KR100217967B1 - 새로운 선스크린제들, 이를 함유하는 광보호성 화장품 조성물 및 그의 용도 - Google Patents
새로운 선스크린제들, 이를 함유하는 광보호성 화장품 조성물 및 그의 용도 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 벤조트리아졸의 새로운 트리유기실란 유도체들, 더욱 특별하게는 자외선 복사 (UV - A 및 UV - B)에 대해 피부 및 모발의 보호를 위한 화장품 조성물에서 유기 선스크린제로 사용할 수 있는 새로운 트리유기실란 유도체에 관한 것이다. 본 발명은 또한 상기 화합물을 함유하는, 성질이 개선된 화장용 조성물에 관한 것 일뿐만 아니라, 그 화합물을 상술한 화장품 적용에 상기 화합물들을 이용하는 용도에 관한 것이기도 하다.
Description
본 발명는 벤조트리아졸의 새로운 트리유기실란 유도체들, 더욱 특별하게는 자외선 복사에 대해 피부 및 모발의 보호를 위한 화장품 조성물에서 유기 선스크린제(sunscreens)로 사용할 수 있는 새로운 트리유기실란 유도체에 관한 것이다. 본 발명품은 또한 상기 화합물을 함유하는 성질이 개선된 화장품 조성물에 관한 것 일뿐만 아니라, 상술한 화장품의 적용에 상기 화합물을 이용하는 용도에 관한 것이기도 하다.
280 nm 내지 400 nm 파장의 광복사(light radiation)가 인체의 피부를 태울 수 있다는 것 그리고, 그 중에서도 더욱 특히, 통칭 UV-B 광선으로 알려져 있는, 280 nm 내지 320 nm의 파장의 광선은 자연적으로 발생하는 탠(tan)에 유해할 수 있는 홍반 및 피부화상의 원인이 된다는 것은 알려져 있다; 그러므로 이러한 UV-B 복사에 피부가 타게 되는 것은 방지되어야만 할 것이다.
또한 피부가 타는 원인이 되는, 320 nm 내지 400 nm 파장의, UV-A 광선이, 특히 예민한 피부나 태양 복사에 연속해서 노출된 피부의 경우에서는, 해로운 변화들을 유발하기 쉽다는 것도 알려져 있다.
UV-A 광선은, 특히, 조숙한 피부 노화를 야기시키는 피부의 탄력 감소 및 주름살 외관의 원인이 된다. UV-A 광선은 어떤 피실험대상에서는 홍반성 반응의 유발을 촉진하거나 이 홍반성 반응을 잘 일어나게 하며, 심지어 광독성(phototoxic)반응이나 광알레르기(photoallergic)반응의 원인이 될 수가 있다. 그러므로 UV-A 복사에 피부가 타게 되는 것도 방지하는 것이 바람직하다.
광(UV-A 및/또는 UV-B)으로부터 피부를 보호하는 목적을 갖는 화합물들이 지금까지 많이 제안되어 왔다.
이들 대부분은 280 내지 315 nm 의 영역이나 315 내지 400 nm 의 영역, 아니면 상기 둘을 합친 영역에서 UV 광선을 흡수하는 방향족 화합물들이다. 그것들은, 대개, 수증유 (oil-in-water)형 에멀션(즉, 연속 분산 수성상과 불연속 분산 유성상으로 이루어져 있는, 화장품용으로 수용 가능한 부형제)의 형태를 취하고 있는, 따라서 해로운 UV 복사의 선택적 흡수를 할 수 있는, 방향족 관능기를 함유하는 표준 친지성 및/또는 친수성 유기 스크린제 하나 이상을, 다양한 농도로 함유하는 햇볕화상방지(antisun) 조성물로서 제형되며, 이러한 스크린제들 (그리고 그것들의 양)은 원하는 보호 인자(protection factor)에 따라 선택하며 보호 인자 (PF)는 UV 스크린제 사용시의 홍반생성 역치 (threshold)의 도달에 필요한 시간 대 UV 스크린제를 사용않는 경우의 홍반생성 역치의 도달에 필요한 시간의 비율에 의하여 수학적으로 표시된다.
이들의 스크린 능력 외에도 항-UV 활성이 있는 상기 화합물들은 그것이 함유된 조성물에서의 양호한 화장 특성, 보통 용매 및 특히 유지류등의 지방에서의 양호한 용해성, 그리고 또한 수분 및 땀에 대한 양호한 저항성(지속성 효과)을 갖는다.
이와 같은 목적으로 추천되었던 모든 방향족 화합물들 중에서도, p-아미노벤조산 유도체들, 벤질리덴캄포르 유도체들, 신남산 유도체들과 벤조트리아졸 유도체들이 특히 언급될 수 있다. 그러나, 이러한 물질들의 일부는 햇볕화상방지 조성물에 UV 스크린제로서의 적당한 용도에 필요한 모든 성질들을 모두 갖는 것은 아니다. 특히, 그것들 자체에 본래 갖추어져 있는 스크린 능력이 불충분한 것일 수 있고, 햇볕 보호에 관련하여 사용되는 여러 종류의 제제들에서의 용해성이 항상 충분할 정도로 좋은 것은 아니며 (특히 지방 용해성), 그것들은 빛에 대한 안정성 [광안정성(photostability)]이 충분하지 않을 수도 있고, 그것들은 또한 수분 및 땀에 대한 저항성이 불충분한 것일 수도 있다. 또한 이와 같은 스크린제들은 피부에 스며들지 않을 것이 요구된다.
따라서, 벤조트리아졸 형의 스크린제 물질같은 더 특별한 경우에서는, 실리콘 형 (유기폴리실록산)의 거대분자 사슬상에 그라프트화 [히드로실릴화 (hydrosilylati on)]에 의한 방법으로 벤조트리아졸 차단기(screening group)를 부착시킴으로써, 특히 스크린제의 지방 용해성 및 화장품 특성에 관하여, 성질이 개선된 제품을 얻으려는 노력이 있어 왔다. 이러한 기술 (본 출원인의 이름으로 특허출원 EP - A - 제0,392,883호에 기술되어 있음)에 의해 유리한 화합물들 [이들 제품들은 "스크린용 실리콘 (screening silicone)" 이라는 일반명으로 알려져 있다] 이 실제로 만들어지나, 이들 화합물들의 지방에 용해되는 특성은 여전히 불충분한 것으로 나타날 수가 있으며, 더욱이, 이러한 형태의 제품으로 적당한 스크린 특성을 얻기 위하여는, 이러한 스크린용 중합체 (screening polymer)를 비교적 많은 양 사용하는 것이 흔히 필요하여, 이로 인해 그것을 함유하는 제형에 관해서는 화장 특성이 뒤떨어지는 결과가 나타난다. 마지막으로 이러한 생성물의 안정성 및 특히 광안정성은 아직 완전히 만족스럽지 않다.
본 발명은, 특히 지방에서의 용해성 및 화장 특성의 관점에서 성질이 개선된, 특정한 벤조트리아졸 단위를 함유하는 트리유기실란 형의 새로운 화합물들을 제공함으로써 상기 문제점들의 해결에 노력을 기울인 것이다.
더욱 더 구체적으로는, 특정한 벤조트리아졸 유도체들 즉, 더 구체적으로는, 에틸렌계 불포화물을 함유하는 단쇄 탄화수소를 갖는 벤조트리아졸과 적당하게 선택된 특정한 실란을, 특히 히드로실릴화 반응에 의해서 화합시킴으로써, 종래 기술의 스크린용 실리콘들의 결함을 감소시킨 스크린용 트리유기실란 형태의 신규 화합물에 도달되었으며, 이들 새로운 화합물들은 UV-A 범위 및 UV-B 범위 모두에서 스크린 특성이 특별히 매우 높고, 보통 유기용매 및 특히 오일 등의 지방에 아주 잘 용해되며, 또한 우수한 화장 특성을 지니고 있고, 매우 양호한 화학 안정성 (산성 및 염기성 매질 모두에서 가수분해에 대한 내성이 더 좋음) 및 매우 양호한 광 안정성을 가지고 있으므로 자외선 복사에 대해 피부 및/또는 모발의 보호를 위한 화장품 조성물의 제조 또는 선스크린제로서의 용도에 특히 적당한 것이라는 것을 본 발명에 따라 알아내었다.
따라서, 본 발명의 제1 주제는 다음의 식 (1)에 대응하는 것을 특징으로 하는 신규 화합물, 즉 벤조트리아졸의 실란 유도체이다 :
[식중: - n 은 0 내지 3 의 정수이고, 기 R¹은 동일하거나 상이할 수 있으며, C₁- C8알킬 라디칼로 부터 선택되며, -R2은 수소 또는 C1- C4알킬 라디칼을 나타내고, - 기 R3은 동일하거나 상이할 수 있으며, C1- C8알킬라디칼 및 페닐 라디칼로부터 선택되고, - p 는 0 내지 10의 정수이다.]
상기 식(1)에서 나타난 바와 같이, 벤조트리아졸 단위에 사슬단위 -(CH2)p-CH(R2)-CH2- 가 정착 (이것은 트리유기실란의 규소 원자에 상기 벤조트리아졸 단위의 연결을 안전하게 한다)은 본 발명에 따라, 하기 벤조트리아졸의 두 방향족 고리에 의하여 제공된 유용한 모든 위치에서 일어날 수 있다.
이러한 정착은 바람직하게는 3 또는 5 위치 (히드록시 관능기를 갖는 방향족 고리) 또는 4′위치 (트리아졸 고리에 인접한 벤젠 고리)에서 일어나며, 더 바람직하게는 3 또는 5 위치에서 일어난다.
유사하게, 치환 단위 또는 단위 R¹의 정착은, 존재할 때, 벤조트리아졸내에 있는 다른 가능한 모든 위치에서 일어날 수 있다. 그러나, 이러한 정착은 바람직하게는 3, 4′및/또는 5 위치에서 일어난다.
상기 식(1)에서, 알킬 라디칼은 직쇄 또는 측쇄일 수 있으며, 특히 메틸, 에틸, n - 프로필, 이소프로필, n - 부틸, 이소부틸, t - 부틸, n - 아밀, 이소아밀, 네오펜틸, n-헥실, n - 헵틸, n - 옥틸, 2 - 에틸헥실 및 t - 옥틸 라디칼에서 선택될 수 있다. 본 발명에 따른 알킬 라디칼은 바람직하게는 메틸, 에틸, 프로필, n - 부틸, n - 옥틸 및 2 - 에틸헥실이다. 더 바람직하게는 R¹R²가 메틸 라디칼인 것이다.
본 발명의 범주에 속하는 식(1)의 화합물중에서, 하기의 특성을 하나이상, 더 바람직하게는 모두 갖는 잘 명시된 블록 유도체 또는 랜덤 유도체가 특히 바람직하다 :
- R¹은 메틸
- R²는 수소 원자 또는 메틸
- R³는 메틸, 에틸, 이소프로필 또는 이소부틸
- p 는 1 이다.
본 발명에서 특히 더 지시되는 벤조트리아졸의 실란 유도체의 예로서 특히 하기를 언급할 수 있다:
a) 2 - (2′- 히드록시 - 5′- 메틸 - 3′- 트리이소부틸실라닐프로필페닐) - 2 H - 벤조트리아졸
b) 2 - [2′- 히드록시 - 3′- (3 - 디에틸메틸실라닐 - 2 - 메틸프로필) - 5′- 메틸페닐] - 2 H - 벤조트리아졸
식 (1)의 화합물을 제조하기 위하여, 라디칼 A가 수소 원자로 대치된 대응하는 트리유기실란으로 시작하는 하기 형태의 히드로실릴화 반응을 사용하는 표준 방법을 수행하는 것이 가능하다.
이러한 SiH 관능기를 함유하는 유기 실란 유도체는 실란 산업에서 공지의 제품이며, 더욱이, 일반적으로 시판된다.
그러므로 이러한 트리유기실란은 하기 식(2) 에 대응한다:
[식중, R³는 식(1)에 대하여 주어진 것과 같은 의미를 갖는다.]
그러므로 표준 히드로실릴화 반응은 촉매적 유효량의 플라튬 촉매의 존재하에 식 (2)의 실란 유도체와 하기 식 (3)의 유기 벤조트리아졸 유도체에 대하여 수행한다.
[식중 R¹,R²,n 및 p 는 상기 식 (1)에서 주어진 것과 동일한 의미를 갖는다.]
상기 식 (3)의 생성물의 적당한 제조 방법은 특히 US - 4,316,033호 및 US - 4,328,346호 및 상술한 출원 EP - A - 0,392,883호에 기술되어 있다.
그밖에, 상기 식 (2)의 화합물과 상기 식 (3)의 화합물간의 히드로실릴화 반응을 위하여 상세한 조작 조건은 상술한 특허 출원 EP - 0,392,883호에 기술되어 있으며, 이러한 점에 대하여는 상기 출원에서 교시하는 것을 완전히 본 기술에서 참고로 하였다.
특허 출원 EP 0,392,883호에 기술된 바와 같은, 선행 기술의 스크린용 실리콘과 비교시 본 발명에 따른 스크린제는 그들의 주목할 만한 성질의 원에서 하나이상의 필수적인 구조 차이를 갖는다. 즉, 한편으로는, 규소 함유 사슬에 그라프트된 하나의 벤조트리아졸 단위만이 있으며, 다른 한편으로는, 이러한 규소 함유 사슬은 그의 가장 간단한 표현인 경우에 있어서 본 발명에 따라 모노실란이기 때문에 줄어든다는 사실이 남는다.
상술한 바와 같이 식 (1)의 화합물은 UV - A 및 UV - B 자외선에 대하여 우수한 고유 스크린력이 있다. 그밖에, 그들의 높은 지용성 때문에 식 (1)의 화합물은 고 농도로 사용될 수 있으며, 그러므로 최종 조성물에 매우 높은 보호 인자를 부여하며; 더욱이 이들은 하나 이상의 지방 상 또는 화장품에서 수용 가능한 유기 용매를 하나 이상 함유하는 표준 화장품 부형제에 균일하게 그들 자신이 분포될 수 있으며, 그러므로 효과적인 보호막을 구성하기 위하여 피부 또는 모발에 적용할 수 있다. 더욱이 그들의 화장품 특성은 매우 양호하다: 특히, 선행 기술의 스크린용 실리콘과 비교시, 이들 생성물은 점성이 적으며 더 부드러운 감을 제공한다. 최종적으로, 이러한 생성물은 매우 안정한 화학적 성질 (이들은 특히 산성 및 염기성 매질 모두에게 일어날 수 있는 가수 분해에 의한 감성에 대한 저항성을 갖는다) 및 광화학적 성질 (즉, 이것도 또한 자외선에 의해 유도되는 감성에 대한 저항성을 갖는다)을 갖는다.
본 발명의 주제는 그러므로 화장품에서 수용 가능한 부형제 바람직하게는 하나 이상의 지방상 또는 유기 용매를 함유하는 부형제내에, 상기에서 정의된 식 (1)의 화합물 하나 이상을 유효량 함유하는 화장품 조성물이다.
식 (1)의 화합물은 일반적으로 조성물의 총 중량을 기준으로 0.1 중량 % 내지 20 중량 %, 바람직하게는 0.5 중량 % 내지 10 중량 % 의 비율로 존재할 수 있다.
본 발명의 화장품 조성물은 자외선에 대하여, 햇볕 화상방지 조성물 또는 메이크업 생성물로서 인체의 표피 또는 모발을 보호하는 조성물로서 사용될 수 있다.
이 조성물은, 특히 로션, 농축로션 (thickened lotion), 겔, 크림, 밀크(milk), 파우더 또는 고형스틱의 형태를 취할 수 있고, 경우에 따라서는 에어로졸 (aerosol)로서 채워질 수도 있으며 포옴 (foam)이나 스프레이 (spray)의 형태를 취할 수 있다.
그것은 본 발명의 분야에서 통상 사용되는 화장보조제 (cosmetic adjuvant)들, 이를테면 지방, 유기용매, 실리콘, 증점제, 연화제, 추가보충 선스크린제, 발포엑제제, 수화제, 향료, 보존제, 표면활성제, 충전제, 봉쇄제, 양이온성, 음이온성, 비이온성 또는 양성 중합체들 또는 그것들의 혼합물, 추진제, 알칼리화 작용제 또는 산성화 작용제, 염료, 색소 또는 미소색소 (nanopigment)(특히 자외선 복사를 물리적으로 차단 시킴으로써 광보호 효과를 추가 제공할 수 있도록 만들어진 것), 또는 화장품에서 통상 사용되는, 특히 햇볕화상 방지 조성물의 제조에 사용되는 기타 여러 가지 성분 등을 포함할 수가 있다.
유기 용매들 중에서는, 저급 알콜 및 폴리올들, 이를 테면 에탄올, 이소프로판올, 프로필렌 글리콜, 글리세롤 그리고 소르비톨 등이 언급될 수 있다.
지방은 오일이나 왁스 또는 그것들의 혼합물, 지방산, 지방산 에스테르, 지방산 알콜, 페트로라텀, 파라핀, 라놀린, 수소화 라놀린 또는 아세틸화 라놀린으로 구성되어 있을 수가 있다. 오일은 동물유, 식물유, 광유 또는 합성유에서 선택될 수 있으며, 그리고 특히 야자 경화유, 피마자 경화유, 페트로라텀 액, 파라핀 액, 퍼셀린유 (purcellin oil), 휘발성 또는 비휘발성 실리콘유 그리고 이소파라핀에서 선택될 수 있다.
본 발명에 따른 화장품 조성물이 더욱 특별히 UV광선으로부터 인체의 표피를 보호하기 위한 것이거나 또는 햇볕화상방지 조성물로서 인체의 표피를 보호하기 위한 것인 경우에는, 그것은 용매나 지방의 현탁액 또는 분산액의 형태를 취할 수가 있으며, 또는 이와 달리로는 크림이나 밀크 등의 에멀션 (특히 O/W 또는 W/O형, 그러나 바람직하게는 O/W형), 또는 소포성 (vesicle)분산액의 형태, 또는 연고, 겔, 고형스틱 또는 에어로졸 포옴의 형태를 취할 수가 있다. 상기 에멀션은 추가로, 음이온성 표면활성제, 비이온성 표면활성제, 양이온성 표면활성제 또는 양성 표면활성제를 포함할 수가 있다.
본 발명에 따른 화장품 조성물을 모발 보호용으로 사용하는 경우에는, 그것은 샴푸, 로션, 겔이나 또는 린스용 조성물의 형태로, 머리감기 전후, 염생 또는 블리칭(bleaching)전후, 모발의 퍼머 또는 스트레이트 동안이나 전후에 적용될 수 있으며, 스타일링 또는 트리트먼트용 로션이나 겔, 드라이어용 또는 헤어 세트용 로션이나 겔, 헤어래커(hair lacquer)나 또는 머리를 퍼머 또는 스트레이트하는 조성물의 형태로, 모발을 염색 또는 블리칭하는 용도의 조성물의 형태를 취할 수가 있다.
본 발명에 따른 화장품 조성물을 속눈썹, 눈썹, 피부 또는 모발용의 메이크업 제품으로 사용될 때, 이를 테면 표피치료용 크림, 파운데이션, 립스틱의 스틱, 아이새도, 연지, 아이라이너, 마스카라 또는 착색겔 (colouring gel)등으로 사용하는 경우에는, 그것은 고형 또는 페이스트 형, 무수형 또는 수성형, 이를 테면 수중유 (oil-in-water)또는 유중수 (water-in-oil)에멀션, 현탁액 또는 겔 등일 수가 있다.
본 발명의 주제는 또한 자외선 복사 특히, 태양 복사로부터 피부 및 모발을 보호하기 위한 방법이기도 하며, 그것은 피부나 모발에 상기 정의한 화장품 조성물 또는 상기 정의된 바와 같은 식 (1)의 화합물의 유효량을 적용하는 것으로 이루어져 있다.
다음에 나오는 실시예들은 본 발명의 범위를 제한하는 일 없이, 그러나, 본 발명을 구체적으로 설명해 준다.
[실시예 1]
본 실시예는 다음의 식을 갖는 본 발명에 따른 화합물의 제조를 설명한 것이다:
[이 생성물은 식(Ⅰ)의 화합물에 대응되며, 식중 : n = 1 이고 R¹은 메틸이며; p = 1이고; R²= H 이며; R³= 이소부틸이다.].
20g (0.075 몰)의 2 - 알릴 - 6 - 벤조트리아졸 - 2-일 - 4 - 메틸페놀 및 25ml의 무수 톨루엔을 완전히 장치된 둥근 바닥 플라스크에 충전한다. 혼합물은 질소하에서 90℃가 되게한다. 히드로실릴화 촉매 (사이클로비닐메틸실록산에 3 - 3.5%의 Pt를 함유하는 착물, Hls Petrarch PC085 에서 시판: 300㎕)를 가한후, 15.1g의 트리이소부틸실란을 1시간에 걸쳐서 가한다. 질소 하에서 24 시간동안 끓인후, 반응 매질을 농축한다. 미반응된 출발 벤조트리아졸 유도체는 여거하고 미반응된 출발 실란은 감압 (0.2 mmHg) 하에서 유거한다. 수득한 잔류물은 그후 실리카 (용리액 : 헵탄)에서 크로마토그래피한다. 이렇게 하여 목적하는 최종 생성물의 분획 (이것은 80 - 82℃ 의 융점을 갖는 백색 분말의 형태이다.)을 회수한다.
본 생성물의 UV 흡수 특성 (에탄올에서 측정)은 하기 이다:
γmax: 305nmεmax: 15 400
γmax: 342nm εmax: 14 500
이 생성물은 UV - A 및 UV - B 범위 내에서 활성인 선 스크린으로서 매우 효과적으로 사용될 수 있다.
[실시예 2]
본 실시예는 본 발명과 일치하는 하기 식의 다른 화합물의 제조를 설명하는 것이다:
[이 생성물은 식(Ⅰ)의 화합물에 대응되며, 식중 : n = 1이고 R¹은 메틸이며; p = 1 이고; R²= 메틸 이며; 하나의 R³= 메틸 이고 두 R³= 에틸이다.].
13.97g (0.05 몰)의 2 - 벤조트리아졸 - 2 - 일 - 4 - 메틸 - 6 - (2 - 메틸알릴)페놀 및 25ml의 무수 톨루엔을 완전히 장치된 둥근 바닥 플라스크에 충전한다. 혼합물은 질소하에서 70℃가 되게 한다.
히드로실릴화 촉매 (사이클로비닐메틸실록산에 3 - 3.5% 의 Pt를 함유하는 착물, Huls Petrarch PC085에서 시판: 200㎕)를 가한 후, 5.37g (0.0525 몰)의 디에틸메틸실란을 가한다. 질소 하 80℃에서 10시간 있은 후, 반응 매질을 농축하고 압력하에서 실리카에서 크로마토그래피 (용리액 : 햅탄)한다. 이렇게 하여 목적하는 최종 생성물의 분획 (이것은 37℃ 의 융점을 갖는 백색 분말의 형태이다.)을 회수한다.
본 생성물의 UV 흡수 특성 (에탄올에서 측정)은 하기이다:
γmax: 304nmεmax: 15 520
γmax: 343nm εmax: 15 050
이 생성물은 UV - A 및 UV - B 범위 내에서 활성인 선 스크린으로서 매우 효과적으로 사용될 수 있다.
[실시예 3]
본 발명에 따른 햇볕화상방지 화장품 조성물 즉, 햇볕화상방지 크림 (antisun cream)의 구체적인 배합을 여기에 구체적으로 설명한다.
- 실시예 1의 화합물5g
- EO (HENKEL의 "SINNOWAX AO")33몰로
옥시에틸렌화된 세틸스테아릴 알콜 및
세틸스테아릴알콜의 혼합물7g
- 비자동 유화성 (non-self-emulsifiable)
글리세릴 모노 - 및 디스테아레이트의
혼합물2g
- 세틸알콜1.5g
- C12- C15알킬 벤조산염
(Witco의 "FINSOLV TN")20g
- 폴리디메틸실록산1.5g
- 글리세롤17.5g
- 향료, 보존제충분한 양
- 물충분한 양100g
이 크림은 에멀션의 제조를 위한 종래의 전통적인 기술에 따라, 유화제가 함유된 지방상에 스크린제를 용해하고, 이 지방상을 70 - 80℃정도까지 가열하며, 물 (같은 온도까지 가열된 것)을 격렬하게 교반하면서 가한다. 교반은 10분 내지 15분 동안 계속하고, 그 다음에는 적당히 교반하면서 혼합물을 냉각시키며, 그후 약 40℃에서, 향료와 보존제를 마지막으로 가한다.
Claims (34)
- 하기 식의 신규 화합물 :[식중: - n 은 0 내지 3의 정수이고, 기 R¹은 동일 하거나 상이할 수 있으며, C₁- C8알킬 라디칼로부터 선택되고, - R²은 수소 또는 C₁- C₄알킬 라디칼을 나타내며, - 기 R³은 동일 하거나 상이할 수 있으며, C₁- C8알킬 라디칼 및 페닐 라디칼로부터 선택되고, - p 는 0 내지 10의 정수이다.
- 제1항에 있어서, 알킬 라디칼이 메틸, 에틸, 프로필, n - 부틸, n - 옥틸 및 2 - 에틸헥실 라디칼에서 선택되는 것을 특징으로 하는 신규 화합물.
- 제1항 또는 2항에 있어서, R¹이 메틸인 것을 특징으로 하는 신규 화합물.
- 제1항 또는 2항에 있어서, R²가 메틸 또는 수소인 것을 특징으로 하는 신규 화합물.
- 제1항 또는 2항에 있어서, R³가 메틸, 에틸, 이소프로필, 또는 이소부틸인 것을 특징으로 하는 신규 화합물.
- 제1항 또는 2항에 있어서, p 가 1인 것을 특징으로 하는 신규 화합물.
- 제1항 또는 2항에 있어서, 사슬 단위 -(CH₂)p-CH(R2)-CH2- 가 벤조트리아졸 단위의 3, 4′또는 5 위치 위에 정착되어 있는 것을 특징으로 하는 신규 화합물.
- 제7항에 있어서, 상기 정착이 3 또는 5 위치에서 일어나는 것을 특징으로 하는 신규 화합물.
- 제1항, 2항 및 8항 중의 어느 한항에 있어서, 치환기 R¹이 벤조트리아졸 단위의 3, 4′ 및 5 위치 (들)에 정착되는 것을 특징으로 하는 신규 화합물.
- UV - A 및 UV - B 영역에서 활성인 선스크린으로서 사용되는 제1항 내지 9항 중의 어느 한항에서 정의된 식(Ⅰ)의 화합물.
- 화장품용으로 수용 가능한 부형제내에 제1항 내지 제9항중의 어느 한 항에서 정의된 하나 이상의 화합물을 유효량 함유하는 것을 특징으로 하는 화장품 조성물.
- 제11항에 있어서, 상기 화장품용으로 수용 가능한 부형제가 하나 이상의 지방상 (fatty phase)또는 유기 용매를 함유하는 것을 특징으로 하는 화장품 조성물.
- 제12항에 있어서, 상기 부형제가 수중유 또는 유중수 형의 에멀션 형태로 있는 것을 특징으로 하는 화장품 조성물.
- 제11항 내지 13항 중의 어느 한항에 있어서, 스크린 화합물 (들)의 함량이 조성물의 총 중량에 대하여 0.1 내지 20 중량 % 인 것을 특징으로 하는 화장품 조성물.
- 제14항에 있어서, 상기 함량이 0.5 내지 10 중량 % 인 것을 특징으로 하는 화장품 조성물.
- 피부, 모발, 또는 피부 및 모발에 상기 제1항 내지 15항 중의 어느 한항에서 정의된 하나 이상의 화합물 또는 하나 이상의 조성물의 유효량을 적용하는 것으로 이루어진 것을 특징으로 하는 자외선 복사로부터 피부, 모발, 또는 피부 및 모발을 보호하는 방법.
- 제3항에 있어서, R²이 메틸 또는 수소인 것을 특징으로 하는 신규 화합물.
- 제3항에 있어서, R³이 메틸, 에틸, 이소프로필, 또는 이소부틸인 것을 특징으로 하는 신규 화합물.
- 제4항에 있어서, R³이 메틸, 에틸, 이소프로필, 또는 이소부틸인 것을 특징으로 하는 신규 화합물.
- 제3항에 있어서, p 가 1 인 것을 특징으로 하는 신규 화합물.
- 제4항에 있어서, p 가 1 인 것을 특징으로 하는 신규 화합물.
- 제5항에 있어서, p 가 1 인 것을 특징으로 하는 신규 화합물.
- 제3항에 있어서, 사슬 단위 -(CH₂)p-CH(R2)-CH2- 가 벤조트리아졸 단위의 3, 4′또는 5 위치 위에 정착되어 있는 것을 특징으로 하는 신규 화합물.
- 제4항에 있어서, 사슬 단위 -(CH₂)p-CH(R2)-CH2- 가 벤조트리아졸 단위의 3, 4′또는 5 위치 위에 정착되어 있는 것을 특징으로 하는 신규 화합물.
- 제5항에 있어서, 사슬 단위 -(CH₂)p-CH(R2)-CH2- 가 벤조트리아졸 단위의 3, 4′또는 5 위치 위에 정착되어 있는 것을 특징으로 하는 신규 화합물.
- 제6항에 있어서, 사슬 단위 -(CH₂)p-CH(R2)-CH2- 가 벤조트리아졸 단위의 3, 4′또는 5 위치 위에 정착되어 있는 것을 특징으로 하는 신규 화합물.
- 제3항에 있어서, 치환기 R¹이 벤조트리아졸 단위의 3, 4′및 5 위치에서 선택된 하나 이상의 위치(들)에 정착되는 것을 특징으로 하는 신규 화합물.
- 제4항에 있어서, 치환기 R¹이 벤조트리아졸 단위의 3, 4′및 5 위치에서 선택된 하나 이상의 위치(들)에 정착되는 것을 특징으로 하는 신규 화합물.
- 제5항에 있어서, 치환기 R¹이 벤조트리아졸 단위의 3, 4′및 5 위치에서 선택된 하나 이상의 위치(들)에 정착되는 것을 특징으로 하는 신규 화합물.
- 제6항에 있어서, 치환기 R¹이 벤조트리아졸 단위의 3, 4′및 5 위치에서 선택된 하나 이상의 위치(들)에 정착되는 것을 특징으로 하는 신규 화합물.
- 제7항에 있어서, 치환기 R¹이 벤조트리아졸 단위의 3, 4′및 5 위치에서 선택된 하나 이상의 위치(들)에 정착되는 것을 특징으로 하는 신규 화합물.
- 제11항에 있어서, 화장품 조성물이 자외선 차단용인 화장품 조성물.
- 제13항에 있어서, 부형제가 수중유형의 에멀션 형태로 있는 것을 특징으로 하는 화장품 조성물.
- 제16항에 있어서, 자외선 복사가 태양 광선인 것을 특징으로 하는 방법.
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