JP2020045571A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020045571A5 JP2020045571A5 JP2019208056A JP2019208056A JP2020045571A5 JP 2020045571 A5 JP2020045571 A5 JP 2020045571A5 JP 2019208056 A JP2019208056 A JP 2019208056A JP 2019208056 A JP2019208056 A JP 2019208056A JP 2020045571 A5 JP2020045571 A5 JP 2020045571A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor deposition
- mask
- resin
- deposition mask
- less
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims 23
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims 19
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims 19
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 3
- 230000000875 corresponding Effects 0.000 claims 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
Claims (14)
- 蒸着作製するパターンに対応した開口部が設けられた樹脂マスクを含む蒸着マスクであって、
前記樹脂マスクはレーザー加工によって前記開口部が形成可能な樹脂を含み、
前記樹脂マスクの、蒸着源に向かう表面を、一方の面とし、
前記樹脂マスクの、蒸着対象物に密着する表面を、他方の面とした場合、
前記一方の面の算術平均高さ(Sa)が0.8μm以下であり、
前記他方の面の算術平均高さ(Sa)が0.5μm以上である、蒸着マスク。 - 前記樹脂マスクの前記一方の面は、レーザー加工時にレーザー照射が行われる表面である、請求項1記載の蒸着マスク。
- 前記樹脂マスクの前記一方の面の最大高さ(Sz)が2.5μm以下である、請求項1又は2に記載の蒸着マスク。
- 前記樹脂マスクの前記他方の面の最大高さ(Sz)が2.0μm以下である、請求項1〜3のいずれか1項記載の蒸着マスク。
- 前記樹脂マスクの熱膨張係数が16ppm/℃以下である、請求項1〜4の何れか1項記載の蒸着マスク。
- 前記樹脂マスクの吸湿率が1.0%以下である、請求項1〜5の何れか1項記載の蒸着マスク。
- 前記樹脂マスクの厚さが3μm以上25μm以下である、請求項1〜6の何れか1項記載の蒸着マスク。
- 前記樹脂マスクの厚さが4μm以上8μm以下である、請求項1〜6の何れか1項記載の蒸着マスク。
- フレームと、フレームに固定された蒸着マスクと、を含むフレーム付き蒸着マスクであって、
前記蒸着マスクが請求項1〜8のいずれか1項記載の蒸着マスクである、フレーム付き蒸着マスク。 - 前記蒸着マスクは、前記樹脂マスクの周縁に位置する金属層を備え、
前記金属層を介して前記蒸着マスクと前記フレームとが固定されている、請求項9記載のフレーム付き蒸着マスク。 - 前記金属層の厚さが100μm以下である、請求項10に記載のフレーム付き蒸着マスク。
- 前記金属層の厚さが50μm以下である、請求項10に記載のフレーム付き蒸着マスク。
- 前記金属層の厚さが35μm以下である、請求項10に記載のフレーム付き蒸着マスク。
- 樹脂マスクを含む蒸着マスクに用いられる樹脂層であって、蒸着作製するパターンに対応した開口部が形成されることによって前記樹脂マスクとなる前記樹脂層の製造方法であって、
表面の算術平均高さ(Sa)が0.8μm以下の基板を準備し、前記基板の表面上に樹脂層を形成する工程と、
前記樹脂層を前記基板の表面から剥がす工程と、を含む、樹脂層の製造方法 。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017072211 | 2017-03-31 | ||
JP2017072212 | 2017-03-31 | ||
JP2017072211 | 2017-03-31 | ||
JP2017072212 | 2017-03-31 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018566612A Division JP6620899B2 (ja) | 2017-03-31 | 2018-03-30 | 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、蒸着マスク準備体、蒸着パターン形成方法および有機半導体素子の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020045571A JP2020045571A (ja) | 2020-03-26 |
JP2020045571A5 true JP2020045571A5 (ja) | 2020-07-30 |
Family
ID=63676261
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018566612A Active JP6620899B2 (ja) | 2017-03-31 | 2018-03-30 | 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、蒸着マスク準備体、蒸着パターン形成方法および有機半導体素子の製造方法 |
JP2019208056A Pending JP2020045571A (ja) | 2017-03-31 | 2019-11-18 | 蒸着マスク |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018566612A Active JP6620899B2 (ja) | 2017-03-31 | 2018-03-30 | 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、蒸着マスク準備体、蒸着パターン形成方法および有機半導体素子の製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US10895008B2 (ja) |
JP (2) | JP6620899B2 (ja) |
KR (1) | KR20190132989A (ja) |
CN (1) | CN110382731B (ja) |
TW (1) | TWI763818B (ja) |
WO (1) | WO2018181969A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111492089A (zh) * | 2017-12-25 | 2020-08-04 | 堺显示器制品株式会社 | 蒸镀掩模、蒸镀方法以及有机el显示设备的制造方法 |
EP4016658A1 (en) * | 2019-01-31 | 2022-06-22 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Deposition mask group, manufacturing method of electronic device, and electronic device |
JP2022080753A (ja) * | 2020-11-18 | 2022-05-30 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 蒸着マスクの製造方法 |
TWI772066B (zh) * | 2021-06-16 | 2022-07-21 | 達運精密工業股份有限公司 | 金屬遮罩基材的製備方法 |
KR20230020035A (ko) * | 2021-08-02 | 2023-02-10 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착용 마스크 |
JP2024107763A (ja) * | 2023-01-30 | 2024-08-09 | 大日本印刷株式会社 | フレーム付きマスク、及び、有機デバイスの製造方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5288072A (en) | 1976-01-17 | 1977-07-22 | Citizen Watch Co Ltd | Electronic watch with leghting |
TW575786B (en) * | 2000-03-14 | 2004-02-11 | Takashi Nishi | Exposure controlling photomask and production method thereof |
US9108216B2 (en) | 2012-01-12 | 2015-08-18 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Vapor deposition mask, method for producing vapor deposition mask device and method for producing organic semiconductor element |
CN105779935A (zh) * | 2012-01-12 | 2016-07-20 | 大日本印刷株式会社 | 蒸镀掩模的制造方法及有机半导体元件的制造方法 |
JP6142386B2 (ja) * | 2012-12-21 | 2017-06-07 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 蒸着マスクの製造方法 |
JP5846287B1 (ja) * | 2013-12-27 | 2016-01-20 | 大日本印刷株式会社 | フレーム付き蒸着マスクの製造方法、引張装置、有機半導体素子の製造装置及び有機半導体素子の製造方法 |
JP6424521B2 (ja) * | 2014-09-03 | 2018-11-21 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、及び有機半導体素子の製造方法 |
JP2017020068A (ja) * | 2015-07-09 | 2017-01-26 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスク、蒸着マスク準備体、及び有機半導体素子の製造方法 |
CN106350768A (zh) * | 2015-07-17 | 2017-01-25 | 凸版印刷株式会社 | 蒸镀用金属掩模以及蒸镀用金属掩模的制造方法 |
KR20220009499A (ko) * | 2015-07-17 | 2022-01-24 | 도판 인사츠 가부시키가이샤 | 메탈 마스크 기재, 메탈 마스크, 및 메탈 마스크의 제조 방법 |
CN108884555B (zh) * | 2015-12-25 | 2021-02-09 | 鸿海精密工业股份有限公司 | 蒸镀掩模、蒸镀掩模的制造方法及有机半导体元件的制造方法 |
US10711338B2 (en) * | 2017-01-26 | 2020-07-14 | Sharp Kabushiki Kaisha | Vapor deposition mask and manufacturing method for organic EL display device |
-
2018
- 2018-03-30 WO PCT/JP2018/013798 patent/WO2018181969A1/ja active Application Filing
- 2018-03-30 TW TW107111402A patent/TWI763818B/zh active
- 2018-03-30 JP JP2018566612A patent/JP6620899B2/ja active Active
- 2018-03-30 US US16/494,802 patent/US10895008B2/en active Active
- 2018-03-30 KR KR1020197022599A patent/KR20190132989A/ko not_active IP Right Cessation
- 2018-03-30 CN CN201880015841.6A patent/CN110382731B/zh active Active
-
2019
- 2019-11-18 JP JP2019208056A patent/JP2020045571A/ja active Pending
-
2020
- 2020-12-15 US US17/121,916 patent/US20210214843A1/en not_active Abandoned
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2020045571A5 (ja) | ||
JP2015157759A5 (ja) | ||
JP2014208899A5 (ja) | ||
JP2009506200A5 (ja) | ||
JP2004535494A5 (ja) | ||
JP2004513864A5 (ja) | ||
JP2013140950A5 (ja) | ||
JP2016537292A5 (ja) | ||
JP2018133568A5 (ja) | ||
JP2014178502A5 (ja) | ||
JP2018138698A5 (ja) | ||
JP2007258634A5 (ja) | ||
JP2010082857A5 (ja) | ||
JP2019526927A5 (ja) | 基板をパターニングするための構造を形成する方法、基板をパターニングする方法及びマスクを形成する方法 | |
TW201829826A (zh) | 包括SiC蒸鍍層的半導體製造用部件及其製造方法 | |
TWI700178B (zh) | 殼體及所述殼體的製作方法 | |
TW201609533A (zh) | 還原氧化石墨烯的製造方法 | |
JP2018059211A5 (ja) | ||
JP2002083824A5 (ja) | ||
JP2017516918A5 (ja) | ||
JP2008232806A5 (ja) | ||
JP2016525593A5 (ja) | ||
JP2015154054A5 (ja) | ||
JP2009086094A5 (ja) | ||
JP2007093804A (ja) | 紫外線/赤外線カットフィルタ、及びその製造方法 |