KR0142920B1 - 고순도 옥시염화지르코늄 결정의 제조방법 - Google Patents

고순도 옥시염화지르코늄 결정의 제조방법

Info

Publication number
KR0142920B1
KR0142920B1 KR1019950016619A KR19950016619A KR0142920B1 KR 0142920 B1 KR0142920 B1 KR 0142920B1 KR 1019950016619 A KR1019950016619 A KR 1019950016619A KR 19950016619 A KR19950016619 A KR 19950016619A KR 0142920 B1 KR0142920 B1 KR 0142920B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
zirconium
solution
hydrochloric acid
zirconium oxychloride
crystals
Prior art date
Application number
KR1019950016619A
Other languages
English (en)
Other versions
KR970001226A (ko
Inventor
박도순
정하균
김창해
석상일
Original Assignee
강박광
재단법인한국화학연구소
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 강박광, 재단법인한국화학연구소 filed Critical 강박광
Priority to KR1019950016619A priority Critical patent/KR0142920B1/ko
Priority to AU44413/96A priority patent/AU685018B2/en
Priority to JP8037811A priority patent/JP2823070B2/ja
Priority to CN96103606A priority patent/CN1045192C/zh
Publication of KR970001226A publication Critical patent/KR970001226A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR0142920B1 publication Critical patent/KR0142920B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G25/00—Compounds of zirconium
    • C01G25/04—Halides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/80—Compositional purity

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)

Abstract

본 발명은 고순도 옥시염화지르코늄의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 지르콘 분말과 탄산칼슘을 고온 분해반응시켜 생성된 지르콘산칼슘(CaZrO3)을 진한 염산에 녹이고 황산을 첨가한뒤 알칼리용액을 첨가하여 염기성 황산지르코늄(Basic Zirconium Sulfate)를 침전시킨 후, 이 침전물에 암모니아를 사용하여 수산화지르코늄으로 전환하고, 이를 염산에 녹여 제조된 옥시염화지르코늄 수용액을 증발농축시킨 다음 진한 염산을 첨가하고 상온으로 냉각시켜 단 한번의 결정화 과정에 의해 고순도의 옥시 염화지르코늄(ZrOCl2·8H2O) 결정을 제조하는 방법에 관한것이다.
옥시염화지르코늄(Zirconium oxychloride)은 매염제, 코팅제 등의 원료로 광범위하게 사용되고 있으며, 특히 고순도 옥시염화지르코늄의 경우 지르코니아 세라믹스의 필수 원료물질로 사용되고 있다.

Description

고순도 옥시염화지르코늄 결정의 제조방법
본 발명은 고순도 옥시염화지르코늄의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 지르콘 분말과 탄산칼슘을 고온 분해반응시켜 생성된 지르콘산칼슘(CaZrO3)을 진한 염산에 녹이고 황산을 첨가한뒤 알칼리용액을 첨가하여 염기성 황산지르코늄(Basic Zirconium Sulfate)를 침전시킨 후, 이 침전물에 암모니아를 사용하여 수산화지르코늄으로 전환하고, 이를 염산에 녹여 제조된 옥시염화지르코늄 수용액을 증발농축시킨 다음 진한 염산을 첨가하고 상온으로 냉각시켜 단 한번의 결정화 과정에 의해 고순도의 옥시 염화지르코늄(ZrOCl2·8H2O) 결정을 제조하는 방법에 관한것이다.
옥시염화지르코늄(Zirconium oxychloride)은 매염제, 코팅제 등의 원료로 광범위하게 사용되고 있으며, 특히 고순도 옥시염화지르코늄의 경우 지르코니아 세라믹스의 필수 원료물질로 사용되고 있다.
지르콘을 원료물질로 하여 옥시염화지르코늄을 제조하는 공업적인 방법은 지르콘에 수산화나트륨 또는 탄산나트륨 등의 나트륨 함유 알칼리 분해제를 이용하여 고온에서 분해시키고 분해물중의 부산물 즉, 규산소다와 산화나트륨 성분은 물로 수세하고 제거하여 지르콘산나트륨(Na2ZrO3)을 얻는다. 그리고 지르콘산나트륨을 과량의 염산에 용해시키고 산에 용해되지 않는 성분 즉, 실리카(SiO2)성분과 미분해 광석(지르콘)등을 여과 제거하여 옥시염화지르코늄과 염화나트륨의 혼합용액을 만든 다음, 이 혼합용액을 증발 농축하고 냉각시켜 석출되는 옥시염화지르코늄 결정을 여과하여 회수하는 1차 결정화 과정을 거친다. 그러나 이러한 1차 결정화 과정에 의해 얻어지는 옥시염화지르코늄 결정 중에는 실리카나 염화나트륨 등의 분순물이 많이 혼입되어 있으므로 1차 결정화 과정을 거친 결정은 물에 녹이고 염산을 재투입한 다음 다시 가열 농축하고 냉각하여 결정을 석출시키는 재결정화 과정 즉, 2차 결정화 과정을 거치게 된다.
그러나, 상기와 같은 종래 방법에 의해 제조되는 옥시염화지르코늄 결정 중에는 불순물로서 염화나트륨이 다량 함유되어 있으므로 이를 줄이고자 다단계의 결정화 과정을 거치게 되어 높은 수율로 옥시염화지르코늄 결정을 제조하기는 매우 어렵다. 즉, 상기의 종래 방법에 의한 경우 지르콘산나트륨을 염산에 녹인 용액중에 옥시염화지르코늄 이외에도 염산에 대하여 용해도가 적은 염화나트륨이 혼재(混在)하므로 높은 염산 농도하에서 냉각시켜 옥시염화지르코늄을 석출시키는 결정화 과정에 의해 고순도의 옥시염화지르코늄 결정을 얻을 수 없다. 그래서 결정중의 염화나트륨의 함유율을 감소시키기 위하여 1차로 석출된 결정을 물에 용해하고 염산을 재투입한 다음, 2차 결정화 과정으로서 증발 농축시키고 냉각하는 재결정화 과정을 거쳐 옥시염화지르코늄 결정을 제조한다. 따라서 다단계의 결정화 과정에 의해 제조 수율은 70%이하로 낮으며 결정 중에는 여전히 불순물로서 염화나트륨이 0.7∼2%정도 함유되어 있는 것으로 알려져 있고, 공정상 염산의 사용량 및 에너지의 소비가 많다는 결점을 가지고 있다.
그래서 일본공개특허 소 61-215,217호에서는 옥시염화지르코늄 결정에 다량의 불순물 함유 문제를 해결하기 위해, 지르콘을 수산화나트륨으로 고온 분해반응시킨 다음 탈 실리카 처리하여 제조된 지르콘산나트룸을 염산에 녹여 염화나트륨과 옥시염화지르코늄의 혼합용액을 만들고 이용액에 피리딘 또는 암모니아수를 투입하여 지르코늄성분만을 침전시킨 다음, 이것을 과량의 염산으로 가열 용해한 후에 냉각시키므로써 재결정화 조작없이 옥시염화지르코늄 결정을 얻었다. 그러나 이 방법 역시 결정화 공정이 복잡하고 불순물의 함량이 높으며 염산의 사용량이 많이 비경제적이며 결정의 제조 수율도 낮았다.
이외에도 일본공개특허 소 63-21,222호에서는 지르콘을 수산화나트륨과 혼합하여 고온 분해반응시킨 다음 탈 실리카 처리하여 지르콘산나트룸을 제조하고, 제조된 지르콘산나트륨에 존재하는 나트륨성분의 당량비에 해당하는 염산을 사용하여 지르콘산나트륨 중의 나트륨 성분은 염화나트륨으로 용해되게 하여 제거하고, 지르코늄 성분은 수산화지르코늄으로 전환시킨다음, 이를 진한 염산에 녹여 제조된 옥시염화지르코늄 용액을 냉각시켜 옥시염화지르코늄 결정을 얻었다. 그러나 이러한 방법에 의해 제조된 결정 중에는 염화나트륨을 비롯한 불순물이 다량 함유되어 있고, 제조 수율도 낮았다.
이에 본 발명에서는 상기와 같은 종래 방법상의 문제를 해결하기 위하여 지르콘을 지르콘산나트륨으로 전환시키는 대신에 지르콘산칼슘으로 전환시키므로써 결정화 단계에서 염화나트륨에 비교하여 상대적으로 진한염산에 대한 용해도가 큰 염화칼슘이 혼재되어 있어 옥시염화지르코늄 결정중에 불순물의 혼입(混入)을 방지할 수 있으며, 공정상 중간물질로 염기성 황산지르코늄 침전과 이를 수산화지르코늄으로 전환시키는 단계를 경유 하므로써 높은 제조수율과 불순물의 함량을 줄일 수 있고, 또한 단 일회(一回)의 결정화 과정만으로도 고순도의 침상형 옥시염화지르코늄 결정을 높은 수율로 얻으므로써 본 발명을 완성하였다.
따라서, 본 발명은 지르콘을 원료물질로 사용하여 지르콘산칼슘, 염기성 황산지르코늄 침전물 그리고 수산화지르코늄을 제조하는 중간물질 제조공정을 거쳐 단 한번의 결정화 과정에 의해 고순도의 옥시염화지르코늄 결정을 제조하는 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
이하 본 발명을 상세히 설명하면 다음과 같다.
본 발명은 지르콘(ZrSiO4)을 원료물질로 하여 옥시염화지르코늄 결정을 제조하는 방법에 있어서, (a) 지르콘 분말에 탄산칼슘을 첨가하여 고온 분해반응시켜 생성된 지르콘산칼슘(CaZrO3)은 염산으로 침출시켜 얻고, (b)지르콘산칼슘에 황산을 첨가하여 생성된 염기성 황산지르코늄 침전물을 여과하여 얻고, (c)염기성 황산지르코늄을 물에 분산시키고 여기에 암모니아를 첨가하여 제조된 수산화지르코늄 침전물을 여과하여 얻고, (d)수산화지르코늄을 염산에 녹여 제조된 옥시염화지르코늄 수용액을 증발 농축시킨 다음 진한 염산을 첨가하고 상온으로 냉각시켜 석출된 결정을 여과 회수하는 것을 그 특징으로 한다.
이와 같은 본 발명을 더욱 상세히 설명하면 다음과 같다.
본 발명은 지르콘을 원료물질로 하여 지르콘산칼슘, 염기성 황산지르코늄 및 수산화지르코늄의 중간물질을 경유하여 단 한번의 결정화 과정에 의해 고순도의 옥시염화지르코늄 결정을 제조하는 방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 고순도의 옥시염화지르코늄 결정을 제조하는 방법을 구체적으로 설명하면 다음과 같다. 먼저, 지르코니아(ZrO2)성분과 실리카(SiO2)성분으로 구성되어 있는 지르콘(ZrSiO4)에 탄산 칼슘을 2몰비 이상, 바람직하기로는 2∼3몰비로 첨가해서 약 1,250℃이상의 온도, 바람직하기로는 1350∼1450℃온도에서 반응시키면 지르콘이 분해되어 지르콘산칼슘(CaZrO3)과 규산칼슘과 같은 지르콘 분해물로 전환된다. 이때, 탄산칼슘의 사용량이 지르콘 1몰에 대하여 2몰비 미만이면 지르콘산칼슘이 생성되지 않으므로 바람직하지 못하다. 이와 같이 분해된 지르콘 분해물을 묽은 염산으로 침출시키면 규산 칼슘 성분은 염산에 용해되어 여과하여 제거되고, 지르콘산칼슘만을 얻게 된다. 이를 건조하여 분말로 얻은 지르콘산칼슘은 진한 염산에 용해시킨 후 황산을 침전제로 첨가하고 용액의 온도를 90℃이상으로 높이면서 암모니아,수산화나트륨,수산화칼륨 또는 유기 아민 등의 알칼리 용액중에서 선택된 하나 이상의 것을 첨가하여 용액의 pH를 1.4∼2.0사이로 조절하면 용액속의 모든 지르코늄 성분이 염기성 황산지르코늄으로 침전화한다. 이때 침전제로 사용된 황산은 지르코늄 5몰에 대하여 2몰비로 사용하며, 그 사용량이 2몰 미만이면 염기성 황산지르코늄의 생성율이 저하되고, 2몰을 초과하면 황산의 과다 사용으로 용액의 pH를 낮추게 되어 역시 염기성 황산지르코늄의 생성율이 저하되므로 바람직하지 못하다. 그리고 알칼리 용액이 첨가된 용액의 pH가 1.4미만이면 용액중의 지르코늄 성분이 모두 침전화 되지 못하고 일부가 용액 중에 이온으로 남게 되며, pH가 2.0을 초과하면 모든 지르코늄 성분이 침전으로 되지만 실리카,티탄,철분 등의 성분들이 공침하여 침전에 혼입되므로 바람직하지 못하다. 염기성 황산지르코늄 침전물은 여과한 다음, 물에 풀어 분산용액으로 만들고 암모니아수 또는 암모니아 가스를 투입하여 용액의 pH를 8-10사이로 조절해 주면 염기성 황산지르코늄 침전의 황산기가 수산기로의 치환반응이 일어나 수산화지르코늄[ZrO(OH)2·xH2O]의 침전물로 전환된다. 이때 침전용액의 pH가 8미만이면 염기성 황산지르코늄이 수산화지르코늄으로 모두 전환되지 못하여 황산기가 침전물에 남기때문에 수산화지르코늄의 용해성이 나빠지고, pH가 10을 초과하면 사용되는 암모니아의 소비량만 과다해지므로 바람직하지 못하다.
수산화지르코늄 침전물을 여과한 후, 지르코늄에 대하여 당량비 만큼의 진한 염산에 용해시키면 칼슘 성분이 완전히 제거된 옥시염화지르코늄 수용액이 된다. 이 수용액을 90℃의 온도에서 증발·농축시키는 바, 이때 용액중에 지르코늄 이온의 농도가 85-150g/ℓ 그리고 염산의 농도가 150-300g/ℓ 의 범위내에 들도록 용액의 농축 정도와 염산의 투입량을 조절한 후 상온으로 방냉시키면 결정화가 일어나 결정이 석출되고, 이를 원심 분리기로 여과하여 고순도 옥시염화지르코늄 결정을 회수한다. 그런데, 이때 옥시염화지르코늄 수용액의 농축 및 염산의 투입 단계에서 지르코늄 이온과 염산의 농도가 상기에서 지정된 범위보다 묽게 되면 결정의 수율이 매우 낮아지게되고, 지정된 범위보다 더 진하게 되면 수율은 높아지지만 농축시 많은 용액의 증발과정을 수반해야 하므로 에너지 소비가 많아지며 염산의 투입과 동시에 높은 온도에서도 바로 결정화가 일어나 불순물이 다량 혼입되어 바람직하지 못하다.
상술한 바와 같이 본 발명에 따른 고순도 옥시염화지르코늄의 제조방법은 지르콘의 분해시 종래 방법에서와서는 다르게 분해제로서 수산화나트륨이나 탄산나트륨을 사용하는 대신에 탄산칼슘을 사용하여 지르콘의 완전분해가 일어나도록 하므로써 옥시염화지르코늄 결정에 불순물로 혼입되기 쉬운 나트륨 성분(염화나트륨)의 함유를 근원적으로 배제시킬 수 있고, 또한 공정상 중간물질로 염기성 황산지르코늄 침전과 이를 수산화지르코늄으로 전환시키는 단계를 경유하므로써 칼슘을 비롯한 대부분의 불순물을 분리 제거할 수 있으며, 단 일회의 결정화 과정만으로도 고순도의 목적물이 얻어지므로 제조 수율이 높다는 잇점이 있다.
이와 같은 본 발명을 실시예에 의거하여 더욱 상세히 설명하면 다음과 같은 바, 본 발명이 실시예에 의하여 한정되는 것은 아니다.
[실시예 1]
지르콘(ZrSiO4)분말과 탄산칼슘을 1:3몰비로 혼합하고 직경 약 1cm크기의 구형 입자로 성형한 뒤, 1,350℃로 유지된 로타리 킬른(Rotary Kiln)에서 30분간 분해반응시킨다. 이를 분쇄하고 3.5%농도의 염산용액으로 침출시켜 규산칼슘을 용액상으로 제거하여 지르콘산칼슘 분말을 얻었다. 지르콘산칼슘(200g)을 25%염산용액(600㎖)에 용해시키고 증류수로 묽혀 여과하므로써 산에 용해되지 않는 잔유물을 제거한다. 이 용액에 95%황산(46g)을 첨가하여 용액의 온도를 90℃에서 1시간유지시키고 암모니아수로 용액의 pH를 1.4로 조절하면 용액 내의 모든 지르코늄 성분이 염기성 황산지르코늄으로 침전하게 되고, 이 침전물을 여과시킨 후에 증류수(1ℓ)와 혼합하여 여과된 침전물을 분산시킨다. 이분산된 침전용액에 25%암모니아수로 용액의 pH를 8.5로 조절하여주면 염기성 황산지르코늄 침전이 수산화지르코늄 침전으로 전환된다. 이를 여과 및 수세하고 25%염산 용액(300㎖)에 용해하여 옥시염화지르코늄 수용액을 제조하고, 이 용액을 가열 농축시켜 부피가 450㎖로 되게 한 뒤 35%염산(500㎖)을 투입하면 용액중의 지르코늄 이온 농도가 115g/ℓ 그리고 염산의 농도가 225g/ℓ으로 된다. 이 용액을 실온까지 방냉하면 결정이 석출되고 이를 원심분리기로 여과하여 옥시염화지르코늄 결정(320g, 수율89%)을 회수 하였다.
[실시예 2]
상기 실시예1과 동일한 방법으로 하여 지르콘산칼슘(200g)의 산용액을 얻은 다음, 염기성 황산지르코늄의 침전단계에서 5M 수산화칼륨 용액을 사용하여 용액의 pH를 2.0으로 조절한 것 이외에는 그 이후의 과정을 상기 실시예1과 동일하게 실시하여 옥시염화지르코늄 결정(315g)을 회수하였다.
[실시예 3]
상기 실시예1과 동일한 방법으로 하여 지르콘산칼슘(200g)의 산용액을 얻은 다음, 염기성 황산지르코늄의 침전단계에서 5M 수산화칼륨 용액을 사용하여 용액의 pH를 1.5로 조절하였고, 그리고 옥시염화지르코늄 결정의 석출 단계에서 결정화 용액중의 지르코늄 이온의 농도가 95g/ℓ, 염산의 농도가 225g/ℓ가 되도록 하였다. 그 이후의 과정은 상기 실시예1과 동일하게 실시하여 옥시염화지르코늄 결정(290g)을 회수하였다.
[실시예 4]
상기 실시예1과 동일한 방법으로 하여 지르콘산칼슘(200g)의 산용액을 얻은 다음, 염기성 황산지르코늄의 침전단계에서 5M 수산화칼륨 용액을 사용하여 용액의 pH를 2.0로 조절하였고, 그리고 옥시염화지르코늄 결정의 석출 단계에서 결정화 용액중의 지르코늄 이온의 농도가 135 g/ℓ, 염산의 농도가 195 g/ℓ가 되도록 하였다. 그 이후의 과정은 상기 실시예1과 동일하게 실시하여 옥시염화지르코늄 결정(300g)을 회수하였다.
[비교예1.(일본공개특허 소61-215,217호 비교예 1의 제조방법에 의함)]
지르콘과 수산화나트륨을 1:4몰비로 혼합하여 분해반응시킨 후, 증류수로 침출시켜 규산소다(Na2SiO3)를 물로 용해하여 용액상으로 제거하고 남게되는 지르콘산나트륨 분말(100g)을 35%의 염산(200㎖)에 용해시키고 산에 용해되지 않는 성분을 여과하여 제거한 후, 옥시염화지르코늄과 염화나트륨의 혼합용액을 얻었다. 이 용액을 증발 농축하고 실온으로 냉각시켜 옥시염화지르코늄 결정을 석출하였다.
이 결정을 여과하여 분리하고 물(200㎖)에 용해시킨 후에 실온에서 용액중에 침전물이 형성될 때까지 35%염산을 투입하였다. 그리고 이 용액을 가열하여 용액중의 침전물이 완전히 용해되도록 하고 실온으로 방냉하여 결정이 재석출되도록 하였다. 석출된 결정을 원심분리기로 여과하여 옥시염화지르코늄 결정(116.7g. 수율67%)을 회수하였다.
[비교예2.(일본공개특허 소61-215,217호 비교예 2의 제조방법에 의함)]
바델라이트(ZrO2,96%)로부터 제조된 지르콘산나트륨(100g)을 35%염산(200㎖)에 용해시키고 산에 용해되지 않은 성분을 여과하여 제거한 후에, 옥시염화지르코늄과 염화나트륨의 혼합용액을 제조하였다. 이 용액을 상기 비교예 1과 동일한 방법으로 처리하여 옥시염화지르코늄 결정(111.5g, 수율64%)을 회수하였다.
[실험예]
상기 실시예 1∼4 및 비교예 1∼2에서 얻은 옥시염화지르코늄 결정중의 불순물의 함유율을 측정하기 위해 ICP로 분석하였다. 그 결과는 다음 표1에 나타낸바와 같다.
상기 표1에서 알 수 있는 바와 같이 본 발명의 방법에 따른 실시예의 경우 비교적 간단한 방법으로도 종래방법에 의한 비교예에 비하여 불순물 함유율이 5배∼10배이상 (Na의 경우 약 1000배 이상)적게 함유된 고순도의 목적물이 얻어졌음을 알 수 있다.

Claims (6)

  1. 지르콘(ZrSiO4)을 원료물질로 하여 옥시염화지르코늄(ZrOCl2·8H2O) 결정을 제조하는 방법에 있어서, (a) 지르콘 분말에 탄산칼슘을 첨가하여 고온 분해반응시켜 생성된 지르콘산칼슘(CaZrO3)은 염산으로 침출시켜 얻고, (b)지르콘산칼슘에 황산을 첨가한 다음, 알칼리용액을 첨가하여 생성된 염기성 황산지르코늄 침전물을 여과하여 얻고, (c)염기성 황산지르코늄을 물에 분산시키고 암모니아를 첨가하여 제조된 수산화지르코늄 침전물을 여과하여 얻고, (d)수산화지르코늄을 염산에 녹여 제조된 옥시염화지르코늄 수용액은 증발 농축시킨 다음 진한 염산을 첨가하고 상온으로 냉각시켜 석출된 결정을 여과 회수하는 것을 그 특징으로 하는 옥시염화지르코늄(ZrOCl2·8H2O) 결정의 제조방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기(a)과정에서 탄산칼슘은 지르콘 1몰에 대하여 2∼3몰비로 사용하는 것을 특징으로 하는 옥시염화지르코늄 결정의 제조방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기(b)과정에서 황산은 용액중의 지르코늄 이온 5몰에 대하여 2몰비로 사용하는 것을 특징으로 하는 옥시염화지르코늄 결정의 제조방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 (b)과정에서 알칼리용액은 암모니아, 수산화나트륨 및 수산화칼륨 중에서 선택된 1종 이상의 것을 용액의 pH가 1.4∼2.0범위로 되도록 첨가하는 것을 특징으로 하는 옥시염화지르코늄 결정의 제조방법
  5. 제1항에 있어서, 상기 (c)과정에서 암모니아는 용액의 pH가 8∼10의범위로 되도록 첨가하는 것을 특징으로 하는 옥시염화지르코늄 결정의 제조방법.
  6. 제1항에 있어서, 상기 (d)과정에서 진한 염산을 첨가한 용액은 지르코늄 이온의 농도가 85∼150 g/ℓ 이고 염산의 농도가 150∼300 g/ℓ 의 범위로 되도록 조절하는 것을 특징으로 하는 옥시염화지르코늄 결정의 제조방법.
KR1019950016619A 1995-06-21 1995-06-21 고순도 옥시염화지르코늄 결정의 제조방법 KR0142920B1 (ko)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019950016619A KR0142920B1 (ko) 1995-06-21 1995-06-21 고순도 옥시염화지르코늄 결정의 제조방법
AU44413/96A AU685018B2 (en) 1995-06-21 1996-02-08 Process for preparing high-purity zirconium oxychloride crystals
JP8037811A JP2823070B2 (ja) 1995-06-21 1996-02-26 高純度オキシ塩化ジルコニウム結晶の製造方法
CN96103606A CN1045192C (zh) 1995-06-21 1996-03-15 制备高纯度二氯氧化锆晶体的方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019950016619A KR0142920B1 (ko) 1995-06-21 1995-06-21 고순도 옥시염화지르코늄 결정의 제조방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR970001226A KR970001226A (ko) 1997-01-21
KR0142920B1 true KR0142920B1 (ko) 1998-07-15

Family

ID=19417708

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019950016619A KR0142920B1 (ko) 1995-06-21 1995-06-21 고순도 옥시염화지르코늄 결정의 제조방법

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2823070B2 (ko)
KR (1) KR0142920B1 (ko)
CN (1) CN1045192C (ko)
AU (1) AU685018B2 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100424353B1 (ko) * 2000-10-06 2004-03-24 한국과학기술연구원 석회용융분해법을 사용한 지르코늄옥시크로라이드의 제조방법

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100473399B1 (ko) * 2002-02-01 2005-03-08 주식회사 엠스 세라믹 분말의 제조방법
CN100343174C (zh) * 2005-05-25 2007-10-17 宜兴新兴锆业有限公司 高纯超细氧化锆的生产工艺
JP5611382B2 (ja) * 2013-01-25 2014-10-22 Ｄｏｗａハイテック株式会社 安定化ジルコニア粉末およびその前駆体の製造方法
CN103265072B (zh) * 2013-05-29 2016-06-22 河南佰利联化学股份有限公司 一种氯氧化锆结晶方法
CN103950977B (zh) * 2014-05-15 2015-10-21 李树昌 从含锆固溶体物质中提取氧化锆的方法
CN104524797B (zh) * 2014-12-26 2016-01-27 淄博广通化工有限责任公司 二氯氧化锆生产过程中的节能浓缩蒸发方法
CN105502490B (zh) * 2015-04-21 2017-03-29 江西晶安高科技股份有限公司 一种粗粒度、大比表面积的类球形氢氧化锆及其制备方法
CN107365149A (zh) * 2017-09-07 2017-11-21 张家港市六福新材料科技有限公司 一种氧化锆‑氧化镁陶瓷材料的制备方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3143921C2 (de) * 1981-11-05 1984-06-28 Dynamit Nobel Ag, 5210 Troisdorf Verfahren zur Herstellung von basischem Zirkoniumkarbonat
FR2629070B1 (fr) * 1988-03-22 1991-04-19 Produits Refractaires Nouveau derive reactif du zirconium et sa preparation
JPH0492819A (ja) * 1990-08-06 1992-03-25 Tosoh Corp 高純度オキシ塩化ジルコニウムの製造法
JPH04342419A (ja) * 1990-10-26 1992-11-27 Westinghouse Electric Corp <We> Ｉｖｂ族金属塩化物類の加水分解方法
JP3427211B2 (ja) * 1992-10-16 2003-07-14 東ソー株式会社 ジルコニウム塩化物水溶液の製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100424353B1 (ko) * 2000-10-06 2004-03-24 한국과학기술연구원 석회용융분해법을 사용한 지르코늄옥시크로라이드의 제조방법

Also Published As

Publication number Publication date
JP2823070B2 (ja) 1998-11-11
JPH092819A (ja) 1997-01-07
AU4441396A (en) 1997-01-09
CN1139074A (zh) 1997-01-01
AU685018B2 (en) 1998-01-08
CN1045192C (zh) 1999-09-22
KR970001226A (ko) 1997-01-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4923682A (en) Preparation of pure titanium dioxide with anatase crystal structure from titanium oxychloride solution
JPS63291813A (ja) １２面体の結晶形を有する酸化スカンジウムの製造方法
US3862293A (en) Process for the continuous acid treatment of crude clays and schists
KR0142920B1 (ko) 고순도 옥시염화지르코늄 결정의 제조방법
US5002749A (en) Process for the manufacture of zirconium oxide hydrate from granular crystallized zirconium oxide
US1658807A (en) Process of making zirconium compounds
AU585617B2 (en) Purification of zirconium compounds
US2839359A (en) Process for treating chromiumbearing ores
US3202524A (en) Manufacture of titanium dioxide
US4746497A (en) Process for the production of high purity zirconia
NO750859L (ko)
EP0272294B1 (en) Preparation of hydrolysed zirconium salt precursors and high purity zirconia
US2294431A (en) Purification of zirconium compounds
EP0270637B1 (en) Manufacture of high purity zirconia from low-silica zirconiferous materials
KR0142921B1 (ko) 고순도 침상형 옥시염화지르코늄 결정의 제조방법
AU586467B2 (en) Process for the production of high purity zirconia
US2109755A (en) Method of making lead compounds
US1166547A (en) Method of obtaining titanic oxid and the resulting product.
KR100424353B1 (ko) 석회용융분해법을 사용한 지르코늄옥시크로라이드의 제조방법
US2384428A (en) Production of zirconia
US2532102A (en) Production of ammonium beryllium fluoride
US1648569A (en) Process for the manufacture of pure zirconium sulphate
GB1569033A (en) Production of metallurgically pure alumina
US2521392A (en) Method for the preparation of titanium dioxide
JPH03265519A (ja) オキシ塩化ジルコニウムの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20050331

Year of fee payment: 8

LAPS Lapse due to unpaid annual fee