KR0143871B1

KR0143871B1 - 유전체 공진기 및 그 제조방법

Info

Publication number: KR0143871B1
Application number: KR1019940035222A
Authority: KR
Inventors: 히또시 다다; 히데유끼 가또; 하루오 마쯔모또; 다쯔야 쯔지구찌
Original assignee: 무라따 야스다까; 가부시끼 가이샤 무라따 세이사꾸쇼
Priority date: 1993-12-21
Filing date: 1994-12-20
Publication date: 1998-08-01
Also published as: EP0660434A1; JPH07176910A; DE69425235D1; DE69425235T2; JP3254866B2; TW306712U; EP0660434B1; US5815056A; KR950021866A

Abstract

유전체 공진기는 유전체 블록(1)의 대향하는 2면(S1, S2) 사이에 관통 구멍(2a 내지 2d)이 형성되고, 유전체 블록의 외주면에 외도체(6)가 형성되며, 관통 구멍의 내면에는 내도체 비형성부(5a 내지 5d)에 의해 분리된 복수의 내도체(3a 내지 3d, 4a 내지 4d)가 형성된다. 공진기 구멍의 내도체의 개방 단부에서 인접하는 관통 구멍에 대향하는 위치 또는 외도체에 근접하는 위치에서 축방향으로 내도체를 부분적으로 삭제하는 삭제부(8b, 9a)가 형성되고, 개방 단부 부근의 기모드 또는 우모드 특성 인피던스가 크게 되며, 유도성 결합이 크게 된다.

Description

유전체 공진기 및 그 제조 방법

제 1 도는 본 발명의 제 1 실시예에 관한 유전체 공진기의 외형 사시도.

제 2 도는 미세 조정전의 제 1 도의 선 Y1-Y1 부분의 종단면도.

제 3 도는 미세 조정전의 제 1 도의 선 X1-X1 부분의 횡단면도.

제 4 도는 제 1 도에 도시한 유전체 공진기의 등가 회로도.

제 5 도는 미세 조정후의 제 1 도의 선 Y2-Y2 부분의 종단면도.

제 6 도는 미세 조정후의 제 1 도의 선 Y1-Y1 부분의 종단면도.

제 7a 도는 미세 조정후의 제 1 도의 선 X1-X1 부분의 횐단면도.

제 7b 도는 미세 조정후의 제 1 도의 선 X2-X2 부분의 부분 횡단면도.

제 8 도는 본 발명의 제 1 실시예의 다른 예에 관한 미세 조정후의 제 1 도의 선 Y1-Y1 부분의 종단면도.

제 9 도는 본 발명의 제 1 실시예의 다른 예에 관한 미세 조정후의 제 1 도의 선 Y2-Y2 부분의 종단면도.

제 10 도는 본 발명의 제 1 실시예의 다른 예에 관한 미세 조정후의 제 1 도의 선 X1-X1 부분의 부분 횡단면도.

제 11 도는 본 발명의 제 2 실시예에 관한 유전체 공진기의 종단면도.

제 12 도는 본 발명의 제 3 실시에에 관한 유전체 공진기의 종단면도.

제 13 도는 본 발명의 제 4 실시예에 관한 유전체 공진기의 종단면도.

제 14 도는 본 발명의 제 5 실시예에 관한 유전체 공진기의 외형 사시도.

제 15 도는 제 14 도의 선 Y-Y 부분의 종단면도.

제 16 도는 본 발명의 제 6 실시예에 관한 유전체의 공진기의 외형 사시도.

제 17 도는 제 16 도의 선 Y1-Y1 부분의 종단면도.

제 18 도는 미세 조정전의 제 16 도의 유전체 공진기의 선 X1-X1 부분의 횡단면도.

제 19 도는 제 16 도의 선 Y2-Y2 부분의 횡단면도.

제 20 도는 미세 조정후의 제 16 도의 유전체 공진기의 선 Y2-Y2 부분의 종단면도.

제 21 도는 미세 조정후의 제 16 도의 유전체 공진기의 선 Y1-Y1 부분의 종단면도.

제 22 도는 미세 조정후의 제 16 도의 유전체 공진기의 선 X1-X1 부분의 횡단면도.

제 23 도는 본 발명의 제 7 실시예에 관한 유전체 공진기의 외형 사시도.

제 24 도는 제 23 도의 선 Y-Y 부분의 종단면도.

제 25 도는 종래의 유전체 공진기의 외형 단면도.

제 26 도는 제 25 도의 선 Y-Y 부분의 종단면도.

*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

1 : 유전체 블록 2a 내지 2d : 관통 구멍(공극)

3a 내지 3d 및 4a 내지 4d : 내도체 5a 내지 5d : 내도체 비형성부

6 : 외도체 7a 7b : 신호 입출력 도체

8a, 8b, 9a-9d, 10a, 10b, 11a, 11b, 12a, 12b, 13a, 13b : 내도체 부분 삭제부

[발명의 분야]

본 발명은 유전체 공진 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로는 본 발명은 유전체 내부에 내도체를 형성하고, 유전체 외주면에 외도체를 형성하는 유전체 공진기 및 그 제조 방법에 관한 것이다.

[종래 기술]

종래부터 직육면체 형상의 유전체 블록에 복수의 공진기를 구성하여 복수단의 공진기로 이루어진 대역통과 필터 등으로 사용되는 유전체 공진기가 사용되고 있다.

본 출원인은 그와 같은 유전체 공진기를 특원평 4-258153호(미국 특허출원 제 08/182, 664호)에 제안했다. 제 25 도 및 제 26 도는 그와 같은 유전체 공진기의 일예를 도시한 도면으로, 특히, 제 25 도는 유전체 공진기의 외형 사시도이고, 제 26 도는 제 25 도의 Y-Y 부분의 종단면도이다.

제 25 도 및 제 26 도에서, 유전체 블록(1)은 각가이 대향하는 제 1 면(S1)과 제 2 면(S2)를 가지고, 유전체 블록(1)에는 이들 제 1 면(S1)과 제 2 면(S2)을 관통하는 4 개의 관통 구먼(2a, 2b, 2c, 2d)이 형성되고, 이들 관통 구멍의 내면에 내도체 비형서부(5a, 5b, 5c, 5d)를 거쳐서 내도체(3a, 4a, 3b, 4b, 3c, 4c, 3d, 4d)가 각각 분리되어 형성된다. 내도체 비형성부(5a 내지 5d)는 링크 형상으로 유전체 블록 재료의 표면이 노출되도록 된 것이다. 제 26 도에 도시한 예에서는 내도체 비형성부(제 5a 내지 제 5d) 부분에 스트레이 용량이 생기지 않고, 내도체(3a 내지 3d)는 각각 제 2 명(S2)을 단락면으로 하고 제 1 면(S1)을 스트레이면으로 하는 공진 도체로서 작용하며 인접하는 공진 도체가 공통 라인 결합된 4 단의 대역통과 필터로서 구성된다.

그러나, 상술한 유전체 공진기에서는 제 26 도에 도시하는 바와 같이 내도체 비형성부의 위치에 의해서 공진 도체로서 작용하는 내도체(3a 내지 3d)의 축 길이(L)를 결정하고, 내도체 비형성부(5a 내지 5d)의 간극(B)에 의해서 공진 도체 선단의 스트레이 용량을 정하도록 하고 있기 때문에 공진 도체의 축 길이를 짧게 하면 공진 도체의 축 길이와 함께 내도체 비형성부(5a 내지 5d)의 폭도 변화하는 것으로 된다. 이 때문에, 공진 주파수와, 인접하는 공진기간의 결합 강도가 동시에 변화하고, 소정 특성이 용이하게 얻어지지 않는다는 문제점이 있었다.

[발명의 개요]

그러므로, 본 발명의 주된 목적은 각단의 공진기의 공진 주파수 설정 또는 조정과 함께 공진기간의 결합 강도를 소정의 크기로 설정 또는 조정할 수 있도록 한 유전체 공진기 및 그 제조 방법을 제공하는 것이다.

본 발명의 다른 목적은 공진기간의 결합 강도는 독립해서 공진기의 공진 주파수를 설정 또는 조정하여 얻도록 한 유전체 공진기 및 그 제조 방법을 제공하는 것이다.

더욱이, 본 발명의 다른 목적은 인접하는 공진기간의 결합 강도를 크게 하는 방향 또는 작게하는 방향중 어느 하나의 방향으로도 공진 주파수를 조정하여 얻도록 한 유전체 공진기 및 그 제조 방법을 제공하는 것이다.

또한, 본 발명의 다른 목적은 인접하는 공진기간의 결합 강도를 비교적 크게 변화시켜 얻도록 한 유전체 공진기 및 그 제조 방법을 제공하는 것이다.

본 발명을 간단히 요약하면, 유전체 블록의 외주면에 외도체가 형성되고, 유전체 블록의 적어도 한쪽 단면을 관통하도록 복수의 공진기 구멍이 형성되고, 각 공진기의 내주면에 내도체가 형성되며, 내도체의 일단이 개방단으로 되고 타단이 외도체에 인접되어 단락단으로 되며, 복수의 내도체중에 어느 하나의 개방단 부근에서 공진기 구멍의 축방향으로 소정 길이로 연장되도록 내도체가 삭제된 삭제부(비도통부분)가 형성된다.

따라서, 본 발명에 따르면 공진 도체로서 작용하는 내도체의 실질적인 공진기 길이가 삭제부가 아닌 경우에 비해서 짧게 되고 공진 주파수가 약간 높게됨과 동시에 인접하는 공진기 구멍에 설치되어 있는 공진 도체로서 작용하는 내도체의 단부(개방단)의 정전 용량이 감소하고, 내도체 단부 부근의 특성 임피던스가 크게되고 유도성 결합을 변화시킬 수 있다.

보다 양호하게는, 인접하는 공진 구멍에 대향하는 위치에 내도체의 삭제부가 형성된다. 따라서, 본 실시예에 의하면, 공진 도체로서 작용하는 내도체의 단부 부근의 기모드 특성 임피던스가 크게 되고 유도성 결합이 크게 된다.

더욱이, 본 발명의 양호한 실시예에서는 외도체에 근접하는 위치에 삭제부가 형성된다. 따라서, 이 양호한 실시예에서는 공진 도체로서 작용하는 내도체 단부 부근의 우모드 특성 임피던스가 크게 되고, 유도성 결함이 작게 된다.

또한, 보다 양호한 실시예에서는 인접하는 공진기 구멍에 대향하는 위치 및 외도체에 근접하는 각각의 위치에 삭제부가 형성된다.

따라서, 본 실시예에서는 공진 도체로서 작용하는 단부 부근의 기모드의 특성 임피던스와 우모드의 특성 임피던스가 각각 정해지고, 양특성 임피던스에 대응하여 인접하는 공진기간의 결합 강도가 정해진다.

더욱이, 본 발명의 보다 양호한 실시예에서는 인접하는 공진기에 대향하는 위치와 외도체에 근접하는 위치와의 중간 위치에 삭제부가 형성된다. 따라서, 본 실시에에서는 기모드와 우모드와의 특성 임피던스가 정해지고, 또한 공진기간의 결합 강도가 정해진다. 따라서, 인접하는 공진기 구멍에 대향하는 위치와 외도체에 근접하는 위치와의 중간 위치에서 내도체 삭제 부분의 형성 위치를 정하는 것에 의해 공진 주파수의 설정( 미세 조정)과 함께 결합 강도의 설정(미세 조정)이 행해진다.

본 발명의 다른 국면은 유전체 공진기의 제조 방법이고, 대향하는 한 쌍의 단면을 갖는 유전체 블록내에서 각각의 내부에 내도체를 갖는 복수의 공진기 구멍이 형성되고, 유전체 블록의 위주면에 외도체가 형성되며, 복수의 내도체중에 어느 하나의 개방단 부근에서 공진기 구멍의 축방향으로 소정의 길이로 연장되도록 내도체가 삭제되고 공진기 주파수가 미세 조정된다.

[양호한 실시예의 설명]

제 1 도 내지 제 3 도는 본 발명이 제 1 실시예에 관한 유전체 공진기를 도시한 도면이고, 특히, 제 1 도는 외형 사시도를 도시하며, 제 2 도는 미세 조정전의 제 1 도의 선 Y1-Y1 부분의 종단면도이고, 제 3 도는 미세 조정전의 제 1 도의 선 X1-X1 부분의 횡단면도이다.

먼저, 제 1 도에서 유전체 블록(1)은 거의 직유면체 형상이고, 이 유전체 블록(1)에는 대향하는 제 1면(S1)과 제 2 면(S2)을 관통하도록 4 개의 관통 구멍(2a, 2b, 2c, 2d)이 형성되고, 유전체 블록(1)의 외주면에는 제 1면(S1), 제 2 명(S2) 및 4개의 측면(S3, S4, S5, S6)의 각면에 각각 외도체(6)가 형성되어 있다.

또한 측면(S3)에서 측면(S4)에 거치도록 신호 입출력 도체(7a)가 각각 외도체(6)에 대해서 절연되어 형성되어 있다.

더욱이, 제 2 도에 도시한 바와 같이, 관통 구멍(2a, 2b, 2c, 2d)의 내면에는 내도체 비형성부(5a, 5b, 5c, 5d)에 의해서 분리된 복수의 내도체(3a, 4a, 3b, 4b, 3c, 4c, 3d, 4d)가 형성되어 있다. 내도체 비형성부(5a 내지 5d)는 링크 형상으로 유전체 블록 재료의 표면이 노출되도록 형성된 것이다. 제 2 도에 도시한 실시예에서는 내도체 비형성부(5a 내지 5d) 부분에서 스트레이 용량이 발생하고, 내도체(3a 내지 3d)는 각각 제 2면(S2)을 단락면으로 하며, 제 1 면(S1)을 스트레이면으로 하는 λ/4 파장의 공진 도체로서 작용한다. 또한, 제 3 도에 도시한 바와 같이, 내도체(3a)와 신호 입출력 도체(7a) 사이 및 내도체(3d)와 신호 입출력 도체(7b) 사이의 정전 용량이 각각 외부 결합 용량(Cea, Ced)으로 이용된다.

제 4 도는 제 1 도 내지 제 3 도에 도시한 구조의 유전체 공진기의 등가 회로도이다. 제 4도에서, 공진기(Ra, Rb, Rc, Rd)는 관통 구멍(2a, 2b, 2c, 2d)에 형성되고, 스트레이 용량(Csa, Csb, Csc, Csd)은 제 2 도에 도시한 내도체 비형성부(5a 내지 5d) 부분에 형성되며, 외부 결합 용량(Cea, Ceb)은 제 3 도에 도시한 바와 가이, 내도체(3a)와 신호 입출력 도체7(a) 사이 및 내도체(3d)와 신호 입출력도체(7b) 사이에 형성된다. 이와 같이해서, 고무라인 결합한 4단의 대역 통과 필터가 구성된다.

다음에, 본 발명의 제 1 실시예의 유전체 공진기의 제조 방법에 대해서 설명한다. 먼저, 제 2 도에 도시한 내도체 비형성부(5a 내지 5d)는 유전체 블록(1)의 제 1 면(S1)에서 각 관통 구멍(2a 내지 2d)에 대해 각각 회전 지석을 삽입하고, 그 회전 지석을 회전시키면서 그 회전 중심을 관통 구멍의 원주 방향으로 회전(이른바 행성운동)시키고, 내도체 및 내도체와 함께 유전체의 일부를 부분 삭제하는 것에 의해 형성된다. 또한, 회전 지석을 행성(planetary) 운동시키면서 관통 구멍의 축방향으로 이동시키는 것에 의해 내도체 비형성부의 폭이 넓게 된다. 이 내도체 비형성부의 폭과 관통 구멍내의 형성 위치는 각단의 공진기의 공진 주파수와 필요로 되는 스트레이 용량에 따라서 미리 결정된다. 거친 조정 단계에서는 이 유전체 공진기를 네트워크 배열로 접속하고 필터 특성을 측정하면서 각단의 내도체 비형성부의 폭을 공진 도체로서 내도체(3a 내지 3d) 방향 또는 외도체로부터 연장하는 내도체(4a 내지 4d) 방향으로 넓어지는 것에 의해 각단의 공진기의 공진 주파수와 공진 기간의 결합 강도의 거친 조정이 행해진다.

다음에 그 이후의 미세 조정 밥법에 대해서 설명한다.

제 5 도는 제 1 도 내지 제 3 도에 도시한 유전체 공진기의 미세 조정후의 제 1 도의 선 Y1-Y2 부분의 종단면도이다. 제 5 도에서, 관통 구멍(2b)의 내면에는 내도체 비형성부(5b)를 거쳐서 내도체 (3b, 4b)가 분리되어 형성되어 있지만, 미세 조정 단계시 필요에 따라서 인접하는 관통 구멍(2a)에 대향하는 위치로 내도체 비형성부(5b)로부터 공진 도체로서의 내도체(3b) 측에 연속하여 관통 구멍(2b)의 축방향으로 내도체가 부분적으로 삭제되고, 내도체 부분 삭제부(8b : 비도통부분)가 형성된다. 이 내도체 부분 삭제부(8b)는 회전 지석을 내도체 비형성부(5b)에서 관통 구멍(2b)의 축방향으로 이동시켜 내도체를 삭제하는 것에 의해 형성된다.

이것에 의해서, 공진 도체로서의 내도체(3b)의 등가적인 축 길이가 짧게됨과 동시에 내도체(3b)의 단부 부근과 내도체(3a)의 단부 부근의 정전용량이 감소하고, 단부 부근의 기모드 특성 인피던스가 크게 되며, 유도성 결합이 크게 된다. 이와 같이, 내도체 부분 삭제부를 갖는 유전체 공진기는 제 5 도에 도시한 내도체 부분 삭제부(A)와 그 다른 부분(B)에서 인피던스의 다른 스텝 결합 구조로 가정할 수가 있다.

제 6 도는 제 5 도에 도시한 경우와 다른 위치에 부분 삭제부를 형성한 경우의 예를 도시한 도면으로, 제 1 도 내지 제 3 도에 도시한 유전체 공진기의 미세 조정후 제 1 도의 선 Y1-Y1 부분의 종단면도이다. 상기 제 5 도에 도시한 실시예에선 인접하는 관통 구멍(2a)에 대향하는 위치에 내도체 부분 삭제부(8b)를 형성하도록 했지만, 본 실시예에서는 제 1 도의 측면(S5)에 형성한 외도체에 근접하는 위치에서 내도체 비형성부(5a)로부터 연속하여 관통 구멍(2a)의 축방향으로 내도체(3a)를 삭제하고, 내도체 부분 삭제부(9a)를 형성한 것이다. 이것에 의해서 공진 도체로서의 내도체(3a)의 등가적인 축 길이가 짧게 됨과 동시에, 내도체(3a)의 단부 부근과 외도체 사이의 정전 용량이 감소하고, 내도체(3a)의 단부 부근의 우모드 특성 인피던스가 크게 되며, 공진기간의 유도성 결합이 작게 된다. 제 6 도에 도시한 예에서는 관통 구멍(2b)내에서도 동일한 내도체(3b)의 단부 부근에 내도체 부분 삭제부(9b)가 형성되어 있다.

제 7a 도 및 제 7b 도는 상술한 미세 조정후 제 1 도의 선 X1-X1 부분 및 선 X2-X2 부분의 부분 횡단면도이다. 제 7a 및 제 7b 도에서, 정전 용량(Cij)은 내도체(3a, 3b) 사이의 단부 부근에 형성되고, 정전 용량(Ci)은 내도체(3a, 3b)의 단부 부근과 외도체(6)와의 사이에 형성되며, 첨자 A 는 내도체 부분 삭제부의 형성부를 표시하고, 첨자 B 는 그 다른 부분의 각 용량을 도시하고 있다. 내도체 부분 삭제부의 형성부 및 다른 부분의 우모드 특성 인피던스(Zea, Zeb)와 기모드 특성 인피던스(Zoa, Zob)는 각각 다음 식으로 도시된다.

여기서, Vc는 광속이다.

또한, 인접하는 공진기간의 결합은 다음 관계로 표시한다.

Ze_A/Ze_B＜ Zo_A/Zo_B의 경우는 유도성 결합.

Ze_A/Ze_B＞ Zo_A/Zo_B의 경우는 용량성 결합.

상기 실시예에서는 내도체 부분 삭제부(8a, 8b 와 9a, 9b)는 어느 것이나 한쪽으로만 형성되어 있는 것으로서 설명했지만, 인접하는 관통 구멍에 대향하는 위치와 외도체에 근접하는 위치의 양쪽에 내도체 부분 삭제부를 형성해도 좋다. 예를 들면, 내도체(3a)에 의한 공진기의 공진 주파수를 높게 하기 위해서는 8a 또는 9a 로 도시한 부분을 삭제하면 좋지만, 내도체(3b)에 의한 공진기와의 유도성 결합을 크게 하기 위해서는 8a로 표시한 부분을 삭제하면 좋고, 역으로 결합 강도를 적게 하기 위해서는 9a로 도시한 부분을 삭제하면 좋다. 또한, 결합 강도를 일정으로한 또는 공진 주파수를 조정하기 위해서는 8a, 9a의 양쪽을 부분 삭제하면 좋다.

제 8 도는 본 발명의 제 1 실시예의 다른 예에 의한 미세 조정후 제 1 도의 선 Y1-Y1 부분의 종단면도이고, 제 9 도는 동일하게 제 1 도의 선 Y2-Y2 부분의 종단면도이다.

상술한 제 5 도 내지 제 7 도에 도시한 예에서는 인접하는 관통 구멍에 대향하는 위치 또는 외도체에 근접하는 위치중 어느 한쪽 또는 양쪽에 내도체 부분 삭제부를 형성하도록 했지만, 제 8 도 및 제 9 도에 도시한 예는 인접하는 관통 구멍에 대향하는 위치와 외도체에 근접하는 위치의 중간 위치에 내도체 부분 삭제부를 형성한 것이다. 제 8 도 및 제 9 도에서 관통 구멍(2a, 2b)내에서 인접하는 관통 구멍에 대향하는 위치와 외도체에 근접하는 위치와의 거의 중심 위치에서 내도체 비형성부(5a, 5b)로부터 연속하고, 관통 구멍의 축방향으로 내도체를 삭제하여 내도체 부분 삭제부(10a, 10b)가 형성된다. 이 경우, 내도체 부분 삭제부(10a, 10b)의 삭제량에 의해서 내도체(3a, 3b)에 의한 공진기의 공진 주파수를 조정할 수 있고, 그 형성 위치에 의해서 공진기간의 결합 강도를 조정할 수 있다. 즉, 내도체 부분 삭제부(10a, 10b)를 인접하는 관통 구멍에 대향하는 위치에 근접하는 것에 의해서 제 7 도에 도시한 정전 용량(Cij)을 감소시킬 수 있고, 기모드 특성 인피던스를 크게 하여 결합 강도를 높게 할 수가 있으며, 역으로, 내도체 부분 삭제부(10a, 10b)를 외도체에 근접하는 방향으로 설치하는 것에 의해서 정전 용량(Ci)을 감소시키고, 우모드 특성 임피던스를 크게 하여 공진기간의 결합 강도를 작게 할 수 있다.

제 11 도는 본 발명의 제 2 실시예에 관한 유전체 공진기의 종단면도이다.

상술한 제 5 도 내지 제 10 도에 도시한 예에서는 내도체 부분 삭제부를 내도체 비형성부로부터 연속하여 설치한 예를 도시했지만, 제 11 도에 도시한 실시예는 내도체 부분 삭제부를 내도체 비형성부로부터 연속해서 형성하지 않고 내도체 비형성부 부근에 독립해서 설치한 것이다. 즉, 제 11 도에 도시한 예는 미세 조정후 제 1 도의 선 Y1-Y1 부분의 종단면도를 도시한 것이고, 이 예에서는 내도체 비형성부(5a, 5b) 부근의 내도체(3a, 3b)의 단부 부근에 내도체 부분 삭제부(11a, 11b)가 형성된다. 이 경우, 내도체(3a, 3b) 단부 부근과 외도체와의 사이의 정전 용량이 감소한다.

제 12 도는 본 발명의 제 3 실시예에 관한 유전체 공진기의 종단면도이다.

상술한 각 실시예에서 내도체 부분 삭제부를 직사각형으로 형성했지만 내도체를 삭제할 때에 사용하는 회전 지석의 형상이나 절삭 방법에 의해 각종 형상으로 할 수 가 있고, 예를 들어 제 12 도에 도시한 바와 같이 끝이 가늘어지는 형상으로 삭제하고, 제 13 도에 도시한 제 4 실시예와 같이 타원형으로 삭제해도 좋다.

제 14 도는 본 발명의 제 5 실시예에 관한 유전체 공진기의 외형 사시도이고, 제 15 도는 제 14 도의 선 Y-Y 부분의 종단면도이다.

상술한 제 1 도에 도시한 실시예에선 내도체 비형성부를 관통 구멍의 쑥들어간 개소에 형성했지만 제 14 도 및 제 15 도는 관통 구멍의 한쪽 개구부에 내도체 비형성부를 형성한 것이다. 이와 같이, 내도체 비형성부(5a 내지 5d)를 관통 구멍(2a 내지 2d)의 한쪽 개구부에 설치하는 것에 의해서 내도체(3a 내지 3d)의 각 단부와 유전체의 제 1 면(S1)에 형성한 외도체(6)와의 사이에 각각 스트레이 용량을 형성할 수 있다. 본 예에선 내도체 비형성부(5a 내지 5d)로부터 연속해서 내도체(3a 내지 3d)의 단부에 내도체 부분 삭제부(9a 내지 9d)가 형성된다.

제 16 도 내지 제 22 도는 본 발명의 제 6 실시예를 도시한 도면이고, 내도체 스텝 구조의 유전체 공진기에 적용한 경우의 예를 도시한 도면으로, 특히, 제 16 도는 외형 사시도이고, 제 17 도는 제 16 도의 선 Y1-Y1 부분의 종단면도이며, 제 18 도는 제 16 도의 선 X1-X1 부분의 횐단면도이고, 제 19 도는 제 16 도의 선 X2-X2 부분의 횡단면도이며, 각각 미세 조정전의 형상을 도시한다. 또한, 제 20도는 제 16도의 선 Y2-Y2 부분의 횡단면도이고, 제 21 도는 제 16 도의 선 Y1-Y1 부분의 종단면도이며, 제 22 도는 제 16 도의 선 X1-X1 부분의 횡단도면이며, 각각 미세 조정후의 상태를 도시한다.

제 16 도 및 제 17 도에 도시한 바와 같이, 관통 구멍(2a, 2b)의 그 내경이 유전체의 제 1 면(스트레이면: S1)과 단락면(S2)측으로서 다르고, 제 18 도에 도시한 바와 같이, 스트레이면 측의 내경이 크고, 제 19 도에 도시한 바와 같은 단락면측의 내경이 작게 형성된다. 이와 같이, 유전체 공진기를 내도체 스텝 구조로 하는 것에 의해 공진기 사이는 용량 결합한다.

또한, 제 20 도에 도시한 바와 같이 인저바흔 관통 구멍에 대향하는 위치에 내도체 비형성부(5b)로부터 연속해서 내도체 부분 삭제부(8b)를 형성하면, 인접하는 내도체의 단부 부근과의 사이의 정전 용량이 감소하고, 기모드 특성 인피던스가 크게 되며, 용량성 결합은 작게되어 공진기간의 결합 강도가 작게 된다.

또한, 제 21 도에 도시한 바와 같이, 외도체에 근접하는 위치에서 내도체 비형성부(5a, 5b)로부터 연속해서 내도체 부분 삭제부(9a, 9b)를 설치하면 내도체(3a, 3b)의 단부 부근과 외도체(6)와의 사이의 정전 용량이 감소하고, 우모드 특성 인피던스가 크게 되어서 용량성 결합이 증가하며, 공진기간의 결합 강도가 강하게 된다.

이 내도체 스텝 구조의 유전체 공진기에서도 동일하게 인접하는 관통 구멍에 대향하는 위치와 외도체에 근접하는 위치 쌍방에 내도체 부분 삭제부를 설치하고, 제 22 도에 도시한 각 정전 용량(Cij, Ci)을 각각 독립하여 조정하고, 공진 주파수의 조정과 함께 공진기간의 결합 강도를 조정해도 좋다.

제 23 도 및 제 24 도는 본 발명의 제 7 실시예에 관한 유전체 공진기를 도시한 도면으로, 제 23 도는 외형 사시도를 도시하며, 제 24 도는 제 23 도의 선 Y-Y 부분의 종단면도이다.

상술한 제 16 도 내지 제 20 도에 도시한 예에선 유전체 블록의 제 1 면(S1)에 외도체를 형성했지만, 제 23 도 및 제 24 도는 제 1 면(S1)을 개방면으로 한 것이다. 이와 같이, 내도체 스텝 구조인 경우에는 유전체 블록(1) 의 제 1 명(S1)을 개방면으로 하고, 관통 구멍(2a, 2b)의 개구부에 내도체 부분 삭제부(9a, 9b)를 설치하는 것에 의해 내도체와의 정전 용량을 조정할 수도 있다.

또한, 상술한 각 실시예에선 내도체의 일단을 단락면으로 한 λ/4 공진기를 구성한 예에 대해서 설명했지만, 예를 들어 공진 도체로서 작용하는 내도체의 양면에 개방 단부를 갖는 λ/2 공진기를 구성하는 경우에도 본 발명을 동일하게 적용할 수가 있다. 또한, 상기 각 실시예에선 유전체 블록의 관통 구멍의 내면에 내도체를 설치한 예를 도시했지만 내도체를 설치하는 공진기 구멍은 반드시 관통하고 있지 않아도 좋다.

Claims

대향하는 한 쌍의 단면을 갖는 유전체 블록(1)과, 상기 유전체 블록의 외주면에 형성되는 외도체(6)와 상기 유전체 블록의 적어도 한쪽 단면을 관통하도록 형성된 복수의 공진기 구멍(2a 내지 2d)과, 상기 각 공진기 구멍의 내주면에 형성되고, 각각의 일단이 개방단으로 되며, 각각의 타단이 상기 외도체에 접속되는 단락단으로 되어 공진기로서 작용하는 복수 내도체(3a, 내지, 3d, 4a 내지 4d)를 포함하는 유전체 공진기에 있어서, 상기 복수의 내도체(3a, 내지 3d, 4a 내지 4d)중에 어느 하나의 개방단 근방에서 상기 공진기 구멍(2a 내지 2d)의 축방향으로 소정 길이로 연장되도록 상기 내도체가 삭제된 삭제부(8b)를 포함하는 것을 특징으로 하는 유전체 공진기.
제 1 항에 있어서, 상기 삭제부는 인접하는 공진기 구멍에 대향하는 위치에 형성되는 것을 특징으로 하는 유전체 공진기.
제 1 항에 있어서, 상기 삭제부는 상기 외도체에 근접하는 위치에 형성되는 것을 특징으로 하는 유전체 공진기.
제 1 항에 있어서, 상기 삭제부는 인접하는 공진기 구멍에 대향하는 위치와 상기 외도체에 근접하는 위치 각각에 형성되는 것을 특징으로 하는 유전체 공진기.
제 1 항에 있어서, 상기 삭제부는 인접하는 공진기 구멍에 대향하는 위치와 상기 외도체에 근접하는 위치의 중간 위치에 형성되는 것을 특징으로 하는 유전체 공진기.
제 2 항 내지 제 4 항중 어느 한 항에 있어서, 상기 공진기 구멍의 개방단 근방에는 상기 외도체와 상기 내도체를 전기적으로 절연하기 위해 내도체가 링크 형상으로 형성되어 있지 않는 비형성부(5b)를 포함하고, 상기 삭제부(8b)는 상기 비형성부(5b)에 연속해서 삭제되는 것을 특징으로 하는 유전체 공진기.
제 2 항 내지 제 4 항중 어느 한 항에 있어서, 상기 공진기 구멍의 개방단 근방에는 상기 외도체와 상기 내도체를 전기적으로 절연하기 위해 내도체가 링크 형상으로 형성되지 않는 비형성부를 포함하고, 상기 삭제부는 상기 비형성부와는 독립해서 삭제되는 것을 특징으로 하는 유전체 공진기.
제 6 항에 있어서, 상기 비형성부는 상기 공진기 구멍의 개방단 단부에 형성되는 것을 특징으로 하는 유전체 공진기.
제 7 항에 있어서, 상기 비형성부는 상기 공진기 구멍의 개방단 단부에 형성되는 것을 특징으로 하는 유전체 공진기.
제 1 항에 있어서, 상기 공진기 구멍은 상기 개방단측과 상기 단락단측의 각 내경이 다르도록 형성되는 것을 특징으로 하는 유전체 공진기.
제 1 항에 있어서 상기 외도체는 유전체 블록의 한 쌍의 단면중에 상기 한쪽의 단면을 제거하는 외주면에 형성되고, 상기 한쪽의 단면이 개방단으로 되는 것을 특징으로 하는 유전체 공진기.
제 1 항에 있어서, 상기 외도체의 일부에 형성되고, 상기 복수의 내도체중에 양단의 내도체와 용량 결합하는 한 쌍의 입출력 전극을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유전체 공진기.
대향하는 한 쌍의 단면을 갖는 유전체 블록(1)내에서 각각의 내부에 내도체(3a 내지 3d)를 갖는 복수의 공진기 구멍(2a 내지 2d)을 형성하는 단계와, 상기 유전체 블록의 외주면에 내도체(6)를 형성하는 단계와, 상기 복수의 내도체중에 어느 하나의 내도체 개방단 근방에 상기 공진기 구멍의 축방향으로 소정의 길이로 연장하도록 상기 내도체를 삭제하여 공진기 주파수를 미세 조정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유전체 공진기의 제조방법.
제 13 항에 있어서, 상기 인접하는 공진기에 대향하는 위치의 내도체가 삭제되고, 공진기의 공진 주파수가 미세 조정됨과 동시에 인접하는 공진기 구멍에 설치된 내도체와 삭제부와의 사이의 정전 용량을 미세 조정하는 것을 특징으로 하는 유전체 공진기의 제조방법.
제 13 항에 있어서, 상기 외도체에 근접하는 위치의 내도체가 삭제되고, 공진기의 공진 주파수가 미세 조정됨과 동시에 근접하는 외도체와 삭제부와의 사이의 정전 용량이 미세 조정되는 것을 특징으로 하는 유전체 공진기의 제조방법.
제 13 항에 있어서, 상기 인접하는 공진기 구멍에 대향하는 위치 및 상기 외도체에 근접하는 위치의 각각의 내도체가 삭제되고, 공진기의 공진 주파수가 미세 조정됨과 동시에 인접하는 공진기 구멍에 설치된 내도체와 삭제부와의 사이의 정전 용량 및 근접하는 외도체와 삭제부와의 사이의 정전 용량이 미세 조정되는 것을 특징으로 하는 유전체 공진기의 제조방법.
제 13 항에 있어서, 상기 근접하는 공진기 구멍에 대향하는 위치와 외도체에 근접하는 위치와의 사이의 중간 위치에 내도체가 삭제되고, 공진기의 공진 주파수가 미세 조정됨과 동시에 인접하는 공진기 구멍에 설치된 내도체와 삭제부와의 사이의 정전 용량 및 근접하는 외도체와 삭제부와의 사이의 정전 용량이 미세 조정되는 것을 특징으로 하는 유전체 공진기의 제조방법.