KR100247863B1 - 반응용액 내에서 처리되는 금속제품의 표면처리방법 - Google Patents

Abstract

본 발명에 따른 반응용액 내에서 처리되는 금속제품의 표면처리방법은 고주파 진동은 산으로 채워진 탱크를 통해서 운동하는 시이트(1)에 부여되며, 시이트(1)의 양면 상에 서로 마주보게 배치된 한쌍의 전자석(2,3)을 포함하여, 이 전자석에 동일 주파수와 л/2의 위상차를 갖는 전류를 공급하고, 시이트(1) 상에서는 주기적 인력이 발생되며, 각각의 전자석(2,3)에서 생성되는 힘은 л/2의 위상차를 가지며, 시이트(1)는 공급되는 전류의 주파수의 2배되는 주파수로 진동하며, 시이트 내로 주입된 진동전력은 시이트의 인접부근에서 산의 공동현상의 최저치보다 상당히 더 크므로서, 시이트에 부여된 공동현상과 진동은 스케일층의 균열을 일으키는 요인이 되며, 산에 의하여 스케일층의 공격을 증진하고, 따라서 시이트의 산세척에 필요한 시간을 상당히 감소시켜준다.

Description

반응용액 내에서 처리되는 금속제품의 표면처리방법

제1도는 본 발명에 따른 시이트와 같은 금속제품과 한쌍의 전자석을 갖는 금속제품의 표면처리장치의 종단면도.

제2도는 제1도의 전자석을 여자(excitation)하기 위한 전기회로도.

제3도와 제4도는 각각의 전자석들에 인가된 시간에 따른 전류들의 크기의 변화 및 각각의 전자석들에 의해 시이트 상에 가해진 시간에 따른 인력의 변화를 설명한 도면.

제5도는 시간의 함수로서 시이트 상에서 가해진 최종적인 힘의 변화를 설명한 도면.

본 발명은 금속제품의 산세척이나 아연도금시 반응금액 내에서 배치처리된 금속제품의 표면처리방법 및 그 장치에 관한 것으로, 특히 열간 압연된 통상적인 스틸 스트립 및 스테인레스스틸 스트립을 냉간 압연하기 전에 금속공장 내에서 산세척하는 표면처리방법에 관한 것이다.

열간 압연된 스틸 스트립들(hot-rolled steel strips)은 산화물들의 층, 즉 냉간 압연을 하기 전에 제거되어야만 하는 단단하고 깨지기 쉬운 연마재인 이른바 스케일들(scale)에 의해 덮히게 된다는 것은 잘 알려진 사실이다. 이 스케일들은 냉각 테이블 상에서 냉각시 핫 트레인(hot train)의 스탠드(stand)를 완성할 때 형성된다. 그런데 이 스케일들은 스틸보다 덜 신장되기 때문에 금속제품에 외피를 형성하며, 따라서, 프레스-성형성을 상당히 감소시킨다. 또한 이 스케일들은 연마성이 있기 때문에 압연판의 표면상태를 매우 쉽게 파괴하여, 광택이 없어 시이트의 겉모습을 안좋게 보이도록 만들다. 따라서 이 스케일들은 광택과 계속되는 여러 가지의 피복을 위해 부적당하며 불필요하다.

통상 FeO, Fe₃O₄, Fe₂O₃개의 산화물들로 구성된 혼합물이며 스테인레스 스틸인 경우에 크롬산화물들인 이 스케일은 황산, 염산, 질산, 불산이나 경우에 따라서 다를수도 있는 다른 종류의 산들과 같은 강산(hot acid)을 포함하는 다수의 액체탱크속에서 스틸 스트립을 액침시켜서 통상적으로 제거된다.

따라서, 스케일을 충분히 제거하여 위해 통상적으로 10∼15m의 길이를 갖는 4∼5개의 탱크들이 이용되며, 산세척을 할 금속제품은 이 탱크 속에서 1분 또는 수분 동안 머물게 된다. 요구되는 투자비용과 사용되는 산의 양을 감소시키기 위해, 산세척 속도를 가속화시켜 주므로써 필요한 탱크의 수를 감소시키기 위한 노력이 시도되어 왔다.

특히 금속제품들을 적절한 온도가 되게 하는 첫 번째 탱크 내에서는, 산세척이 매우 약하기 때문에, 이러한 필요성이 더더욱 요구된다.

이 문제를 해결하기 위해서, 산세척 할 금소제품이 액침되는 반응용액 내에서 스케일 층을 제거하기 위하여 수조 내의 금속제품에 초음파 작용을 가할 수 있는 초음파와 같은 고주파 진동을 만들기 위한 방법이 이미 제안되어 왔다. 이 고주파 진동은 탱크의 벽이나 반응용액에 의해 전달된다.

영국 특허출원공개명세서 제966521호(GB-A 966521호)는 스트립 그 자체를 스트립의 인접부근에서 처리되는 한 개나 몇 개의 권선(Winding)에 의하여 전자기장으로 지배받게 하고 교류를 인가한다고 기재하고 있다. 이 방법에서는 스트립 진동을 일으키는 주기적인 인력효과(cyclic attraction effect)를 스트립 상에서 발휘하며, 따라서 이 진동은 스트립에 의하여 산조로 전달된다.

용액 상에서 고주파 진동을 일으키는 여러 가지 방법에 의해 산세척 속도는 약 10∼20% 정도 증가될 수 있으며, 최상의 경우에는 70∼80% 정도로 증가될 수도 있다. 그러나, 이들의 가장 최상의 성능은 액체 내에서 공동현상(cavitation phenomenon)을 만드는 것으로 알려진, 액체 내에 주입된 매우 높은 진동전력에 의해 얻어진다.

공지된 바와 같이, 액체 내에서 초음파 공동현상(acoustic cavitation)은 초음파 압력의 음성진동 때문에 압력의 지엽적 축소로 인한 현상으로, 액체의 파열(rupture of liguid)과 기포의 생성(formation of bubble)을 초래할 수도 있다.

공동현상이 액체 내에서 나타나는 최저치(threshold)는 여러 가지의 매개변수들에 따라서 달라지며, 특히 공급되는 초음파에너지의 값에 따른다. 현재까지 실시된 여러 가지의 조사 연구 결과는 공동현상의 기계적 효과의 원인이 되는 두가지의 근본적인 현상들은 기포의 붕괴를 동반하는 충격파(shock wave)와 마이크로젯트(mocrojet)에 바탕을 두는 것임을 보여준다.

본 발명의 목적은 열간 압연판과 같은 금속제품을 고주파 진동의 도움으로 산세척 성능을 증진시키는 것이다.

본 발명의 따른 금속제품의 산세척이나 아연도금을 위해 반응용액 내에 담겨진 금속제품의 표면처리방법은, 적어도 한쌍의 전자석들을 금속제품의 양측에 서로 마주보도록 설치하는 것과, 전자석들에는 각각 주파수는 동일하되 л/2의 위상차를 갖는 교류들이 인가되는 것을 특징으로 한다.

한편 초음파가 액체 내에서 발생될 때, 제품표면 근처에서 필요한 공동현상을 얻기 위해서는 매우 많은 전력이 필요하게 된다(5∼15왓트/ℓ). 그러나 사실상 초음파 에너지의 대부분이 낭비되기 때문에 제품의 인접부근에서 공동현상이 일어나지 않는다.

따라서, 본 발명의 특별히 효과적인 방법으로 금속제품에 진동을 직접 주입시킨다. 이 방법은 다음의 실시예에서 밝혀진 바와 같이, 양호한 산세척 효과를 얻기에 필요한 공동현상의 최저치에 더욱 확실하게 도달할 수 있다.

본 발명에 따르는 방법의 한가지 실시태양(embodiment)에 따르면 진동의 주파수와 진폭은 반응용액 내에 있는 제품표면의 인접 부근에서 공동현상을 발생할 수 있도록 선택된다.

본 발명에 따른 또다른 실시태양에 따르면, 제품은 산조(acid bath)내에서 액침된 스케일을 갖는 스틸 시이트(steel sheet)이며, 제품의 진동 주파수는 약 4,000㎐와 50,000㎐사이이다.

이러한 조건하에서, 초음파 진동의 부재시 산세척에 필요한 시간과 비교했을 때 그 시간이 상당히 감소됨을 알 수 있으며, 이 감소율은 60∼80%정도이다.

본 발명의 범위 내에 속하는 이 방법을 실시하기 위한 장치는, 금속제품의 양측에 서로 마주보도록 설치되며, 동일 주파수의 전류로서 공급된 적어도 한쌍의 전자석을 갖는 것으로, 전자석 각각은 제품에서 주기적인 인력을 발생하며, 각각의 전자석에 의해서 가해진 각각의 인력은 예를 들면 위상차가 л/2이다.

본 발명의 다른 특징들과 장점들은, 비-제한적인 실시예에 의하여 첨부된 도면을 참조하여 다음의 상세한 설명에 나타날 것이다.

제1도는 시이트로부터 스케일의 층을 제거하기 위해 공지된 방법과 같이 염산과 같은 반응용액(7)으로 채워진 탱크(도면에 설명되지 않았음)를 통과하는 시이트(1)로서 구성된 금속제품을 보여준다.

두 개의 제1전자석(2)과 제2전자석(3)은 시이트(1)의 양측에 배치되고, 반응용액(7)에 액침된다. 전자석들 중의 하나는 시이트의 상부에 배치되며, 다른 하나는 시이트의 하부에 배치된다.

전자석들 사이의 간격(e)은 적절한 값을 갖도록 선택된다. 제1전자석(2)과 제2전자석(3)에는 시이트(1) 그 자체와 시이트(1)의 반대쪽 면과 접하는 액체층에 고주파 초음파 진동을 발생하기에 적절한 주파수를 갖는 전류(Ⅰ)가 인가된다.

제2도를 참조하면, 각 전자석들(2,3)은 각각 저주파 증폭기(5,4)에 연결된다. 한편 본 발명에 따른 전기회로는 제2도에 도시되지 않은 여러 가지의 측정용 장치들을 통상적으로 갖고 있다(가속도계, 전력계, 주파수미터, 스펙트럼 분석기 등.......)

전자석들(2,3)이 부식성 용액에 액침될 때,“테프론(Teflon)”과 같은 폴리머로 이루어진 적당한 덮개(6)로 보호되는 것이 바람직하다.

그리고 시이트(Ⅰ)에 주입되 초음파 전력은 시이트(Ⅰ)의 진동이 액체에 공동현상 최저치(cavitation threshold)이상의 가속도를 가질 수 있도록 공급된다.

제3도와 제4도는 시간(t)의 함수로 전류들(Ⅰ)과 각각의 전자석들(2,3)에 의하여 발생된 시이트(1)상에서의 인력(F)를 나타내며, 인력을 나타내는 두 커브는 л/2 값을 갖든 양의 값을 값든 시이트(1)와 같은 비-자기화된 제품에 대하여 인력(F)만을 발생한다. 양측에서 작용하는 인력이 동일한 주파수와 л/2의 위상차를 갖는 결과, 시이트(1)은 전류(Ⅰ)의 주파수의 두배가 되는 주파수 N으로 진동한다(제5도는 참조).

제1도는 설명의 편의상 매우 과장된 크기이며, 시이트(1)가 고주파로 진동을 하는 동안에, 시간t와 시간 t′=t+1/2N에서 시이트(1)의 사인곡선적인 변형을 점선-실선(dot-dash line)으로 나타낸다.

[실시예]

전자석 사이의 간격(e)은 2∼20㎜ 사이였고, 시이트(1)는 이 간격보다 작은 두께를 가졌고, 일정한 속도로 수조(both)를 통과했다.

전류(Ⅰ)는 전자석당 60A의 크기를 가지며, 주파수는 2,000㎐∼25,000㎐ 사이이며, 제1전자석(2)와 제2전자석(3)은 여자(excite)하여 л/2의 위상차를 나타냈다. 공급된 전력은 용액 내에서 공동현상을 얻기에 필요한 전력보다 더 크며, 시이트(1)의 면적당 수Kw며, 전자석당 8Kw다.

이 초음파 전력은 온도 20℃에서 물과 같은 액체 내에서 6,500∼13,000m.s^-2인 공동현상 최저치를 초과하도록 공급했으며, 시이트(1)는 적어도 공동현상의 최저치에 맞먹는 가속도를 갖게 되었다. 이미 언급한 바와 같이, 시이트는 전자석에 공급되는 전류의 주파수의 2배가 되는 주파수, 즉 4,000∼50,000㎐로 진동했다.

사실상 본 발명을 실시하는 산업공장에서는 전자석당 적당한 전력은 10∼25Kw이인 것이 바람직하다. 소용돌이 전류(와류, eddy current)는 금속제품(1)의 가열을 초래하므로 산세척을 유리하게 하고, 필요한 온도에 도달하는데 요구되는 시간을 감소시켰다. 이것은 필요한 탱크의 수를 감소시키는 본 발명의 장점인 것이다. 제1전자석(2)과 제2전자석(3)은 첫 번째의 산체척 탱크나 탱크들 속에서 설치하는 것이 바람직하다.

시이트(1) 자체에 발생된 초음파는 스케일층의 균열을 일으키므로 산성 용액에 의하여 시이트의 공격을 증진시켰다. 더욱이, 이 초음파들은 시이트(1)의 인접부근에 있는 반응용액(7)의 극단층(extreme layer)을 교반한다. 따라서, 이 극단층이 산의 약화를 막아주고, 부식효과를 유지하게 해 주었다. 소용돌이 전류에 기인된 파손(loss)은 전류의 주파수에 따라서 증가되는 경향이 있으며, 공동현상은 상술한 주파수 범위의 낮은 주파수에서 가장 양호했다.

본 발명의 개량형태로 제1전자석(2)과 제2전자석(3)을 탱크 외부에서 설치할수도 있다. 다만, 이것은 부식에 관한 문제점을 피할 수 있으나 주입된 전력을 선택할 때, 전자석과 탱크 사이에서의 진동의 제동(damping of vibration)이 고려되어야만 한다.

본 발명은 한 개의 전자석만으로는 불충분할 수도 있다. 왜냐하면 전자석으로 부터 멀리 떨어진 시이트(1)가 시이트 상에서 중력의 효과에 의해서만 운동하고, 전류를 음의 값과 양의 값으로 교체하는 동안에 전자석의 인력이 항상 동일 방향을 향하므로 만족할 만한 결과를 얻을 수 없다.

폭이 1m인 시이트(1)에 대해서는, 단일쌍의 전자석(2,3)이면 충분하다. 반면에 더 넓은 시이트에 대해서는 시이트의 넓이 상에 공간적으로 떨어진 2쌍이나 3상의 전자석을 이용할 필요가 있다. 여러쌍의 전자석들도 공급되는 에너지를 개선된 분포를 이루기 위해 제품이 길이 방향을 따라 설치될 수 있다. 바람직하기로는 제품의 진동의 배(antinode)에 각쌍이 마주보도록 여러쌍의 전자석을 배치하는 것이다.

본 발명에 따르는 방법은 전술한 바와 같이 탱크 속에서 순환하는 시이트들에 이용될 뿐만 아니라 고정판(fixed sheet)의 산세척에도 이용할 수 있다. 또한 이 방법은 관(tube)와 같은 다른 금속부품에도 사용될 수 있다.

더욱이 본 발명은 산처리 이외의, 예를 들면 순환제품의 아연도금과 같은 표면 처리를 위해서도 사용될 수 있다. 이 경우에 공동현상 최저치를 초과할 때마다 얻어진 기술적인 효과는 코팅의 질을 향상시키는 시이트의 습윤성을 개선한다.

시이트(1)와 전자석들(2,3)사의의 거리는 공지된 방법에 의하여 유리하게 조절될수 있다(도면 상에서는 도시되지 않았음).

Claims (5)

1. 최소한 한쌍의 전자석들이 제품의 양측에 서로 마주보도록 설치되어 상기 제품에 고주파 진동을 일으키되, 상기 전자석들에 각각 동일한 주파수와 л/2의 위상차를 갖는 교류들을 인가하는 것을 특징으로 하는 반응용액 내에서 처리되는 금속제품의 표면처리방법.
2. 제1항에 있어서, 상기 고주파 진동이 제품표면의 인접부근의 반응용액에 공동 현상을 일으킬 수 있는 주파수와 진폭을 갖는 것을 특징으로 하는 반응용액 내에서 처리되는 금속제품의 표면처리방법.
3. 제2항에 있어서, 상기 금속제품은 산조 내에 액침된 스케일을 갖는 스틸 시이트이고, 상기 제품의 고주파의 진동주파수는 4,000㎐∼50,000㎐ 사이인 것을 특징으로 하는 반응용액 내에서 처리되는 금속제품의 표면처리방법.
4. 제2항에 있어서, 상기 전류의 주파수와 상기 전류주파수에 상응하는 진동전력이 상기 제품에 6,500m.s^-2이상의 가속도를 부여할 수 있는 것을 특징으로 하는 반응용액 내에서 처리되는 금속제품의 표면처리방법.
5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 전자석들이 여러쌍이며 상기 전자석들을 상기 제품의 진동의 배(antnode)에 마주보도록 설치하는 것을 특징으로 하는 반응용액 내에서 처리되는 금속제품의 표면처리방법.