KR0163091B1 - 노광장치 - Google Patents

노광장치 Download PDF

Info

Publication number
KR0163091B1
KR0163091B1 KR1019950004993A KR19950004993A KR0163091B1 KR 0163091 B1 KR0163091 B1 KR 0163091B1 KR 1019950004993 A KR1019950004993 A KR 1019950004993A KR 19950004993 A KR19950004993 A KR 19950004993A KR 0163091 B1 KR0163091 B1 KR 0163091B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
light
glass plate
exposure
light source
peripheral
Prior art date
Application number
KR1019950004993A
Other languages
English (en)
Other versions
KR960035762A (ko
Inventor
김창규
Original Assignee
이대원
삼성항공산업주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 이대원, 삼성항공산업주식회사 filed Critical 이대원
Priority to KR1019950004993A priority Critical patent/KR0163091B1/ko
Publication of KR960035762A publication Critical patent/KR960035762A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR0163091B1 publication Critical patent/KR0163091B1/ko

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems
    • G03F7/70191Optical correction elements, filters or phase plates for controlling intensity, wavelength, polarisation, phase or the like
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2022Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure
    • G03F7/2026Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure for the removal of unwanted material, e.g. image or background correction
    • G03F7/2028Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure for the removal of unwanted material, e.g. image or background correction of an edge bead on wafers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

글라스판(11)의 주변부(26a)(26b)(26c)(26d)에 묻은 포토레지스터의 잔류로 인하여 후공정에서 발생할 수 있는 불량의 소지를 없애고, 하나의 광원(1)으로 주변부(26a)(26b)(26c)(26d) 노광까지 완료하므로 제조 원가를 감소시키며, 다양한 크기의 글라스(11)을 용이하게 노광하기 위하여, 광원(1)으로부터 광을 집속하여 셧터(5)를 통하여 회로 패턴이 형성되어 있는 마스크(7)를 통과하고, 상기 마스크(7)를 통과한 광이 포토레지스터가 도포되어 있는 글라스판(11)을 노광하는 노광장치에 있어서, 광원으로부터 일부의 광을 인출하여 집속하고, 상기 집속되어진 광을 소정의 위치까지 이동시켜 결상하는 다수의 글라스판(11)의 주변부 노광수단과, 상기 노광수단으로 글라스판(11)을 노광하기 위하여 3축이상으로 이동가능하며, 별도의 구동원으로 구동되는 이송수단으로 구성하여, 별도의 주변 노광용 광원이 불필요 하므로 이에대한 비용을 감소시킬 수 있으며, 글라스판(11)의 주변부(26a)(26b)(26c)(26d)의 노광을 완벽하게 수행하므로 포토레지스터가 잔류해 있을 경우 분진으로 변하여 후공정시 이로 인한 오염의 원인이 될 수 있는 소지를 제거하는 노광장치.

Description

노광장치
제1도는 본 발명에 의한 실시예를 도시한 평면도.
제2도는 본 발명에 의한 노광장치의 노광 과정을 도시한 사시도로서,
(a)는 글라스판의 주변부 2면을 노광하는 상태를 도시한 사시도이고,
(b)는 (a)의 작업이 완료된 후 글라스판의 다른 주변부를 노광하기 위하여 이송수단의 방향을 바꾸는 상태를 도시한 사시도이고,
(c)는 글라스판의 다른 주변부 2면을 노광하는 상태를 도시한 사시도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 광원 11 : 글라스판
13 : 글라스판 카셋트 15 : 받침대
16, 18 : 엑츄에이터 19 : 핸드
23 : 프리즘 25 : 집광렌즈
26a, 26b, 26c, 26 : 주변부 27 : 광섬유
29 : 조명계
[산업상의 이용분야]
본 발명은 광학장치를 이용한 노광장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 회로 패턴이 형성되어 있는 마스크와 액정 디스플레이 글라스 판넬사이에 투영 광학계를 두고 노광광을 방사 함으로써 액정 디스플레이 글라스 판넬상에 회로를 형성하는 노광장치에 관한 것이다.
[종래의 기술]
화상 정보 시대에 있어서, 정보 전달의 표시장치에 많은 관심이 모아지고 있으며, 이로인해 지금까지의 음극선관을 대신한 각종 평면 표시장치가 개발되어 급속히 보급되기 시작하고 있다.
상기 평면 표시장치 중에서도 액정 디스플레이는 경량, 박형, 저가, 저소비전력 구동 등의 특징으로 랩톱 컴퓨터나, 포켓 컴퓨터의 표시장치외 차량 및 항공기적재용, 칼라 텔레비젼 화상용으로서 그 용도를 확대하고 있는 추세이다.
따라서, 그 용도가 확대됨으로서 다양한 크기의 액정 디스플레이의 제작을 하게 되며, 이는 대량 정보를 한 화면에 가질 수 있도록 구성된다.
따라서, 그 만큼 정밀한 내부 구조를 가짐으로 인해 제조과정도 더욱 복잡하게 변화되고 있다.
특히 상기 액정 디스플레이 제조공정중 글라스 판넬상에 회로 패턴을 형성하는 작업은 고도의 기술과 정밀도를 필요로 한다.
그리고 회로 패턴을 형성하는 노광장치는 일본 공개특허공보(특개평4-283726)에 제안되어 있다.
상기 공개특허공보에 제안되어 있는 내용을 살펴보면 편평한 노광스테이지 상면에 글라스 판넬이 안착되고, 소정의 거리를 이격시켜 마스크가 위치하고, 이의 상단에 노광시간을 조절하기 위한 셔터가 설치되고, 상기 셔터의 상단에 광원이 위치하여 구성된다.
그리고, 별도의 광원을 설치하여 이 광원으로부터 광을 집속하여 글라스 기판의 주변부를 노광하기 위하여 소정의 장소로 이동이 가능한 전달용 광학계를 설치하여 구성한다.
상기 구성에 의한 노광장치의 동작은 다음과 같다.
먼저 사용자에 의해 전원이 인가되면 광원에서 광이 방사되어 셔터에 의해 가리워진다.
이때 셔터가 필요시간 만큼 열려지게 되면 광원은 패턴이 형성되어진 마스크를 통과하게 되고, 마스크를 통과한 광원은 투명 도전막과 포토레지스터가 도포되어 있는 글라스판을 비추게 된다.
따라서 마스크상에 형성되어 있는 패턴이 글라스판상에 현상됨으로써 글라스판상에 매우 정밀한 패턴을 형성시킬수 있는 것이다.
또한, 글라스판상의 주변부는 포토레지스터가 그대로 잔류하여 후 공정시 먼지등으로 변해 오염의 원인이 되어 불량의 원인이 된다.
따라서, 별도의 광원을 설치하여 이로부터 광을 집속하고, 전달용 광학계를 통하여 글라스판의 주변부로 광을 이동시켜 주변부의 양측을 별도로 노광하게 된다.
[발명이 해결하려고 하는 문제점]
상술한 종래의 노광장치는 주변부 노광을 위하여 광원이 이중으로 설치되는데 이는 액정 디스플레이의 제조원가를 상승시키는 원인이 되는 단점이 있다.
또한, 노광 스테이지상에서 글라스판에 회로패턴을 형성하는 동시에 별도의 광원으로부터 동시에 주변 노광을 수행 할수 밖에 없으므로 주변부 4면을 모두 노광해야함에도 불구하고 2면에 한정하여 주변부 노광을 함으로 인하여 포토레지스터가 잔류하여 후공정에서 불량의 원인이 되는 문제점이 있다.
그리고, 주변 노광 전달계가 렌즈나 거울등의 광학계를 사용하므로 글라스판의 크기가 변경될 경우 주변 노광부를 글라스 판의 크기에 맞게 주변 노광 모듈을 재 셋팅해야 하므로 불편함과 아울러 여러가지 크기의 대응이 용이하지 않는 문제점이 있다.
본 발명의 목적은 상술한 종래의 노광장치가 갖고 있는 문제점을 해결하여 글라스판의 주변부에 묻은 포토레지스터의 잔류로 인하여 후공정에서 발생할 수 있는 불량의 소지를 없애고, 하나의 광원으로 주변부 노광까지 완료하므로 제조 원가를 감소시키며, 글라스판의 다양한 크기의 노광에 있어 용이하게 대응하는 노광장치를 제공함에 있다.
[문제점을 해결하기 위한 수단]
상기 본 발명의 목적을 해결하기 위하여, 광원으로부터 광을 집속하여 셔터를 통하여 회로 패턴이 형성되어 있는 마스크를 통과하고, 상기 마스크를 통과한 광이 포토레지스터가 도포되어 있는 글라스판을 노광하는 노광장치에 있어서, 광원으로부터 일부의 광을 인출하여 집속하고, 상기 집속되어진 광을 소정의 위치까지 이동시켜 결상하는 다수의 글라스판의 주변부 노광수단과, 상기 노광수단으로 글라스판을 노광하기 위하여 3축이상으로 이동가능하며, 별도의 구동원으로 구동되는 이송수단으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 노광장치를 제공한다.
[작용]
본 발명의 노광장치는, 별도의 또다른 광원을 설치하지 않고, 주변부 가장자리 4곳을 모두 노광하는 작용을 한다.
[실시예]
이하, 본 발명의 실시예를 첨부 도면에 따라 상세히 설명한다.
제1도는 발명의 액정 디스플레이 노광장치를 도시한 정면도이고, 제2도는 글라스판의 주변부를 노광하는 상태를 순서대로 도시한 사시도로서, 광을 방사하기 위한 광원(1)과, 광원(1)의 외주에 설치되며 방사된 광을 집속하는 반사경(3)과, 반사경(3)으로부터 집광된 광을 일정한 시간 동안 통과시키기 위한 셔터(5)와, 상기 셔터(5)를 통과한 광이 비추어지며, 다양한 회로패턴이 형성되어 있는 마스크(7)와, 상기 마스크(7)를 지나온 광이 통과하는 투영렌즈계(9)로 구성된다.
한편, 상기 투영 렌즈계(9)를 통과한 광을 이용하여 노광하기 위한 글라스판(11)과, 상기 글라스판(11)을 보관하기 위한 글라스판 카셋트(13)와, 상기 글라스판 카셋트(13)를 지지하는 받침대(15)와, 상기 받침대(15)의 일면에 설치되며 별도의 구동원로 구동되고 3축 이상으로 이동 가능한 이송수단과, 상기 이송수단의 일측에 위치하며 글라스판(11)의 이동중 방향을 바꾸기 위하여 잠시 동안 안착시키는 글라스판 지지대(11)와, 이의 일측에 위치하며 받침대(15)의 상면에 안착되어 글라스판(11)을 노광하기 위한 노광스테이지(21)와, 광원(1)으로부터 광을 집속하여 집속된 광을 소정의 위치까지 이동시켜 광을 결상하는 주변부 노광수단으로 구성된다.
그리고, 상기 이송수단은 받침대(15)에 고정되며 상, 하 및 회전 운동이 가능한 엑츄에이터(16)와, 이의 일 끝에 연결되며 직선운동을 하는 엑츄에이터(18)와, 이의 상단에 고정되며, 글라스판(11)을 이동하기 위한 핸드(19)로 구성된다.
또한, 상기 주변부 노광수단은 광원(1)으로부터 광을 집속하여 경로를 바꾸어주는 프리즘(23) 등의 집속부재와, 상기 집속수단을 통과한 광을 모아주는 집광렌즈(25)와, 일측은 상기 집광렌즈(25)와 연결되며 광을 소정의 위치까지 이동시키기 위한 복수개의 광섬유(27)와, 이의 다른 일 끝에 연결되어 이동된 광을 결상하기 위한 조명계(29)로 구성된다.
상기 구성에 의하여 제2도의 (a) 내지 (c)에 도시된 바와 같이 글라스판넬 카셋트(13)에 보관중인 글라스판(11)을 별도의 구동원으로 부터 구동되는 이송수단의 엑츄에이터(18)의 일 끝에 장착된 핸드(19)의 상단에 안착시켜 x축 방향으로 수평이동하게 된다.
이때 광원(1)으로 부터 광이 집속되어 방향을 바꾸어 주는 집속수단을 통하여 각각 2개의 광섬유(27)내로 입사하게 된다.
광섬유(27)내로 입사한 광은 광섬유(27)를 통하여 글라스판(11)의 주변부(26a)(26b)까지 이동하고, 상기 이동한 광은 노광위치에서 조명계(29)를 통하여 글라스판(11)의 주변부(26a)(26b)의 일끝부터 노광을 하기 시작하게 된다.
상기 글라스판의 다른 끝까지 주변부(26a)(26b)의 노광을 완료하게 되면 핸드(19)는 글라스판 지지대(31)상에 글라스판(11)을 안착시키고, 엑츄에이터(16)에 의해 소정의 방향으로 90。 회전이동하게 된다.
그리고 다시 상기 글라스판(11)을 핸드(19)의 상단에 안착시켜 엑츄에이터(19)에 의해 y축 방향으로 이동한다.
그러면 상기 글라스판(11)의 주변부(26a)(26b)를 노광한 것과 같은 동작으로 글라스판(11)의 다른 일측의 주변부(26c)(26d)를 노광하게 된다.
상기 주변부(26a)(26b)(26c)(26d)의 4곳의 노광이 완료되면 상기 핸드(19)는 노광스테이지(21) 상면에 글라스판(11)을 안착시킨다.
한편, 노광스테이지(21)의 상면에 안착된 글라스판(11)의 내면을 노광하기 위하여 광원(1)에서 방사된 광을 반사경(3)이 집속하게 된다.
집속된 광은 셔터(3)가 열리면서 상기 셔터(3)가 열려있는 시간만큼 회로 패턴이 형성되어 있는 마스크(7)를 통과하게 된다.
상기 마스크(7)를 통과한 광은 투영렌즈계(9)를 지나 포토레지스터가 도포되어 있는 글라스판(11)의 상면에 비추어져 노광을 하게 된다.
상기 동작을 반복함으로서 글라스판(11)의 노광이 이루어지게 된다.
[발명의 효과]
이상 설명한 바와 같이 본 발명에 의한 노광장치는, 별도의 주변 노광용 광원이 불필요하므로 이에대한 비용을 감소시킬 수 있으며, 글라스판의 주변부의 노광을 완벽하게 수행하므로 포토레지스터가 잔류해 있을 경우 분진으로 변하여 후공정시 이로 인한 오염의 원인이 될 수 있는 소지를 제거하는 장점이 있다.
따라서, 이로 인하여 액정 디스플레이의 품질을 향상시킬 수 있으며, 글라스판에 회로 패턴을 형성하기 위한 작업과 주변노광이 한장치에서 이루어지므로 작업 소요시간이 단축되며, 광섬유의 유연성으로 인하여 다양한 크기의 글라스판의 노광을 용이하게 실시 할 수 있어 생산성을 증가시키는 효과가 있다.

Claims (2)

  1. 광원으로부터 광을 집속하여 셔터를 통하여 회로 패턴이 형성되어 있는 마스크를 통과하고, 상기 마스크를 통과한 광이 포토레지스터가 도포되어 있는 글라스판을 노광하는 노광장치에 있어서, 광원(1)으로부터 일부의 광을 인출하여 집속하고, 상기 집속되어진 광을 소정의 위치까지 이동시켜 글라스판(11)의 주변부에 결상하는 다수의 주변부 노광수단과, 상기 주변부 노광수단으로 글라스판(11)을 노광하기 위하여 별도의 구동원으로 구동되며 3축 이상으로 이동 가능한 이송수단으로 이루어지며, 상기 주변부 노광수단은 광원(1)으로부터 광을 집속하여 경로를 바꾸어주는 1개이상의 집속부재와, 상기 집속부재를 통과한 광을 모아주는 집광렌즈(25)와, 상기 집광렌즈(26)와 일측이 연결되며 광을 소정의 위치까지 전달하는 광섬유(27)와, 상기 광섬유(27)의 다른 일측에 연결되며 이를 통과한 광을 반사하는 조명계(29)로 이루어지고, 상기 이송수단은 받침대에 고정되며 상, 하 및 회전운동을 하는 엑츄에이터(16)와, 상가 엑츄에이터(18)의 상단에 고정되며 글라스판(11)을 이동하기 위한 핸드(19)로 이루어지는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 집속부재는 광원의 일측에 설치되며 프리즘(23)으로이루어지는 것을 특징으로 하는 노광장치.
KR1019950004993A 1995-03-10 1995-03-10 노광장치 KR0163091B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019950004993A KR0163091B1 (ko) 1995-03-10 1995-03-10 노광장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019950004993A KR0163091B1 (ko) 1995-03-10 1995-03-10 노광장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR960035762A KR960035762A (ko) 1996-10-24
KR0163091B1 true KR0163091B1 (ko) 1999-02-01

Family

ID=19409595

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019950004993A KR0163091B1 (ko) 1995-03-10 1995-03-10 노광장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR0163091B1 (ko)

Also Published As

Publication number Publication date
KR960035762A (ko) 1996-10-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5610754A (en) Method and apparatus for photolithography by rotational scanning
JPH08313842A (ja) 照明光学系および該光学系を備えた露光装置
US6215578B1 (en) Electronically switchable off-axis illumination blade for stepper illumination system
TW201248337A (en) Light exposure device and light shield board
JP4144059B2 (ja) 走査型露光装置
JP4195915B2 (ja) Pcプロジェクターを用いた任意パターン転写装置
US5159483A (en) Projecting and exposing device
KR0163091B1 (ko) 노광장치
TWI257531B (en) Catadioptric lithography system and method with reticle stage orthogonal to wafer stage
JPH0685385B2 (ja) 露光方法
JPH11231549A (ja) 走査型露光装置および露光方法
JP3996794B2 (ja) 露光方法及び装置
JPH11338162A (ja) 露光装置
US4361398A (en) Reprographic camera
TW461972B (en) Electronic switch type off-axis illumination blade for stepping illumination system
JPH06216007A (ja) 縮小投影露光装置
JPH01101628A (ja) 縮小投影露光装置
JP2593824B2 (ja) プリント基板製作の露光方法及び装置
SU1506425A1 (ru) Прибор дл получени цветных синтезированных изображений
TW202340878A (zh) 曝光裝置
JP2588860B2 (ja) プリント基板製作の露光方法
JPS6329930A (ja) 縮小投影露光装置
JPH01308022A (ja) 走査型投影露光装置
JP2818391B2 (ja) 露光装置
JP2937942B2 (ja) アクティブマトリックス形液晶表示素子の製造方法およびその装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20010831

Year of fee payment: 4

LAPS Lapse due to unpaid annual fee