JP2001079556A - 会合分子の磁気処理のための電磁処理装置 - Google Patents
会合分子の磁気処理のための電磁処理装置Info
- Publication number
- JP2001079556A JP2001079556A JP26441099A JP26441099A JP2001079556A JP 2001079556 A JP2001079556 A JP 2001079556A JP 26441099 A JP26441099 A JP 26441099A JP 26441099 A JP26441099 A JP 26441099A JP 2001079556 A JP2001079556 A JP 2001079556A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electromagnetic
- pole
- coil
- processed
- circuit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】
【目的】 分子会合を小さく分解し、分子の運動エネル
ギーレベルを上げる磁気処理のための電磁場発生装置を
提供する。 【構成】 通電により、磁場を形成するコイル１４を用
いて、被処理物を挟んで一方にＮ極、他方にＳ極を生じ
る作用部１１、１２を形成する電磁回路１５を形成し、
上記コイル１４に対する通電を制御することによって被
処理物を貫通する磁束方向を変化させる。
ギーレベルを上げる磁気処理のための電磁場発生装置を
提供する。 【構成】 通電により、磁場を形成するコイル１４を用
いて、被処理物を挟んで一方にＮ極、他方にＳ極を生じ
る作用部１１、１２を形成する電磁回路１５を形成し、
上記コイル１４に対する通電を制御することによって被
処理物を貫通する磁束方向を変化させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、移動する被処理物
中に含まれる会合分子の磁気処理のための、電磁処理装
置に関するものである。
中に含まれる会合分子の磁気処理のための、電磁処理装
置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】同種の分子２個以上が比較的弱い分子間
力によって集合し、一つの単位として行動している状態
を会合と称するが、会合を生じている分子から成る物質
は活性度が低いために、配管等の壁面にスケールを生じ
る等の問題の原因となる。故にこの会合を解いて小さな
ものとすることができれば、その度合に応じて物質の活
性度を回復することができ、スケールも生じにくくなる
と考えられる。
力によって集合し、一つの単位として行動している状態
を会合と称するが、会合を生じている分子から成る物質
は活性度が低いために、配管等の壁面にスケールを生じ
る等の問題の原因となる。故にこの会合を解いて小さな
ものとすることができれば、その度合に応じて物質の活
性度を回復することができ、スケールも生じにくくなる
と考えられる。
【０００３】一方、電解めっき法や無電解めっき法及び
エッチング法では薬品や機械装置の改良によって効率の
向上を図ることが望めない段階にまで達している。めっ
き法の分野では、薬品の改良に伴い管理巾の正確さが要
求されることに加えて装置価格の上昇も問題になってお
り、またエッチング法の分野でも同様であるからであ
る。
エッチング法では薬品や機械装置の改良によって効率の
向上を図ることが望めない段階にまで達している。めっ
き法の分野では、薬品の改良に伴い管理巾の正確さが要
求されることに加えて装置価格の上昇も問題になってお
り、またエッチング法の分野でも同様であるからであ
る。
【０００４】これに対してスケールを磁気処理によって
除去しようとする試みがなされている。例えば米国特許
第５０７４９９８号は管壁に形成されるスケールの除去
を取り扱っている。しかし同発明では少なくとも１個の
コイルを管に巻き付けるか内装する構成をとっているた
め、磁束は管内を移動する液体の流れと平行に作用する
こととなり、不十分な効果しか得ることができない。即
ち、本発明の発明者は被処理物の移動方向と交叉する方
向に磁束を作用させかつその作用の方向を変化させるこ
とにより、効果を高めることができることを見出した。
除去しようとする試みがなされている。例えば米国特許
第５０７４９９８号は管壁に形成されるスケールの除去
を取り扱っている。しかし同発明では少なくとも１個の
コイルを管に巻き付けるか内装する構成をとっているた
め、磁束は管内を移動する液体の流れと平行に作用する
こととなり、不十分な効果しか得ることができない。即
ち、本発明の発明者は被処理物の移動方向と交叉する方
向に磁束を作用させかつその作用の方向を変化させるこ
とにより、効果を高めることができることを見出した。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の課題
は、移動する被処理物中に含まれる会合分子に対して交
叉方向の磁束を作用させかつその磁束方向を変向させる
ことにより分子会合を小さく分解し、分子の運動エネル
ギーレベルを上げること、特にそのような作用を電磁変
換手段を用いて、実施することである。
は、移動する被処理物中に含まれる会合分子に対して交
叉方向の磁束を作用させかつその磁束方向を変向させる
ことにより分子会合を小さく分解し、分子の運動エネル
ギーレベルを上げること、特にそのような作用を電磁変
換手段を用いて、実施することである。
【０００６】また、本発明の他の課題は、磁束方向の変
向その他の磁界の条件を自由にコントロール可能な、会
合分子の磁気処理のための電磁場発生装置を提供するこ
とにある。
向その他の磁界の条件を自由にコントロール可能な、会
合分子の磁気処理のための電磁場発生装置を提供するこ
とにある。
【０００７】また本発明は壁面等へのスケールの付着防
止又は付着スケールの除去若しくはめっき法やエッチン
グ法に使用する薬液の活性度を高めて効率の向上を図る
ことを一つの目的とする。
止又は付着スケールの除去若しくはめっき法やエッチン
グ法に使用する薬液の活性度を高めて効率の向上を図る
ことを一つの目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】前記の課題を解決するた
め本発明は、通電により磁場を形成するコイルを用い
て、被処理物を挾んで一方にＮ極、他方にＳ極を生じる
電磁回路を形成し、上記コイルに対する通電を制御する
ことによって被処理物を貫通する磁束方向を変化させる
という手段を講じたものである。
め本発明は、通電により磁場を形成するコイルを用い
て、被処理物を挾んで一方にＮ極、他方にＳ極を生じる
電磁回路を形成し、上記コイルに対する通電を制御する
ことによって被処理物を貫通する磁束方向を変化させる
という手段を講じたものである。
【０００９】電磁回路は単一のコイルと磁性体より成る
ヨークを組み合わせたものでも良いし、また一対のコイ
ルを使用したものでも良い。また、電磁回路は、複数個
の極性を変化させた直流磁場制御装置か、或いは定周波
数の交流磁場制御装置等をもって構成することができ
る。
ヨークを組み合わせたものでも良いし、また一対のコイ
ルを使用したものでも良い。また、電磁回路は、複数個
の極性を変化させた直流磁場制御装置か、或いは定周波
数の交流磁場制御装置等をもって構成することができ
る。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明に係る電磁処理装置は、移
動する被処理物中に含まれる会合分子の磁気処理のため
の装置である。被処理物は移動中に本発明の装置によっ
て形成される電磁場の作用を受ける。
動する被処理物中に含まれる会合分子の磁気処理のため
の装置である。被処理物は移動中に本発明の装置によっ
て形成される電磁場の作用を受ける。
【００１１】被処理物が液体その他の流体の場合、管路
によって運ばれるので、従って移動方向は一方向とな
る。その方向に対して交叉方向の磁束を作用させること
が会合分子の磁気処理のためにより有効である、との認
識に本発明は基づいている。このような交叉方向の磁束
を反転作用させることにより、被処理物は分子レベル或
いはそれ以下のレベルで、力学的作用を、反転する磁界
から受けることとなると考えられる。
によって運ばれるので、従って移動方向は一方向とな
る。その方向に対して交叉方向の磁束を作用させること
が会合分子の磁気処理のためにより有効である、との認
識に本発明は基づいている。このような交叉方向の磁束
を反転作用させることにより、被処理物は分子レベル或
いはそれ以下のレベルで、力学的作用を、反転する磁界
から受けることとなると考えられる。
【００１２】本発明において、反転する磁界の作用とは
磁界の極性変化によってもたらされる。例えば流体移動
方向に対して右から左へ向かう方向の磁束にさらされて
いたものが次には同方向に対して左から右へ向かう磁束
方向とされる場合、その間に１８０度の磁束方向の変向
があったことになる。なお、「反転」は磁束方向の変化
の最も顕著な状態の例として示されているので、反転に
到らない例えば９０度や１２０度の磁束方向の変化も本
発明における磁束方向の変化に含まれる。
磁界の極性変化によってもたらされる。例えば流体移動
方向に対して右から左へ向かう方向の磁束にさらされて
いたものが次には同方向に対して左から右へ向かう磁束
方向とされる場合、その間に１８０度の磁束方向の変向
があったことになる。なお、「反転」は磁束方向の変化
の最も顕著な状態の例として示されているので、反転に
到らない例えば９０度や１２０度の磁束方向の変化も本
発明における磁束方向の変化に含まれる。
【００１３】このような磁束方向の変向を生じさせるた
めに、本発明では通電により磁束を形成するコイルを使
用して、被処理物を挾んで一方にＮ極、他方にＳ極を生
じる電磁回路を形成する。このためＳ極からＮ極へ向か
う磁束が被処理物を貫通することになり、被処理物の移
動方向と磁束方向は最大９０度つまり直交状態を取り得
ることとなる。この状態において、上記コイルに対する
通電方法を制御することによって、被処理物を貫通する
磁束方向を変化させることができる。
めに、本発明では通電により磁束を形成するコイルを使
用して、被処理物を挾んで一方にＮ極、他方にＳ極を生
じる電磁回路を形成する。このためＳ極からＮ極へ向か
う磁束が被処理物を貫通することになり、被処理物の移
動方向と磁束方向は最大９０度つまり直交状態を取り得
ることとなる。この状態において、上記コイルに対する
通電方法を制御することによって、被処理物を貫通する
磁束方向を変化させることができる。
【００１４】本発明の適用に適した被処理物は各種の流
体であり、この中には前述の電解めっき法や無電解めっ
き法或いはエッチング法に使用される薬液も含まれる。
本発明に係る装置はそれらの液体で金属イオンを含むア
ニオン、カチオン分子会合（クラスター）を小さくし、
分子の運動エネルギーレベルを上げ、また電磁場により
陽イオンのイオン励起状態を制御するために使用され、
それによって製品の品質向上及び精度向上を図ることが
できる。これは１例であり、各種液体をはじめとして気
体、固体、その他の被処理物に対して本発明の装置を適
用することができる。
体であり、この中には前述の電解めっき法や無電解めっ
き法或いはエッチング法に使用される薬液も含まれる。
本発明に係る装置はそれらの液体で金属イオンを含むア
ニオン、カチオン分子会合（クラスター）を小さくし、
分子の運動エネルギーレベルを上げ、また電磁場により
陽イオンのイオン励起状態を制御するために使用され、
それによって製品の品質向上及び精度向上を図ることが
できる。これは１例であり、各種液体をはじめとして気
体、固体、その他の被処理物に対して本発明の装置を適
用することができる。
【００１５】本発明に係る会合分子の磁気処理のための
電磁処理装置は具体的には図１ないし図４に示す形態を
取ることができる。図１、図２は本発明による実施形態
の例１を示しており、図中、１０は被処理物が流れる管
路で示された被処理物の移動路、１１、１２は移動路１
０を挾んで対向配置された左右一対の作用部であり、略
Ｕ字型ないしは略Ｈ字型の磁性体より成るヨーク１３の
端部に設けられている。１４はヨーク１３の中間部を巻
芯としたコイル、１５は同コイル１４への通電のための
電源及び制御装置を含む電磁回路を示す。
電磁処理装置は具体的には図１ないし図４に示す形態を
取ることができる。図１、図２は本発明による実施形態
の例１を示しており、図中、１０は被処理物が流れる管
路で示された被処理物の移動路、１１、１２は移動路１
０を挾んで対向配置された左右一対の作用部であり、略
Ｕ字型ないしは略Ｈ字型の磁性体より成るヨーク１３の
端部に設けられている。１４はヨーク１３の中間部を巻
芯としたコイル、１５は同コイル１４への通電のための
電源及び制御装置を含む電磁回路を示す。
【００１６】例１の装置において、電磁回路１５に通電
すると、或る時点でコイル１４の両端に夫々Ｎ極、Ｓ極
を生じるので、このときヨーク１３の端部にはＳ極、Ｎ
極が生じる。故に図１ではこのとき左から右へ向かう磁
束をもつ磁場が形成され、上記磁束は被処理物を貫通
し、かつ直交状に交叉し得る状態となる。ここで次の時
点に上記と逆向きの電流を流すと、ヨーク作用部１１、
１２には右から左へ向かう磁束が形成されることとな
る。
すると、或る時点でコイル１４の両端に夫々Ｎ極、Ｓ極
を生じるので、このときヨーク１３の端部にはＳ極、Ｎ
極が生じる。故に図１ではこのとき左から右へ向かう磁
束をもつ磁場が形成され、上記磁束は被処理物を貫通
し、かつ直交状に交叉し得る状態となる。ここで次の時
点に上記と逆向きの電流を流すと、ヨーク作用部１１、
１２には右から左へ向かう磁束が形成されることとな
る。
【００１７】上記例１では、１個のヨーク１３によって
構成された１個の磁気処理ユニットＡについて説明して
いるが、当該ユニットを複数個使用して本発明に係る電
磁処理装置を構成することができる。図２にその例を示
す。複数個のユニットは被処理物の移動方向Ｄに所要の
間隔を設けて配置される。この距離間隔は被処理物に及
ぼされる磁場の時間間隔に影響する。故に例２の場合に
は上流側ユニットで例えば下から上へ向いた磁束の作用
を受け、次の下流側ユニットでは上から下へ向く磁束の
作用を受けるように設定した場合でも磁界の反転による
作用を得ることができる。
構成された１個の磁気処理ユニットＡについて説明して
いるが、当該ユニットを複数個使用して本発明に係る電
磁処理装置を構成することができる。図２にその例を示
す。複数個のユニットは被処理物の移動方向Ｄに所要の
間隔を設けて配置される。この距離間隔は被処理物に及
ぼされる磁場の時間間隔に影響する。故に例２の場合に
は上流側ユニットで例えば下から上へ向いた磁束の作用
を受け、次の下流側ユニットでは上から下へ向く磁束の
作用を受けるように設定した場合でも磁界の反転による
作用を得ることができる。
【００１８】図３、図４は本発明による実施形態の例２
を示しており、図中、２１、２２は移動路１０を挾んで
対向配置された左右一対のコイルであり、そのコイル２
１、２２の移動路１０に向けられた端部が被処理物に対
する作用部２３、２４とされている。一対のコイル２
１、２２は共に電源及び制御回路を含む電磁回路２５に
接続されており、従ってこの例２はヨークを使用しない
構成である。この例２においても回路２５に流す電流を
交互に切り換えることによって作用部２３、２４に生じ
させる磁極をＮ、Ｓ交互に切り換えて例１と同様の作
用、効果を得ることができる。
を示しており、図中、２１、２２は移動路１０を挾んで
対向配置された左右一対のコイルであり、そのコイル２
１、２２の移動路１０に向けられた端部が被処理物に対
する作用部２３、２４とされている。一対のコイル２
１、２２は共に電源及び制御回路を含む電磁回路２５に
接続されており、従ってこの例２はヨークを使用しない
構成である。この例２においても回路２５に流す電流を
交互に切り換えることによって作用部２３、２４に生じ
させる磁極をＮ、Ｓ交互に切り換えて例１と同様の作
用、効果を得ることができる。
【００１９】さらに、図３に示された磁気処理ユニット
Ｂを複数個使用して本発明に係る電磁処理装置を構成す
ることができる。この例を図４に示す。この例２につい
ても例１の場合とほぼ同様の作用及び効果を期待するこ
とができる。その具体的内容については例１と同様であ
るので説明を省略する。また変化する磁極は、矢印で示
す磁束の方向にしたがって表示し説明に代える。
Ｂを複数個使用して本発明に係る電磁処理装置を構成す
ることができる。この例を図４に示す。この例２につい
ても例１の場合とほぼ同様の作用及び効果を期待するこ
とができる。その具体的内容については例１と同様であ
るので説明を省略する。また変化する磁極は、矢印で示
す磁束の方向にしたがって表示し説明に代える。
【００２０】図５に本発明に係る電磁処理装置の構成を
ブロック図で示す。図中、周波数設定回路は液体の移動
速度や液質（主として会合分子の大きさ或いは極性）が
磁力線の単位当たりの変化（周波数）と密接に関係する
ので、目的の現象を得るために最適な周波数を設定する
ものであり、発振回路は周波数設定回路により設定され
た値で正確に安定した発振をする電子回路であり、波形
整形回路は流体の移動速度や液質（主として会合分子の
大きさ或いは極性）が磁力線の立ち上がりの変化速度
（波形）と密接に関係するとの認識に基いて、より適切
な波形を作るもので、緩やかな変化速度を必要とする場
合には正弦波型の波形を、それよりも急な変化速度を必
要とする場合は三角波形を、さらに激しい変化速度を必
要とする場合には方形波形を作り出す。
ブロック図で示す。図中、周波数設定回路は液体の移動
速度や液質（主として会合分子の大きさ或いは極性）が
磁力線の単位当たりの変化（周波数）と密接に関係する
ので、目的の現象を得るために最適な周波数を設定する
ものであり、発振回路は周波数設定回路により設定され
た値で正確に安定した発振をする電子回路であり、波形
整形回路は流体の移動速度や液質（主として会合分子の
大きさ或いは極性）が磁力線の立ち上がりの変化速度
（波形）と密接に関係するとの認識に基いて、より適切
な波形を作るもので、緩やかな変化速度を必要とする場
合には正弦波型の波形を、それよりも急な変化速度を必
要とする場合は三角波形を、さらに激しい変化速度を必
要とする場合には方形波形を作り出す。
【００２１】またレベル設定回路は波形整形回路で作ら
れた電気信号を磁気回路に設置された磁力線検出用線輪
によって検出される実際の強度と設定値との演算により
自動的にレベル設定する回路であり、上記線輪は磁気回
路や電力回路を構成する材料による減衰量を反映するた
めに設けられる。表示回路は本発明に係る電磁処理装置
の動作状態を表示し監視するための回路、電力回路は設
定された電気信号から磁気回路の電磁石を駆動するため
の大電力に変換する回路、電源回路は商用電力から本装
置に必要な電圧、電力を作り出すものである。
れた電気信号を磁気回路に設置された磁力線検出用線輪
によって検出される実際の強度と設定値との演算により
自動的にレベル設定する回路であり、上記線輪は磁気回
路や電力回路を構成する材料による減衰量を反映するた
めに設けられる。表示回路は本発明に係る電磁処理装置
の動作状態を表示し監視するための回路、電力回路は設
定された電気信号から磁気回路の電磁石を駆動するため
の大電力に変換する回路、電源回路は商用電力から本装
置に必要な電圧、電力を作り出すものである。
【００２２】このような本発明に係る会合分子の磁気処
理のための電磁処理装置の効果を立証するために実験を
行なったので以下これを実施例１、２、３、比較例１、
２として開示する。使用した装置として図５にめっき装
置、図６にエッチング装置が示されている。図５におい
て、３０はめっき槽、３１は陰極、３２は陽極、３３は
循環配管、３４はポンプ、３５は本発明に係る電磁処理
装置であり、前記例１のユニットＡが管路を流れる被処
理流体の電磁処理のために使用された。また図６におい
て、４１はエッチング装置、４２はエッチング液を散布
するスプレー配管、４３は循環配管、４４はポンプ、４
５は前記と同様の電磁処理装置を示す。
理のための電磁処理装置の効果を立証するために実験を
行なったので以下これを実施例１、２、３、比較例１、
２として開示する。使用した装置として図５にめっき装
置、図６にエッチング装置が示されている。図５におい
て、３０はめっき槽、３１は陰極、３２は陽極、３３は
循環配管、３４はポンプ、３５は本発明に係る電磁処理
装置であり、前記例１のユニットＡが管路を流れる被処
理流体の電磁処理のために使用された。また図６におい
て、４１はエッチング装置、４２はエッチング液を散布
するスプレー配管、４３は循環配管、４４はポンプ、４
５は前記と同様の電磁処理装置を示す。
【００２３】
【実施例１】図５に示すめっき槽３１を使用し、ステン
レス３０４材に１００ｍｍ×１００ｍｍのめっき析出部
を設け、各々の電流密度においてめっき被膜５０μｍを
目標に、循環ポンプ吐出配管に磁気処理装置を取り付
け、電解処理を行なった。
レス３０４材に１００ｍｍ×１００ｍｍのめっき析出部
を設け、各々の電流密度においてめっき被膜５０μｍを
目標に、循環ポンプ吐出配管に磁気処理装置を取り付
け、電解処理を行なった。
【００２４】 試験条件：メッキ浴 スルファミン酸ニッケル ６００ｇ／リットル、 硼酸 ４０ｇ／リットル、 浴量 ５０リットル、 電流効率１００％の析出量 ４．４２５ｇ／ｄｍ２、 ポンプ循環量 ２００リットル／ｍｉｎ、 温度５０℃、 ロッキング Ｒ＝３０ｍｍ、５０ＲＰＭ、
【００２５】
【表１】 印加電流値 １Ａ、巻線径 ２ｍｍ、巻き数 １８０。
全ての電流密度において均一光沢を確認した。
全ての電流密度において均一光沢を確認した。
【００２６】
【実施例２】印加電流値を以下のように変化させ、同様
の電解処理を行なった。 印加電流値 ２Ａ、巻線径 ２ｍｍ、巻き数 １８０。
の電解処理を行なった。 印加電流値 ２Ａ、巻線径 ２ｍｍ、巻き数 １８０。
【００２７】
【表２】 全ての電流密度において均一光沢を確認した。
【００２８】
【比較例１】磁気処理装置を取り外し、実施例１及び２
と同様の電解処理を行なった。
と同様の電解処理を行なった。
【００２９】
【表３】 １Ａ以上において、高電流部にくもり、光沢ムラを確認
した。比較例１に対し、実施例１では電圧低下と、電流
効率の向上が確認できるのに対し実施例２では電圧低下
と、電流効率の低下が確認された。これは、先に述べ
た、ニッケルイオン励起現象に伴う還元電位の増加の確
認といえる。
した。比較例１に対し、実施例１では電圧低下と、電流
効率の向上が確認できるのに対し実施例２では電圧低下
と、電流効率の低下が確認された。これは、先に述べ
た、ニッケルイオン励起現象に伴う還元電位の増加の確
認といえる。
【００３０】
【実施例３】図６に示すエッチング装置を用い、７０μ
ｍ銅箔に１００μｍ幅のラインを１００μｍのスペース
をおいてエッチングし、エッチングスピードとエッチン
グファクターを測定した。 エッチング条件：スプレーポンプ ２５０リットル／ｍｉｎ、 配管内圧 １．５ｋｇ／ｃｍ２、 温度 ５０℃、 液量 ６０リットル、 使用薬品：塩化第二鉄液４２０リットル エッチングファクターＦＣ＝Ｌ／（Ｄ１＋Ｄ２）×１／２（図７参照） 印加電流値 １Ａ、巻線径 ２ｍｍ、巻き数 １８０。
ｍ銅箔に１００μｍ幅のラインを１００μｍのスペース
をおいてエッチングし、エッチングスピードとエッチン
グファクターを測定した。 エッチング条件：スプレーポンプ ２５０リットル／ｍｉｎ、 配管内圧 １．５ｋｇ／ｃｍ２、 温度 ５０℃、 液量 ６０リットル、 使用薬品：塩化第二鉄液４２０リットル エッチングファクターＦＣ＝Ｌ／（Ｄ１＋Ｄ２）×１／２（図７参照） 印加電流値 １Ａ、巻線径 ２ｍｍ、巻き数 １８０。
【００３１】
【表４】
【実施例４】磁気処理装置の印加電流値を変化させ同様
のエッチング処理を行った。 印加電流値 ２Ａ、巻線径 ２ｍｍ、巻き数 １８０。
のエッチング処理を行った。 印加電流値 ２Ａ、巻線径 ２ｍｍ、巻き数 １８０。
【００３２】
【表５】
【比較例２】磁気処理装置を取り外し、実施例３及び４
と同様のエッチング処理を行なった。
と同様のエッチング処理を行なった。
【００３３】
【表６】 比較例２に対し、実施例３ではエッチングスピードの向
上とファクターの向上が確認できた。比較例２に対し、
実施例４ではエッチングスピードの低下とファクターの
向上が確認できた。これは、先に述べた、Ｆｅ＋イオン
の励起現象に伴う還元電位の増加の確認と言える。
上とファクターの向上が確認できた。比較例２に対し、
実施例４ではエッチングスピードの低下とファクターの
向上が確認できた。これは、先に述べた、Ｆｅ＋イオン
の励起現象に伴う還元電位の増加の確認と言える。
【００３４】
【発明の効果】以上のように本発明により、移動する被
処理物中に含まれる会合分子に対して交叉方向の磁束を
作用させかつその磁束方向を変向させることにより分子
会合を小さくし、分子の運動エネルギーレベルを上げる
こと、特にそのような作用を導き出すために電磁変換手
段を用いて、実施することができるという効果を奏し、
めっき法に適用した場合にはめっき被膜の特性を向上
し、消費電力量の削減が可能となり、エッチング加工製
品の精度向上も達成される。
処理物中に含まれる会合分子に対して交叉方向の磁束を
作用させかつその磁束方向を変向させることにより分子
会合を小さくし、分子の運動エネルギーレベルを上げる
こと、特にそのような作用を導き出すために電磁変換手
段を用いて、実施することができるという効果を奏し、
めっき法に適用した場合にはめっき被膜の特性を向上
し、消費電力量の削減が可能となり、エッチング加工製
品の精度向上も達成される。
【図１】本発明に係る会合分子の磁気処理のための電磁
処理装置の実施形態における例１を示す正面説明図。
処理装置の実施形態における例１を示す正面説明図。
【図２】同上の変化例を示す下面説明図。
【図３】同じく実施形態における例２を示す正面説明
図。
図。
【図４】同上の変化例を示す上面説明図。
【図５】同じくめっき装置の説明図。
【図６】同じくエッチング装置の説明図。
【図７】エッチングファクターを示す説明図。
【図８】本発明に係る電磁処理装置の構成を示すブロッ
ク線図。
ク線図。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ２５Ｄ 5/00 １０１ Ｃ２５Ｄ 5/00 １０１ (72)発明者 木内 丈司 東京都小平市花小金井５丁目428番地 日 本弗素工業株式会社内 Ｆターム(参考） 4D061 DA05 DB05 DB06 EA19 EC01 EC11 4K022 DB21 4K024 AA03 CB26 GA02 4K057 WA10 WB04 WE08 WM20 4K062 AA10 EA06 EA08
Claims (6)
- 【請求項１】 移動する被処理物中に含まれる会合分子
の磁気処理のための装置であって、通電により磁場を形
成するコイルを用いて、被処理物を挾んで一方にＮ極、
他方にＳ極を生じる作用部を形成する電磁回路を形成
し、上記コイルに対する通電を制御することによって被
処理物を貫通する磁束方向を変化させることを特徴とす
る会合分子の磁気処理のための電磁処理装置。 - 【請求項２】 電磁回路は、被処理物の移動路を挾んで
対向配置された、略Ｕ字型ないしＨ字型の磁性体より成
るヨークを有し、そのヨークの中間部を巻芯としたコイ
ルを有している請求項１記載の会合分子の磁気処理のた
めの電磁処理装置。 - 【請求項３】 電磁回路は、被処理物の移動路を挾んで
対向配置された、一対のコイルを有する会合分子の磁気
処理のための電磁処理装置。 - 【請求項４】 被処理物が電解めっき、無電解めっき或
いはエッチングに用いられる液体であり、めっき槽或い
はエッチング装置を通って循環する配管を挾んで一方に
Ｎ極、他方にＳ極を生じる電磁回路を形成した構成を有
する請求項１記載の会合分子の磁気処理のための電磁処
理装置。 - 【請求項５】 通電により磁場を形成するコイルを用い
て、被処理物を挾んで一方にＮ極、他方にＳ極を生じる
電磁回路を形成し、上記コイルに対する通電を制御する
ことによって被処理物を貫通する磁束方向を変化させる
ユニットを具備して成る請求項１記載の会合分子の磁気
処理のための電磁処理装置。 - 【請求項６】 ユニットは複数具備されており、それら
が複数個の極性を反転させた直流磁場、又は定周波数の
交流磁場を形成するものとして制御される請求項５記載
の会合分子の磁気処理のための電磁処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26441099A JP2001079556A (ja) | 1999-09-17 | 1999-09-17 | 会合分子の磁気処理のための電磁処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26441099A JP2001079556A (ja) | 1999-09-17 | 1999-09-17 | 会合分子の磁気処理のための電磁処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001079556A true JP2001079556A (ja) | 2001-03-27 |
Family
ID=17402789
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26441099A Pending JP2001079556A (ja) | 1999-09-17 | 1999-09-17 | 会合分子の磁気処理のための電磁処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001079556A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010110667A (ja) * | 2008-11-04 | 2010-05-20 | Tohoku Tokushuko Kk | 電磁処理装置と方法 |
| CN103848533A (zh) * | 2014-02-26 | 2014-06-11 | 郑州阿莱姆环保设备有限公司 | 变频水处理装置 |
| JP2014168766A (ja) * | 2013-03-05 | 2014-09-18 | Osaka Gas Co Ltd | 海生生物付着防止システム及び海生生物付着防止方法 |
| CN109799417A (zh) * | 2019-03-13 | 2019-05-24 | 四川海特亚美航空技术有限公司 | 一种电磁掉电保持指示结构 |
| CN112944136A (zh) * | 2021-02-03 | 2021-06-11 | 天津海旺海上石油工程技术服务有限公司 | F型变频防垢仪 |
-
1999
- 1999-09-17 JP JP26441099A patent/JP2001079556A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010110667A (ja) * | 2008-11-04 | 2010-05-20 | Tohoku Tokushuko Kk | 電磁処理装置と方法 |
| JP2014168766A (ja) * | 2013-03-05 | 2014-09-18 | Osaka Gas Co Ltd | 海生生物付着防止システム及び海生生物付着防止方法 |
| CN103848533A (zh) * | 2014-02-26 | 2014-06-11 | 郑州阿莱姆环保设备有限公司 | 变频水处理装置 |
| CN103848533B (zh) * | 2014-02-26 | 2015-07-08 | 任来瑞 | 变频水处理装置 |
| CN109799417A (zh) * | 2019-03-13 | 2019-05-24 | 四川海特亚美航空技术有限公司 | 一种电磁掉电保持指示结构 |
| CN109799417B (zh) * | 2019-03-13 | 2021-02-26 | 四川海特亚美航空技术有限公司 | 一种电磁掉电保持指示结构 |
| CN112944136A (zh) * | 2021-02-03 | 2021-06-11 | 天津海旺海上石油工程技术服务有限公司 | F型变频防垢仪 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Lipus et al. | Electromagnets for high-flow water processing | |
| JP4490422B2 (ja) | 電解イオン交換を伴う選択可能なイオン濃度 | |
| DK3039171T3 (en) | Process for treating a pickling solution for a pickling process | |
| KR20150050087A (ko) | 스케일 처리장치 | |
| CN110965116A (zh) | 一种适用于沉淀硬化不锈钢去氧化皮的电解超声协同装置 | |
| JP2001079556A (ja) | 会合分子の磁気処理のための電磁処理装置 | |
| JP2008290053A (ja) | 水の電磁場処理方法および電磁場処理装置 | |
| US3650935A (en) | Apparatus for electrolytic surface treatment | |
| US11904327B2 (en) | Treating saline water and other solvents with magnetic and electric fields | |
| Othman et al. | A Review: Methodologies Review of Magnetic Water Treatment As Green Approach of Water Pipeline System. | |
| JPS6125800B2 (ja) | ||
| JP2007336746A (ja) | 流体送り装置 | |
| JP3319592B2 (ja) | 会合分子の磁気処理のための電磁処理装置 | |
| JP2008006433A (ja) | 水の電磁場処理方法および電磁場処理装置 | |
| JPH0842993A (ja) | スケールの除去・防止装置 | |
| KR100704421B1 (ko) | 3차원 파울링 저감장치 및 방법 | |
| JP2007000840A (ja) | スケール析出抑制装置および方法 | |
| CN109622502B (zh) | 一种直管段电磁超声除垢防垢装置及方法 | |
| JP4264743B2 (ja) | 水処理装置 | |
| JPH0684159B2 (ja) | 海水船舶用推進装置 | |
| US20070017811A1 (en) | Method for flow improvement and reduction of fouling in process equipment | |
| Valeriy et al. | Application of electromagnetic fields for intensification of heat and mass exchange in combined gas-liquid processes | |
| KR100247863B1 (ko) | 반응용액 내에서 처리되는 금속제품의 표면처리방법 | |
| SU791619A1 (ru) | Аппарат дл магнитной обработки жидкотекучих сред | |
| CN212024860U (zh) | 多频复合式水处理器 |