JPH0492819A - 高純度オキシ塩化ジルコニウムの製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、高純度オキシ塩化ジルコニウムの製造法に関
するものである。

（従来の技術） オキシ塩化ジルコニウムは、アルカリ中和法、または加
水分解法などによりジルコニアを製造する原料として使
用され、る。ジルコニアはセリラム、イツトリウム、マ
グネシウム等の安定他剤添加により、高温相から低温相
への相転移を防止できることが知られており、その焼結
体は高強度高靭性をしめずことから構造材料として広く
使用されている。しかしその機械的強度がばらつくこと
が実用上の問題となっている。このばらつきの原因とし
ては粒子径等の粉体特性の問題もあるが、不純物の存在
による相転移の発生、異常粒子成長等原料の純度に問題
がある場合も多く、ジルコニアの出発原料であるオキシ
塩化ジルコニウムは高純度であることが要求される。

従来採用されているオキシ塩化ジルコニウムの製造法は
、粗ジルコニウム化合物を塩酸に溶解し、晶析させてオ
キシ塩化ジルコニウムを得るものである。また、特開昭
６１−２１５２１７号公報には、オキシ塩化ジルコニウ
ムの水溶液をアルカリ性水溶液で処理して水酸化ジルコ
ニウムをえ、それを分離し、塩酸に溶解させ、オキシ塩
化ジルコニウムを析出させることによる、オキシ塩化ジ
ルコニウムの精製法が開示されている。

（発明が解決しようとする課題） この精製法によれば、出発物のオキシ塩化ジルコニウム
に存在する不純物がかなりよく除去されるが、さらに純
度の高いオキシ塩化ジルコニウムをえるために、再結晶
処理を加えたりすると、収率を大幅に下げることとなる
。

本発明は、このような収率の低下を極力抑えて、高純度
のオキシ塩化ジルコニウムを製造することができる方法
の提供を目的とするものである。

（課題を解決するための手段） 本発明は、（１）ジルコニウム塩水溶液から高純度オキ
シ塩化ジルコニウムを製造する方法において、ジルコニ
ウム塩水溶液から塩基性硫酸ジルコニウムを生成させ、
これを洗浄し、分離した後、アルカリ性物質と反応させ
、えられた水酸化ジルコニウムを洗浄し、分離した後、
塩酸に溶解し、晶析し、析出物を分離することによる高
純度オキシ塩化ジルコニウムの製造法、を要旨とし、こ
れにより本発明の目的が達成される。また、（２）この
方法において、上記のジルコニウム塩水溶液から塩基性
硫酸ジルコニウムを生成させるにあたり、ジルコニウム
塩水溶液の組成を７０℃未満で Ｚｒ濃度　　　　　　　０．５モル／ｌ以上遊離ＨＣｌ
／Ｚｒモル比　　０．２〜２．２ＳＯａ／Ｚｒモル比　
　　０．４〜０．６に調整し、６時間以内に７０℃に加
温し、７０〜８０℃で沈澱析出が開始してから５〜１０
分後に該水溶液へ水の供給を開始し、該水溶液のＺｒ含
有量が０．４モル／ｌ以下となるまで水を供給し、ただ
し該水溶液のＺｒ含有量が０．４モル／ｌとなるまでは
該水溶液を７０〜８５℃に維持しつつ該水を５〜１０分
かけて供給して塩基性硫酸ジルコニウムを生成させれば
、いっそう効果的に本発明の目的を達成することができ
る。

本発明書においてジルコニウム化合物中のハフニウムは
、不純物として扱わず、ジルコニウムとハフニウムとの
合計量をもってジルコニウムの量とする。（ハフニウム
は、ジルコニウム鉱石中にＺｒＯ□あたりＨｆＯ２とし
て約２νｔ％含まれている。ジルコニウムとハフニウム
は元素の周期表でともに４Ｂ族に属し、分離が難しくか
つ性質が似ているので、通常は分離せずに用いられ、ｚ
ｒＯ２とＨｆＯ７との合計量をジルコニア純分とするの
が一般的である。） 以下、本発明の詳細な説明する。

使用するジルコニウム塩水溶液は水溶性ジルコニウム塩
を水に溶解したものなら何でもよく、更に不純物を含ん
でいる粗ジルコニウム塩を用いても何ら差し支えない。

たとえば、塩化ジルコニウム、塩化ジルコニル、炭酸ジ
ルコニウム、水酸化ジルコニウム等のジルコニウム化合
物を塩酸に投入することによって、ただしそれらのうち
塩酸へ溶解しにくいものはさらに水を加えることによっ
て、ジルコニウム塩の塩酸水溶液が得られる。更に望ま
しくは安価な原料であるジルコン砂、バデライト石など
の鉱石からジルコニウム塩水溶液を製造するのが好まし
い。例えば、ジルコン砂、バデライト石等をアルカリ融
解して生成するフリットに、水浸出を施し、大部分のシ
リカおよびアルカリを溶解させて除去してジルコニウム
含有フリットとし、該水和フリットに塩酸を加えて加熱
溶解し、ジルコニウムを粗オキシ塩化ジルコニウムにし
て抽出し、酸不溶分および析出シリカを濾別してジルコ
ニウム塩酸抽出溶液即ちジルコニウム含有塩酸水溶液を
得る。

ジルコニウム塩水溶液から塩基性硫酸ジルコニウムを得
る方法としては従来の公知の方法が採用できる。

公知の方法においても、ジルコニウム塩水溶液に硫酸ま
たは硫酸ナトリウムなどの水溶性硫酸塩の水溶液を加え
加熱して析出させる方法が好ましい（Ｎ１ｅｌｓｅｎお
よびＧｏｖｒｏ；米国内務省鉱山局研究報告５２１４“
ＺＩＲＣＯＮＩＵＭ　ＰＵＲＩＰＩＣＡＴＩＯＮ。

ＬＩＳＩＮＧ　Ａ　ＢＡＳＩＣ５ｔｊＬＦＡＴＥ　ＰＲ
ＥＣＩＰＩＴＡＴＩＯＮ　”　、　特公平２−８９６７
号公報、特公平２−８９６８号公報など）。

上記（２）に示した方法によれば、さらに純度のよい塩
基性硫酸ジルコニウムかえられ、ひいてはそれにより製
品オキシ塩化ジルコニウムの純度もより高いものとなる
。

この方法においてジルコニウム塩水溶液中のジルコニウ
ム濃度は、上記のとおり　０．５モル／ｐ以上、とくに
０．８モル／ｐ以上とするのがよい。この濃度が低すぎ
ると、加熱前にオキシ塩化ジルコニウムが析出し、それ
が昇温過程で凝集し、その内部に出発ジルコニウム塩水
溶液中の不純物をある程度包含し、塩基性硫酸ジルコニ
ウムの純度がやや低下するからである。いっぽう、０．
５モル／ｌ以上にすることにより生成塩基性硫酸ジルコ
ニウムの凝集を防止することが可能となる。もっとも、
この濃度を高くしすぎると、塩基性硫酸ジルコニウムで
なくオキシ塩化ジルコニウムが析出した状態で以下の処
理を開始することになるので、その濃度は飽和濃度以下
でなければならない。

遊離塩酸濃度は、低すぎると塩基性硫酸ジルコニウムの
析出温度が低くなって析出粒子の凝集が避けられず、高
すぎるとその温度が高くなって収率が低くなる。その濃
度をジルコニウム１モルあたり　０．２〜２．２好まし
くは０．２〜２．０とし、７０℃までの昇温時間を６時
間以下とすることにより上記析出開始温度が７０〜８０
℃となり、希釈水による粒径制御が容易となる。硫酸根
源として硫酸を使用するなどの理由でジルコニウム塩水
溶液が遊離塩酸を多量に含むこととなる場合は、予めア
ルカリ水溶液で中和して遊離塩酸濃度を上記範囲にして
次の加熱処理に供すればよい。

硫酸根濃度は、ジルコニウム塩水溶液中のジルコニウム
１モル当り　０．４〜０．６モルに調整するのがよい。

この範囲において、塩基性硫酸ジルコニウムをとくに高
収率で得ることができる。

０．４モルに満たない場合は０．４モル以上の場合にく
らべて収率か悪くなる。又、０．６モルを越える場合は
、粒子の凝集が起こり、不純物の含有量が０，６モル以
下の場合にくらべて増大する。

硫酸根を含むジルコニウム塩水溶液の調製は、７０℃未
満で行うのがよい。７０℃以上では、その調製の際に塩
基性硫酸ジルコニウムが生成し、それが凝集するからで
ある。

以上のようにしてえられたジルコニウム塩水溶液を加熱
する。昇温速度は、該水溶液の温度が７０℃になるまで
の時間が６時間以内となるようにするのがよい。６時間
をこえると水溶液の組成などを上記のようにしても、塩
基性硫酸ジルコニウムの生成が７０℃未満で起こって生
成粒子の凝集が起こり、製品中の不純物含有量が６時間
以内の場合にくらべて増大するからである。

前述の通り、７０〜７５℃で該水溶液中に塩基性硫酸ジ
ルコニウムが析出し始める。

その析出開始５〜１０分後にそれに水を加えることによ
りとくに不純物含有量の少ない、濾過性の優れた塩基性
硫酸ジルコニウムが高収率で得られる。５分より前に加
えると得られる粒子が小さすぎて濾過性が悪くなり、１
０分より後に加えるとその水の添加前に析出した粒子が
その間に凝集するからである。前記（２）の方法にとっ
て大事な点の一つは、とくに高純度の塩基性硫酸ジルコ
ニウムを得ることであり、そのためには高温で塩基性硫
酸ジルコニウムを一部析出させる必要がある。塩基性硫
酸ジルコニウムの生成前に希釈温水を加えると、瞬時に
塩基性硫酸ジルコニウムの析出条件となるため粒子の生
成が急速に進み、非常に微細な（０，１〜０．５μｍ）
粒子となり、濾過性が悪化する。

水は、系の中のＺｒ濃度が０．４モル／ｌ以下となるま
で加える。加える水の量が少なすぎると収率が低くなり
、０．４モル／ｌ以上とすることにより塩基性硫酸ジル
コニウムの収率約９４％以上が確保され、０．３モル／
ｌでその収率が１００％近くなり、それ以上希釈しても
それ以上の効果の上昇は望めない。最も望ましいのは、
０．２〜０．４モル／ｌである。

この水の供給中Ｚ「含有量が０．４モル／ｌになるまで
は、系の温度を７０〜８５℃に維持するのがよい。この
温度が低すぎると塩基性硫酸ジルコニウムの析出が不十
分となって収率が低下し、高すぎると粒子が凝集するか
らである。従って、局部的な温度低下を防ぐために、加
える水の温度も７０〜８５℃とするのが望ましい。また
、この水の供給開始からＺｒ含有量が０．４モル／ｌに
なるまでの時間は、５〜ｌＯ分とするのがよい。５分未
満ではえられる粒子が小さすぎて濾過性が悪くなり、１
０分をこえると粒子が凝集するからである。

Ｚｒ含有量が０．４モル／Ωになるまで希釈すると塩基
性硫酸ジルコニウムの収率が約９４％になる。収率をよ
り高くしたい場合はさらに水を添加してＺｒ含有量を０
．４モル／ｌよりも下げねばならないが、収率約９４％
をこえてさらに析出させる系の温度やそれへ添加する水
の供給速度は格別の調整を要しない。その間に析出する
もののうちそれまでの析出粒子の上に凝集するものや微
細粒子として析出するものの量は、実質上無視しうる程
度であるからである。

前期（２）の方法において得られる塩基性硫酸ジルコニ
ウムはきわめて速やかに濾過が進行し、濾材上には塩基
性硫酸ジルコニウムケーク層が形成される。引き続き純
水または希塩酸、望ましくは５０℃以上の純水による水
洗を行い、塩基性硫酸ジルコニウムケーク層中に残存す
る不純物除去を図る。水洗も同様に速やかに遂行されて
洗浄効果は良好である。

洗浄分離された塩基性硫酸ジルコニウムは、アルカリ処
理して、水酸化ジルコニウムを生成させる。使用するア
ルカリ性物質としては塩基性硫酸ジルコニウムと容易に
反応して水酸化ジルコニウムを生成し、副生成物として
水に対する溶解度の高い塩をつくるものが好ましい。例
えば、アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
等の水溶液が使用される。処理方法としては、塩基性硫
酸ジルコニウムを上記の水洗後渡材から剥がすことなく
上記アルカリ性水溶液をふりかけて水酸化ジルコニウム
に転化させてもよいが、：水洗後塩基性硫酸ジルコニウ
ムを純水でリパルプし、上記アルカリ水溶液を添加し、
濾過する方法が好ましい。上記（２）の方法による場合
、得られた水酸化ジルコニウムはきわめて速やかに濾過
が進行し、濾材上には水酸化ジルコニウムケーク層が形
成される。引き続き純水望ましくは５０℃以上の純水に
よる水洗を行い、水酸化ジルコニウムケーク層中に残存
する副生物を除去する。水洗も同様に速やかに遂行され
て洗浄効果は良好である。

水酸化ジルコニウムから高純度オキシ塩化ジルコニウム
を得る方法に格別の制限はないが、以下のような方法が
好ましい。

水酸化ジルコニウムを撹拌下で塩酸と混合する。混合の
順序は塩酸溶液の中に水酸化ジルコニウムを投入しても
、この順序を逆にしても構わない。混合後、該溶液を加
熱し水酸化ジルコニウムが完全に溶解して透明となって
から冷却する。冷却速度としては１℃／ｗｉｎ以下が望
ましい。これを越えるとオキシ塩化ジルコニウムの結晶
が微細となって結晶と溶液の分離が難しくなり純度低下
のおそれがある。冷却温度としては、溶液中からの回収
率を向上させるため溶液の凝固点付近まで下げることが
望ましい。

本発明により得られたオキシ塩化ジルコニウムはきわめ
て速やかに濾過が進行し、濾材上に高純度のオキシ塩化
ジルコニウムが分離回収される。さらに高純度を望む場
合は濾材上のオキシ塩化ジルコニウムケークをアセトン
で洗浄することにより目的を達成できる。

以上の各工程の分離操作は、減圧濾過、遠心濾過など各
種の方式を採りうる。

（作用） たとえば、オキシ塩化ジルコニウムを塩酸に溶解させて
析出させることを２回繰返す方法にくらべて、本発明に
よれば、収率がよくなるのは、塩基性硫酸ジルコニウム
の溶解度がオキシ塩化ジルコニウムのそれよりも低いこ
とによるものと認められる。いっぽう、本発明のほうが
製品の純度がよくなる理由は、塩基性硫酸ジルコニウム
の結晶とオキシ塩化ジルコニウムのそれとの性状の相違
が不純物の同伴のし方に相）を起こすことによると考え
られるだけであって明らかでない。

（発明の効果） 本発明によれば、不純物を含んでいる粗ジルコニウム化
合物より極めて高純度のオキシ塩化ジルコニウムを高収
率で製造することができる。

また、このようにして得られた高純度オキシ塩化ジルコ
ニウムは、常法により高純度ジルコニアとすることが可
能である。

（実施例） 以下、実施例及び比較例により本発明をさらに詳しく説
明する。

実施例　Ｉ Ｚ　ｒ　０２Ｂ７．Ｏｖｔ％、Ｓ　ｉ　Ｏ２３２，２ｖ
ｔ％、Ｐｅ２０゜０．１０ｗｔ％の組成を有するジルコ
ン砂に、水酸化ナトリウムを添加して融解反応を施し、
反応率９０％のジルコン砂のフリットを得た。該フリッ
トを水浸出して可溶性の硅酸塩を除去し、水酸化ジルコ
ニウム水和物を主成分とし次の組成を有するジルコニウ
ム含有水和フリットを得た。

ＺｒＯ２１００重量部あたりの組成 Ｓｌ□　　１６，１　　重量部 Ｆ　ｅ　２０３　　０．１４１１１重量部上記組成のジ
ルコニウム含有水和フリットに、３５ｉＪ％塩酸を加え
、加熱溶解してジルコニウムの塩酸抽出を行った。得ら
れた粗抽出液を濾過水洗して、次の組成のジルコニウム
含有塩酸水溶液を得た。該水溶液中のジルコニウム濃度
は、０．８　／ｌであった。

Ｚ　ｒ　０２１００重量部あたりの組成Ｓ　ｉ　Ｏ２０
，２００重量部 ｐｅ、０３０．１４８重量部 上記組成のジルコニウム塩酸抽出液１ｇを撹拌機を備え
た容器に移し、ジルコニウム含有塩酸水溶液中のＺｒ１
モル当り、０．５モルに相当する７５ｉＪ％硫酸３７．
２ｇを加えた。更に、遊離塩酸濃度をＺｒ１モル当り、
１．８モルとなるように４８ｉＪ％水酸化ナトリウム５
６．９ｇを添加し、昇温を開始した。昇温速度は１５℃
／ｈｒとした。その開始１．５時間後糸の温度が７０℃
に達し、７５℃で沈澱の析出か認められた。沈澱析出開
始１０分後８５℃の温水の供給を開始し、８分かけて系
のＺｒ濃度を０．４モル／ｌに下げ、さらにこの温水を
添加してＺｒ濃度を０．３モル／ｌまで低下させて、Ｚ
ｒ／５ｏ４−１１０．５の組成の塩基性硫酸ジルコニウ
ムを析出させた。その間に添加した温水の合計は１．２
７ｉＪであり、その添加の量系の温度は約８０℃に維持
した（水の供給開始時点　７８℃、Ｚｒ濃度０．４モル
／ｌなった時点　８２℃、水供給終了時点　８３℃とな
る）。

次いで、塩基性硫酸ジルコニウムの濾過水洗を行うため
に内径１２５　＋ａｍのブフナー濾斗に随２濾紙を用い
て３００ｔｏｒｒの減圧下で濾過を行った。

濾紙上には塩基性硫酸ジルコニウムケーク層が形成され
た。ケーク層中に残存する不純物を除去するために、引
き続き７０”Ｃの純水０．４６６１１で水洗を実施して
次のような組成の塩基性硫酸ジルコニウムを得た。

ＺｒＯ２−１００重量部あたりの組成 ＳｉＯ□　　０．１２重量部 Ｐ　ｅ　２０３　　０．００５重量部 上記組成の塩基性硫酸ジルコニウム２５４．１ｇを全量
が０．５２８，１！となるように純水でリパルプし、４
８ｗｔ％水酸化ナトリウム水溶液を４６．５ｇ添加した
。１時間撹拌した後、前記同様の減圧濾過を実施した。

濾紙上の水酸化ジルコニウムケーク層中には副生成物の
硫酸ナトリウムが存在するため引き続き７０℃の純水０
．２７９ｇで水洗を実施して次の組成の水酸化ジルコニ
ウムを得た。

ＺｒＯ２１００重量部あたりの組成 ５ｉ０２　　０．１２重量部 Ｆ　ｅ　２０　Ｂ　　　０．００５重量部水洗された水
酸化ジルコニウムケーク　２７４．４ｇを撹拌機を備え
た容器に移し、３５νｔ％塩酸４８２ｇを加えて撹拌し
ながら９０℃まで加熱して該溶液が透明になってから２
０℃まで０．３℃／ｍｉｎの速度で冷却した。該懸濁液
から前記同様の減圧濾過によりオキシ塩化ジルコニウム
の結晶を得た。得られたオキシ塩化ジルコニウムの収率
および不純物含有量は、 収率　　　　９１％ 不純物含有量（Ｚｒ０２１００重量部あたり）Ｓ１０２
　．０．００３０重量部 Ｆ　ｅ　２０３　　０．０００３重量部であった。収率
は、次式によって算出した（以下、同じ）。

（（オキシ塩化ジルコニウム中のＺｒ０２）／（ジルコ
ニウム含有塩酸水溶液中のＺｒ０２）×１００ 実施例　２ 実施例１の塩基性硫酸ジルコニウム析出工程において希
釈水の投入を加熱前におこない、Ｚｒ濃度０．３モル／
ｌとした以外は、実施例１と同じ条件にしてオキシ塩化
ジルコニウムを得た。

得られたオキシ塩化ジルコニウムの収率および不純物含
有量は、 収率　　　　９０９６ 不純物含有ｆｆｉ　（Ｚｒ０２１００重量部あたり）Ｓ
　ｉ　０２　　　０．００９０重量部Ｆ　ｅ　２０３　
　０．０００９重二部であった。

実施例　３ 実施例１のオキシ塩化ジルコニウム析出工程において、
溶液を加熱して該溶液が透明になってから更に加温保持
し溶媒を蒸発させ、結晶が析出した時点で加温を中止し
、２０℃まで０．３℃／ｗｉｎの速度で冷却した以外は
、実施例１と同じ条件にしてオキシ塩化ジルコニウムを
得た。得られたオキシ塩化ジルコニウムの収率および不
純物含有量は、 収率　　　　９０％ 不純物含有ｆｆ１（ＺｒＯ□１００重量部あたり）Ｓ　
ｉ　Ｏ２０，００６０重量部 Ｆ　ｅ　２０３　　０．０００６重量部であった。

実施例　４ 実施例１の塩基性硫酸ジルコニウム析出工程において使
用するジルコニウム塩水溶液に、Ｚ　ｒ　Ｏ２５２，Ｏ
ｖｔ％、Ｓｊ０□０．２ｗｔ％、Ｆｅ２０３０．１３ｖ
ｔ％の組成を有する水酸化ジルコニウム１３４．６　ｇ
を塩酸に溶解した液１ｇを使用した以外は実施例１と同
じ条件にしてオキシ塩化ジルコニウムを得た。得られた
オキシ塩化ジルコニウムの収率および不純物含有量は、 収率　　　　９１％ 不純物含有量（Ｚｒ０２１００重量部あたり）ＳｉＯ□
　　　０．００３０重量部 Ｐ　ｅ　２０３　　０．０００３重量部であった。

比較例　１ 実施例１と同じ条件により得られたジルコニウム含有塩
酸水溶液１ｇを撹拌機を備えた容器こ移し、３５ｖｔ％
塩酸４９１ｇを加えて撹拌しながら９０℃まで加熱して
該溶液が透明になってから２０℃まで０．３℃／ｍｉｎ
の速度で冷却した。該懸濁液から減圧濾過により粗オキ
シ塩化ジルコニウムの結晶１８０ｇを得た。該オキシ塩
化ジルコニウムを撹拌機を備えた容器に移し、３５νｔ
％塩酸４４２ｇを加えて撹拌しながら９０℃まで加熱し
て該溶液が透明になってから２０℃まで０．３℃／１１
ｉｎの速度で冷却した。該懸濁液から減圧濾過によリオ
キシ塩化ジルコニウムの結晶を得た。得られたオキシ塩
化ジルコニウムの収率および不純物含有量は、 収率　　　　８２％ 不純物含有量（ＺｒＯ２１００重量部あたり）Ｓ　ｉ　
Ｏ２０，０１００重量部 Ｆ　ｅ　２０３　　０．００４０重量部であった。

比較例　２ 実施例１と同じ条件により得られたジルコニウム含有塩
酸水溶液１ｇを撹拌機を備えた容器に移し、４８ｗｔ％
水酸化ナトリウム水溶液をＨＩ３．７　ｇ添加した。１
時間撹拌した後、減圧濾過を実施し、引き続き７０℃の
純水０．５６３１）で水洗し水酸化ジルコニウム３５０
ｇを回収した。

該水酸化ジルコニウムケークを撹拌機を備えた容器に移
し、３５ｗｔ％塩酸４９１ｇを加えて撹拌しながら９０
℃まで加熱して該溶液が透明になってから２０℃まで０
．３℃／ｌｌ１ｉｎの速度で冷却した。

該懸濁液から減圧濾過によりオキシ塩化ジルコニウムの
結晶を得た。得られたオキシ塩化ジルコニウムの収率お
よび不純物含有量は、収率　　　　９１％ 不純物含有量（Ｚｒ０２１００重量部あたり）Ｓｉｎ２
０．０３００重量部 Ｐ　ｅ　２０３　　０．００５０重量部であった。

比較例　３ 実施例１と同じ条件により塩基性硫酸ジルコニウムを析
出後、塩基性硫酸ジルコニウム懸濁液に４８シｔ％水酸
化ナトリウム水溶液を４８．５ｇ添加した以外は実施例
１と同じ条件にしてオキシ塩化ジルコニウムを得た。得
られたオキシ塩化ジルコニウムの収率および不純物含有
量は、収率　　　　９０％ 不純物含有量（Ｚｒ０２１００重量部あたり）Ｓ　ｉ　
Ｏ２０，０２００重量部 Ｐ　ｅ　２０３　　０．０１００重量部であった。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）ジルコニウム塩水溶液から高純度オキシ塩化ジル
   コニウムを製造する方法において、ジルコニウム塩水溶
   液から塩基性硫酸ジルコニウムを生成させ、これを洗浄
   し、分離した後、アルカリ性物質と反応させて水酸化ジ
   ルコニウムを生成させ、これを洗浄し、分離した後、塩
   酸に溶解し、晶析し、析出物を分離することを特徴とす
   る、高純度オキシ塩化ジルコニウムの製造法。
2. （２）ジルコニウム塩水溶液から塩基性硫酸ジルコニウ
   ムを生成させるにあたり、ジルコニウム塩水溶液の組成
   を７０℃未満で Ｚｒ濃度０．５モル／ｌ以上 遊離ＨＣｌ／Ｚｒモル比０．２〜２．２ ＳＯ＿４／Ｚｒモル比０．４〜０．６ に調整し、６時間以内に７０℃に加温し、７０〜８０℃
   で沈澱析出が開始してから５〜１０分後に該水溶液へ水
   の供給を開始し、該水溶液のＺｒ含有量が０．４モル／
   ｌ以下となるまで水を供給し、ただし該水溶液のＺｒ含
   有量が０．４モル／ｌとなるまでは該水溶液を７０〜８
   ５℃に維持しつつ該水を５〜１０分かけて供給すること
   により塩基性硫酸ジルコニウムを生成させる、請求項（
   １）記載の高純度オキシ塩化ジルコニウムの製造法。