JP2010082857A5 - - Google Patents

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  1. 互いに対向する第一の主面及び第二の主面を有する支持基体の前記第一の主面上に、酸化アルミニウムからなる金属酸化物層を形成する第1工程と、
    前記金属酸化物層上に、Sn及びInからなる群より選択される少なくとも1種を構成成分として含む電波透過性金属層を形成する第2工程と、
    前記電波透過性金属層上の一部に、合成樹脂を含むマスク層を形成する第3工程と、
    前記マスク層が形成されていない部分にエッチング処理を施し、前記支持基体の主面の略法線方向からみて、前記電波透過性金属層のパターン及び前記金属酸化物層のパターンを、前記マスク層のパターンと略同一に形成する第4工程と、
    前記マスク層上に、合成樹脂を含む接着層を形成する第5工程と、
    を有する、装飾材の製造方法。
  2. 前記第2工程において、物理的蒸着法又は化学的蒸着法により酸化アルミニウムからなる金属酸化物層を形成する、請求項1に記載の装飾材の製造方法。
  3. 前記第1工程の前に、前記支持基体の前記第一の主面上に、合成樹脂を含む剥離層を当該支持基体から剥離可能に形成する剥離層形成工程を有し、
    前記第1工程においては、前記剥離層形成工程において形成した前記剥離層上に前記金属酸化物層を形成する、請求項1又は2に記載の装飾材の製造方法。
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4096023B1 (ja) * 2007-05-31 2008-06-04 日本写真印刷株式会社 電波透過性転写材の製造方法
KR101377393B1 (ko) * 2011-01-13 2014-03-25 (주)엘지하우시스 금속 광택의 비전도성 전사 필름
JP5313302B2 (ja) * 2011-06-29 2013-10-09 日本写真印刷株式会社 転写加飾品の製造方法、転写加飾装置及び転写加飾品
US20130079067A1 (en) * 2011-09-23 2013-03-28 Photo U.S.A. Corporation Sublimation coated case for cell phone
KR101371185B1 (ko) * 2013-05-21 2014-03-07 주식회사 화진 장식 부재 제조 방법 및 장식 부재
JP2019107789A (ja) * 2017-12-15 2019-07-04 株式会社小糸製作所 樹脂成形品および車両用部品
CN108694002B (zh) * 2018-04-13 2021-04-02 汕头超声显示器技术有限公司 一种柔性电容触摸屏的制造方法
CN110791220A (zh) * 2018-08-02 2020-02-14 达迈科技股份有限公司 用于柔性显示器的透明聚酰亚胺复合膜及其制造方法
EP3845683A4 (en) 2018-08-31 2021-11-17 Lg Chem, Ltd. PROCESS FOR THE PRODUCTION OF FILM WITH DECORATIVE ELEMENTS
CN114635113B (zh) * 2022-03-09 2023-04-07 北京科技大学 一种高亮度银白色电磁波透过复合薄膜的制备方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60168689A (ja) 1984-02-14 1985-09-02 Kyodo Printing Co Ltd 蒸着型ホツトスタムプフイルム
JP3857332B2 (ja) 1995-05-31 2006-12-13 日本写真印刷株式会社 転写材とその廃棄前処理方法
JP3062684B2 (ja) * 1998-06-30 2000-07-12 日本写真印刷株式会社 インジウム−アルミニウム蒸着フィルム及び金属発色をする成形品
CN1249543C (zh) * 2001-06-29 2006-04-05 株式会社得利加 无线电波手表
US6891134B2 (en) * 2003-02-10 2005-05-10 Asml Netherlands B.V. Integrally formed bake plate unit for use in wafer fabrication system
CN1749032A (zh) * 2004-09-16 2006-03-22 大日本印刷株式会社 装饰薄片和装饰材料
JP2007160918A (ja) * 2005-12-09 2007-06-28 Reiko Co Ltd 金属光沢に優れた絶縁性転写フィルム、その製造方法、及びそれを使用した成形品
US9589220B2 (en) * 2007-08-04 2017-03-07 David Nissen Gaming chips and table game security system

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