JPWO2025041221A5 - - Google Patents

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JPWO2025041221A5
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  1. 水平な円形のウエハ載置面と前記ウエハ載置面の外周で前記ウエハ載置面よりも一段低い位置に設けられた水平な環状のフォーカスリング載置面と、前記ウエハ載置面と前記フォーカスリング載置面とを繋ぐ連結部とを有するセラミックプレートと、
    前記セラミックプレートの下面に設けられた冷却プレートと、
    を備え、
    記連結部は、前記ウエハ載置面から前記フォーカスリング載置面に向かって直径が大きくなる円錐台の側面であり、前記円錐台の上面の直径は前記ウエハ載置面の外径と一致し、前記円錐台の下面の直径は前記フォーカスリング載置面の内径と一致する、
    半導体製造装置用部材。
  2. 前記ウエハ載置面の直径は、載置されるウエハの直径よりも小さい、
    請求項1に記載の半導体製造装置用部材。
  3. 前記フォーカスリング載置面に対する前記連結部の側面の角度は、70°以下である、
    請求項1又は2に記載の半導体製造装置用部材。
  4. 請求項1又は2に記載の半導体製造装置用部材であって、
    前記フォーカスリング載置面に載置されるフォーカスリング
    を備え、
    前記フォーカスリングの内周面のうち前記連結部の側面と対向する部分は、上方から下方に向かって直径が大きくなる円錐台の側面である、
    半導体製造装置用部材。
  5. 前記フォーカスリング載置面に対する前記部分の角度は、前記フォーカスリング載置面に対する前記連結部の側面の角度よりも大きい、
    請求項4に記載の半導体製造装置用部材。
  6. 前記フォーカスリング載置面に対する前記部分の角度は、前記フォーカスリング載置面に対する前記連結部の側面の角度よりも小さい、
    請求項4に記載の半導体製造装置用部材。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3173693B2 (ja) * 1993-10-04 2001-06-04 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置及びその方法
US5529657A (en) 1993-10-04 1996-06-25 Tokyo Electron Limited Plasma processing apparatus
KR100292410B1 (ko) * 1998-09-23 2001-06-01 윤종용 불순물 오염이 억제된 반도체 제조용 반응 챔버
JP4119551B2 (ja) * 1998-12-01 2008-07-16 東京エレクトロン株式会社 基板保持台、及びプラズマ処理装置
US6494955B1 (en) 2000-02-15 2002-12-17 Applied Materials, Inc. Ceramic substrate support
JP5088483B2 (ja) * 2007-12-18 2012-12-05 三菱マテリアル株式会社 ウエハを支持するためのプラズマエッチング装置用複合シリコンリング
JP5808750B2 (ja) * 2009-11-30 2015-11-10 ラム リサーチ コーポレーションLam Research Corporation 傾斜側壁を備える静電チャック
US20160289827A1 (en) * 2015-03-31 2016-10-06 Lam Research Corporation Plasma processing systems and structures having sloped confinement rings
JP6530228B2 (ja) * 2015-04-28 2019-06-12 日本特殊陶業株式会社 静電チャック
JP2018107433A (ja) * 2016-12-27 2018-07-05 東京エレクトロン株式会社 フォーカスリング及び基板処理装置
US20180182635A1 (en) 2016-12-27 2018-06-28 Tokyo Electron Limited Focus ring and substrate processing apparatus
JP7071908B2 (ja) * 2018-03-22 2022-05-19 Sppテクノロジーズ株式会社 フォーカスリング及びこれを備えたプラズマ処理装置
JP2024516149A (ja) * 2021-04-21 2024-04-12 ラム リサーチ コーポレーション 基板への裏面堆積防止
JP7429208B2 (ja) 2021-08-17 2024-02-07 日本碍子株式会社 ウエハ載置台
US20230143327A1 (en) * 2021-11-09 2023-05-11 Samsung Electronics Co., Ltd. Focus ring, substrate processing apparatus including the same, and substrate processing method using the same

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