JPH06180401A - エッジフィルター - Google Patents
エッジフィルターInfo
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- JPH06180401A JPH06180401A JP35295392A JP35295392A JPH06180401A JP H06180401 A JPH06180401 A JP H06180401A JP 35295392 A JP35295392 A JP 35295392A JP 35295392 A JP35295392 A JP 35295392A JP H06180401 A JPH06180401 A JP H06180401A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 内部応力による基板変形を抑え、しかも良好
な分光特性を持つ、リップルの少ない光学特性とする。 【構成】 基板上にＴｉＯ2 からなる高屈折率層と、Ｓ
ｉＯ2 からなる低屈折率層とを交互に積層して多層膜の
エッジフィルターを形成する。ここで、ＴｉＯ2および
ＳｉＯ2 の光学的膜厚ｎｍをそれぞれＡおよびＢとした
ときに、設計波長をλとして、少なくとも１組以上、Ａ
＝２λ／６，Ｂ＝λ／６となるような周期構造を持つよ
うにする。
な分光特性を持つ、リップルの少ない光学特性とする。 【構成】 基板上にＴｉＯ2 からなる高屈折率層と、Ｓ
ｉＯ2 からなる低屈折率層とを交互に積層して多層膜の
エッジフィルターを形成する。ここで、ＴｉＯ2および
ＳｉＯ2 の光学的膜厚ｎｍをそれぞれＡおよびＢとした
ときに、設計波長をλとして、少なくとも１組以上、Ａ
＝２λ／６，Ｂ＝λ／６となるような周期構造を持つよ
うにする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＴｉＯ2 とＳｉＯ2 と
を交互に積層した多層膜のエッジフィルターに関する。
を交互に積層した多層膜のエッジフィルターに関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、波長と透過率との関係におい
て、ある波長のところで、急に立ち上がるか、あるいは
急に下がる特性を有する、いわゆるエッジフィルターが
知られている。
て、ある波長のところで、急に立ち上がるか、あるいは
急に下がる特性を有する、いわゆるエッジフィルターが
知られている。
【０００３】ガラス基板上にＴｉＯ2 高屈折率層とＳｉ
Ｏ2 低屈折率層を真空蒸着などの方法で積層したフィル
ターでは、一般に特公昭６１−２９６３０５号公報やあ
るいは特公平３−１９７９０１号公報に開示されるよう
に、設計波長をλとして、それぞれの光学的膜厚がλ／
４の層を基本として構成され、λ／４の周期構造の前後
にλ／４以外の膜厚を持つ層を光学性能の調整層とし
て、つまり分光特性上のリップルを減らすための層とし
て１層以上持つような構造になっている。ここに、リッ
プルとは、分光特性の線図において、特性線が凹凸の波
状になっている状態をいう。
Ｏ2 低屈折率層を真空蒸着などの方法で積層したフィル
ターでは、一般に特公昭６１−２９６３０５号公報やあ
るいは特公平３−１９７９０１号公報に開示されるよう
に、設計波長をλとして、それぞれの光学的膜厚がλ／
４の層を基本として構成され、λ／４の周期構造の前後
にλ／４以外の膜厚を持つ層を光学性能の調整層とし
て、つまり分光特性上のリップルを減らすための層とし
て１層以上持つような構造になっている。ここに、リッ
プルとは、分光特性の線図において、特性線が凹凸の波
状になっている状態をいう。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来より真空
蒸着法，スパッタリング法などによって成膜された薄膜
には、一定の内部応力をもち、基板を変形させるような
力を与えることが知られている。この膜の応力として
は、膜面を基準として、基板を凸に変形させるような圧
縮応力と、基板を凹に変形させるような引っ張り応力の
２種がある。
蒸着法，スパッタリング法などによって成膜された薄膜
には、一定の内部応力をもち、基板を変形させるような
力を与えることが知られている。この膜の応力として
は、膜面を基準として、基板を凸に変形させるような圧
縮応力と、基板を凹に変形させるような引っ張り応力の
２種がある。
【０００５】ところが、膜の応力が大きい場合やあるい
は特に基板の厚さが小さい場合などには、この膜の応力
によって光学性能に影響するような基板の変形をも引き
起こすことがある。特に１mm厚以下の極薄い基板では、
λ／１００（λは波長）というオーダーの高精度な研磨
を行って表面に変形が全くないように作成しても、多層
膜の成膜後には光学性能に影響を及ぼすような、すなわ
ちλ／１０から場合によってはλ程度にまで基板が変形
してしまうこともある。
は特に基板の厚さが小さい場合などには、この膜の応力
によって光学性能に影響するような基板の変形をも引き
起こすことがある。特に１mm厚以下の極薄い基板では、
λ／１００（λは波長）というオーダーの高精度な研磨
を行って表面に変形が全くないように作成しても、多層
膜の成膜後には光学性能に影響を及ぼすような、すなわ
ちλ／１０から場合によってはλ程度にまで基板が変形
してしまうこともある。
【０００６】ここで、通常、エッジフィルターの材料と
して用いられるＴｉＯ2 およびＳｉＯ2 の真空蒸着によ
り形成される膜の内部応力は、一般にそれぞれ引っ張り
応力および圧縮応力であり、しかもＳｉＯ2 の応力の絶
対値がＴｉＯ2 のそれに比べて約２倍もの大きさがある
ことが判明した。
して用いられるＴｉＯ2 およびＳｉＯ2 の真空蒸着によ
り形成される膜の内部応力は、一般にそれぞれ引っ張り
応力および圧縮応力であり、しかもＳｉＯ2 の応力の絶
対値がＴｉＯ2 のそれに比べて約２倍もの大きさがある
ことが判明した。
【０００７】ところが、通常の多層膜では、光学特性の
みに注目して膜設計を行っている。この場合、ＴｉＯ2
とＳｉＯ2 の膜厚の比は約１：１となり、ＳｉＯ2 の応
力が勝ってしまう。したがって、多層膜全体としては大
きな圧縮応力が存在することになり、基板の変形を引き
起こすことになる。
みに注目して膜設計を行っている。この場合、ＴｉＯ2
とＳｉＯ2 の膜厚の比は約１：１となり、ＳｉＯ2 の応
力が勝ってしまう。したがって、多層膜全体としては大
きな圧縮応力が存在することになり、基板の変形を引き
起こすことになる。
【０００８】本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてな
されたもので、上記内部応力による基板変形を抑えなが
ら、しかも良好な分光特性を持つ、すなわちリップルの
少ない光学特性をもつようなエッジフィルターを提供す
ることを目的とする。
されたもので、上記内部応力による基板変形を抑えなが
ら、しかも良好な分光特性を持つ、すなわちリップルの
少ない光学特性をもつようなエッジフィルターを提供す
ることを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段および作用】上記課題を解
決するために、本発明では、通常のＴｉＯ2 λ／４：Ｓ
ｉＯ2 λ／４の周期構造ではなく、ＴｉＯ2 ２λ／３：
ＳｉＯ2 λ／３の周期構造とすることによって多層膜全
体でのＴｉＯ2 とＳｉＯ2 の膜厚比を約２：１とし、し
かもＴｉＯ2 λ／４：ＳｉＯ2 λ／４の場合と同等の光
学性能が得られるように調整層の膜厚を新たに設計し
た。
決するために、本発明では、通常のＴｉＯ2 λ／４：Ｓ
ｉＯ2 λ／４の周期構造ではなく、ＴｉＯ2 ２λ／３：
ＳｉＯ2 λ／３の周期構造とすることによって多層膜全
体でのＴｉＯ2 とＳｉＯ2 の膜厚比を約２：１とし、し
かもＴｉＯ2 λ／４：ＳｉＯ2 λ／４の場合と同等の光
学性能が得られるように調整層の膜厚を新たに設計し
た。
【００１０】すなわち、本発明は、基板上にＴｉＯ2 か
らなる高屈折率層と、ＳｉＯ2 からなる低屈折率層とを
交互に積層した多層膜のエッジフィルターにおいて、Ｔ
ｉＯ2 およびＳｉＯ2 の光学的膜厚ｎｄをそれぞれＡお
よびＢとしたときに、設計波長をλとして、少なくとも
１組以上、Ａ＝２λ／６，Ｂ＝λ／６となるような周期
構造を持つこととした。
らなる高屈折率層と、ＳｉＯ2 からなる低屈折率層とを
交互に積層した多層膜のエッジフィルターにおいて、Ｔ
ｉＯ2 およびＳｉＯ2 の光学的膜厚ｎｄをそれぞれＡお
よびＢとしたときに、設計波長をλとして、少なくとも
１組以上、Ａ＝２λ／６，Ｂ＝λ／６となるような周期
構造を持つこととした。
【００１１】これによって光学性能を損なうことなく多
層膜全体での応力を小さくし、したがって基板変形の少
ないエッジフィルターを得ることができる。
層膜全体での応力を小さくし、したがって基板変形の少
ないエッジフィルターを得ることができる。
【００１２】
【実施例１】本実施例では、５００ｎｍから５７０ｎｍ
の波長域の透過光をカットし、６００ｎｍから８００ｎ
ｍの波長域を透過するようなハイパスフィルターを示
す。真空槽の中をオイルディフュージョンポンプを用い
て５×１０-5Torrまで排気し、真空槽内に固定した直径
１０mm、厚さ１mmのガラス基板を３００℃まで加熱し
た。ハイパスフィルターの材料としては、高屈折率層に
ＴｉＯ2 、低屈折率層にＳｉＯ2 を使用し、それぞれ電
子ビーム蒸着法にて成膜し、３１層の多層膜を形成し
た。反射膜の構成を表１に示す。また、本実施例のハイ
パスフィルターの分光透過率特性を図１に示す。なお、
表１において、下層（１〜５層）と上層（２８〜３１
層）とはリップルのない分光特性を良好にするために設
計されるものである。
の波長域の透過光をカットし、６００ｎｍから８００ｎ
ｍの波長域を透過するようなハイパスフィルターを示
す。真空槽の中をオイルディフュージョンポンプを用い
て５×１０-5Torrまで排気し、真空槽内に固定した直径
１０mm、厚さ１mmのガラス基板を３００℃まで加熱し
た。ハイパスフィルターの材料としては、高屈折率層に
ＴｉＯ2 、低屈折率層にＳｉＯ2 を使用し、それぞれ電
子ビーム蒸着法にて成膜し、３１層の多層膜を形成し
た。反射膜の構成を表１に示す。また、本実施例のハイ
パスフィルターの分光透過率特性を図１に示す。なお、
表１において、下層（１〜５層）と上層（２８〜３１
層）とはリップルのない分光特性を良好にするために設
計されるものである。
【００１３】
【表１】
【００１４】本実施例の反射膜の膜応力を測定したとこ
ろ、8.５×１０7 ｄｙｎ／ｃｍ2 であり、成膜前後の基
板変形を調べたところ、ソリ量は３８ｎｍであった。
ろ、8.５×１０7 ｄｙｎ／ｃｍ2 であり、成膜前後の基
板変形を調べたところ、ソリ量は３８ｎｍであった。
【００１５】（比較例１）本発明の比較例１として、５
００ｎｍから５７０ｎｍの波長域の透過光をカットし、
６００ｎｍから８００ｎｍの波長域を透過するようなハ
イパスフィルターを示す。真空槽の中をオイルディフュ
ージョンポンプを用いて５×１０-5Torrまで排気し、真
空槽内に固定した直径１０ｍｍ，厚さ１ｍｍのガラス基
板を３００℃まで加熱した。ハイパスフィルターの材料
とししては、高屈折率層にＴｉＯ2、低屈折率層にＳｉ
Ｏ2 を使用し、それぞれ電子ビーム蒸着法にて成膜し、
３２層の多層膜を形成した。反射膜の構成を表２に示
す。また、本比較例のハイパスフィルターの分光透過率
特性を図２に示す。
００ｎｍから５７０ｎｍの波長域の透過光をカットし、
６００ｎｍから８００ｎｍの波長域を透過するようなハ
イパスフィルターを示す。真空槽の中をオイルディフュ
ージョンポンプを用いて５×１０-5Torrまで排気し、真
空槽内に固定した直径１０ｍｍ，厚さ１ｍｍのガラス基
板を３００℃まで加熱した。ハイパスフィルターの材料
とししては、高屈折率層にＴｉＯ2、低屈折率層にＳｉ
Ｏ2 を使用し、それぞれ電子ビーム蒸着法にて成膜し、
３２層の多層膜を形成した。反射膜の構成を表２に示
す。また、本比較例のハイパスフィルターの分光透過率
特性を図２に示す。
【００１６】
【表２】
【００１７】本比較例の反射膜の膜応力を測定したとこ
ろ、8.０×１０8 ｄｙｎ／ｃｍ2 であり、成膜前後の基
板変形を調べたところ、ソリ量は２４８ｎｍであった。
ろ、8.０×１０8 ｄｙｎ／ｃｍ2 であり、成膜前後の基
板変形を調べたところ、ソリ量は２４８ｎｍであった。
【００１８】実施例１は、この比較例１と同様の分光透
過特性をもつにもかかわらず、比較例１に比較して基板
の変形量は１／６以下と非常に小さいことが判る。
過特性をもつにもかかわらず、比較例１に比較して基板
の変形量は１／６以下と非常に小さいことが判る。
【００１９】
【実施例２】本実施例では、６２５ｎｍから７５０ｎｍ
の波長域の透過光をカットし、４５０ｎｍから６００ｎ
ｍの波長域を透過するようなローパスフィルターを示
す。真空槽の中をオイルディフュージョンポンプを用い
て５×１０-5Torrまで排気し、真空槽内に固定した直径
１０ｍｍ，厚さ１ｍｍのガラス基板を３００℃まで加熱
した。ローパスフィルターの材料としては、高屈折率層
にＴｉＯ2 、低屈折率層にＳｉＯ2 を使用し、それぞれ
電子ビーム蒸着法にて成膜し、３１層の多層膜を形成し
た。反射膜の構成を表３に示す。また、本実施例のロー
パスフィルターの分光透過率特性を図３に示す。
の波長域の透過光をカットし、４５０ｎｍから６００ｎ
ｍの波長域を透過するようなローパスフィルターを示
す。真空槽の中をオイルディフュージョンポンプを用い
て５×１０-5Torrまで排気し、真空槽内に固定した直径
１０ｍｍ，厚さ１ｍｍのガラス基板を３００℃まで加熱
した。ローパスフィルターの材料としては、高屈折率層
にＴｉＯ2 、低屈折率層にＳｉＯ2 を使用し、それぞれ
電子ビーム蒸着法にて成膜し、３１層の多層膜を形成し
た。反射膜の構成を表３に示す。また、本実施例のロー
パスフィルターの分光透過率特性を図３に示す。
【００２０】
【表３】
【００２１】本実施例の反射膜の膜応力を測定したとこ
ろ、1.１×１０8 ｄｙｎ／ｃｍ2 であり、成膜前後の基
板変形を調べたところ、ソリ量は４３ｎｍであった。
ろ、1.１×１０8 ｄｙｎ／ｃｍ2 であり、成膜前後の基
板変形を調べたところ、ソリ量は４３ｎｍであった。
【００２２】（比較例２）本発明の比較例２として、６
２５ｎｍから７５０ｎｍの波長域の透過光をカットし、
４５０ｎｍから６００ｎｍの波長域を透過するようなロ
ーパスフィルターを示す。真空槽の中をオイルディフュ
ージョンポンプを用いて５×１０-5Torrまで排気し、真
空槽内に固定した直径１０ｍｍ，厚さ１ｍｍのガラス基
板を３００℃まで加熱した。ローパスフィルターの材料
としては、高屈折率層にＴｉＯ2 、低屈折率層にＳｉＯ
2 を使用し、それぞれ電子ビーム蒸着法にて成膜し、３
２層の多層膜を形成した。反射膜の構成を表４に示す。
また、本実施例のローパスフィルターの分光透過率特性
を図４に示す。
２５ｎｍから７５０ｎｍの波長域の透過光をカットし、
４５０ｎｍから６００ｎｍの波長域を透過するようなロ
ーパスフィルターを示す。真空槽の中をオイルディフュ
ージョンポンプを用いて５×１０-5Torrまで排気し、真
空槽内に固定した直径１０ｍｍ，厚さ１ｍｍのガラス基
板を３００℃まで加熱した。ローパスフィルターの材料
としては、高屈折率層にＴｉＯ2 、低屈折率層にＳｉＯ
2 を使用し、それぞれ電子ビーム蒸着法にて成膜し、３
２層の多層膜を形成した。反射膜の構成を表４に示す。
また、本実施例のローパスフィルターの分光透過率特性
を図４に示す。
【００２３】
【表４】
【００２４】本比較例の反射膜の膜応力を測定したとこ
ろ、7.５×１０8 ｄｙｎ／ｃｍ2 であり、成膜前後の基
板変形を調べたところ、ソリ量は２３０ｎｍであった。
ろ、7.５×１０8 ｄｙｎ／ｃｍ2 であり、成膜前後の基
板変形を調べたところ、ソリ量は２３０ｎｍであった。
【００２５】実施例２は、この比較例２と同様の分光透
過特性をもつにもかかわらず、比較例２に対して基板の
変形量は１／５以下と非常に小さいことが判る。
過特性をもつにもかかわらず、比較例２に対して基板の
変形量は１／５以下と非常に小さいことが判る。
【００２６】それぞれの上記実施例１，２と比較例１，
２の多層膜の膜応力と基板の変形量、およびそれぞれの
膜を構成する膜材料単層の場合の膜応力の値を整理する
と、以下の表５のようになる。
２の多層膜の膜応力と基板の変形量、およびそれぞれの
膜を構成する膜材料単層の場合の膜応力の値を整理する
と、以下の表５のようになる。
【００２７】
【表５】
【００２８】
【発明の効果】以上のように、本発明のエッジフィルタ
ーによれば、ＴｉＯ2 およびＳｉＯ2のもつ応力による
基板の変形量のバランスを一つの多層膜の中で取ること
ができるため、基板の変形の少ない膜を得ることがで
き、光学性能に優れた多層膜を提供することができる。
ーによれば、ＴｉＯ2 およびＳｉＯ2のもつ応力による
基板の変形量のバランスを一つの多層膜の中で取ること
ができるため、基板の変形の少ない膜を得ることがで
き、光学性能に優れた多層膜を提供することができる。
【図１】本発明の実施例１のハイパスフィルターの分光
透過率特性を示すグラフである。
透過率特性を示すグラフである。
【図２】本発明の比較例１のハイパスフィルターの分光
透過率特性を示すグラフである。
透過率特性を示すグラフである。
【図３】本発明の実施例２のローパスフィルターの分光
透過率特性を示すグラフである。
透過率特性を示すグラフである。
【図４】本発明の比較例２のローパスフィルターの分光
透過率特性を示すグラフである。
透過率特性を示すグラフである。
Claims (1)
- 【請求項１】 基板上にＴｉＯ2 からなる高屈折率層
と、ＳｉＯ2 からなる低屈折率層とを交互に積層した多
層膜のエッジフィルターにおいて、ＴｉＯ2 およびＳｉ
Ｏ2 の光学的膜厚ｎｄをそれぞれＡおよびＢとしたとき
に、設計波長をλとして、少なくとも１組以上、Ａ＝２
λ／６，Ｂ＝λ／６となるような周期構造をもつことを
特徴とするエッジフィルター。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35295392A JPH06180401A (ja) | 1992-12-11 | 1992-12-11 | エッジフィルター |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35295392A JPH06180401A (ja) | 1992-12-11 | 1992-12-11 | エッジフィルター |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06180401A true JPH06180401A (ja) | 1994-06-28 |
Family
ID=18427587
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35295392A Withdrawn JPH06180401A (ja) | 1992-12-11 | 1992-12-11 | エッジフィルター |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06180401A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002069000A1 (fr) * | 2001-02-27 | 2002-09-06 | Seiko Epson Corporation | Filtre a film multicouche et procede de production de celui-ci, filtre eliminateur d'uv, verre etanche aux poussieres, panneau d'affichage et unite d'affichage du type a projection |
| JP2003329841A (ja) * | 2002-05-17 | 2003-11-19 | Ushio Inc | 偏光フィルタおよびこのフィルタを用いた偏光光照射装置 |
| CN109212644A (zh) * | 2018-10-25 | 2019-01-15 | 北京空间机电研究所 | 一种低偏振像差分色片及其制备方法 |
-
1992
- 1992-12-11 JP JP35295392A patent/JPH06180401A/ja not_active Withdrawn
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002069000A1 (fr) * | 2001-02-27 | 2002-09-06 | Seiko Epson Corporation | Filtre a film multicouche et procede de production de celui-ci, filtre eliminateur d'uv, verre etanche aux poussieres, panneau d'affichage et unite d'affichage du type a projection |
| EP1376162A1 (en) * | 2001-02-27 | 2004-01-02 | Seiko Epson Corporation | Multi-layer film cut filter and production method therefor, uv cut filter, dustproof glass, display panel and projection type display unit |
| US7172294B2 (en) | 2001-02-27 | 2007-02-06 | Seiko Epson Corporation | Multi-layer film cut filter and production method therefor, UV cut filter, dustproof glass, display panel and projection type display unit |
| EP1376162A4 (en) * | 2001-02-27 | 2008-11-26 | Seiko Epson Corp | MULTILAYER FILM FILTER AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, UV ELIMINATION FILTER, DUST-SEALED GLASS, DISPLAY PANEL, AND PROJECTION TYPE DISPLAY UNIT |
| JP2003329841A (ja) * | 2002-05-17 | 2003-11-19 | Ushio Inc | 偏光フィルタおよびこのフィルタを用いた偏光光照射装置 |
| CN109212644A (zh) * | 2018-10-25 | 2019-01-15 | 北京空间机电研究所 | 一种低偏振像差分色片及其制备方法 |
| CN109212644B (zh) * | 2018-10-25 | 2021-02-05 | 北京空间机电研究所 | 一种低偏振像差分色片及其制备方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000307 |