JPWO2023047948A5 - - Google Patents
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Description
上記主な目的を達成するために、基材と、前記基材の成膜面に直接又は介装膜を介して形成される光学膜と、を備えており、前記光学膜は、微細な凹凸構造と、前記基材又は前記介装膜に接する空孔と、を有している光学製品が提供される。
更に、上記主な目的を達成するために、基材と、前記基材の成膜面に直接又は介装膜を介して形成される光学膜と、を備えており、前記光学膜は、微細な凹凸構造と、前記微細な凹凸構造と前記基材又は前記介装膜との間に配置されるベース部と、を有しており、前記ベース部を構成する元素に、Ａｌ、Ｓｉ及びＯが含まれ、前記ベース部を構成する元素のうち、Ａｌ及びＳｉの少なくとも一方が、Ｏの元素数を除く元素数において過半数を占めており、前記ベース部の密度は、前記ベース部と同じ元素比の材料により真空蒸着で形成された場合の膜である真空蒸着膜の密度より低い光学製品が提供される。
又、上記他の主な目的を達成するために、アルミニウム、アルミニウム合金、又はアルミニウムの化合物である１以上の層を有するＡｌ系製造中間膜を、基材の成膜面に、各前記層の物理膜厚が何れも５３．５ｎｍ以下である状態で成膜する製造中間膜形成工程と、前記Ａｌ系製造中間膜付きの前記基材を、８０℃以上沸騰温度未満のシリカを含有する純水に浸漬する浸漬工程と、を備えた光学製品の製造方法が提供される。
更に、上記主な目的を達成するために、基材と、前記基材の成膜面に直接又は介装膜を介して形成される光学膜と、を備えており、前記光学膜は、微細な凹凸構造と、前記微細な凹凸構造と前記基材又は前記介装膜との間に配置されるベース部と、を有しており、前記ベース部を構成する元素に、Ａｌ、Ｓｉ及びＯが含まれ、前記ベース部を構成する元素のうち、Ａｌ及びＳｉの少なくとも一方が、Ｏの元素数を除く元素数において過半数を占めており、前記ベース部の密度は、前記ベース部と同じ元素比の材料により真空蒸着で形成された場合の膜である真空蒸着膜の密度より低い光学製品が提供される。
又、上記他の主な目的を達成するために、アルミニウム、アルミニウム合金、又はアルミニウムの化合物である１以上の層を有するＡｌ系製造中間膜を、基材の成膜面に、各前記層の物理膜厚が何れも５３．５ｎｍ以下である状態で成膜する製造中間膜形成工程と、前記Ａｌ系製造中間膜付きの前記基材を、８０℃以上沸騰温度未満のシリカを含有する純水に浸漬する浸漬工程と、を備えた光学製品の製造方法が提供される。
Claims (2)
- 基材と、
前記基材の成膜面に直接又は介装膜を介して形成される光学膜と、
を備えており、
前記光学膜は、
微細な凹凸構造と、
前記基材又は前記介装膜に接する空孔と、
を有している
ことを特徴とする光学製品。 - 基材と、
前記基材の成膜面に直接又は介装膜を介して形成される光学膜と、
を備えており、
前記光学膜は、
微細な凹凸構造と、
前記微細な凹凸構造と前記基材又は前記介装膜との間に配置されるベース部と、
を有しており、
前記ベース部を構成する元素に、Ａｌ、Ｓｉ及びＯが含まれ、
前記ベース部を構成する元素のうち、Ａｌ及びＳｉの少なくとも一方が、Ｏの元素数を除く元素数において過半数を占めており、
前記ベース部の密度は、前記ベース部と同じ元素比の材料により真空蒸着で形成された場合の膜である真空蒸着膜の密度より低い
ことを特徴とする光学製品。
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