되지 않았음을 의미하는 것이다.
도 2b는 캐리어 내에서 3번째 슬롯과 4번째 슬롯 사이의 공간에 웨이퍼가 존재하는 것으로 나타난 펄스의 예를 도시한 것이다. 즉, 캐리어의 3번째 슬롯과 4번째 슬롯 사이에서 웨이퍼가 정상적으로 로딩되어 있지 않은 것을 의미한다.
도 3은 상기 광센서(50)로부터 발생된 펄스를 도시한 것이다. 상기 슬롯 바(40)는 상기 실린더(30) 근방에 고정적으로 설치되어 있으므로, 상기 광센서(50)로부터의 펄스는 항상 일정하다.
도 4a 및 도 4b는 각각 캐리어 내에 웨이퍼가 정상적으로 로딩되어 있는 경우 및 정상적으로 로딩되어 있지 않은 경우, 즉 캐리어 내에서 3번째 슬롯과 4번째 슬롯 사이의 공간에 웨이퍼의 로딩 불량이 발생한 경우에, 상기 웨이퍼 센서(10)로부터 발생된 펄스(Pws)와 상기 광센서(50)로부터 발생된 펄스(Pps)를 각각 비교한 것이다.
상기 펄스 비교 장치(70)에서는 도 4a 및 도 4b에 나타낸 바와 같이 상기 웨이퍼 센서(10)로부터 발생된 펄스와 상기 광센서(50)로부터 발생된 펄스를 비교하고, 각 펄스간에 "ON" 또는 "OFF"가 일치되지 않을 때에는 알람(alarm)을 발생시킴으로써 웨이퍼의 로딩 불량을 검출한다.
상기와 같이 구성된 웨이퍼 로딩 상태 검출 장치는 바람직하게는 스핀 스크러버의 인덱서(200) 부분에 설치한다. 그리고, 웨이퍼의 세정 공정을 진행하기 전에 상기 웨이퍼 로딩 상태 검출 장치를 가동시켜서 웨이퍼의 로딩 불량 상태를 검출하고, 상기 펄스 비교 장치(70)로부터 알람이 발생된 경우에는 작업자가 상기 캐리어(100) 내의 웨이퍼를 즉시 확인하고 불량 상태로 로딩된 웨이퍼를 바르게 로딩시킨 후 이후 공정을 진행한다. 그 결과, 스핀 스크러버에 의한 웨이퍼의 세정 공정을 행하기 전에 캐리어(100) 내에 웨이퍼가 로딩되어 있는 상태를 미리 검출함으로써 웨이퍼의 파손이나 설비 부품의 파손을 방지할 수 있다.
상기한 바와 같이, 본 발명에 의하면 스핀 스크러버에 의한 웨이퍼의 세정 공정을 행하기 전에 인덱서 부분에서 캐리어 내에 웨이퍼가 로딩되어 있는 상태를 발광부 및 수광부를 갖춘 웨이퍼 센서와 포토 센서를 사용하여 미리 검출함으로써 웨이퍼의 파손이나 설비 부품의 파손을 방지하고, 그에 따라 반도체 소자의 생산성 저하를 방지할 수 있다.
이상, 본 발명을 바람직한 실시예를 들어 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않고, 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러가지 변형이 가능하다.

Claims (16)

  1. 발광부와 수광부로 구성되고, 상기 발광부와 수광부 사이에서 웨이퍼의 검출 유무에 따라 소정의 펄스를 발생시키는 투과형 웨이퍼 센서와,
    상기 발광부와 수광부를 각각 지지하는 2개의 암을 포함하는 웨이퍼 센서 지지부와,
    상기 웨이퍼 센서 지지부를 지지하고, 구동 메카니즘에 의하여 상하 방향으로 소정 거리 만큼 왕복 이동 가능한 포스트와,
    상기 포스트 근방에서 상기 포스트의 길이 방향에 따라 고정적으로 설치되고, 그 길이 방향에 따라 일정 간격으로 복수의 슬롯이 형성되어 있는 슬롯 바와,
    상기 슬롯 바의 슬롯이 형성된 면에 대향하도록 상기 포스트에 설치되고, 상기 포스트가 이동함에 따라 종동(從動)되면서 상기 슬롯 바의 전체 길이에 걸쳐서 슬롯의 유무에 따라 소정의 펄스를 발생시키는 광센서와,
    상기 웨이퍼 센서로부터의 펄스와, 상기 광센서로부터의 펄스를 비교하여 각 펄스간의 매칭 여부를 검출하는 펄스 비교 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 로딩 상태 검출 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 웨이퍼 센서는 웨이퍼 세정 장치의 인덱서(indexer) 부분에 설치된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 로딩 상태 검출 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 웨이퍼 세정 장치는 스핀 스크러버(spin scrubber)인 것을 특징으로 하는 웨이퍼 로딩 상태 검출 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 웨이퍼 센서의 발광부와 수광부 사이의 공간에 복수의 웨이퍼를 수용하는 캐리어가 놓일 수 있도록 웨이퍼 센서 지지부의 2개의 암은 서로 소정 거리 이격되어 있는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 로딩 상태 검출 장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 2개의 암은 서로 다른 길이를 가지는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 로딩 상태 검출 장치.
  6. 제1항에 있어서, 상기 웨이퍼 센서는 상기 발광부와 수광부 사이에 웨이퍼가 존재하면 "온(ON)" 펄스를 발생시키고, 웨이퍼가 존재하지 않으면 "오프(OFF)" 펄스를 발생시키는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 로딩 상태 검출 장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 광센서는 상기 슬롯 바에서 슬롯이 형성되어 있는 부분을 통과할 때에는 "온" 펄스를 발생시키고, 각 슬롯이 형성되어 있지 않은 부분을 통과할 때에는 "오프" 펄스를 발생시키는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 로딩 상태 검출 장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 펄스 비교 장치는 상기 웨이퍼 센서로부터 발생된 펄스의 온/오프 상태와 상기 광센서로부터 발생된 펄스의 온/오프 상태를 비교하고, 각 펄스간의 온 또는 오프 상태가 일치하지 않는 부분이 검출되면 알람을 발생시키는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 로딩 상태 검출 장치.
  9. 제1항에 있어서, 상기 포스트는 에어 실리더에 의하여 상하 방향으로 왕복 이동되도록 구동되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 로딩 상태 검출 장치.
  10. 제1항에 있어서, 상기 슬롯 바에 형성된 슬롯은 2 ± 0.1mm의 폭을 가지는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 로딩 상태 검출 장치.
  11. 복수의 웨이퍼가 수용된 캐리어를 캐리어 내의 각 슬롯에서 웨이퍼가 수평 상태로 놓여지도록 위치시키는 제1 단계와,
    발광부 및 수광부를 갖춘 웨이퍼 센서를 사용하여 상기 발광부로부터의 빛을 상기 캐리어의 저면으로부터 입구측 상면까지 투과시켜서 웨이퍼의 유무를 검출하는 제2 단계와,
    상기 웨이퍼의 유무에 따라 상기 웨이퍼 센서로부터 온/오프 펄스를 발생시키는 제3 단계와,
    일정한 온/오프 펄스와 상기 웨이퍼 센서로부터 발생된 온/오프 펄스를 비교하는 제4 단계와,
    상기 제4 단계에서의 비교 결과 온/오프 상태가 일치하지 않는 경우에 알람(alarm)을 발생시키는 제5 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 로딩 상태 검출 방법.
  12. 제11항에 있어서, 제1 단계에서 상기 캐리어를 웨이퍼 세정 장치의 인덱서(indexer) 부분에 위치시키는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 로딩 상태 검출 방법.
  13. 제12항에 있어서, 상기 웨이퍼 세정 장치는 스핀 스크러버(spin scrubber)인 것을 특징으로 하는 웨이퍼 로딩 상태 검출 방법.
  14. 제11항에 있어서, 상기 제2 단계에서 상기 발광부로부터의 빛은 상기 캐리어의 저면으로부터 입구측 상면까지 대각선 방향으로 전달되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 로딩 상태 검출 방법.
  15. 제11항에 있어서, 상기 제4 단계에서 일정한 온/오프 펄스를 발생시키기 위하여 일정 간격으로 슬롯이 형성된 슬롯 바와, 상기 슬롯 바의 길이 방향에 따라 슬롯의 형성 유무를 검출하는 광센서를 사용하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 로딩 상태 검출 방법.
  16. 제15항에 있어서, 상기 슬롯 바에 형성된 슬롯은 2 ± 0.1mm의 폭을 가지는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 로딩 상태 검출 방법.
KR1019970056443A 1997-10-30 1997-10-30 캐리어 내에서의 웨이퍼 로딩 상태 검출장치 및 방법 KR100252041B1 (ko)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019970056443A KR100252041B1 (ko) 1997-10-30 1997-10-30 캐리어 내에서의 웨이퍼 로딩 상태 검출장치 및 방법
TW087103390A TW368715B (en) 1997-10-30 1998-03-09 Apparatus and method for inspecting loading state of wafers in carrier
JP10171786A JPH11145250A (ja) 1997-10-30 1998-06-18 キャリア内におけるウェーハローディング状態検出方法及びその装置
US09/115,687 US6052193A (en) 1997-10-30 1998-07-15 Apparatus and method for inspecting loading state of wafers in carrier

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019970056443A KR100252041B1 (ko) 1997-10-30 1997-10-30 캐리어 내에서의 웨이퍼 로딩 상태 검출장치 및 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR19990034747A KR19990034747A (ko) 1999-05-15
KR100252041B1 true KR100252041B1 (ko) 2000-04-15

Family

ID=19523781

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019970056443A KR100252041B1 (ko) 1997-10-30 1997-10-30 캐리어 내에서의 웨이퍼 로딩 상태 검출장치 및 방법

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6052193A (ko)
JP (1) JPH11145250A (ko)
KR (1) KR100252041B1 (ko)
TW (1) TW368715B (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104916573A (zh) * 2015-06-17 2015-09-16 北京七星华创电子股份有限公司 半导体设备承载区域的硅片分布状态组合检测方法及装置

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10250353B4 (de) * 2002-10-25 2008-04-30 Brooks Automation (Germany) Gmbh Einrichtung zur Detektion von übereinander mit einem bestimmten Abstand angeordneten Substraten
CA2546113A1 (en) * 2005-05-06 2006-11-06 Bromer Inc. Method and apparatus for the free-fall transfer of panels
TW200725785A (en) * 2005-12-30 2007-07-01 Powerchip Semiconductor Corp Displaced wafer detection systems
DE102010018465B4 (de) * 2010-04-27 2020-02-06 Centrotherm Photovoltaics Ag Vorrichtung und Verfahren zum Ermitteln der räumlichen Lage von Plattenelementen eines Waferbootes sowie Beladevorrichtung und Verfahren zum Be- und/oder Entladen eines solchen Waferbootes
KR102397110B1 (ko) * 2016-06-13 2022-05-12 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 기판 반송 장치 및 기판 반송 방법
KR102629432B1 (ko) 2021-10-20 2024-01-24 유금범 해양 작업선용 원줄 인양장치
KR20230109006A (ko) 2022-01-12 2023-07-19 유금범 해양 작업선용 원줄 인양장치
KR102515588B1 (ko) 2022-01-12 2023-03-29 유금범 해양 작업선용 원줄 인양장치
KR20230126952A (ko) 2022-02-24 2023-08-31 유금범 해양 작업선용 원줄 인양장치

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5350899A (en) * 1992-04-15 1994-09-27 Hiroichi Ishikawa Semiconductor wafer temperature determination by optical measurement of wafer expansion in processing apparatus chamber
US4987407A (en) * 1988-04-22 1991-01-22 Asq. Boats, Inc. Wafer interleaving with electro-optical safety features
JP2949853B2 (ja) * 1990-12-21 1999-09-20 株式会社ニコン 試料の厚さ測定装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104916573A (zh) * 2015-06-17 2015-09-16 北京七星华创电子股份有限公司 半导体设备承载区域的硅片分布状态组合检测方法及装置

Also Published As

Publication number Publication date
TW368715B (en) 1999-09-01
JPH11145250A (ja) 1999-05-28
US6052193A (en) 2000-04-18
KR19990034747A (ko) 1999-05-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100252041B1 (ko) 캐리어 내에서의 웨이퍼 로딩 상태 검출장치 및 방법
US5003188A (en) Semiconductor waxer detection system
JPH04321253A (ja) ウエハ搬送装置、ウエハの傾き検出方法、およびウエハの検出方法
KR20000015983A (ko) 흡착물 검지장치, 그 장치를 쓴 흡착물 검지방법, 그 장치를 쓴위치 어긋남 검지방법, 및 그 장치를 쓴 청소방법.
KR101790453B1 (ko) 기판 처리 장치, 기판 처리 방법, 및 그 기판 처리 방법을 실행시키기 위한 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체
KR100286288B1 (ko) 핸들러에서 카세트 내의 웨이퍼 삽입 상태 감지 장치
KR960010141B1 (ko) 웨이퍼 카운터(Wafer counter)
WO2003098668A2 (en) Pre-aligner
KR0136601B1 (ko) 웨이퍼 배열 상태 검출 장치
KR100481178B1 (ko) 기판유무검사장치
JPH06211334A (ja) 部品搭載装置の基板検出装置
JP5022391B2 (ja) ロッドレンズアレイ搬送装置
JP2006248787A (ja) コップの配向を検知するための装置
JP3638735B2 (ja) 基板処理装置
JPH09272095A (ja) 板状物搬送用ロボット
KR100225897B1 (ko) 전지캔 전도상태 검출기
JPH0756273Y2 (ja) ウエハ検出器
JP3263824B2 (ja) チップ部品載置装置
JP3198175B2 (ja) 位置ずれ検出装置
KR20000043522A (ko) 웨이퍼 카운터 장치가 일체로 설치된 웨이퍼 카세트 이송장치
JP2000086091A (ja) コップの向きを検出する装置
JPH10321706A (ja) キャリア載置機構
KR100725095B1 (ko) 반도체 제조용 습식 세정설비의 웨이퍼 디텍터
JP2776647B2 (ja) 物品有無検出装置
KR200246749Y1 (ko) 웨이퍼 테스트 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130102

Year of fee payment: 14

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140103

Year of fee payment: 15

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20141231

Year of fee payment: 16

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160104

Year of fee payment: 17

LAPS Lapse due to unpaid annual fee